TWI549901B - 雙面微細結構吸盤裝置及其操作方法 - Google Patents

Description

雙面微細結構吸盤裝置及其操作方法

本發明係關於一種雙面〔double-faced〕微細結構吸盤〔microstructure sucker〕裝置及其操作方法；特別是關於一種採用微米或奈米級結構雙面微細結構吸盤裝置及其操作方法；更特別是關於一種無膠〔adhesive-free〕式雙面微細結構吸盤裝置及其操作方法。

舉例而言，習用微米或奈米吸盤裝置及其製造方法，如中華民國專利公告第I263513號之〝具有吸盤式奈米孔洞的生醫植入物及製造方法〞發明專利，其揭示一種生醫植入物。該生醫植入物包含數個吸盤式奈米孔洞，而該生醫植入物之一部份或全部表面設置一吸盤式奈米孔洞結構。該吸盤式奈米孔洞結構為具有複數個具奈米尺寸之管狀物。

承上，前述第I263513號之該管狀物的全部或部份呈現為採用以矩陣排列，且將各個該管狀物設置為一可供填入生物可吸收材料〔或藥物〕之孔洞。各個該孔洞之大小在實質上為介於10nm至100nm之間。另外，該生醫植入物可選自一純鈦片。

前述第I263513號之該生醫植入物之製造方法主要包含步驟：〔A〕、先將該生醫植入物施以陽極處理，使該生醫植入物之表面形成一氧化膜，且以一溶劑添加於陽極處理時之溶液內；〔B〕、再加以一外加電壓，使該生醫植入物之表面形成數個該管狀物，且該管狀物為具有該 孔洞。

承上，前述第I263513號於將該生醫植入物進行陽極處理時，該溶劑可選擇為氫氟酸或硫酸。另外，於該生醫植入物加以該外加電壓時，該外加電壓可選擇為於50伏特以內。

然而，第I263513號之該吸盤式奈米孔洞僅適用於生醫植入用途，其並不適用於一般吸附重物，且該吸盤式奈米孔洞結構易遭受破壞。因此，習用奈米吸盤裝置及其製造方法必然存在進一步改良其結構及製造方法之需求。前述專利僅為本發明技術背景之參考及說明目前技術發展狀態而已，其並非用以限制本發明之範圍。

有鑑於此，本發明為了滿足上述技術問題及需求，其提供一種雙面微細結構吸盤裝置及其操作方法適用於操作吸附各種重物，其利用數個微細結構形成一第一吸附層及一第二吸附層，且該第一吸附層對應於該第二吸附層，因此相對於習用微米或奈米吸盤裝置及其製造方法可大幅提升其適用範圍。

本發明之主要目的係提供一種雙面微細結構吸盤裝置，其利用數個微細結構形成一第一吸附層及一第二吸附層，且該第一吸附層對應於該第二吸附層，經由利用該第一吸附層及第二吸附層進行按壓操作，以達成吸附各種重物之目的。

為了達成上述目的，本發明較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置包含：一吸盤基板，其包含一第一表面及一第二表面；一第一微細結構，其排列設置於該吸盤基板之第一表面，以形成一第一吸附層；及 一第二微細結構，其排列設置於該吸盤基板之第二表面，以形成一第二吸附層；其中將該第一吸附層或第二吸附層對應貼附於一待吸附表面，經由按壓操作該吸附層第一吸附層或第二吸附層，以擠壓排出該第一微細結構或第二微細結構內之氣體，以便該第一吸附層或第二吸附層可吸附該待吸附表面。

為了達成上述目的，本發明另一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置包含：一第一吸盤基板；一第一微細結構，其排列設置於該第一吸盤基板，以形成一第一吸附層；一第二吸盤基板；及一第二微細結構，其排列設置於該第二吸盤基板，以形成一第二吸附層；其中將該第一吸附層或第二吸附層對應貼附於一待吸附表面，經由按壓操作該吸附層第一吸附層或第二吸附層，以擠壓排出該第一微細結構或第二微細結構內之氣體，以便該第一吸附層或第二吸附層可吸附該待吸附表面。

本發明較佳實施例之該第一微細結構或第二微細結構選自數個第一奈米空穴或數個第二奈米空穴，且每個該第一或第二奈米空穴具有一吸附開口及一開口環緣。

本發明較佳實施例之該第一奈米空穴之間或第二奈米空穴之間具有一隔牆。

本發明較佳實施例之該第一奈米空穴或第二奈米空穴具有一半開放氣室。

本發明較佳實施例之該第一微細結構或第二 微細結構選自一凹凸結構部、一槽溝部、一凹穴部或一孔洞部。

本發明較佳實施例之該第一微細結構或第二微細結構包含數個第一槽溝部及數個第二槽溝部，且該第一槽溝部及第二槽部溝相互交叉形成一交叉陣列。

本發明較佳實施例之該第一微細結構或第二微細結構具有數奈米尺寸至數百奈米尺寸或數微米。

本發明較佳實施例之該第一吸盤基板及第二吸盤基板之間設置一操作墊片。

本發明較佳實施例之該操作墊片選自一橡膠墊片或一彈性墊片。

本發明較佳實施例之該操作墊片具有一邊緣，且該邊緣垂直對應於該第一微細結構之邊緣或該第二微細結構之邊緣。

本發明較佳實施例之該操作墊片利用一強力接著劑或一雙面泡棉膠層黏貼於該吸盤基板。

本發明較佳實施例之該吸盤基板利用一強力接著劑或一雙面泡棉膠層黏貼一掛勾、一掛環、一拉環、一支撐臂或一支撐架。

本發明之另一目的係提供一種雙面微細結構吸盤裝置操作方法，其利用一第一微細結構形成一第一吸附層，而利用一第二微細結構形成一第二吸附層，且該第一吸附層或第二吸附層對應貼附於一待吸附表面，經由利用按壓操作該第一吸附層或第二吸附層，以擠壓排出該第一微細結構內或微細結構內之氣體，以便該第一吸附層或第二吸附層可吸附該待吸附表面，以達成吸附各種重物之目的。

為了達成上述目的，本發明較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置操作方法包含： 在進行吸附操作時，利用一第一微細結構形成一第一吸附層，而利用一第二微細結構形成一第二吸附層，且該第一吸附層或第二吸附層對應於一待吸附表面；將該第一吸附層或第二吸附層之至少一部分對應貼附於該待吸附表面；及利用按壓操作該第一吸附層或第二吸附層之至少一部分，以擠壓排出該第一微細結構內或第二微細結構內之至少一部分之氣體，以便該第一吸附層或第二吸附層之至少一部分可吸附該待吸附表面。

本發明較佳實施例在進行脫離操作時，將該第一吸附層或第二吸附層之至少一邊緣進行撥開，以便該第一吸附層或第二吸附層之至少一部分可剝離該待吸附表面。

1‧‧‧雙面微細結構吸盤裝置

10‧‧‧吸盤基板

10a‧‧‧第一吸盤基板

10b‧‧‧第二吸盤基板

10’‧‧‧吸盤基板胚

11‧‧‧第一表面

12‧‧‧第二表面

100‧‧‧待吸附物件

20a‧‧‧第一吸附層

20b‧‧‧第二吸附層

21a‧‧‧第一微細結構

21b‧‧‧第二微細結構

211‧‧‧微細結構

212‧‧‧微細結構

213‧‧‧微細結構

214‧‧‧微細結構

30‧‧‧操作墊片

5‧‧‧成形模具

51‧‧‧成形微結構

B‧‧‧待吸附表面

第1圖：本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之半成品之側視示意圖。

第2圖：本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之成品之側視示意圖。

第3圖：本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置在進行操作吸附時對應待吸附物件之側視示意圖。

第4圖：本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置對應貼附於待吸附物件之側視示意圖。

第5圖：本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置完成貼附於待吸附物件之側視示意圖。

第6圖：本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置另一使用其操作方法之側視示意圖。

第7圖：本發明第二較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之半成品之側視示意圖。

第8圖：本發明第二較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之成品之側視示意圖。

第9(a)至9(f)圖：本發明另一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置半成品製造方法之示意圖。

第10圖：本發明第三較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之立體示意圖。

第11(a)至11(d)圖：本發明第三較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置採用各種微細結構之正視示意圖。

附照1：本發明較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之正視顯微影像圖。

附照2：本發明較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之斷面顯微影像圖。

為了充分瞭解本發明，於下文將舉例較佳實施例並配合所附圖式作詳細說明，且其並非用以限定本發明。

本發明較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置及其操作方法適合吸附於各種物件，例如：各種光學玻璃、各種半導體晶圓或其它需吸附作業的物件，但其並非用以限制本發明之應用範圍。另外，本發明較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置及其操作方法適合組裝應用於各種自動化或非自動化生產作業裝置，例如：各種機械手臂裝置、各種自動或非自動運輸裝置或各種夾持作業裝置，但其並非用以限制本發明之應用範圍。

第1圖揭示本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之半成品之側視示意圖，第2圖揭示本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之成品之側視示意圖，其對應於第1圖之雙面微細結構吸盤裝置，其僅以適當縮小比例尺寸及形狀表示雙面微細結構吸盤裝置之技術特徵。請參照第1及2圖所示，本發明第一較佳實施例 之雙面微細結構吸盤裝置1包含一吸盤基板10、一第一吸附層20a、一第一微細結構21a、一第二吸附層20b及一第二微細結構21b。該雙面微細結構吸盤裝置1形成一片狀體、一塊狀體、一圓盤狀體或其它各種形狀體，或可選擇省略設置該吸盤基板10，且該第一吸附層20a、第一微細結構21a、第二吸附層20b及第二微細結構21b適當配置於該吸盤基板10上，以形成該雙面微細結構吸盤裝置1。

請再參照第1及2圖所示，舉例而言，該吸盤基板10選自一片狀體或具類似形狀之片體，且該片狀體具有一預定厚度及一預定體積。該吸盤基板10包含一第一表面11及一第二表面12，且該第一表面11及第二表面12分別位於該吸盤基板10之兩側或二相反表面〔opposite surface〕。

請再參照第1及2圖所示，舉例而言，該第一微細結構〔數個奈米空穴〕21a排列設置於該吸盤基板10之第一表面11，以形成該第一吸附層20a。如此，該第一吸附層20a具有一吸附表面〔未標示，即該第一吸附層20a之正面〕及一結合表面〔未標示，即該第一吸附層20a之背面〕。若未省略設置該吸盤基板10時，將該第一吸附層20a之結合表面固定設置於該吸盤基板10之第一表面11上，而將該第一吸附層20a之吸附表面朝向該吸盤基板10之第一表面11之另一方向設置。

請再參照第1及2圖所示，舉例而言，該第二微細結構〔數個奈米空穴〕21b排列設置於該吸盤基板10之第二表面12，以形成該第二吸附層20b。如此，該第二吸附層20b亦具有一吸附表面〔未標示，即該第二吸附層20b之正面〕及一結合表面〔未標示，即該第二吸附層20b之背面〕。若未省略設置該吸盤基板10時，將該第二吸附層20b之結合表面固定設置於該吸盤基板10之第二表面 12上，而將該第二吸附層20b之吸附表面朝向該吸盤基板10之第二表面12之另一方向設置。

請再參照第1及2圖之斷面所示，舉例而言，該第一微細結構21a之每個奈米空穴或該第二微細結構21b之每個奈米空穴具有一吸附開口及一開口環緣，以便經由該吸附開口及開口環緣連通至該第一微細結構21a之奈米空穴或第二微細結構21b之奈米空穴之內部，如此該第一微細結構21a之奈米空穴或第二微細結構21b之奈米空穴可提供通入或排放適量氣體。另外，該吸附開口之直徑較佳大於該開口環緣之直徑，但其並非用以限制本發明之範圍。

請再參照第1及2圖之斷面所示，舉例而言，該第一微細結構21a之每個奈米空穴之間或該第二微細結構21b之每個奈米空穴之間具有一隔牆〔例如：環牆〕，且該隔牆以適當間距〔隔牆厚度〕分隔該第一微細結構21a之每個奈米空穴之間或該第二微細結構21b之每個奈米空穴之間，以提升該第一微細結構21a之奈米空穴或第二微細結構21b之奈米空穴之結構強度，如此該第一微細結構21a之奈米空穴或第二微細結構21b之奈米空穴可承受適當的機械性及彈性變形而不產生破壞其結構，但其並非用以限制本發明之範圍。

請再參照第1及2圖之斷面所示，舉例而言，該第一微細結構21a之每個奈米空穴之間或該第二微細結構21b之每個奈米空穴之間具有一半開放氣室，而該半開放氣室可產生適當彈性變形，且該半開放氣室可容置適量氣體及適當種類氣體〔例如：空氣、氮氣或其它惰性氣體〕。如此，該第一微細結構21a之奈米空穴或第二微細結構21b之奈米空穴之內部體積可藉由其適當機械性及彈性變形之壓縮方式〔或恢復原形方式〕提供操作低壓吸附 物體〔或釋放物體〕之功能。

請再參照第1及2圖之所示，舉例而言，將該第一吸附層20a或第二吸附層20b對應貼附於任何待吸附表面〔未繪示於第1圖〕上，經由利用按壓操作面進行按壓操作該第一吸附層20a或第二吸附層20b，以擠壓排出該第一微細結構21a之奈米空穴或第二微細結構21b之奈米空穴內之適量氣體，以便該第一吸附層20a或第二吸附層20b可吸附在該待吸附表面上。反之，若將適量氣體適當送入至該第一微細結構21a之奈米空穴或第二微細結構21b之奈米空穴之內部時，可將該第一吸附層20a或第二吸附層20b脫離於該待吸附表面。

請再參照第1及2圖之所示，舉例而言，依各種不同使用需求，將該吸盤基板10之適當位置、表面或延伸部利用一強力接著劑或一雙面泡棉膠層〔未繪示〕黏貼一掛勾、一掛環、一拉環、一支撐臂或一支撐架〔未繪示〕，但其並非用以限制本發明之範圍。

第3圖揭示本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置在進行操作吸附時對應待吸附物件之側視示意圖，其對應於第2圖之雙面微細結構吸盤裝置。請參照第3圖所示，本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置操作方法包含步驟S1：首先，在進行吸附操作時，選擇利用該第一微細結構21a所形成該第一吸附層20a之吸附表面〔或選擇利用該第二微細結構21b所形成該第二吸附層20b之吸附表面〕對應於一待吸附物件100之一待吸附表面B。

第4圖揭示本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置對應貼附於待吸附物件之側視示意圖，其對應於第2及3圖之雙面微細結構吸盤裝置。請參照第4圖所示，本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置操 作方法包含步驟S2：接著，將該第一吸附層20a之該全部〔或至少一部分〕第一微細結構21a之奈米空穴對應貼附於該待吸附表面B，並施加適當壓力〔例如：300g重正向力〕於按壓操作面，如第4圖之向下大箭頭所示。

第5圖揭示本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置完成貼附於待吸附物件之側視示意圖，其對應於第2、3及4圖之雙面微細結構吸盤裝置。請參照第5圖所示，本發明較佳實施例之雙面奈米吸盤裝置操作方法包含步驟S3：接著，利用按壓操作該第一吸附層20a之該全部〔或至少一部分〕第一微細結構21a之奈米空穴，以擠壓排出該第一微細結構21a之全部〔或至少一部分〕奈米空穴內之至少一部分之氣體，以便該第一吸附層20a之該第一微細結構21a之全部〔或至少一部分〕奈米空穴可吸附該待吸附表面B。此時，舉例而言，本發明第一較佳實施例之該雙面微細結構吸盤裝置1在垂直吊起該待吸附物件100時，該雙面微細結構吸盤裝置1可提供75.2牛頓吸力於每平方公分之該待吸附表面B上，如第5圖之向上大箭頭所示。

請再參照第5圖所示，本發明較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置操作方法包含步驟：最後，在進行脫離操作時，將該第一吸附層20a之至少一邊緣〔左側緣〕進行撥開，以便該第一吸附層20a之該第一微細結構21a之至少一部分奈米空穴可開始剝離該待吸附表面B，且接著該第一吸附層20a之該第一微細結構21a之其它奈米空穴亦逐漸向右方向剝離於該待吸附表面B，直至該第一吸附層20a完全剝離於該待吸附表面B，如第5圖之向上小斜箭頭所示。

如第3至5圖所示，本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置操作方法包含三個主要步驟S1至 S3，但其並非用以限定本發明之步驟順序，在不脫離本發明範圍之下，可適當變更〔或省略〕本發明較佳實施例之步驟順序。另外，本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置操作方法適用於第二較佳實施例。

第6圖揭示本發明第一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置另一使用其操作方法之側視示意圖，其對應於第5圖。請參照第6圖所示，本發明第一較佳實施例之該雙面微細結構吸盤裝置1在側向吊起該待吸附物件100時，該雙面微細結構吸盤裝置1可提供側向負重〔shear force〕7.52公斤/每平方公分於該待吸附表面B上。

請參照第6圖所示，本發明較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置操作方法包含步驟：最後，在進行脫離操作時，將該第一吸附層20a之至少一邊緣〔底側緣〕進行撥開，以便該第一吸附層20a之該第一微細結構21a之至少一部分奈米空穴可開始剝離該待吸附表面B，且接著該第一吸附層20a之該第一微細結構21a之其它奈米空穴a逐漸向上剝離於該待吸附表面B，直至該第一吸附層20a完全剝離於該待吸附表面B，如第6圖之向左小箭頭所示。

第7圖揭示本發明第二較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之半成品之側視示意圖，第8圖揭示本發明第二較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之成品之側視示意圖，其對應於第7圖之雙面微細結構吸盤裝置。請參照第7及8圖所示，相對於第一實施例，本發明第二較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置1包含一第一吸盤基板10a、一第一吸附層20a、一第一微細結構21a、一第二吸盤基板10b、一第二吸附層20b、一第二微細結構21b及一操作墊片30，其結構及形狀可對應參考於第一較佳實施例，於此不予贅述。

請再參照第7及8圖所示，舉例而言，該操作 墊片30選自一片狀體或具類似形狀之片體，且該片狀體具有一預定厚度及一預定體積。該操作墊片30包含一第一墊片表面及一第二墊片表面，且該第一墊片表面及第二墊片表面分別位於該操作墊片30之兩側。

請再參照第7及8圖所示，舉例而言，該操作墊片30選自選自一橡膠墊片、一彈性墊片或其它類似墊片。另外，該操作墊片30按壓操作墊片具有一邊緣〔如第7圖之兩條虛線所示〕，且該邊緣垂直對應於該第一微細結構21a之奈米空穴之邊緣。該操作墊片30之第一墊片表面貼接於該第一吸盤基板10a之第二表面12，以便該操作墊片30對該第一微細結構21a之奈米空穴提供一預負載〔preload〕。

請再參照第2圖所示，舉例而言，該操作墊片30利用一強力接著劑或一雙面泡棉膠層〔未繪示〕黏貼於該第一吸盤基板10a之第二表面12。另外，依各種不同使用需求，將該操作墊片30之之適當位置、表面或延伸部利用一強力接著劑或一雙面泡棉膠層〔未繪示〕黏貼一掛勾、一掛環、一拉環、一支撐臂或一支撐架〔未繪示〕。

第9(a)至9(f)圖揭示本發明另一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置半成品製造方法之一系列製造步驟之示意圖。請參照第9(a)圖所示，本發明另一較佳實施例之微細結構吸盤裝置製造方法包含步驟：首先，提供或製備該成形模具5，且該成形模具5包含數個該成形微結構51。

請再參照第9(b)圖所示，本發明另一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置製造方法包含步驟：接著，利用該成形模具5之成形微結構51以適當技術手段對應形成一個或數個該第一微細結構21a於該雙面微細結構吸盤裝置1上，且亦同樣利用該成形模具5之成形微結構51以適 當技術手段對應形成一個或數個該第二微細結構21b於該雙面微細結構吸盤裝置1上。舉例而言，本發明較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置製造方法選擇包含步驟：先提供或製備一吸盤基板胚10’〔例如：光阻劑或其它類似可擠壓流動材料〕後，再利用該成形模具5之成形微結構51以適當壓力直接對應壓印成形圖案於該吸盤基板胚10’之上表面〔或選擇其它表面〕上，以便形成該第一微細結構21a於該雙面微細結構吸盤裝置1上。舉例而言，將該吸盤基板胚100選擇提供於一作業承載平台〔未繪示〕上。

請再參照第9(c)圖所示，本發明另一較佳實施例包含步驟：舉例而言，利用該成形模具5之成形微結構51以熱壓印〔thermal imprinting〕成形方式〔如第9(c)圖之向下箭頭所示〕成形圖案〔負型圖案〕於該吸盤基板胚10’之上表面上，即機械性押出〔mechanical extrusion〕方式一體形成該第一微細結構21a。此時，該吸盤基板胚10’之膠體材料被擠壓流動至該成形微結構51之縫隙內。或者，本發明另一較佳實施例可選擇轉印〔transfer printing〕成形、鑄模〔molding〕成形或其它成形方式成形圖案於該吸盤基板胚10’之上表面上。

請再參照第9(d)圖所示，舉例而言，本發明另一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置製造方法選擇該吸盤基板胚10’採用一光硬化樹脂材料或其它適當材料，且選擇以曝光〔exposure〕方式加工硬化成形該吸盤基板10及第一微細結構21a，如第9(e)及9(f)圖所示。

請再參照第9(e)及9(f)圖所示，本發明另一較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置製造方法包含步驟：接著，在完成押出形成該第一微細結構21a後，將該成形模具5之成形微結構51及微細結構吸盤裝置1之第一微細結構21a之間以適當技術手段進行相互分離〔或剝離〕，以 便將該微細結構吸盤裝置1之吸盤成品脫離於該成形模具5，如第9(e)圖所示。

第10圖揭示本發明第三較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之立體示意圖，其對應於第2圖之雙面微細結構吸盤裝置。請參照第10圖所示，，相對於第一實施例，本發明第三較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置1包含一吸盤基板10、一第一微細結構21a及一第二微細結構21b，且該第一微細結構21a及第二微細結構21b採用相同或不相同微細結構。該第一微細結構21a或第二微細結構21b選自一凹凸結構部、一槽溝部、一凹穴部或一孔洞部。該第一微細結構21a或第二微細結構21b具有數奈米尺寸至數百奈米尺寸或數微米。

第11(a)至11(d)圖揭示本發明第三較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置採用一系列各種微細結構之正視示意圖，其對應於第10圖之雙面微細結構吸盤裝置。請參照第11(a)圖所示，本發明較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置1採用一微細結構211具有數個傾斜槽溝，且該數個傾斜槽溝選擇以等間距或不等間距方式相互平行延伸於該雙面微細結構吸盤裝置1之第一表面11上。

請參照第11(b)圖所示，本發明第三較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置1採用一微細結構212包含數個圓形凸點部或數個圓形凹穴部，且該數個圓形凸點部或數個圓形凹穴部以規則等距或逐漸規則變化不等距方式排列形成一圓凸點陣列或一圓形凹穴陣列於該雙面微細結構吸盤裝置1之第一表面11上。

請參照第11(c)圖所示，本發明第三較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置1採用一微細結構213包含數個橢圓凸點部或數個橢圓凹穴部，且該數個橢圓凸點部或數個橢圓凹穴部以規則等距或逐漸規則變化不等距方式排列 形成一橢圓凸點陣列或一橢圓凹穴陣列於該雙面微細結構吸盤裝置1之第一表面11上。

請參照第11(d)圖所示，本發明較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置1採用一微細結構214包含數個第一槽溝部及數個第二槽溝部，且該第一槽溝部及第二槽溝部相互交叉形成一交叉陣列於該雙面微細結構吸盤裝置1之第一表面11上。

附照1揭示本發明較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之正視顯微影像圖，其對應於第10圖之雙面微細結構吸盤裝置，而附照2揭示本發明較佳實施例之雙面微細結構吸盤裝置之斷面顯微影像圖，其對應於附照1之雙面微細結構吸盤裝置，於此併入參考。

前述較佳實施例僅舉例說明本發明及其技術特徵，該實施例之技術仍可適當進行各種實質等效修飾及/或替換方式予以實施；因此，本發明之權利範圍須視後附申請專利範圍所界定之範圍為準。本案著作權限制使用於中華民國專利申請用途。

1‧‧‧雙面微細結構吸盤裝置

10‧‧‧吸盤基板

11‧‧‧第一表面

12‧‧‧第二表面

20a‧‧‧第一吸附層

20b‧‧‧第二吸附層

21a‧‧‧第一微細結構

21b‧‧‧第二微細結構

Claims (10)

1. 一種雙面微細結構吸盤裝置，其包含：一吸盤基板，其包含一第一表面及一第二表面；一第一微細結構，其排列設置於該吸盤基板之第一表面，以形成一第一吸附層；及一第二微細結構，其排列設置於該吸盤基板之第二表面，以形成一第二吸附層；其中將該第一吸附層或第二吸附層對應貼附於一待吸附表面，經由按壓操作該吸附層第一吸附層或第二吸附層，以擠壓排出該第一微細結構或第二微細結構內之氣體，以便該第一吸附層或第二吸附層可吸附該待吸附表面。
2. 一種雙面微細結構吸盤裝置，其包含：一第一吸盤基板；一第一微細結構，其排列設置於該第一吸盤基板，以形成一第一吸附層；一第二吸盤基板；及一第二微細結構，其排列設置於該第二吸盤基板，以形成一第二吸附層；其中將該第一吸附層或第二吸附層對應貼附於一待吸附表面，經由按壓操作該吸附層第一吸附層或第二吸附層，以擠壓排出該第一微細結構或第二微細結構內之氣體，以便該第一吸附層或第二吸附層可吸附該待吸附表面。
3. 依申請專利範圍第1或2項所述之雙面微細結構吸盤裝置，其中該第一微細結構或第二微細結構選自數個第一奈米空穴或數個第二奈米空穴，且每個該第一或第二奈米空穴具有一吸附開口及一開口環緣。
4. 依申請專利範圍第1或2項所述之雙面微細結構吸盤裝置，其中該第一微細結構或第二微細結構選自一凹凸結構部、一槽溝部、一凹穴部或一孔洞部。
5. 依申請專利範圍第1或2項所述之雙面微細結構吸盤 裝置，其中該第一微細結構或第二微細結構包含數個第一槽溝部及數個第二槽溝部，且該第一槽溝部及第二槽部溝相互交叉形成一交叉陣列。
6. 依申請專利範圍第2項所述之雙面微細結構吸盤裝置，其中該第一吸盤基板及第二吸盤基板之間設置一操作墊片。
7. 依申請專利範圍第6項所述之雙面微細結構吸盤裝置，其中該操作墊片選自一橡膠墊片或一彈性墊片。
8. 依申請專利範圍第6項所述之雙面微細結構吸盤裝置，其中該操作墊片具有一邊緣，且該邊緣垂直對應於該數個第一奈米空穴之邊緣或該數個第二奈米空穴之邊緣。
9. 一種雙面微細結構吸盤裝置操作方法，其包含：在進行吸附操作時，利用一第一微細結構形成一第一吸附層，而利用一第二微細結構形成一第二吸附層，且該第一吸附層或第二吸附層對應於一待吸附表面；將該第一吸附層或第二吸附層之至少一部分對應貼附於該待吸附表面；及利用按壓操作該第一吸附層或第二吸附層之至少一部分，以擠壓排出該第一微細結構內或第二微細結構內之至少一部分之氣體，以便該第一吸附層或第二吸附層之至少一部分可吸附該待吸附表面。
10. 依申請專利範圍第9項所述之雙面微細結構吸盤裝置操作方法，其中在進行脫離操作時，將該第一吸附層或第二吸附層之至少一邊緣進行撥開，以便該第一吸附層或第二吸附層之至少一部分可剝離該待吸附表面。