TWI606849B

TWI606849B - 超音波去污裝置

Info

Publication number: TWI606849B
Application number: TW103102217A
Authority: TW
Inventors: 神昭雄
Original assignee: 生物製藥股份有限公司
Priority date: 2013-01-22
Filing date: 2014-01-21
Publication date: 2017-12-01
Also published as: AU2014200277A1; EP2759308B1; AU2017218972B2; KR20140094445A; EP2759308A3; AU2014200277B2; US20140205499A1; US9289526B2; EP2759308C0; JP6067384B2; SG2014002661A; AU2017218972A1; EP2759308A2; KR101940650B1; JP2014140392A; TW201442746A

Description

超音波去污裝置

本發明係關於一種用以對細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之機器進行去污之裝置及方法，更具體而言，係關於一種藉由利用超音波將過乙酸殺菌劑霧化而對細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之機器進行去污之裝置及該機器之去污方法。

現今，使用細胞之實驗、治療涉及多個方面，以多種目的在各種機構、組織進行。例如，可列舉：(1)在大學、國家及民間之研究機構進行之使用動物細胞為中心之基礎研究；(2)在大學醫院、國家醫療機構或製藥公司進行之使用人體細胞之基礎研究；(3)在大學醫院、製藥公司、自由診療用之CPC(Cell Processing Center，細胞處理中心)(人體投予用細胞製備設施)進行之以治療為目的之細胞製備；(4)於微生物之操作方面，在大學感染實驗室及國家感染研究所進行之感染人體之病原微生物之基礎研究；(5)於無菌試驗方面，民間之食品製造廠檢查室、農業試驗所、衛生試驗所等。

該等使用細胞之研究均必需無菌或清潔空間內之實驗。而且，由於細胞非常容易被感染、污染，因此對處理細胞之機器要求較高之潔淨度。然而，因每天使用而機器免受污染較為困難，重要的是頻繁地對機器進行清掃、消毒。然而，近30年以來，機器之清掃、消毒均以使用相同之消毒用酒精之人工作業下之擦拭為中心。

雖然可簡便地進行使用消毒用酒精之人工作業下之擦拭，但作業人員之負擔較重，且有於作業中產生二次污染之可能性。又，作業人員之個人差異較大，且產生漏擦，無法測定去污效果。進而，亦有在消毒用酒精之作用下不死亡之真菌，若持續使用相同之藥劑，則會產生耐藥菌。又，芽孢菌在消毒用酒精之作用下不會死滅。

又，根據CO₂培養箱，雖然有具有自帶之去污功能者，但成為專用機器，因此，無法用於不具備去污功能之機器。又，對於此種機器，利用乾熱滅菌方式於120度左右進行滅菌，雖然滅菌時間通常約為2小時，但散熱需耗費10小時左右，因此無法有效率地進行滅菌。進而，由於在滅菌過程中機器變得非常熱，故因熱而對位於周圍之CO₂培養箱造成影響，因此，亦有於滅菌過程中無法使用周圍之培養箱之問題。

另一方面，亦已知有如下方法：於CO₂培養箱內設置專用超音波霧化器，產生過氧化氫之蒸氣而進行去污(專利文獻1)。然而，於該方法中，機器內部相當程度地潤濕，而必須進行擦拭作業，因此，有產生二次污染之可能性。

又，於清潔台等安全櫃之去污時，使用UV(紫外線，ultraviolet)殺菌燈，但於該方法中，僅於直接照射有UV光之範圍內有滅菌效果，又，若UV光因壁等而反射，則滅菌效果會減半。而且，現狀為於未照射UV光之部分使用消毒用酒精以人工作業之方式進行擦拭。

又，於細胞培養以及使用微生物之操作及實驗中，頻繁地使用離心分離機，但離心分離步驟為產生氣溶膠之風險較大之步驟。

其原因在於：於安全櫃內之操作時所產生之飛沫有可能附著於離心分離管，因進行離心而非常劇烈地與離心腔室內之空氣攪拌。

又，其原因在於：尤其，若使用角轉子，則於離心分離管與蓋之間，因由離心力所引起之應變差而產生間隙。

已知該等氣溶膠引起細胞之污染及對作業人員之感染之風險較大。

然而，至目前為止，對離心機腔室之內部進行去污等類似之操作無較佳之方法而不進行。

如此般不引起二次污染且有效率地對CO₂培養箱、安全櫃、離心機等細胞培養所使用之機器之內部進行去污之裝置不存在。

於處理感染性微生物之研究中，為了安全起見，於封閉設計之室內(P-3室、P-4室等生物危害室)進行操作。於對微生物開放地進行操作之安全櫃中，微生物有可能懸浮或附著，但現狀為照射UV光或者使用消毒用酒精以人工作業之方式進行擦拭。

又，為了冷凍保存該等微生物，必須放入至保存用管體中並搬出至危害室外。此時，打開危害室側之門，將裝有微生物之管體放入至設置於與普通區域之間之傳遞箱。繼而，打開普通區域側之門而取出管體。此時，一般將管體密封並利用消毒用酒精對表面外側進行擦拭，但現狀為未嚴格地確認無附著於管體之外側之微生物。

如此般，不僅進行無菌操作，而且對微生物進行操作後，不僅對安全櫃進行去污，而且對進入至傳遞箱中之生物危害室之空氣及取出之管體之表面進行去污以防止感染的裝置不存在。

就安全櫃中之去污而言，雖然有福馬林氣體薰蒸，但已知福馬林已被指定為致癌物質，而且會產生甲酸、多聚甲醛、三聚甲醛等腐蝕性較高且具有毒性之殘留物，故而現狀為幾乎不使用。

在頻繁地進行無菌試驗之食品製造廠等對附著於食品之微生物進行調查。一般為利用培養基之培養實驗，但若進行操作之清潔台、進行培養實驗之恆溫槽被真菌污染，則無法準確地進行評價，因此，現狀為使用消毒用酒精以人工作業之方式進行擦拭。

如此般亦於品質管理方面簡單地進行檢查用機器之庫內去污之裝置不存在。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2010-154793號公報

本發明之目的在於提供一種有效率地對細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之機器進行去污之裝置及方法。

鑒於上述先前技術之問題，本發明者等人進行了銳意研究，結果發現：若藉由超音波將過乙酸殺菌劑霧化，則可產生直徑極小之液滴(乾霧)，若將該液滴於細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之機器(以下亦稱為「被去污機器」)內噴霧，由於該液滴不結露，故而不會使被去污機器等因腐蝕而損傷且可有效地對其進行去污。

又，本發明者等人發現如下情況而完成了本發明：藉由根據被去污機器內之溫度與濕度算出準確之去污時間並嚴格管理機器內部之濕度，可效率良好地使過乙酸殺菌劑汽化，藉此能夠以較高之水平穩定地進行去污。

即，本發明提供

[1]一種去污裝置，其係用以對細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之機器進行去污之裝置，且包括：超音波霧化器，其藉由超音波振動將過乙酸殺菌劑霧化而釋出液滴；擴散用風扇；溫濕度感測器；及控制器。

[2]如[1]之去污裝置，其中過乙酸殺菌劑為過乙酸、過氧化氫、乙酸及水之混合液。

[3]如[1]或[2]之去污裝置，其中上述控制器具備去污時間自動計算功能。

[4]如[1]至[3]中任一項之去污裝置，其中上述控制器具備僅利用進行去污之機器內部之溫度與濕度算出去污時間的去污時間自動計算功能。

[5]如[1]至[4]中任一項之去污裝置，其中自上述超音波霧化器釋出之液滴具有微米尺寸之直徑。

[6]如[1]至[5]中任一項之去污裝置，其進而包括觸媒風扇。

[7]如技術方案[1]至[6]中任一項之去污裝置，其中細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之機器為CO₂培養箱、安全櫃、傳遞箱、清潔台、恆溫器或離心機。

[8]如[1]至[7]中任一項之去污裝置，其中選自溫濕度感測器、擴散用風扇及觸媒風扇之一者以上設置於超音波霧化器。

[9]一種方法，其對細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之機器進行去污，且包括如下步驟：於細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之機器之內部放入超音波霧化器，並使該超音波霧化器作動而藉由超音波將過乙酸殺菌劑霧化，藉此釋出液滴，並使該液滴與上述機器接觸。

[10]如[9]之方法，其包括如下步驟：將過乙酸殺菌劑霧化而釋出液滴直至上述機器內之濕度達到特定之濕度為止，其後，藉由重複進行超音波霧化器之作動與停止而維持該特定之濕度。

[11]如[9]或[10]之方法，其包括如下步驟：於去污處理開始前設定濕度，將過乙酸殺菌劑霧化而釋出液滴直至上述機器內之濕度達到設定濕度為止，其後，藉由重複進行超音波霧化器之作動與停止而將上述機器內之濕度維持為設定濕度。

[12]如[11]之方法，其包括如下步驟：於去污處理開始前，藉由溫濕度感測器而測定上述機器內之溫度及濕度，並計算上述設定濕度下之去污時間。

[13]如[9]至[12]中任一項之方法，其包括藉由擴散用風扇而使上述液滴於上述機器內擴散之步驟。

於本發明之去污裝置及去污方法中，由於可藉由利用超音波將過乙酸殺菌劑霧化而釋出直徑極小之液滴，故而不會使被去污機器等因腐蝕而損傷且可有效地對其進行去污。又，由於該液滴不會將機器內濡濕，故而可防止由擦拭液體所引起之二次污染。

又，由於過乙酸具有廣泛之抗菌譜，故而藉由使用本發明之裝置，亦可有效地將利用先前技術無法殺滅之芽孢菌等菌殺滅。

進而，本發明之去污裝置藉由具有去污時間自動計算功能，而不會過量地噴霧殺菌劑，且可提供任何人使用均不存在去污失誤而穩定之去污水平。

1‧‧‧控制器

2‧‧‧超音波霧化器

3‧‧‧擴散用風扇

4‧‧‧溫濕度感測器

5‧‧‧觸媒風扇

6‧‧‧CO₂培養箱

圖1係本發明之去污裝置之一實施態樣之概略圖。

圖2係使用本發明之去污裝置對CO₂培養箱進行去污之概略圖。

圖3係本發明之去污裝置及去污方法中可使用之演算法之一例。

圖4係利用本發明之去污方法之去污處理之一例。

圖5係使用觸媒風扇之情形及未使用觸媒風扇之情形時之過氧化氫濃度之測定結果。

本發明之一實施態樣係關於一種去污裝置(以下亦稱為「本發明之去污裝置」)，其係用以對細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之機器進行去污之裝置，包括藉由超音波振動將過乙酸殺菌劑霧化而釋出液滴之超音波霧化器、擴散用風扇、溫濕度感測器、控制器，且視情形包括觸媒風扇。

本發明中所使用之超音波霧化器可使霧化用振動子振動而藉由該超音波將液體霧化。

此處所使用之霧化用振動子可較佳地配置為如下形態，即，包括包含壓電陶瓷之壓電元件、及被覆該壓電元件中包含與液體對向之液體對向面之覆著面的絕緣樹脂膜，且液體對向面與液體對向，絕緣樹脂膜與液體接觸。又，絕緣樹脂膜較佳為包含使單體堆積於壓電元件之覆著面並且相互聚合而樹脂化所得的厚度為5~20μm之對二甲苯系聚合物。

又，作為本發明中所使用之超音波霧化器，較佳為具有如下構成，即，壓電元件較佳為板狀，且包括：壓電陶瓷板，其具有第1主面、第2主面及將該等之間連結之側面；第1電極層，其於第1主面上擴展，且經由側面而延伸至第2主面；及第2電極層，其於第2主面上，與第1電極層分開並且於該第2主面上擴展，並與第1主面上之第1電極層介隔壓電陶瓷板而對向；絕緣樹脂膜被覆第1主面、側面及形成於該等之第1電極層所形成之覆著面，且該超音波霧化器使第1主面朝向液體而配置壓電元件。

又，壓電陶瓷板較佳為設為在第1電極層與第2電極層之間施加頻率為1~5MHz之電氣信號時於厚度方向產生共振之尺寸的霧化用振動子。

此種超音波霧化器詳細記載於日本專利特開2011-36771號公報中，可藉由參照而將該文獻之記載內容併入於本案發明之範圍內。

本發明中之超音波霧化器連接於控制器，並藉由控制器之控制而作動及停止。

本發明中之超音波霧化器較佳為以如下方式設計：若藥劑量不足，則顯示為低水位而中斷霧化，與此同時，停止自去污時間中倒數計時。又，若設為如下設計則更安全：即便補充藥劑，亦係使藥劑處於位於軟管中之狀態，而不立即進行霧化。霧化後，於再次達到設定濕度後再次進行去污時間之倒數計時。

本發明中之超音波霧化器較佳為具有溫度、濕度之記錄器功能，例如每隔1分鐘自動地進行記錄。日誌之記錄可於每1次去污時以一個檔案之CSV(Comma Separated Values，逗點分隔值)形式進行保存。

本發明中所使用之過乙酸殺菌劑較佳為包含過乙酸、過氧化氫、乙酸及水之混合液。

於本發明中之過乙酸殺菌劑中，較佳為過乙酸之含量為0.01~1.2重量%，過氧化氫之含量為0.06~4.8重量%，乙酸之含量為0.02~6.0重量%，剩餘部分為水。

作為本發明中可使用之過乙酸殺菌劑，例如有由Minntech公司市售之Actril(註冊商標)、Minncare(註冊商標)、及其他過乙酸系藥劑等。

於本發明中，可藉由於上述超音波霧化器中使霧化用振動子振動並利用該超音波使過乙酸殺菌劑霧化，而產生直徑極小(微米尺寸)之液滴。該液滴之中徑較佳為3~15μm，更佳為3~10μm。此種極小之液滴亦稱為乾霧，由於具有如不潤濕之霧般之特性，故而不會使被去污機器因腐蝕而損傷且可有效地對其進行去污。又，由於該液滴不會將機器內濡濕，故而可防止因擦拭液體而產生之二次污染。

又，由於過乙酸具有廣泛之抗菌譜，故而藉由使用本發明之裝置，亦可在短時間內使藉先前技術之利用過氧化氫之蒸氣之方法亦無法於短時間內殺滅之芽孢菌死滅。

本發明之去污裝置包括擴散用風扇。擴散用風扇包括風扇馬達，藉由馬達之動力而進行旋轉。擴散用風扇可連接於超音波霧化器。擴散用風扇使庫內之殺菌劑粒子之分佈均勻。認為可進而促使較小之粒子蒸發，與此同時產生自由基，而提高去污效果。

本發明之去污裝置可包括觸媒風扇。觸媒風扇係於欲於短時間內將去污後庫內之過氧化氫濃度分解時連接於控制器而進行使用。觸媒風扇包括風扇馬達與觸媒，藉由馬達之動力而進行旋轉，效率良好地使外部氣體通過觸媒中而將過氧化氫分解。

本發明之去污裝置包括溫濕度感測器。溫濕度感測器連接於控制器，並將測定所得之溫度、濕度之檢測值傳輸至控制器。所傳輸之檢測值即時顯示於控制器，且可每隔1分鐘自動地獲取記錄。所獲取之記錄(日誌)以CSV檔案之形式記錄於控制器之USB(Universal Serial Bus，通用串列匯流排)記憶體，且可將資料移動至外部電腦而進行確認。又，溫濕度感測器可採取校正措施來保持可靠性。於本發明中，可於去污時將溫濕度感測器配置於被去污裝置之內部適當之位置。

本發明之去污裝置包括控制器。本發明中之控制器與超音波霧化器、擴散用風扇、溫濕度感測器、及觸媒風扇電性連接。控制器使超音波霧化器之動作開始，並使利用擴散用風扇之送風開始，而進行去污處理。於該去污處理之執行過程中，控制器係以將由溫濕度感測器檢測之被去污裝置內之濕度維持為預先所設定之濕度之方式，根據溫濕度感測器之檢測值使超音波霧化器作動或停止。若去污結束，則觸媒風扇作動，而將庫內之過氧化氫分解。

本發明之控制器具有具備去污時間自動計算功能之特徵。即，於去污處理開始前，藉由溫濕度感測器測定被去污裝置內之溫度，並算出該溫度下之飽和蒸氣量。繼而，測定被去污裝置內之濕度。根據該濕度之測定值及上述所求得之飽和蒸氣量，算出被去污裝置內存在之水蒸氣量。藉此，能夠算出可於被去污裝置內噴霧何種程度之量之過乙酸殺菌劑之液滴。進而，可根據此處所算出之過乙酸殺菌劑之噴霧量，根據對照眾多去污條件試驗結果而完成之演算法，算出達到預先所設定之被去污裝置內應保持之特定之濕度後直至結束為止的去污時間。將本發明之控制器所具有之去污時間自動計算功能中可使用之演算法之一例示於圖3。

本發明之去污裝置藉由具有此種去污時間自動計算功能，而無需過量地噴霧殺菌劑，又，由於可僅利用被去污機器內部之溫度與濕度而算出去污時間，故而可提供任何人使用均不存在去污失誤而穩定之去污水平。

於本發明之控制器中，可手動地輸入設定濕度、濕度維持時間及觸媒風扇作動時間，且可設為如下模式，即，可進行去污處理之手動模式、可記錄至多3種預先設定之數值之記憶體模式、僅設置溫濕度感測器而不進行任何設定即可進行使用之自動模式。

本發明之去污裝置可構成為：超音波霧化器、溫濕度感測器、擴散用風扇、及視情形包含之觸媒風扇分別電性連接於控制器。將此種實施形態之本發明之去污裝置之概略圖示於圖1。又，將使用該去污裝置對CO₂培養箱進行去污之概略圖示於圖2。如圖2所示，自超音波霧化器釋出液滴，藉由擴散用風扇而使液滴擴散至整個CO₂培養箱內。

本發明之去污裝置亦可構成為：包括將選自溫濕度感測器、擴散用風扇及觸媒風扇之一者以上設置於超音波霧化器並使該等一體化而成之裝置、及控制器。於該情形時，一體化之裝置與控制器可電性連接。或者，亦可藉由利用控制器之無線通訊而控制該一體化之裝置。

本發明之另一實施態樣係一種方法，其對細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之機器進行去污，且包括如下步驟：於細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之機器之內部放入超音波霧化器，並使該超音波霧化器作動而藉由超音波將過乙酸殺菌劑霧化，藉此釋出液滴，並使該液滴與上述機器接觸。

於本發明之去污方法中，將過乙酸殺菌劑霧化而釋出液滴直至被去污機器內之濕度達到特定之濕度為止，其後，可藉由重複進行超音波霧化器之作動與停止而維持該特定之濕度。

又，於去污處理開始前設定濕度，將過乙酸除菌劑霧化而釋出液滴直至被去污機器內之濕度達到設定濕度為止，其後，可藉由重複進行超音波霧化器之作動與停止而將上述機器內之濕度維持為設定濕度。

又，於本發明之去污方法中，可於去污處理開始前藉由溫濕度感測器而測定被去污機器內之溫度及濕度並計算設定濕度下之去污時間。此可藉由如下方式而實現：利用上述方法，於去污處理開始前，藉由溫濕度感測器而測定被去污裝置內之溫度，並算出該溫度下之飽和蒸氣量，繼而，測定被去污裝置內之濕度，藉此，算出達到最高濕度所需之過乙酸殺菌劑之噴霧量，並根據對照眾多去污條件試驗結果而完成之演算法，算出達到預先所設定之被去污裝置內應保持之特定之濕度後之去污時間。將本發明之去污方法中可使用之演算法之一例示於圖3。

將利用本發明之去污方法之去污處理之一例示於圖4。

如圖4所示，於加濕時間內，使加濕器(超音波霧化器)及擴散用風扇作動，於濕度維持時間內，以根據藉由溫濕度感測器所檢測之濕度而保持設定濕度之方式使加濕器重複開啟(ON)/關閉(OFF)。

本發明之去污裝置可用於CO₂培養箱、安全櫃、傳遞箱、離心機腔室、清潔台、恆溫器等細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之機器。

[實施例] [實施例1]

將細菌芽孢(10⁶個)嗜熱脂肪地芽孢桿菌(G.stearothermophilus)(ATCC #7953)用作BI(Biological indicator，生物指示劑)，利用自動計算功能自動計算滅菌時間，對在各種溫度．初始濕度之環境下使10⁶個細菌芽孢死滅之效果進行了調查。將結果示於下表中。

[實施例2]

使用本發明之去污裝置(使用Actril作為過乙酸殺菌劑)，進行CO₂培養箱(池本理化製造型式10-0211)與安全櫃(三洋電機製造型式MHW-132AJ)之滅菌試驗。作為指示菌(BI)，使用所製備之真菌孢子(10⁶個)巴西黑麴菌(Aspergillus brasilus Niger)(NBRC9455)、及細菌芽孢(10⁶個)G.stearothermophilus(ATCC #7953)。又，藉由去污時間自動計算功能自動計算出滅菌時間(濕度維持時間)。將結果示於下表中。

設定濕度：95%

初始溫度：37℃、初始濕度：33%

濕度維持時間：63分鐘

設定濕度：95%

初始溫度：23℃、初始濕度：64%

濕度維持時間：114分鐘

根據表2及3，於藉由去污時間自動計算功能自動計算並求出之濕度維持時間內進行了滅菌試驗，結果顯示可有效地殺滅真菌孢子及細菌芽孢。

[實施例3]

觸媒風扇之效果

於本發明之去污裝置中，為了調查利用觸媒風扇而產生之效果，滅菌後對(1)不使用觸媒風扇之情形及(2)使用觸媒風扇之情形測定了過氧化氫濃度。將結果示於圖5-1~5-2。

若比較圖5-1與圖5-2則可知如下內容：藉由使用觸媒風扇，可使滅菌後之殘留過氧化氫濃度迅速降低。

Claims

一種去污裝置，其係用以對細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之具有內部空間之機器進行去污之裝置，且包括：超音波霧化器，其藉由超音波振動將過乙酸殺菌劑霧化而釋出液滴；擴散用風扇；溫濕度感測器；及控制器；其中上述超音波霧化器及溫濕度感測器係以放入上述被去污機器之上述內部空間內之方式進行設置，其中上述控制器具備僅利用上述被去污機器內部之上述溫度與濕度而算出去污時間的去污時間自動計算功能，其中上述超音波霧化器係設置為：若對上述機器進行去污時藥劑量降低至低於必需量時，則顯示為低藥劑位準，中斷霧化，且立即停止上述去污時間之倒數計時，其中上述超音波霧化器係設置為：於補充上述藥劑至高於上述必需量後，仍暫停上述霧化之再啟動，其中於達到設定濕度後，上述超音波霧化器係設置為啟動剩餘之上述去污時間之倒數計時。
如請求項1之去污裝置，其中過乙酸殺菌劑為過乙酸、過氧化氫、乙酸及水之混合液。
如請求項1之去污裝置，其中自上述超音波霧化器釋出之液滴具有微米尺寸之直徑。
如請求項1之去污裝置，其進而包括觸媒風扇。
如請求項1之去污裝置，其中上述被去污機器為CO₂培養箱、安全櫃、傳遞箱、清潔台、恆溫器或離心機。
如請求項1之去污裝置，其中選自溫濕度感測器、擴散用風扇及觸媒風扇之至少一者設置於上述超音波霧化器。
如請求項1之去污裝置，其中上述超音波霧化器包含：板狀壓電元件，且包括：壓電陶瓷板，其具有第1主面、第2主面、以及將上述第1主面與上述第2主面彼此連結之側面；第1電極層，其於上述第1主面上擴展，且經由上述側面而延伸至上述第2主面；及第2電極層，其與上述第1電極層分開並且於上述第2主面上擴展，並與上述第1主面上之上述第1電極層介隔上述壓電陶瓷板而對向。
一種方法，其對細胞培養、微生物之操作或無菌試驗所使用之具有內部空間之機器進行去污，且包括如下步驟：於上述被去污機器之上述內部空間放入超音波霧化器；測定上述被去污機器內之溫度及濕度；僅利用上述被去污機器內部之上述溫度與濕度而算出去污時間；使上述超音波霧化器作動而藉由超音波將過乙酸殺菌劑霧化，藉此釋出液滴；並使上述液滴與上述機器接觸；若對上述機器進行去污時藥劑量降低至低於必需量時，則顯示低藥劑位準，中斷霧化，且立即停止上述去污時間之倒數計時；於補充上述藥劑至高於上述必需量後，仍暫停上述霧化之再啟動；且於達到設定濕度後，啟動剩餘之上述去污時間之倒數計時。
如請求項8之方法，其中擴散用風扇係用以使上述液滴於上述機器內擴散。
如請求項8之方法，其中上述超音波霧化器包含：板狀壓電元件，且包括：壓電陶瓷板，其具有第1主面、第2主面、以及將上述第1主面與上述第2主面彼此連結之側面；第1電極層，其於上述第1主面上擴展，且經由上述側面而延伸至上述第2主面；及第2電極層，其與上述第1電極層分開並且於上述第2主面上擴展，並與上述第1主面上之上述第1電極層介隔上述壓電陶瓷板而對向。