TWI589953B - 結合超穎表面元件於眼用裝置的方法 - Google Patents

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TWI589953B
TWI589953B TW103108905A TW103108905A TWI589953B TW I589953 B TWI589953 B TW I589953B TW 103108905 A TW103108905 A TW 103108905A TW 103108905 A TW103108905 A TW 103108905A TW I589953 B TWI589953 B TW I589953B
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藍道 普伏
法迪克 費利奇
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壯生和壯生視覺關懷公司
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Description

結合超穎表面元件於眼用裝置的方法
本發明描述具有媒介插件之眼用裝置及具有超穎表面元件於其上或其內之鏡片。
傳統上，如隱形眼鏡、人工水晶體或淚管塞等眼用裝置包括具有矯正、美容或治療特性之生物可相容裝置。例如，隱形眼鏡可提供視力矯正功能、加強妝飾與治療效果之一或多者。每種功能係由一種鏡片的物理特性所提供。結合折射特性之鏡片設計可提供視力矯正功能。將色素結合至鏡片可提供加強妝飾效果。將活性劑結合至鏡片中可提供治療效果。此等物理特性不需使鏡片進入賦能狀態便可達成。淚管塞傳統上為被動裝置。
近來已敘述以賦能及非賦能眼用插件為基準的新式眼用裝置。這些裝置可使用賦能功能來供電給活化後式光學組件。
最近，已經證明了獨特平面鏡片可以由具有排列在表面上的奈米級金屬特徵的特用表面結構的製造而形成。可以通過控制奈米級特徵的單位室結構設計而完成各種設計。
定義眼用裝置以產生納入奈米級結構可能是有用的。
因此，本發明包括一個媒介插件，其包括有包含超穎表面之奈米級金屬特徵。超穎表面可以是光的次波長尺寸的特徵至特定波長的重複圖案。次波長尺寸的特徵的相互作用可與光相互作用並改變從特徵再發射之光的相位特性。特徵在這個意義上也可被認為 奈米級天線。在插件上形成奈米級金屬特徵可能有許多方法及這些插件可被封裝在眼用材料的鏡片裙件以形成眼用裝置。
在一些實施例中，插入裝置可以通過橫越插入裝置的表面的至少一部分上形成週期性圖案之奈米級金屬特徵來定義。週期性圖案可具有用於週期性之長度因子，其近似等於或小於可見光的不同波長。在某些實施例中，金屬特徵的塑型和尺寸因子的設計可以基於模擬奈米級特徵的所欲相位特性來確定。入射在超穎表面元件上之光可以改變的相位特性出現，且這可被模擬。該設計可為從頭開始模擬的方法，其中結構、佈局、特徵位置和其它因子的性質及光的所欲效果是在自我一致的模型中使用。可使用基於試驗設計與基於先前結果之調整的替代迭代模型。在某些實施例中，奈米級金屬表面的所欲鏡片特性可具有徑向對稱聚焦鏡片特性。模型可產生所欲的相位特性，該相位特性具有徑向對稱性和元件的集合的作用的聚焦特性。當插件形成為具有三維曲面，而非平坦表面時，可有可用於轉換所得到的具有超穎表面元件之眼用裝置的鏡片特性為呈三維空間之眼用裝置且超穎表面為等效平面空間的模型之估計方案。可估計有可導致設計參數的超穎表面的有效聚焦特性。該方法可與如上所述的迭代模擬方法使用。
在某些實施例中，模擬過程可藉由使用由使用者提供參數並且可在計算系統上運行的基於軟體的算法發生。該使用者提供的參數可以是基於理論上的要求。在其他情況下，眼用從業人員可以測量患者的眼用特性及矯正需要，將這些需求公式化為一套模擬系統參數。計算系統在某些實施例中可提供數字輸出或提供空間設計元件作為設計數據點陣列。
在某些實施例中，較佳地，其中的光的波長是在可見光譜中，在金屬特徵可具有小的表面面積尺寸。作為一實例，該超穎表面特徵可具有表面區域尺寸為10,000奈米2或更少。在放置超穎表面元件的週期性質可有許多多樣性。他們可能會被部署為直線、極性或放射狀圖案，或其它週期性圖案。相鄰的最近間距可與光的所欲波長有關以與元件互相作用。在某些實施例，該間距可以小於或約等 於可發生在可見光譜中的早期的紅光譜。在某些實施例中，間距或週期性可以小於或約等於700奈米。
該插件可以被籠罩在鏡片裙件。鏡片裙件可由該通常在隱形眼鏡生產採用的材料(例如水凝膠)形成。可用於在眼內定位鏡片之穩定特徵可模製到眼用裙件。這些特徵可對超穎表面鏡片元件具有特定用途，其對此具有高階矯正態樣，其中矯正態樣不是徑向對稱的。可採用插件的各種設計，其可適配所得的眼用裝置。具有超穎表面元件在其上的插件的表面整體塑型可以是本質為凸或替代地本質為凹。可形成至用於眼用裝置之插件中的其它塑型亦可包含在本揭露範圍內的先前技術。
也可製造超穎表面元件的活化後或非靜態的實施例。在某些實施例中，金屬層可以形成為特徵，其可在電能的影響下用於形成或增強超穎表面元件的活性。活化後形成的結構的週期性和塑型態樣可類似於在前面的章節中所討論的。介質上電潤濕(EWOD)原則可用於某些實施例。在EWOD裝置的不混溶流體中之一者可含有金屬奈米球或金屬奈米棒。在某些實施例中，奈米球或奈米棒可具有表面改質，以提高其對EWOD流體一者或其他者的偏好。在某些實施例中，表面改質可以通過將配體分子化學附著到奈米級金屬組分來進行。其中超穎表面元件會活化後地形成的插件的表面可具有擁有較佳的表面自由能的區域以與EWOD流體有差異地相互作用。在某些實施例中，EWOD區域的休眠狀態可定義其中含有奈米球、奈米棒或其他塑型的金屬成分之流體可在空間中瀰漫的情況。通過在EWOD裝置中的電場的應用，區域偏好可以被切換導致含有奈米級金屬成分的流體累積成為含有超穎表面元件的塑型。
隱形眼鏡可形成為包含具有三維塑型的插件，其中插件表面的至少一部分可具有靜態或活化後超穎表面元件在其上，超穎表面元件在該處具有鏡片效果。某些具有活化後超穎表面元件的實施例可包含與介質上電潤濕的現象作用的組分。EWOD室的流體內，在某些情況下可包含奈米球或奈米棒的奈米級組分。在流體中的奈米級組分表面的改質可以各種方式來執行，並且可包括將分子化學附著 至奈米級組分的表面而改變其對介質上電潤濕流體的一或多者的偏好。具有活化後超穎表面元件在其上之實施例可回應電場，該電場可以由位於插件或眼用裝置內的其他組分控制。在某些實施例中，可變焦點隱形眼鏡可來自於活化後表面超穎表面元件的可電控成型。
100‧‧‧媒介插件
105‧‧‧電子組件
110‧‧‧賦能元件
115‧‧‧基材
120‧‧‧光學區
125‧‧‧導電跡線
130‧‧‧導電跡線
150‧‧‧眼用裝置
155‧‧‧周邊
200‧‧‧項目
210‧‧‧項目
220‧‧‧眼用裝置
221‧‧‧項目
230‧‧‧橫剖面表示圖
231‧‧‧項目
235‧‧‧單件插件
250‧‧‧項目
260‧‧‧項目
300‧‧‧項目
310‧‧‧線
320‧‧‧眼用裝置
330‧‧‧橫剖面表示圖
331‧‧‧項目
335‧‧‧項目
350‧‧‧項目
360‧‧‧項目
400‧‧‧項目
405‧‧‧項目
410‧‧‧線
422‧‧‧多件插件
430‧‧‧橫剖面表示圖
431‧‧‧項目
435‧‧‧項目
436‧‧‧項目
450‧‧‧穩定化特徵
460‧‧‧穩定化特徵
500‧‧‧項目
510‧‧‧文中未述
520‧‧‧項目
521‧‧‧項目
522‧‧‧項目
523‧‧‧項目
524‧‧‧項目
525‧‧‧項目
526‧‧‧項目
527‧‧‧項目
550‧‧‧文中未述
560‧‧‧平面鏡片
561‧‧‧項目
570‧‧‧位置
580‧‧‧球形模型表面
581‧‧‧聚焦特性
590‧‧‧雙曲面徑向相位分佈
600‧‧‧項目
620‧‧‧項目
621‧‧‧項目
622‧‧‧項目
623‧‧‧項目
624‧‧‧項目
625‧‧‧項目
626‧‧‧項目
627‧‧‧項目
610‧‧‧文中未述
671‧‧‧項目
680‧‧‧點
690‧‧‧項目
691‧‧‧項目
700‧‧‧項目
710‧‧‧文中未述
720‧‧‧文中未述
730‧‧‧項目
740‧‧‧項目
750‧‧‧項目
760‧‧‧項目
770‧‧‧項目
771‧‧‧項目
800‧‧‧項目
810‧‧‧文中未述
840‧‧‧控制電路
820‧‧‧文中未述
830‧‧‧賦能元件
910‧‧‧項目
911‧‧‧側面結構
912‧‧‧頂部
913‧‧‧組分
914‧‧‧電極
915‧‧‧流體層
916‧‧‧表面層
917‧‧‧介電
918‧‧‧電極
920‧‧‧文中未述
930‧‧‧奈米球
931‧‧‧配體分子
935‧‧‧項目
1010‧‧‧項目
1011‧‧‧項目
1012‧‧‧項目
1013‧‧‧項目
1014‧‧‧項目
1015‧‧‧項目
1016‧‧‧項目
1017‧‧‧文中未述
1018‧‧‧項目
1020‧‧‧項目
1100‧‧‧項目
1101,1102,1103,1104,1105,1106,1107‧‧‧步驟
1108‧‧‧文中未述
1200‧‧‧項目
1201,1202,12031204,1205,1206,1207‧‧‧步驟
1208‧‧‧文中未述
1300‧‧‧項目
1301,1302,1303,1304,1305,1306‧‧‧步驟
圖1說明用於賦能眼用裝置的媒介插件之一例示性實施例以及賦能眼用裝置之一例示性實施例。
圖2說明具有各種特徵的例示性隱形眼鏡，特徵包括一個納入的單件插件，其可用於本文技藝的實施態樣。
圖3說明在圖2證明的實施例之例示性替代實施例。
圖4說明具有各種特徵的例示性隱形眼鏡，特徵包括一個納入的多件插件，其可用於本文技藝的實施態樣。
圖5說明關於一個基於平面超穎表面元件之鏡片的先前技術態樣，與關於設計具有雙曲面相位輪廓之超穎表面元件以作為鏡片使用。
圖6說明基於三維鏡片基材，而非平面基材模擬的奈米結構的變化。
圖7說明用於模擬鏡片之相位特性估計。
圖8說明包含活化後元件和超穎表面元件的例示性媒介插件。
圖9說明具有活化後引進超穎表面元件結構的例示性活化後眼用裝置。
圖10說明具有活化後引進超穎表面元件結構的替代例示性活化後眼用裝置。
圖11說明設計以及形成結合靜態超穎表面元件的眼用裝置的例示性方法。
圖12說明設計以及形成結合動態超穎表面元件的眼用裝置的例示性方法。
圖13說明使用結合動態超穎表面元件的眼用裝置之例示性方法。
本發明關於具有超穎表面組分之眼用裝置，其可影響在眼睛環境的電磁輻射的變動。在下列段落中將給出本發明實施例之詳細說明。較佳實施例與另一實施例之說明僅為實例，且精於此項技藝之人士當可輕易思及各種變化、修改及變更。因此該例示性實施例並未限制基本發明之原理。
名詞解釋
在有關本發明之說明與申請專利範圍中，各式用語將應用如下定義：
經賦能：如本文中所使用，係指能夠供應電流至或能夠具有電能儲存於其中之狀態。
能量：如本文中所使用，係指物理系統作功之能力。許多上述術語於本發明內之使用係關於可以作電功之能力。
能源：如本文中所使用，係指能夠供應能量或將邏輯或電氣裝置置於賦能狀態之一裝置或層。
能量擷取器：如本文中所使用，係指能夠從環境提取能量並將之轉換為電能之裝置。
功能化：如本文中所使用，係指使一層或裝置能夠執行一功能，包括例如賦能、活化或控制。
滲漏：如本文中所使用，係指不想要的能量損失。
鏡片或眼用裝置：如本文中所使用，係指裝置於眼睛上或眼睛內的任何器件。這些裝置可提供光學校正、可為妝飾性或者可提供與眼睛不相關的功能性。例如，鏡片一詞可指隱形眼鏡、人工水晶體、覆蓋鏡片、眼用插件、光學插件或其他類似裝置，透過上述裝置來矯正或修正視力，或者在不妨礙視力的情況下，透過上述裝置使眼睛生理在妝飾方面有所增進(例如，虹膜顏色)。或者，鏡片可提供非光學的功能，例如，監控葡萄糖或投藥。在一些實施例中，本發明較佳的鏡片係由聚矽氧彈性體或水凝膠所製成的軟性隱形眼鏡，其包括例如聚矽氧水凝膠及氟水凝膠。
鏡片成形混合物或反應性混合物或反應性單體混合物(RMM)：如本文中所使用，係指可予以固化並且交聯或予以交聯以成形眼用鏡片的單體或預聚合物材料。各種實施例可包括鏡片成形混合物，其具有一或多個添加劑(例如，紫外線阻斷劑、染劑、光起始劑或催化劑)以及可為例如隱形眼鏡或人工水晶體之眼用鏡片期望的其他添加劑。
鏡片成形表面：如本文中所使用，係指用於模塑化鏡片的表面。在一些實施例中，任何此類表面可具有光學品質表面光度，此表示其平滑與成形程度足以使藉由與模面接觸之鏡片成形材料聚合作用方式製造的鏡面在光學特性上可被接受。再者，在一些實施例中，鏡片成形表面可具有必須賦予鏡片表面期望的光學特性之幾何，其中包括但不限於球面、非球面及柱面度數(cylinder power)、波前像差校正(wave front aberration correction)、角膜形貌校正(corneal topography correction)，以及相似之物及其任何組合。
鋰離子電池：如本文中所使用，係指電化學電池，其中鋰離子穿越過電池以產生電能。此電化電池一般稱為電池，可在其標準型態中重新通上電流或充電。
媒介插件：如本文中所使用，係指封裝插件，在賦能的眼用裝置中將該插件包括在內。可在媒介插件中結合賦能元件及電路系統。媒介插件定義賦能之眼用裝置的主要用途。例如，在賦能的眼用裝置允許使用者調整光功率的實施例中，媒介插件可包括控制光學區中之液態彎月面部分的賦能元件。替代地，媒介插件為環形，使光學區為材料之空隙。在此類實施例中，鏡片的賦能功能可不是光學特質，而是例如為監控葡萄糖或供給藥物。
超穎表面：如本文中所使用，係指為週期性排列的奈米級特徵的人造組合。該組合會導致與天然結構截然不同的有用特性。在本文許多實施例中，特徵與光，尤其是在可見光譜中的相互作用允許鏡片裝置被構成。
模具：如本文中所使用，其指可被用來使未固化配方形成鏡片的剛性或半剛性物體。某些較佳模具包括成形前曲面模具零件與後曲面模具零件的兩個模型零件。
奈米級：如本文中所使用，係指具有至少一個維度比約1微米小的一個或多個特徵的元件；因此，其維數在至少一個維度可以奈米被提及。
操作模式：如本文中所使用，係指高電流汲取狀態，其中遍及電路之上的電流允許裝置執行其主要賦能功能。
光學區：如本文中所使用，係指眼用鏡片之區域，該眼用鏡片之配戴者係透過該區域看東西。
功率：如本文中所使用，係指每單位時間之作功或傳遞之能量。
可再充電的或可再賦能的：如本文中所使用，係指恢復至具更高容量以作工之狀態的能力。許多上述術語於本發明內之使用可能與恢復之能力有關，該恢復之能力係以使電流在一特定重建之期間內以特定速率流動之能力來恢復。
再賦能或再充電：如本文中所使用，係指回復至具有更高容量以作工的狀態。許多於本發明內之使用可能與裝置之恢復能力有關，該恢復係使電流在一特定重建之期間內以特定速率流動之能力。
參考：如本文中所使用，係指適於用在其他電路中之產生理想、固定且穩定的電壓或電流輸出的電路。參考可衍生自能帶間隙，可針對溫度、供電及過程變異進行補償，並可為特殊的特定應用積體電路(ASIC)具體地量身打造。
自模具釋放：如本文中所使用，係指鏡片係完全自模具分離或僅不牢固地附接著，以致鏡片可利用溫和搖動予以移除或利用拭子予以推出。
重設功能：如本文中所使用，係指自觸發演算機制，以將電路設定為特定的預定狀態，包括例如，邏輯狀態或賦能狀態。 重設功能可包括例如賦能重設電路，其可與開關機構協作，以確保晶片在初始連接至電源以及在從儲存模式喚醒這兩者之上的正確活化。
睡眠模式或備用模式：如本文中所使用，係指在不需要操作模式時，於關閉開關機構容許省電之後，賦能裝置的低電流汲取狀態。
堆疊：如本文中所使用，係指至少兩個組件層彼此相鄰置放，使得該些層之一者之一表面至少一部分接觸一第二層之一第一表面。在一些實施例中，一薄膜(無論用於黏附或其他功能)可存在於兩層之間，透過該薄膜使該等兩層彼此接觸。
堆疊型整合式組件裝置或SIC裝置：如本文中所使用，係指封裝技術的產品，其可由將每一層的至少一部分彼此堆疊而將基材的薄層組裝到運作性整合式裝置內，所述的基材薄層可含有電氣及電機裝置。這多個層件可包含各式類型、材料、塑型、以及尺寸的組件裝置。此外，此等層件可由各種器件生產技術製成，用以符合並且呈現各式形態。
儲存模式：如本文中所使用，係指包括電子組件之系統的狀態，其中電源持續供應，或電源必須供應最小之經設計的負載電流。此術語不可與備用模式互換。
基材插件：如本文中所使用，係指能夠支撐眼用鏡片中能源之可成形或剛性基材。在一些實施例中，基材插件亦支撐一或多個組件。
開關機構：如本文中所使用，係指與電路整合並提供各種位準之電阻的組件，其可響應獨立於眼用裝置的外側激源。
三維：如本文中所使用，係指本質上不是二維平面的塑型或表面。
賦能眼用裝置
繼續至圖1，其描述用於賦能眼用裝置的媒介插件100之一例示性實施例以及對應的賦能眼用裝置150。媒介插件100可包括光學區120，其可或可不具有提供視力矯正的功能。在眼用裝置的賦能功能與視力無關的情況下，媒介插件100的光學區120可為 材料的空隙。在一些實施例中，媒介插件100可包括非位於光學區120之中的一部分，其包括與賦能元件110及電子組件105結合的基材115。可有許多實施例涉及包括超穎表面元件至眼用裝置中；然而，許多者可定義在其上部署有超穎表面元件之光學區120中的表面部分。
在一些實施例中，可將可為例如電池的電源110以及可為例如半導體晶粒的負載105附接至基材115。導電跡線125及130可電性連接該電子組件105及該賦能元件110。可完全封裝媒介插件100，以保護並內含賦能元件、軌跡及電子組件。在一些實施例中，封裝材料可為半透性的，例如，防止例如水之特定物質進入媒介插件100，並允許例如周圍氣體或賦能元件內之反應副產物的特定物質進入媒介插件100或由媒介插件100滲出。
在一些實施例中，媒介插件100可包括在眼用裝置150之中，其可包括聚合物生物可相容材料。眼用裝置150可包括剛性中心、軟性裙件設計，其中中心剛性光學元件包括媒介插件100。在一些特定實施例中，媒介插件100可與大氣以及個別的前及後表面上的角膜表面直接接觸，或者替代地，媒介插件100可封裝在眼用裝置150之中。眼用鏡片150的緣周155可為軟性裙件材料，包括例如水凝膠材料。
媒介插件100和眼用裝置150的基礎結構可為眾多涉及奈米結構元件形成超穎表面之實施例提供一個環境。其中的某些實施例可能涉及眼用裝置的純粹被動功能，其中，例如，超穎表面組分進行與視力矯正有關的光作用(舉例而言)。其他實施例可涉及具有活化後功能的眼用裝置，其中再次超穎表面組分本身執行被動功能。另外，在又進一步實施例中，超穎表面組分本身可為眼用裝置的活化後功能的一部分。
繼續至圖2，以橫截面說明項目200，其為例示性單件插件的描繪。在圖2中，眼用裝置220可具有橫剖面表示圖230，其表示通過由線210所示之位置的橫剖面。在一個例示性實施例中，眼用裝置220的光學區可包括一偏振元件，其可在橫截面表示為項目 235。奈米結構化元件可在項目235的表面上以形成超穎表面。在其他實施例中，項目235可僅表示具有超穎表面元件在其上之表面。項目235可代表一個三維狀基材，該基材附接在其他嵌入成形件來形成一個插件。
還有，裝置的光學區外，可以在單件插件上印刷圖案如項目221，和在橫截面上印刷圖案如項目231。在某些實施例中，NNN可僅在235包含超穎表面組份和一個在231可選的印刷區域。
如在橫截面中所示，單件NNN235可具有三維塑型。例如，可以藉由平面型式開始使薄片材料熱成型而呈現該三維彎曲塑型。可在執行此熱成型之前或之後，添加超穎表面元件到薄片材料。
在一些實施例中，在眼睛的環境內可存在針對眼用鏡片之定向的需求。項目250及260可表示穩定區特徵，其可協助在使用者的眼睛之上定向成形的眼用鏡片。此外，在某些實施例中，在單件插件上使用穩定化特徵可允許其相對於模製的穩定化特徵定位。定位的能力對不屬於徑向對稱性質的超穎表面特徵可能特別重要，因為將可能會是矯正二階和更高階的視覺像差的圖案的情況。
繼續至圖3，以橫截面來說明項目300，其為圖2所示的例示性單件插件的變形。在圖3中，眼用裝置320可具有橫剖面表示圖330，其表示通過由線310所示之位置的橫剖面。在一個例示性實施例中，眼用裝置320的光學區可以包括一個部分(不一定是按比例顯示於圖中)，其中相對於所述凸定位，表面塑型對入射的輻射是凹向的。這可允許超穎表面元件可調節鏡片表面的發散態樣，而不是調整眼用鏡片的聚焦態樣的實施例。奈米結構化元件可在此項目335的凹表面上以形成超穎表面。還有，裝置的光學區外，可以在單件插件上印刷圖案如項目321，和在橫截面上印刷圖案如項目331。在某些實施例中，NNN可僅在335包含超穎表面組份和一個在331可選的印刷區域。出於如在圖2中的實施例相同的動機，可有對準特徵或穩定化區納入到眼用裝置，如項目350和360所示，並可有印刷到插件上為特徵的圖案331。
繼續至圖4，項目400，可觀察到其中可用於形成眼用裝置之多件式插件的額外的實施例。在項目405，多件插件422可在光學區包括一個活化後元件。該圖描繪了跨越線410的橫截面圖430。出於例示性的目的，眼用鏡片亦包括為項目431的印刷特徵，其也可在橫截面表示為項目431。此外，本例示性鏡片可包括穩定化特徵450和460。
多件插件也可用於具有環形塑型的實施例，其中在光學區沒有插件的材料佔據。對於超穎表面，此類型的環形插件的修改可以在兩件環形塑型在被描繪為項目436之區域完成，而插件的單件可以位於光學區和支持超穎表面元件。
多件插件的例示性實施例可包括在兩個NNN之間的項目435的彎月形式的活化後鏡片元件。當由電池供電的電路跨越彎月形透鏡的部件施加電位時，彎月形透鏡可活化後改變聚焦特性。超穎表面元件也可以被包括在該多件表面中的一個。在一非限制性的實例中，在活化後彎月形透鏡的表面上包括被動超穎表面聚焦元件，可允許鏡片的高階校正態樣的光學特性調節。
多件插件可也包括一活化後奈米級超穎表面實施例。在隨後的段落討論中發現在項目435在兩個NNN之間的區域內活化後形成超穎表面元件的一實施例。在某些這樣的實施例中，光學區可具有相對於使用者的眼睛的較佳定位。用於形成這樣的包括眼用裝置之超穎表面的方法可允許鏡片的各種組分登記對準到穩定化元件450和460。然後這些元件將維持鏡片相對於使用者的眼睛的一個既定定位。
超穎表面鏡片元件
繼續至圖5，項目500，顯示基於光與奈米級金屬元件的相位改變的相互作用之基於平坦表面的鏡片裝置的先前技術的實施方式的態樣。在某些平坦表面鏡片的實施方式中，小金屬特徵可以與光在平坦鏡片的表面上進行交互作用的設計來被定義在平坦的表面上。在項目520至527，描繪一組功能性鏡片的設計。510的特 徵包含以這樣的方式被部署在平坦的表面上以形成鏡片的超穎表面元件的單位室。
在一例示性實施例中，鏡片針對約為1.5微米的波長優化，該波長為出自可見光譜之共同通信電磁波長。在其他實施例中，可能會針對在可見光譜的波長發生優化。單位室從項目520變化到523。該組分的長度範圍從180到85奈米的長度，並在該長度的線性元件之間可觀察到有一角度範圍從約90埃至零。包含超穎表面裝置之金屬的厚度可為約50奈米，並且裝置可以彼此相隔間距範圍從750奈米下至200奈米。當距離小於200奈米時，超穎表面組分可能趨向於與彼此「通信」和改變鄰近裝置的性能。在功能裝置的說明中，單位室組分的數目是在四個離散的步驟中製造，雖然在實踐中，不同組分設計的數量可以是顯著更多。各種參數與特定波長範圍的證明實踐有關。在510的超穎表面元件的設計態樣包括它們的厚度和長度的變化可用於對不同的波長範圍微調超穎表面元件。
所描繪的元件以及上述提及的參數與用於創造一個平坦鏡片的設計態樣有關，其中超穎表面的天線元件的相位改變被用來模擬導致鏡片之雙曲面徑向相位分佈590。在550，可發現關於估算放置在平面鏡片560上的元件的所欲相位特性的重要元件。鏡片560可具有為顯示為項目561之半徑。模擬的鏡片可具有顯示為項目581的焦距特性。在可以表示為位置(x,y)的位置570的超穎表面元件(例如524)的模擬相位特性係使得由項目590表示的相位偏移特性與在球形模型表面580上的位置向量的投影是成正比的。這將導致所欲的鏡片功能與所欲的聚焦特性581。可以證明對於這樣的參數關係，相位偏移PS(x,y)的投影將按照下列關係 其中PS(x,y)表示點x,y在平坦鏡片上所欲的相位偏移，且λ表示光的波長，及f表示所欲的鏡片聚焦特性。在一個極坐標系統中，相位偏移PS(r,Θ)為
納入此類型的平坦鏡片可創造新穎眼用裝置是顯而易見的。在眼內裝置中，一平坦聚焦平面是可能的。在眼內裝置內採用這種設計對於在靜態意義上調整聚焦特性可能是實用的。或者，在未來章節中以三維塑型的裝置討論的活化後元件實施例可能也關於平面鏡片類型的眼內實施例。
繼續至圖6，項目600，可描繪對其中表面不是平坦的這樣的鏡片條件生成的模型。對顯示在610為項目620-627之超穎表面奈米級元件使用類似單位室設計可是實用的。其中元件的設計態樣，例如其厚度、特徵的角度和長度可以是關於聚焦的所欲中心波長和關於所需的所計算的相位偏移特性。
從平坦鏡片切換到彎曲鏡片可以在模擬裝置引入額外的複雜性可能是明顯的。對以根據曲面的入射平面波的物理相位特性可引入裝置的相態樣的第一組分。此外，現在超穎表面元件可駐留在全部地曲面，此將改變天線特徵在空間的角度定位。此外，由於表面曲線，奈米塑型的超穎表面元件和彼此之間的直線距離可與沿著元件之間的表面本身的距離不同。
可能有一些合理的估計，可允許有估計的鏡片設計參數。例如，有可能獨立地引入與該表面相互作用的平面波的相位改變和超穎表面的天線元件的相位改變特性來處理曲面的相位特性成為第一階。由此來模擬超穎表面天線的設計參數，由於藉由減去三維成形鏡片裝置的整體相位偏移，超穎表面天線獨立於其他的相位偏移，考慮相位的所欲變化可能是足夠的。
由於奈米級超穎表面天線是如此的小，在估計將其模擬為點可能是一個很好的估計。雖然，在平面波如何與傾斜奈米級超穎表面元件交互作用可有差異，但忽略藉由估算小裝置為一點的影響仍然是可接受的，該點不受彎曲鏡片表面可引入變形的影響。
另外，在另一個估算，在設計元件之間的間隔可以基於在非彎曲的空間中的元件之間的距離估計。在實踐中，奈米級元件的密度會影響聚焦裝置的效率和彎曲的實施可能會降低該奈米級元件可被放置的密度。儘管如此，裝置仍可創造為具有估計中的第一階效應，彎曲空間不限制奈米級元件的設計密度。
圖6項目690的描繪中可觀察到彎曲空間的效果。球形模型表面可以描繪為項目671。彎曲的表面可以被描繪成項目691，其中奈米級超穎表面元件如項目624可位於點680處的表面上的點(x’,y’,z’)。可觀察到相位長度特性上所產生的影響為縮短的相位長度691。估算的相位偏移的方程式可成為依賴三維的方程式，由PS(x,y,z)表示或替代地在一個圓柱坐標系統表示為PS(r,Θ,h)。
應用各種所提到的估計，應用所欲的整體鏡片特性至具有超穎表面元件之彎曲鏡片表面的方法可在相關之圖7，項目700中進行討論。在項目710中，可發現具有超穎表面元件的曲面的圖形描繪。鏡片塑型的組合相位特性描繪為項目730，然後超穎表面組分描繪為項目740。在其中超穎表面和物理曲面是徑向對稱和聚焦的例示性情況下，在組合的相位偏移的焦距的差異可以被理解為項目750，其中項目760可以表示所得的鏡片聚焦特性為項目760。對焦在兩個不同的獨立聚焦特性的相對建構角度可能是合理的估計，其中770可代表在物理彎曲的鏡片表面聚焦特性的頂部的超穎表面影響聚焦特性的角度。
持續估計，在720，可描述如果你從超穎表面裝置將彎曲眼用鏡片裝置的相位偏移特性去耦合可產生之情況。如果具有超穎表面元件的彎曲鏡片的總相位影響的三維影響被估計完全來自彎曲裝置的相位特性，那麼其可通過減去整個鏡片表面上PSlens(x,y,z)的相位特性被估計，你可將所欲的超穎表面模擬條件轉化以參照圖6之討論再次匹配平坦鏡片。這可等同於具有代表性的圓柱坐標系，其中高度參數-h被設置為零。如果得到的轉化被估計會通過維持焦距貢獻而發生，焦距貢獻可能通過維持焦距特性的相對角度(如由項目771所示)而模擬，則對於轉化的相位空間平坦鏡片的新的估計聚焦特 性可表示為項目750。然後這樣的超穎表面元件的設計態樣也可以相同的方式計算，如關於圖6及方程式1、2所提及的，其中“f”為現在從項目750的估計的有效焦距。在實務上，可使用更複雜的波陣面模擬系統來嚴格計算出任意的三維曲面所欲之相位特性，以及部署其上的奈米超穎表面元件所欲產生的相位特性。對於使裝置與本文技藝及估計的光學特性相一致，可能應用全面估計。
在估計的情況下，圓柱坐標系可以由減去物理鏡片基材的三維的特性被壓縮到極坐標關係，然後極坐標相位表示可再次為
此外，個別超穎表面元件的設計參數模擬可以精密的模擬方案進行為例如有限差分時變(Finite Difference Time-Dependent，FTDT)電磁模擬。如果在全三維部署的奈米表面元件上進行，這些模擬可為計算密集的但是可能的。或者，先前討論的估計可通過生產、測量和精緻的估計循環提供產生被反覆矯正之結果的替代。
繼續至圖8，項目800，可發現某些概念的例示性實施例。項目800可表示眼用插入裝置，其在某些實施例中可被包括在眼用鏡片內，或表示自身的眼用裝置。該實例包括賦能元件830，其使控制電路840賦能，控制電路840可包含一集成電路。集成電路以及其它組分也可以控制其它裝置內的活性組分。在一非限制性的實例中，當光進入通過該裝置時，以彎月形式之鏡片能夠在該活性區調節光焦度。在光學區覆蓋此裝置，超穎表面元件可能在820。在810放大的插圖中，可以觀察到超穎表面元件。這些元件可以被設計成提供一個靜態光學矯正，靜態光學矯正與在下面的鏡片元件的光學焦度的活化後變化組合可以提供新穎的功能。
在某些實施例中，如在圖9所示，超穎表面元件也可以活化後方式定義。該在項目800討論的例示性彎月形透鏡通常可以採用介質上電潤濕(EWOD)的技術。該技術藉由改變接近液體之 表面的表面自由能來作用於液體的組合。對EWOD裝置而言，不可融液體的組合可為有效的，在不可融液體的組合中，一液體例如為極性液體(如水溶液)，且另一液體為非極性液體(如油)。該技術可用於創造活性超穎表面元件的活化後創造。在項目910，無施加電場通過活性表面之EWOD類型液體的組合，可能導致無規律定義之超穎表面元件的擴散鏡片效果。910的亮點描繪元件的擴散位置。這些元件可在標識為915的流體層中找到。在插圖中，流體層915可由溶劑化的組分組成。在某些實施例中，這些組分可為金屬奈米球，例如如項目930所示，或金屬奈米棒，如項目935所示。該金屬組分可以由金、銀、鉑或其他可以形成奈米組分的元素組成。
奈米組分的表面可塗覆有能賦予表面能至奈米尺寸組分的化學物質。這些塗覆的化學物質可建立對某些流體類型的偏好或遠離某些流體類型。該配位基分子，931顯示出附接到奈米球930，可在某些實施例中使奈米球出現親水性性質或替代性地疏水性性質。如果奈米球是親水的，其可較佳位於EWOD液體混合物的水組分。當第一液體含有奈米尺寸的組分時，如在描繪中的915，其它組分913可以沒有奈米尺寸的組分。然後流體可被包含在一個微型結構內，該結構由一頂部912、側面結構911及在一介電917上的一表面層916所包圍。該表面層可為使水相，例如，較佳為通過使例示性的水性流體層915接觸整個表面所示將整個表面濕潤。在該介電917下的可能是電極918。該流體層可被另一個電極914接觸。當電位通過電極918及914，在電極918附近的表面層916上的表面自由能可能會改變，以有利於油型層潤濕(其可被認為是一種油類潤濕特性)。這種情況可描繪在920。
如果電極被定義使得含有液體的奈米結構當局部成更小的區域，例如在920的情況下液體914的情況下，然後將奈米球濃縮為特徵，該特徵可呈現設如插圖中在920所示的奈米表面類型的設計。這些塑型會以由奈米球930或奈米棒935組成的濃縮的奈米金屬結構發生，其可與光以類似的方式交互作用為如前所述的超穎表面組分。具有附著的表面分子的奈米球或奈米棒可以配製為單一尺寸組 分，其在尺寸範圍從市售的來自Discovery Scientific Inc.為2奈米-250奈米的球狀尺寸混合物內。或者也可以使用不同尺寸的組合。流體的光學性質可以根據使用的球狀尺寸或各種尺寸的組合被改變。以及配體可以通過測定在液體中的奈米球之間的最近間距與光學性質相互作用中發揮作用。
在某些實施例中，側面結構911可以被設計成圍繞個別超穎表面元件。在其他實施例中，多個元件可以位於各個隔離的表面結構內。可作出電極位置918的設計，或缺少電極位置的設計，使得個別元件的間距為大約250奈米或更遠離。在這些個別的分離的室中的設計特徵918的相對表面面積可測定當EWOD效應引起超穎表面元件的定義時，兩種不混溶流體的相對量，該流體用於包含一流體區域的設計元件。
繼續至圖10，可發現圖9實施例的替代實施例。在圖10中的實施例以類似的方式以電潤濕操作為定義活性超穎表面元件的手段建立沿著電極的側壁具有奈米結構裝置的層。在項目1010，情況為其中含液體層的奈米結構位於沿一個小室底部。該室具有如實施例900的相似結構特徵。項目1011可以是含有微流體室之側壁。室的頂部可為項目1012。項目1014可為形成在奈米表面元件的所欲塑型的電極。項目1013可以是形成在其一側具有所需的潤濕性的電極側壁上之介電薄膜。項目1015可以是貫通室的頂部的電極。項目1016可以是含有溶劑化的奈米球的流體層和項目1018可以是其它流體層。層1016可以具有類似的金屬奈米球930和奈米棒935，其可具有附著的配體分子931以定義奈米結構的表面自由能，因而其偏好的液體類型可於其內被溶劑化。
當電場被施加穿過電極1015和電極1016，此施加的電位可改變項目1016的側壁區域的表面自由能引起流體層1016沿側壁區域移動，如圖中關於1020的描繪。在該區域的流體的積累可以形成超穎表面的結構如項目1020所示。再次，施加電壓穿過室可產生具有模擬化的光學效果的活性奈米結構圖案。在某些實施例中， 電壓的施加可以通過包含在插件結構內之電子件控制，該插件結構也含有賦能元件。
在項目1020的實施例創造所得的超穎表面結構(位於該金屬電極的附近)可具有改變的光的相互作用，因為具有介電層和第二金屬結構的金屬奈米結構的結構可以創造與電磁輻射的磁場更強烈耦合的奈米結構。根據參數，如電介質膜的厚度，這可能造成額外的基於波長之共振。這可能會創造模擬納入該實施例之奈米表面結構的另一個維度。
方法
繼續參照圖11，項目1100，可見設計及形成包括超穎表面元件的眼用裝置之例示性方法。在1101，為可形成一眼用裝置的模型。該模型可包含一個三維基材形式，該基材形式可具有至少兩個重要態樣。首先，該基材形式通常會定義一常規眼用裝置的塑型，該眼用裝置可理解光學特性，也可被表示為被賦予入射光的基點相位特性。其次，在塑形上或之內，可佈局一個三維部署奈米級金屬元素的網絡或陣列。該系統可用於模擬光學元件波陣面特性以及與奈米超穎表面元件之電磁相互作用的性質的先進模擬系統。在其他簡化的估計中，該模型可被分解成一個標準的設備鏡片特性，以及可被估計作為扁平超穎表面鏡片的疊加超穎表面鏡片。不論模擬方法為何，所希望的眼用參數可被輸入模擬系統，連同實驗結果，如有適當，以產生基材塑形以及跨越該塑形的個別奈米表面元件的設計態樣。
繼續參照1102，該模型資訊可用來製作在基材上的奈米級超穎表面天線元件。在一個非限制性示例中，該過程可首先涉及在一個平面基材上放置超穎表面元件，然後將基材形塑成所需的三維塑型。例如，可使用熱成型方式形成平面基材。為了放置超穎表面元件，可能有許多能夠產生所需結果的多種方法。可熱成形的基材可被塗覆一層抗化學性薄膜，像是可能用在半導體工業中。然後，例如，可用一奈米壓模微影術基材將超穎表面元件所欲之樣式壓印入光致抗蝕劑。奈米壓模基材可以像所欲之眼用基材那麼大或是也可以包含 所欲之眼用基材多個圖案版本。在一些實施例中，有可能將奈米壓模基材在跨越眼用基底上一步步的壓印。
再次，作為一個非限制性的實例，可使用化學蝕刻或反應離子蝕刻技術進行熱成形基材凹部蝕刻。一金屬薄膜，通常包含金、銀、鉑或銅或其他金屬成分或合金，可以沉積在具有蝕刻特性和光致抗蝕劑的基材上。一剝離處理程序可接著去除金屬和光致抗蝕劑，留下奈米結構特徵樣式。化學清洗以及物理磨光步驟可能可去除殘留的光致抗蝕劑或金屬層的材料。
在1103，所得到的基材可以被轉化成一個三維塑型的特徵。在某些實施例中，這可透過熱成型基材完成。所得到的三維塑型可成為一插件的一部分或是本身即為一插件。接著在1104，具有奈米級金屬特徵的一插件可置放入一模具形式。該插件，在1105，可被稱為反應混合物的眼用材料包圍及封裝，而眼用材料可被聚合及被插件周圍的模型塑形。從模型中取出後，可得到一眼用裝置的形式。在1106，所得到的眼用裝置也可以測量其光學特性，例如使用波前像差計。測量結果可用於決定如此形成的裝置是否可以接受。另一種方式，在1107，可根據所測量的結果來調整模擬系統參數，進而形成一替代模型。在1108，可輸入這些調整後的參數和模擬特性，使鏡片設計更精緻。
繼續參照圖12，項目1200，可見設計及形成包括活化後超穎表面元件的眼用裝置的例示性方法。流程與圖11所討論之內容相似。在1201，可形成一眼用裝置模型。該模型可包括一具有至少兩個重要態樣的三維基材形式。首先，該基材形式通常會定義一常規眼用裝置的塑型，該眼用裝置可理解光學特性，也可被表示為被賦予入射光的基點相位特性其次，在塑形上或之內，可佈局一個三維部署奈米級金屬元素的網絡或陣列。正如前面部份所討論，這些成形功能可能會導致超穎表面元件在電位的作用下形成。所得到的設計系統可為先進模擬系統所用，該系統模擬光學元件的波陣面特性模式，以及與可能是活化成形之奈米級超穎表面元件相互作用之電磁性質。在其他簡化的估計中，該模型可被分解成一個標準的裝置鏡片特性及疊 加的超穎表面鏡片，它可以被估計為作為一個平面超穎表面鏡片及複雜活化後元件，該元件可能是在流體中的奈米顆粒懸浮集合，被估計為固體的金屬特性。不論模擬方法為何，所希望的眼用參數可輸入模擬系統，如果適當可連同實驗結果一起輸入，以產生基材塑形以及跨越該塑形之個別奈米表面元件的設計態樣兩者。
繼續參照1102，該模型資訊可用來製作在基材上的奈米級超穎表面天線元件。在一個非限制性實例中，該過程可首先為放置超穎表面控制元件在平面基材上，然後將基材塑造為所欲之三維塑形。例如，可使用熱成型方式形塑平面基材。為了放置超穎表面控制元件，可能有許多能夠產生所需結果的多種方法。可熱成形的基材可被塗覆一層化學抗蝕劑薄膜，一如半導體工業所使用的材料。然後，例如，可用一奈米壓模微影術基材來壓印光致抗蝕劑，使超穎表面元件出現所要的圖案。奈米壓模基材可以像所欲之眼用基材那麼大或是也可以包含所欲之眼用基材多個圖案版本。在一些實施例中，有可能將奈米壓模基材在眼用底在上多次壓印，以轉印適當的圖案。
作為一個非限制性實例，一層金屬薄膜，通常包含金、銀、鉑或銅或其他金屬成分或合金，可以沉積在具有壓印光致抗蝕劑的基材上。一剝離處理程序可接著去除金屬和光致抗蝕劑，留下奈米結構金屬特徵。化學清洗以及物理磨光步驟可能可去除殘留材料。一種介電薄膜可沉積在基材上，覆蓋金屬特徵及缺乏金屬特徵的區域。某些金屬特徵可被作為電極使用，使EWOD小室可以被建立，在其他情況下，它們可以被用來建立圍繞每個EWOD小室的壁。所沉積的介電薄膜可經過處理以調節其表面的自由能。在下一步驟中，EWOD流體可被添加到基材上所產生的多個小室。接著，包含EWOD小室頂端的一層可被放置在日益增長的基材結構上。電氣互連可能已經被放置在頂層結構上以便電氣連接。
在1203，所得的基材結構可被轉變成一個三維塑形的結構。在某些實施例中，這可透過熱成型基材完成。所得到的三維塑型可成為一插件的一部分或是本身及為一插件。它可以電連接至插件內其他組件。接著在1204，具有奈米級金屬控制特徵的一插件可置 放入一模具形式。該插件，在1205，可被稱為反應混合物的眼用材料包圍及封裝，而眼用材料可被聚合及被插件周圍的模型塑形。從模型中取出後，可得到一眼用裝置的形式。在1206，所得到的眼用裝置也可以測量其光學特性，例如使用波前像差計。眼用裝置內的賦能插件的控制電子器件可允許眼用裝置活化測試模式，且有無超穎表面元件的兩種狀態皆可測試。測量結果可用於決定如此形成的裝置是否可以接受。另一種方式，在1207，可根據所測量的結果來調整模擬系統參數，進而形成一替代模型。在1208，可輸入這些調整後的參數和模擬特性，使鏡片設計更精緻。
也可能有其他方式可使用具有內含超穎表面成形元件的賦能插件的眼用裝置。在某些實施例中，該眼用裝置可以具有與超穎表面形成元件相關的兩種操作狀態。在第一狀態，當該超穎表面元件被活化時，該鏡片可具有第一種有效焦距特性，在另一種狀態，當該超穎表面元件被停用，它可以具有第二種焦距特性。因此，繼續參照圖13，項目1300，可見一種使用此一類活化後眼用裝置的方法。在1301，可獲得一具有活化後超穎表面元件的眼用裝置。當該裝置是一個隱形眼鏡實施例，它可以被放置在使用者在1302的眼部區域。放置就位後，使用者將透過眼睛觀察鏡片，以獲得一些光學質量和特性。接著，在1303，使用者可以提供某種類型的活化信號。這可能需要使用者可以直接控制的信號，例如以某種方式故意眨眼。另外一種選擇，使用者可以控制無線通信設備來提供信號。眼用裝置接收到信號時可能會導致它轉移狀態。在1304，使用者接著可以透過眼用裝置觀察狀態轉移的結果，以及識別改變的光學質量和特性。在某些實施例中，使用者可以在1305提供第二活化信號，其可恢復到步驟1303之前的活化後眼用裝置狀態。該裝置可在步驟1306從眼睛上移除。
100‧‧‧媒介插件
105‧‧‧電子組件
110‧‧‧賦能元件
115‧‧‧基材
120‧‧‧光學區
125‧‧‧導電跡線
130‧‧‧導電跡線
150‧‧‧眼用裝置
155‧‧‧周邊

Claims (20)

  1. 一種用於形成眼用裝置插件的方法，包括：沉積奈米級金屬特徵於一基材上，其中該奈米級金屬特徵的一表面積小於或約等於10,000nm2；將具有奈米級金屬特徵之該基材形成為一三維形式；以及將該三維形式之基材附加入一插件內。
  2. 一種用於形成眼用裝置的方法，使用如申請專利範圍第1項之方法，其另包括：將該插件放置在一模具內；在該模具內以反應混合物包圍該插件；以及聚合該反應混合物。
  3. 如申請專利範圍第1項之方法，另包括：在包含模擬軟體的一電腦化系統上設計要放置在該基材上的該奈米級金屬特徵之形狀和大小。
  4. 如申請專利範圍第3項之方法，還包括：將該插件放置在一模具內；在該模具內以反應混合物包圍該插件；以及聚合該反應混合物，以形成一眼用裝置。
  5. 如申請專利範圍第4項之方法，另包括：測量該眼用裝置的該光學特性。
  6. 如申請專利範圍第5項之方法，另包括：利用該測量結果來調整該設計過程。
  7. 如申請專利範圍第6項之方法，其中輸入該模擬系統的參數係來自於一名患者的眼科測量。
  8. 如申請專利範圍第1項之方法，其中：該金屬特徵係配置為一週期樣式；以及該週期樣式的週期性之一尺寸等級小於或約等於700nm。
  9. 一種形成一眼用插入裝置的方法，包括：在一三維成型的基材上沉積奈米級金屬特徵，其中，該奈米級金屬特徵的一表面積小於或約等於10,000nm2； 將該三維形式之基材附加入一插件內。
  10. 一種成形一眼用插入裝置的方法，包括：將奈米級特徵沉積在一基材上，其中一部分特徵包括一導電電極；將一介電塗膜沉積在至少一部分包括該導電電極的特徵上；處理該介電質塗膜來建立一對第一流體的偏好；將該基材與該奈米級特徵形成為一三維形式；以及將三維形式之該基材附加入一插件內。
  11. 如申請專利範圍第10項之方法，另包括：以至少兩種不混溶的一流體填充該基材的區域，其中該不混溶流體之一為一第一流體以及其他任何流體對已處理過的介電塗膜具有相反的潤濕特性。
  12. 如申請專利範圍第11項之方法，其中該第一流體包括金屬奈米級組份。
  13. 如申請專利範圍第12項之方法，其中該金屬奈米級組份包含一或兩奈米球和奈米棒。
  14. 如申請專利範圍第13項之方法，其中該金屬奈米級組份的一表面經過表面黏合化學物質處理，以建立一個對一第一流體的溶劑化偏好。
  15. 如申請專利範圍第13項之方法，其中該金屬奈米級組份的該表面經過表面黏合化學物質處理，以建立一個對一第一流體的溶劑化不偏好。
  16. 一種包含一眼用插入裝置之一眼用裝置的使用方法，其中該眼用插入裝置係根據申請專利範圍第10項之方法所製造，其中該使用方法包括：將該眼用裝置放置於一眼球表面和一眼皮之間。
  17. 如申請專利範圍第16項之方法，另包括：以一活化信號活化該眼用插入裝置內之一功能，其中該功能透過光與奈米級超穎表面特徵的相互作用，對應於調整在該插件上的入射光的相位特性。
  18. 如申請專利範圍第17項之方法，其中： 藉由在該插件內電極上的應用電位，該奈米級超穎表面特徵會在一插件內主動形成，進而在該第一流體引起相應的潤濕特性。
  19. 如申請專利範圍第18項之方法，另包括：可視化影像上的一效果，該效果經一使用者基於該眼用裝置的活化可觀察到。
  20. 如申請專利範圍第19項之方法，其中：藉由一電路將介電電極上的一電潤濕連接至一賦能元件，即會產生電位應用，其中該賦能元件係包含在該眼用裝置內。
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