TWI630024B - 間歇性氣泡發生裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明,是浸漬在液中使用的間歇性氣泡發生裝置,具備:被立設的筒狀的外殼、及在此外殼內與軸方向大致平行地配設將氣體導入室及氣體誘導室及氣體吐出室區劃的分隔壁,氣體導入室及氣體誘導室是由外殼上部連通,氣體誘導室及氣體吐出室是由外殼底部連通,氣體導入室的上面及氣體誘導室的上面是由蓋板被閉塞,氣體誘導室的下面及氣體吐出室的下面是由底板被閉塞。氣體導入室的橫剖面積是比氣體吐出室的橫剖面積大即可。氣體誘導室及氣體吐出室之間的連通口的上緣是大致水平即可。藉由一枚平板狀構件,構成將氣體誘導室閉塞的底板及將氣體吐出室閉塞的底板即可。
Description
本發明,是有關於間歇性氣泡發生裝置。
進行廢水處理的方法,已知使用將水及不純物分離的膜組件的方法。在使用這種膜組件的方法中,因為不純物是堆積在此膜組件的分離膜,所以分離膜的洗淨是成為必要。分離膜的洗淨,是使用例如氣泡進行,其中一例,具有使用脈衝化氣體昇降機泵裝置的膜組件系統(日本專利4833353號公報參照)。
揭示於此公報的膜組件系統,是在使用時沈浸在液中,藉由將加壓氣體連續供給將發生的氣泡及供給液體的高速氣液二相流,供給至膜組件並對於膜組件的透過性中空線膜束的表面施加沖刷者。在此,高速氣液二相流,是在高速移動液中包含多數的獨立的小徑氣泡者。
〔專利文獻1〕日本專利4833353號公報
但是將膜組件(透過性中空線膜束)由氣泡沖刷的能力,是大大地依存於氣泡握持的能量,特別是氣泡的運動能量和與中空線膜的接觸程度。因此,在朝透過性中空線膜束供給小徑氣泡的方法中,氣泡無法充分地擦過透過性中空線膜束,無法進行有效地洗淨。因此,為了進行有效地洗淨,期望可以發生徑大的氣泡的裝置。
本發明,是被有鑑於如上述狀況者,其目的是提供一種間歇性氣泡發生裝置,可以發生徑(體積)大的氣泡,可以最佳使用在例如膜組件的洗淨。
為了解決上述課題的發明,是浸漬在液中使用的間歇性氣泡發生裝置,具備:被立設的筒狀的外殼、及在此外殼內與軸方向大致平行地配設將氣體導入室及氣體誘導室及氣體吐出室區劃的分隔壁,上述氣體導入室及氣體誘導室是由外殼上部連通,上述氣體誘導室及氣體吐出室是由外殼底部連通,上述氣體導入室的上面及氣體誘導室的上面是由蓋板被閉塞,上述氣體誘導室的下面及氣體吐出室的下面是由底板被閉塞。
本發明的間歇性氣泡發生裝置,是可以發生徑(體積)大的氣泡,可以最佳使用在例如膜組件的洗淨。
1‧‧‧間歇性氣泡發生裝置
2‧‧‧外殼
2A‧‧‧氣體導入室
2B‧‧‧氣體誘導室
2C‧‧‧氣體吐出室
3‧‧‧區劃壁(分隔壁)
4‧‧‧第二連通口
5‧‧‧底板
7‧‧‧外周壁
8‧‧‧蓋板
10‧‧‧吐出管
11‧‧‧吐出口
12‧‧‧第一連通口
13‧‧‧內周壁(分隔壁)
50、51‧‧‧固定構件
52‧‧‧過濾膜
L‧‧‧液體
M‧‧‧過濾組件
B‧‧‧氣泡
b‧‧‧氣泡
C‧‧‧分割氣泡
H‧‧‧水平液位
〔第1圖〕本發明的第1實施例的間歇性氣泡發生裝置的意示俯視圖。
〔第2圖〕第1圖的間歇性氣泡發生裝置的意示前視圖。
〔第3圖〕第1圖的間歇性氣泡發生裝置的意示左側視圖。
〔第4圖〕第2圖的A-A線剖面圖。
〔第5圖〕第3圖的B-B線剖面圖。
〔第6圖〕第1圖的C-C線剖面圖。
〔第7圖〕第1圖的間歇性氣泡發生裝置的意示立體圖。
〔第8圖〕說明第1圖的間歇性氣泡發生裝置的使用方法用的意示圖。
〔第9圖〕說明第1圖的間歇性氣泡發生裝置的作用用的意示剖面圖。
〔第10圖〕說明第1圖的間歇性氣泡發生裝置的作用用的意示的剖面圖。
〔第11圖〕說明第1圖的間歇性氣泡發生裝置的作用用的意示的剖面圖。
〔第12圖A〕顯示與本發明的第1圖不同的實施例的間歇性氣泡發生裝置的意示俯視圖。
〔第12圖B〕第12圖A的D-D線剖面圖。
〔第13圖A〕顯示與本發明的第1圖、第12圖A及第12圖B不同的實施例的間歇性氣泡發生裝置的意示俯視圖。
〔第13圖B〕第13圖A的E-E線剖面圖。
〔第14圖A〕顯示與本發明的第1圖、第12圖A、第12圖B、第13圖A及第13圖B不同的實施例的間歇性氣泡發生裝置的意示俯視圖。
〔第14圖B〕是第14圖A的F-F線剖面圖且從背面所見的圖。
〔第15圖A〕顯示與本發明的第1圖、第12圖A、第12圖B、第13圖A、第13圖B、第14圖A及第14圖B不同的實施例的間歇性氣泡發生裝置的意示俯視圖。
〔第15圖B〕是第15圖A的G-G線剖面圖且從背面所見的圖。
本發明,是浸漬在液中使用的間歇性氣泡發生裝置,
該間歇性氣泡發生裝置,是具備:被立設的筒狀的外殼、及在此外殼內與軸方向大致平行地配設將氣體導入室及氣體誘導室及氣體吐出室區劃的分隔壁,上述氣體導入室及氣體誘導室是由外殼上部連通,上述氣體誘導室及氣體吐出室是由外殼底部連通,上述氣體導入室的上面及氣體誘導室的上面是由蓋板被閉塞,上述氣體誘導室的下面及氣體吐出室的下面是由底板被閉塞。
在該間歇性氣泡發生裝置中,藉由將氣體從氣體導入室的下面導入,此被導入的氣體是被貯留在外殼內(氣體導入室及氣體誘導室)。其後氣體是進一步被導入,氣體導入室及氣體誘導室的液面是到達氣體誘導室及氣體吐出室的連通口的話,此氣體誘導室的氣體是由比較大的氣泡從氣體吐出室被放出。大的氣泡被放出的理由雖不一定明確,但是認為從氣體誘導室及氣體吐出室的連通口使氣體誘導室的氣體朝氣體吐出室移動時,吸引力會作用在後續的氣體等是原因。
氣體導入室的橫剖面積比上述氣體吐出室的橫剖面積大即可,由此成為可將被貯留在外殼內的氣體更有效果且一次爆發地吐出,進一步成為可將大的氣泡有效地生成。此理由雖不一定明顯,但是認為氣體導入室的液壓及氣體吐出室的液壓的差是起因。
上述氣體誘導室及氣體吐出室之間的連通口的上緣是形成大致水平即可。如此藉由上述連通口的上緣是大致水平,就容易一次使大量的氣體從氣體誘導室朝氣
體吐出室被誘導,因此大的氣泡容易產生。
藉由一枚平板狀構件,構成將上述氣體誘導室閉塞的底板及將上述氣體吐出室閉塞的底板即可。藉由如此構成可以達成零件點數的減少,且構成底板的平板狀構件是成為被固定於將氣體吐出室區劃的分隔壁及外殼雙方,就可達成分隔壁及外殼的固定強度的提高,機械的強度可提高。
上述氣體吐出室是被配設在外殼的平面視中央部即可。藉由這種構成,可以在平面視中央的氣體吐出室的周圍配設有氣體導入室及氣體誘導室,例如將氣體吐出室平面視包圍的方式將氣體導入室配設,由此從外殼下方將氣體導入時,導入的氣體不易朝外側退避,可以確實地朝氣體導入室將氣體導入。
上述外殼,是具有呈四角筒狀被配置的4個外周壁,上述分隔壁,是具備:呈四角柱狀將上述氣體吐出室區劃的4個內周壁、及將上述氣體導入室及氣體誘導室區劃的平行的2個區劃壁,上述內周壁是與相面對的外周壁大致平行地配設,上述區劃壁是從4個內周壁之中相面對的2個內周壁連續延設至外周壁為止,在藉由2個內周壁被挾持的內周壁,形成有氣體誘導室及氣體吐出室之間的連通口即可。藉由這種構成,基本的構成構件是藉由將平板狀構件組裝就可以將間歇性氣泡發生裝置製造,可達成製造成本的降低。
該間歇性氣泡發生裝置,是使用在具有過濾
膜的過濾組件的洗淨者即可。將該間歇性氣泡發生裝置使用在過濾組件的洗淨的情況,在過濾組件中可以從該間歇性氣泡發生裝置供給大徑的氣泡。此大徑的氣泡的浮力大,可以將過濾組件的過濾膜有效率地擦過或是擺動。其結果,該間歇性氣泡發生裝置,可以將過濾組件有效地洗淨。
又,「大致平行」,不只是嚴格的平行,也有包含角度的差的絕對值是10°以內(較佳是5°以內)的意圖,在本說明書的其他處也同樣。同樣地,「大致水平」,不只是嚴格的水平,也有包含與水平的角度的差的絕對值是10°以內(較佳是5°以內)的意圖,在本說明書的其他處也同樣。
以下,對於本發明的間歇性氣泡發生裝置的實施例,以下,一邊參照圖面一邊詳說。
第1圖~第11圖的間歇性氣泡發生裝置1,是浸漬在液中L使用者,使用於如第8圖所示具有過濾膜52的過濾組件M的洗淨。具體而言,在液體L中被浸漬的該間歇性氣泡發生裝置1,是將從壓縮機等通過給氣管(無圖示)被供給的氣體(氣泡b)貯留在內部,被貯留的氣體是成為一定體積以上的話,藉由將其氣體間歇地吐出,
由比較大的氣泡B供給的裝置。
該間歇性氣泡發生裝置1,是如第4圖~第6圖所示,具備:被立設的筒狀的外殼2、及在此外殼2內被配設成與軸方向大致平行的複數分隔壁3、13。上述分隔壁3、13,是如後述,將外殼2內區劃成:氣體導入室2A、氣體誘導室2B及氣體吐出室2C。
上述外殼2,是具有呈四角筒狀被配置的4個外周壁7。且,該間歇性氣泡發生裝置1,是具備作為上述分隔壁的4個內周壁13,由此內周壁13所構成的吐出管10,是在內部具有形成四角柱狀的上述氣體吐出室2C。因此,該間歇性氣泡發生裝置1,是成為具有外周壁7及內周壁13的雙重筒體構造。
上述氣體導入室2A及氣體誘導室2B,是由外殼2上部連通,氣體誘導室2B及氣體吐出室2C,是由外殼2底部連通。且,氣體導入室2A的上面及氣體誘導室2B的上面是由蓋板8被閉塞,氣體誘導室2B的下面及氣體吐出室2C的下面是由底板5被閉塞。
且該間歇性氣泡發生裝置1,其上述分隔壁,是具備將氣體導入室2A及氣體誘導室2B區劃的平行的2個區劃壁3(第4圖參照)。因此,該間歇性氣泡發生裝置1,是藉由從氣體導入室2A的下面將氣體(氣泡b)導入,被此導入的氣體是被貯留在與外殼2的氣體導入室2A及此氣體導入室2A由外殼2上部連通的氣體誘導室2B(第9圖參照)。其後氣體是進一步被導入,氣體誘導
室2B的液面是如第10圖所示到達氣體誘導室2B及氣體吐出室2C之間的連通口(以下也稱為第一連通口12)的話,此外殼2內的氣體是透過第一連通口12從吐出管10由比較大的氣泡B被放出(第10圖參照)。
該間歇性氣泡發生裝置1的高度(上下方向的長度)、該間歇性氣泡發生裝置1的橫寬度、及該間歇性氣泡發生裝置1的平面視的大小並不特別限定。
上述吐出管10,因為是由如上述4個內周壁13及底板5所構成,所以在內部形成具有氣體吐出室2C的有底筒狀,在上面具有吐出口11(第6圖及第7圖等參照)。又,此吐出管10的底板5,是如後述由與將氣體誘導室2B的下面閉塞的底板5相同構件所構成。
且構成吐出管10的內周壁13是由平板狀構件所構成,在外殼2的平面視被配設於中央。又,平板狀構件的具體的素材並無特別限定,在該間歇性氣泡發生裝置1所使用的環境等可適宜設計變更,可採用例如合成樹脂製板材等。在此,內周壁13的平均厚度也不特別限定。
此內周壁13,是使彼此相面對的內周壁13彼此大致平行地配設,相鄰接的內周壁13彼此是大致垂直交叉。因此吐出管10是形成平面視方形狀。因此,如後述上述內周壁13是被配設成與相面對外周壁7大致平
行。又,「大致垂直交叉」,不只是嚴格的垂直交叉,也有包含兩者的角度是80°以上100°以下(較佳是85°以上95°以內)的意圖,在本說明書的其他處也同樣。
此4個內周壁13,是平面視的長度大致相同,因此吐出管10是形成平面視正方形狀。在此,此內周壁13的長度、吐出管10的內徑也不特別限定。
在此4個內周壁13之中的1個內周壁13中,形成有上述第一連通口12。又,以下,為了方便,將形成第一連通口12的內周壁13稱為正面的內周壁,與此正面壁相鄰接的內周壁13稱為側面的內周壁,相面對於正面壁的背面側的內周壁13稱為背面的內周壁。且,第一連通口12雖是圖示穿設形成在構成正面內周壁13的平板狀構件,但是構成第一連通口12的形成的正面的內周壁13的平板狀構件是使用比其他的內周壁13更短者,依據高低差形成第一連通口12也可以。
上述第一連通口12的形狀雖無特別限定,具有形成水平的上緣較佳。如此藉由第一連通口12的上緣是大致水平,就容易一次使大量的氣體從氣體誘導室2B朝氣體吐出室2C被誘導,因此容易產生大的氣泡B。又,第一連通口12的具體的形狀,可採用例如方形狀等。
此第一連通口12的上緣的橫寬度(水平方向的長度),是從形成大的氣泡B的觀點的話,長的較佳。因此,此第一連通口12的上緣的橫寬度,是與氣體吐出
室2C的橫寬度大致相同較佳。
上述第一連通口12的大小並不特別限定。且,上述第一連通口12的形成處,是外殼2底部的話無特別限定。
上述外殼2的外周壁7是由平板狀構件所構成。又,此平板狀構件的具體的素材並無特別限定,如既述可採用合成樹脂製板材等。且,此平板狀構件的平均厚度,因為是與上述內周壁13(平板狀構件)的平均厚度同樣,所以省略說明。
上述外殼2的各外周壁7,是與相面對的上述吐出管10的內周壁13大致平行地配設。外殼2的外周壁7,是具有與吐出管10的內周壁13大致相同的高度(上下方向的長度),外殼2的外周壁7的上端及下端是被配置成各別與吐出管10的內周壁13的上端及下端及上下位置大致相同。又,長度「大致相同」,不只是嚴格上長度相同,也有包含無阻礙功能、作用範圍內的誤差的情況的意圖,在本說明書的其他處也同樣。
此外殼2的各外周壁7,是比相面對的上述吐出管10的內周壁13的平面視的長度更大,且,在外殼2中在上述吐出管10的周圍(平面視)配設有氣體導入室2A及氣體誘導室2B。又,外殼2的外周壁7的長度,因為是與該間歇性氣泡發生裝置1的深度及橫寬度的說明相
同,所以省略說明。
此外殼2是與吐出管10同軸,即外殼2是配設成與吐出管10的平面視的中心一致。又,以下,為了方便,也有將相面對於吐出管10的正面的內周壁13的外殼2的外周壁7稱為正面的外周壁。
外殼2,是如上述具有底板5,此底板5是由平板狀構件所構成。又,此平板狀構件的具體的素材並無特別限定,如既述可採用合成樹脂製板材等。且,此平板狀構件的平均厚度,因為是與上述內周壁13(平板狀構件)的平均厚度同樣,所以省略說明。
底板5,是被固定在2個區劃壁3的下緣、外殼2的正面的外周壁7的下緣及吐出管10的正面的內周壁13的下緣,由此底板5是將氣體誘導室2B的下面氣密地閉塞。且,此底板5,是如第6圖所示延伸至吐出管10的背面的內周壁13為止,被固定在底板5的側面的內周壁13的下緣及背面的內周壁13的下緣,由此底板5是構成吐出管10的底,將吐出管10的下面氣密地閉塞。即,藉由一枚平板狀構件也就是底板5,構成將氣體誘導室2B閉塞的底板及將氣體吐出室2C閉塞的底板。
外殼2,是具有構成蓋的蓋板8,此蓋板8是由平板狀構件所構成。又,此平板狀構件的具體的素材並無特別限定,如既述可採用合成樹脂製板材等。且,此平板狀構件的平均厚度,因為是與上述內周壁13(平板狀構件)的平均厚度同樣,所以省略說明。
在蓋板8中,在平面視中央形成有對應上述吐出口11(氣體吐出室2C)的形狀的穿孔,此穿孔的周緣是被固定在吐出管10的內周壁13的上緣。且,蓋板8,其外徑是設成大致正方形狀,外緣是被固定在外殼2的上緣,將氣體導入室2A的上面及氣體誘導室2B的上面氣密地閉塞。即,藉由一枚平板狀構件也就是蓋板8,構成將氣體導入室2A的上面閉塞的蓋板及將氣體誘導室2B的上面閉塞的蓋板。
區劃壁3,是將外殼2及吐出管10之間的空間部,如上述區劃成氣體導入室2A及氣體誘導室2B,在該實施例中2個區劃壁3是被大致平行地配設。此區劃壁3,是由平板狀構件所構成。又,此區劃壁3的具體的素材並無特別限定,如既述可採用合成樹脂製板材等。且,此平板狀構件的平均厚度,因為是與上述內周壁13(平板狀構件)的平均厚度同樣,所以省略說明。
區劃壁3,是從吐出管10的一對的側壁13(與形成第一連通口12的內周壁13相鄰接的2個內周壁13)連續延設至正面的外周壁7為止。即,上述區劃壁3,是從4個內周壁13之中相面對的2個內周壁13連續延設至外周壁7為止,在藉由此2個內周壁13被挾持的內周壁13形成有第一連通口12。在該間歇性氣泡發生裝置1中,在如上述平面視中央配設有吐出管10(氣體吐
出室2C),且,在此吐出管10(氣體吐出室2C)平面視鄰接地配設有氣體誘導室2B,將吐出管10包圍的方式呈平面視U字狀配設有氣體導入室2A。又,藉由一枚平板狀構件,構成:一對的側面的內周壁13之中一方的側面的內周壁13、及從此一方的側面的內周壁13延設的區劃壁3較佳,且,藉由一枚平板狀構件,構成:另一方的側面的內周壁13、及從此另一方的側面的內周壁13延設的區劃壁3較佳。由此,可達成該間歇性氣泡發生裝置1的零件點數的減少。且,如此藉由將側面的內周壁13及區劃壁3由共通構件所構成,就可達成吐出管10及外殼2的固定強度的提高,該間歇性氣泡發生裝置1的機械的強度可提高。
氣體導入室2A的橫剖面積,是比氣體吐出室2C的橫剖面積更大較佳。具體而言,在該實施例中,氣體導入室2A的橫剖面積被設成氣體吐出室2C的橫剖面積的7倍。由此,可以將外殼2內的氣體更有效果且一次爆發地吐出。這是認為,因為氣體導入室2A及氣體吐出室2C的氣體的界面的液壓的差發生等的原因。又,氣體導入室2A及氣體吐出室2C的各橫剖面積,是第一連通口12的上端(上述上緣)的水平液位位置(第2圖及第6圖所示的H的位置)中的橫剖面積的意思,後述的氣體誘導室2B的橫剖面積也同樣。且,「上端」,是位於第一連通口12的最上的點的意思,在本實施例中是該當水平配設的上緣。
對於氣體吐出室2C的橫剖面積的氣體導入室2A的橫剖面積的比並不特別限定。
且氣體誘導室2B的橫剖面積,是比氣體導入室2A的橫剖面積更小較佳。具體而言,在該實施例中,氣體導入室2A的橫剖面積被設成氣體誘導室2B的橫剖面積的7倍。由此,可以將外殼2內的氣體更有效果且一次爆發地吐出。且,對於氣體誘導室2B的氣體導入室2A的橫剖面積的比並不特別限定。
在此區劃壁3中,形成有氣體導入室2A及氣體誘導室2B之間的連通口(以下也稱為第二連通口4)。此第二連通口4,是形成於2個區劃壁3的雙方也可以,但是在該實施例中在一方的區劃壁3形成有上述第二連通口4。上述區劃壁3的高度,是與外殼2的外周壁7及吐出管10的內周壁13的高度大致相同。
第二連通口4的形成處,其下端是形成於比第一連通口12的上端更上方的話無特別限定。
第二連通口4的形狀並無特別限定,例如方形狀也可以。且,第二連通口4雖是圖示穿設形成在構成區劃壁3的平板狀構件者,但是構成形成第二連通口4的區劃壁3的平板狀構件是使用比內周壁13更短者,藉由高低差形成第二連通口4也可以。
第二連通口4的大小並不特別限定。
此第二連通口4的內徑的面積(複數情況時合計面積)對於第一連通口12的內徑的面積的比,不特
別限定。
以下,說明該間歇性氣泡發生裝置1的作用。但是,以下說明的氣泡發生機構只是一例且意示者,氣泡發生機構因為也會依據各種構件的具體的形狀使具體的位置關係等微妙變化,所以以下的說明不一定正確地反映實際的氣泡發生機構。
該間歇性氣泡發生裝置1,是在浸漬液體L中的狀態下為了間歇地發生比較大的氣泡B而被使用。且,在該間歇性氣泡發生裝置1中,如第9圖所示,從氣體導入室2A的下方使氣泡b依序被供給,此氣泡b是被貯留在氣體導入室2A的上部,進一步是被貯留在氣體誘導室2B的上部,使氣體導入室2A及氣體誘導室2B的液面皆下降。
且進一步氣泡b是藉由被供給至該間歇性氣泡發生裝置1,如第10圖所示使氣體誘導室2B的液面到達第一連通口12的上緣為止。其後,進一步氣泡b是藉由被供給,使氣體誘導室2B的氣體透過第一連通口12朝氣體吐出室2C移動。藉由伴隨此氣體的移動使氣體誘導室2B的壓力平衡崩潰,朝氣體誘導室2B透過第二連通口4使氣體導入室2A的氣體流入,藉由此氣體的流入進一步透過第一連通口12使氣體氣體朝吐出室2C移動,結果比較大的氣泡B是從吐出口11被吐出(第11圖參
照)。如此比較大的氣泡B被放出的理由不一定明確。但認為由:從第一連通口12至氣體誘導室2B的氣體是朝氣體吐出室2C移動時吸引力是作用在後續的氣體、或是被貯留在氣體誘導室2B的氣體從第一連通口12被放出時由其表面張力而收束、或是朝上方的液壓是作用在氣體導入室2A的液面等所起因。
且如此將比較大的氣泡B吐出之後,氣體導入室2A及氣體誘導室2B的液面會上昇,其後如上述氣泡b是藉由依序被貯留,再度以比較大的氣泡B被吐出,這種比較大的氣泡B的吐出是間歇地反覆進行。
該間歇性氣泡發生裝置1,是如第8圖所示被配置於被浸漬在液體L中的過濾組件M的下方,為了藉由朝過濾組件M供給氣泡B將過濾組件M洗淨而使用。過濾組件M,是藉由一對的固定構件50、51複數過濾膜52被固定者。
藉由間歇性氣泡發生裝置1朝過濾組件M供給氣泡B的情況,氣泡B是藉由固定構件50被分割成複數分割氣泡C,一邊與複數過濾膜52的表面接觸一邊上昇。此分割氣泡C,是在複數過濾膜52的間隔具有接近的平均徑使過濾膜52之間容易均質地擴大。因此,可以藉由此分割氣泡C將過濾膜52的表面完全洗淨。且,因為分割氣泡C的上昇速度是比習知的微小的氣泡更大,所
以可以由較高的擦過壓力有效地將過濾膜52的表面洗淨。且,如圖示的過濾組件M過濾膜52是被配置成垂直的情況,因為分割氣泡C是沿著過濾膜52的長度方向上昇,所以可以將過濾膜52的表面的洗淨更效率且有效地進行。
該間歇性氣泡發生裝置1,是從氣體導入室2A的開口的下面將氣體(氣泡b)導入,氣體導入室2A及氣體誘導室2B的液面是到達第一連通口12的話,此外殼2內的氣體因為是以比較大的氣泡B從吐出管10被吐出,所以可以最佳使用在過濾組件M的洗淨等。
且該間歇性氣泡發生裝置1,是可以藉由將平板狀構件組裝地製造,所以可達成製造成本的降低。且,因為藉由一枚平板狀構件(底板5)將氣體誘導室2B的下面及氣體吐出室2C的下面閉塞,所以可達成零件點數的減少。進一步,因為此底板5是被固定在內周壁13及外周壁7雙方,所以可達成吐出管10及外殼2的固定強度的提高,該間歇性氣泡發生裝置1的機械的強度可提高。且,藉由將底板5及外殼2的外周壁7的固定處作成外周壁7的下端,就可達成上述固定強度的提高可以將該間歇性氣泡發生裝置1容易且確實地製造。
進一步,因為藉由一枚平板狀構件(蓋板8)將氣體導入室2A的上面及氣體誘導室2B的上面閉塞,
所以可達成零件點數的減少。進一步因為此蓋板8是被固定在內周壁13及外周壁7雙方,所以可達成吐出管10及外殼2的固定強度的提高,該間歇性氣泡發生裝置1的機械的強度可提高。尤其是,在該實施例中,吐出管10及外殼2的上下因為各別是由蓋板8及底板5被固定,所以可獲得更高的該間歇性氣泡發生裝置1的機械的強度。
這次揭示的實施例的全部的點只是例示不是限制。本發明的範圍,不限定於上述實施例的構成,也有包含由申請專利範圍所示、與申請專利範圍均等的意思及範圍內的全部的變更的意圖。
該間歇性氣泡發生裝置1,不限定於如上述實施例的平面視方形狀者,如第12圖A所示圓筒狀(平面視圓形)者也可採用。進一步,只有吐出管10是平面視圓形等也可以。又,在第12圖A、第12圖B、第13圖A、第13圖B、第14圖A、第14圖B、第15圖A及第15圖B中,對於具有與第一實施例同樣的構成或是同樣的功能的構件,是使用同一符號,省略詳細的說明。
且在上述實施例中雖說明了,吐出管10是位於平面視中央者,但是如第13圖A所示吐出管10是位於平面視端部者也可採用。進一步如第14圖A所示吐出管10是位於平面視端部,加長吐出管10的全長並將吐出口11昇高者、和如第15圖A所示在氣體吐出室2C的兩側
設置氣體誘導室2B者也可採用。但是,如上述實施例吐出管10是被配置在平面視中央較佳,由此,在吐出管10的周圍可以容易地配置下部開口的氣體導入室2A。因此,裝置整體小型,且可以確實地朝該間歇性氣泡發生裝置1供給氣泡b。且,藉由採用這種構成,因為可以配設朝吐出管10的下部供給氣泡b的裝置,所以朝該間歇性氣泡發生裝置1的外側退避的氣泡b,與洗淨對象也就是過濾組件M接觸的可能性也較高。
本發明的間歇性氣泡發生裝置,是可以發生徑(體積)大的氣泡,可以最佳使用在例如膜組件的洗淨。
Claims (6)
- 一種間歇性氣泡發生裝置,是浸漬在液中使用的間歇性氣泡發生裝置,具備:被立設的筒狀的外殼、及在此外殼內與軸方向大致平行地配設將氣體導入室及氣體誘導室及氣體吐出室區劃的分隔壁,上述氣體導入室及氣體誘導室是由外殼上部連通,上述氣體誘導室及氣體吐出室是由外殼底部連通,上述氣體導入室的上面及氣體誘導室的上面是由蓋板被閉塞,上述氣體誘導室的下面及氣體吐出室的下面是由底板被閉塞,上述外殼,是具有呈四角筒狀被配置的4個外周壁,上述分隔壁,是具備:呈四角柱狀將上述氣體吐出室區劃的4個內周壁、及將上述氣體導入室及氣體誘導室區劃的平行的2個區劃壁,上述內周壁是與相面對外周壁大致平行地配設,上述區劃壁是從4個內周壁之中相面對的2個內周壁連續延設至外周壁為止,在藉由2個內周壁被挾持的內周壁,形成有氣體誘導室及氣體吐出室之間的連通口。
- 如申請專利範圍第1項的間歇性氣泡發生裝置,其中,氣體導入室的橫剖面積是比上述氣體吐出室的橫剖面積大。
- 如申請專利範圍第1或2項的間歇性氣泡發生裝置,其中,上述氣體誘導室及氣體吐出室之間的連通口的上緣是形成大致水平。
- 如申請專利範圍第1或2項的間歇性氣泡發生裝置,其中,藉由一枚平板狀構件,構成將上述氣體誘導室閉塞的底板及將上述氣體吐出室閉塞的底板。
- 如申請專利範圍第1或2項的間歇性氣泡發生裝置,其中,上述氣體吐出室是被配設在外殼的平面視中央部。
- 如申請專利範圍第1或2項的間歇性氣泡發生裝置,其中,使用在具有過濾膜的過濾組件的洗淨。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014-062810 | 2014-03-25 | ||
JP2014062810 | 2014-03-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201600164A TW201600164A (zh) | 2016-01-01 |
TWI630024B true TWI630024B (zh) | 2018-07-21 |
Family
ID=54195134
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW104109188A TWI630024B (zh) | 2014-03-25 | 2015-03-23 | 間歇性氣泡發生裝置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10179311B2 (zh) |
JP (1) | JP6398981B2 (zh) |
CN (1) | CN106061591B (zh) |
CA (1) | CA2940699A1 (zh) |
SG (1) | SG11201606346TA (zh) |
TW (1) | TWI630024B (zh) |
WO (1) | WO2015146611A1 (zh) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP6583447B2 (ja) * | 2018-02-20 | 2019-10-02 | 株式会社明電舎 | 気泡発生装置 |
JP2019188351A (ja) * | 2018-04-26 | 2019-10-31 | 住友電気工業株式会社 | 散気管及び間欠的気泡発生モジュール |
DE102019129074B3 (de) | 2019-10-28 | 2021-01-21 | membion Gmbh | Verfahren zum Einleiten eines Gases und Begasungseinrichtung |
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- 2015-03-12 US US15/119,744 patent/US10179311B2/en active Active
- 2015-03-12 SG SG11201606346TA patent/SG11201606346TA/en unknown
- 2015-03-12 JP JP2015533341A patent/JP6398981B2/ja active Active
- 2015-03-12 CA CA2940699A patent/CA2940699A1/en not_active Abandoned
- 2015-03-12 WO PCT/JP2015/057338 patent/WO2015146611A1/ja active Application Filing
- 2015-03-12 CN CN201580010398.XA patent/CN106061591B/zh active Active
- 2015-03-23 TW TW104109188A patent/TWI630024B/zh active
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---|---|
WO2015146611A1 (ja) | 2015-10-01 |
JPWO2015146611A1 (ja) | 2017-04-13 |
CN106061591A (zh) | 2016-10-26 |
TW201600164A (zh) | 2016-01-01 |
SG11201606346TA (en) | 2016-11-29 |
CA2940699A1 (en) | 2015-10-01 |
JP6398981B2 (ja) | 2018-10-03 |
US20170056831A1 (en) | 2017-03-02 |
CN106061591B (zh) | 2018-09-14 |
US10179311B2 (en) | 2019-01-15 |
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