TWI534074B - Ozone gas concentration method and device thereof - Google Patents

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Sadaki Nakamura
Goichi Inoue
Kunihiko Koike
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Description

臭氧氣體的濃縮方法及其裝置
本發明係關於對半導體製造設備等臭氧消耗設備,供給被濃縮成預定濃度範圍的臭氧氣體的方法及其裝置,尤其係關於將在臭氧發生器(ozonizer)所發生的臭氧氣體進行精製而作為預定濃度範圍的濃縮臭氧氣體來進行供給的方法及其裝置。
一般而言,臭氧氣體係將來自氧氣鋼瓶的氧氣或經大氣分離的氧氣供給至臭氧發生器而發生,但是即使以來自氧氣鋼瓶的氧氣來使臭氧氣體發生,臭氧氣體在氧氣中亦僅形成為5~10vol%左右的濃度。而且,臭氧氣體由於自我分解性強,因此具有在臭氧氣體供給路徑中自我分解,而被供給至臭氧氣體消耗設備的階段中,成為更為低濃度,而且其供給濃度亦不安定的性質。近年來,在半導體的製造領域中,在基板等形成氧化膜時利用臭氧的氧化力日益增加,但是此時為了在短時間內安定成膜出適當厚度的氧化膜,以安定地供給中濃度的臭氧氣體為宜。
因此,本申請人係提出一種先將來自臭氧發生器的臭氧/氧混合氣體供給至填充處於非冷卻狀態的臭氧吸附劑而成的吸附筒,使臭氧氣體選擇吸附在吸附劑,並且在臭氧氣體脫離操作時,將吸附筒進行真空吸引,藉此使臭氧氣體由吸附劑脫離者(專利文獻1)。此外,亦已提出一 種在來自吸附筒的脫離臭氧氣體導出路裝設平滑化容器,在比該平滑化容器更為下游側配置有減壓手段者(專利文獻2)。
〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕
[專利文獻1]國際公開2008-062534號公報
[專利文獻2]日本特開昭61-72602號公報
在前述專利文獻1所揭示之臭氧濃縮技術中,藉由反覆進行臭氧氣體對處於非冷卻狀態的吸附劑的吸附-脫離,可將臭氧氣體濃縮至3倍前後,該吸附壓力若依據實施例,為3.4kPa.G、7.1kPa.G、12.3kPa.G。
一般而言,藉由以更為高壓使其吸附,臭氧氣體的吸附量會增加,但是若以高壓使其吸附時,在脫離開始瞬後,在濃縮臭氧取出配管會產生急遽的壓力上升。伴隨此,會呈現在配管內或減壓手段(真空泵)內容易發生臭氧自我分解的傾向。因此,可知不易單純地提高壓力來使吸附量增加。
另一方面,在來自吸附筒的脫離臭氧氣體導出路裝設平滑化容器,在比該平滑化容器更為下游側配置減壓手段的專利文獻2中,雖然可抑制在脫離開始瞬後的脫離臭氧氣體導出路的急遽的壓力上升,但是對於在吸附筒的臭氧 氣體脫離操作無法發揮減壓發生手段的性能,脫離壓力未充分變低,因此會有無法充分進行臭氧氣體的高濃度化的問題。
本發明係著重在如上所示之情形所研創者,目的在提供藉由追加簡單的配管及配管機器,預防在脫離開始瞬後在裝置內的急遽壓力上升,可進行吸附壓力的高壓化,藉此以更高的濃縮率來取出濃縮臭氧氣體之臭氧濃縮方法及其裝置。
為達成上述目的,請求項1所記載的本發明係一種臭氧氣體濃縮方法,其係將在內部在非冷卻狀態下填充吸附劑而成的至少2台吸附筒作並聯配置,將臭氧/氧混合氣體供給至吸附筒,使臭氧氣體選擇吸附在被收容在各吸附筒的非冷卻狀態的吸附劑,並且在臭氧氣體脫離操作時,將各吸附筒進行減壓處理,藉此使臭氧氣體由吸附劑脫離,而將臭氧氣體進行濃縮精製,將至少2台吸附筒分別交替反覆吸附工程與脫離工程,並且以任一吸附筒處於吸附工程時,其他吸附筒成為脫離工程的方式進行控制,該臭氧氣體濃縮方法之特徵為:臭氧氣體由吸附工程切換至脫離工程時,使原處於吸附工程的吸附筒、與原處於脫離工程的吸附筒相連通,在進行內壓力均一化後,使原處於吸附工程的吸附筒與減壓發生手段相連通,使臭氧氣體由吸附劑脫離。
請求項2所記載的本發明中,將壓力均一化工程的結束時序控制成:高壓側吸附筒的內壓與低壓側吸附筒的內壓的差壓,與壓力均一化工程開始時的差壓相比較,在達到40%以下的壓力的階段結束為其特徵。
請求項3所記載的本發明中,在壓力均一化工程開始瞬前,將處於吸附工程的吸附筒的臭氧氣體入口側的閥進行閉閥,並且將出口側的閥進行開閥,藉此使吸附筒內壓減低為其特徵。
請求項4所記載的本發明係一種臭氧氣體濃縮裝置,其特徵為:將在內部填充吸附劑而成的吸附筒並聯配置至少2台,在各吸附筒分別裝設氣體導入閥與氣體導出閥及氣體排出閥,在前述氣體導入閥連接裝設臭氧發生器而成的氣體導入路,在氣體導出閥連接裝設真空泵而成的濃縮臭氧氣體導出路,在氣體排出閥連接裝設臭氧分解器而成的氣體排出路,以將被裝設在各吸附筒的氣體導入閥與氣體排出閥同步進行開閉作動的方式構成,並且以將被裝設在同一吸附筒的氣體導入閥與氣體導出閥擇一進行開閥作動的方式進行控制,交替反覆各吸附筒與氣體導入路相連通的吸附工程、和與濃縮臭氧氣體導出路相連通的脫離工程,並且以至少2台吸附筒的任一者處於吸附工程而其他吸附筒成為脫離工程的方式將各閥進行切換控制,在相較於各閥為較接近吸附筒側配置將吸附筒的內部彼此相連通的至少1系統的連通路,並且在該連通路裝設流路開閉閥,使該流路開閉閥與前述氣體導入閥和氣體導出閥的開 閉作動同步進行開閉控制。
在本發明中,藉由壓力均一化,吸附後的高壓的吸附筒內壓係被減壓至大氣壓程度,因此可防止脫離開始瞬後在配管及減壓發生手段的急遽的壓力上升,可預防臭氧氣體的自我分解或伴隨此的機器破損。結果,可將吸附筒內的吸附壓力高壓化,且可提高臭氧濃縮率,此外可使在減壓發生手段的吸引力直接作用在吸附筒內,而可將吸附筒內更為減壓,因此可使臭氧的取出量增加。
此外,在相較於被裝設在與吸附筒相連通的氣體通路的各閥為較接近吸附筒側,配置將吸附筒的內部彼此相連通的連通路,並且僅在該連通路裝設流路開閉閥,因此機器增設少,且接地空間亦不需要大幅擴充,利用簡單的配管及配管機器的追加,即可達成臭氧氣體的更高濃度化。
圖1係顯示本發明之實施形態之一例的系統圖。該臭氧氣體濃縮裝置係具有:在內部填充有選擇吸附臭氧氣體的矽氧凝膠等吸附劑(1)的吸附筒(2);將氧氣貯藏容器等的臭氧原料氣體源(3)與吸附筒(2)進行連通連接的氣體導入路(4);由吸附筒(2)所被導出的濃縮臭氧氣體導出路(5);及由吸附筒(2)所被導出的穿通氣體的氣體排出路(6)。其中,在本實施形態中,吸附筒 (2)係並聯配置2台,以一方吸附筒在吸附工程時,另一方吸附筒成為脫離工程的方式所構成。
氣體導入路(4)係分別透過氣體導入閥(7)而被連接在各吸附筒(2),在該氣體導入路(4)係由上游側依序配置有臭氧發生器(8)及質流控制器(9)。接著,將在臭氧發生器(8)所發生的臭氧/氧混合氣體以一定流量,藉由氣體導入閥(7)的切換控制,來擇一地供給至各吸附筒(2)。
另一方面,濃縮臭氧氣體導出路(5)係透過氣體導出閥(10)而與各吸附筒(2)相連接,在該濃縮臭氧氣體導出路(5),係由吸附筒側依序配置有作為減壓發生手段的隔膜型真空泵(11)、緩衝槽(13)、質流控制器(14)、流路開閉閥(15)。接著,吸附筒(2)與隔膜型真空泵(11)藉由氣體導出閥(10)的切換控制而擇一地連通。此外,以流路切換閥(12)的切換,擇一地被切換成真空泵(11)的吐出口(11b)與緩衝槽(13)相連通的狀態、與真空泵(11)的吐出口(11b)透過連接路(16)而與前述排出路(6)相連通的狀態。其中,前述氣體導入路(4)與濃縮臭氧氣體導出路(5)係相較於裝設有氣體導入閥(7)及氣體導出閥(10)的部位,在接近吸附筒側的部分合流,該合流路(17)與吸附筒(2)相連接。
此外,氣體排出路(6)係透過氣體排出閥(18)而與各吸附筒(2)相連接,在該氣體排出路(6)配置有臭 氧分解器(19),該臭氧分解器(19)的出口係與在氣體導入路(4)的臭氧發生器(8)的上游側相連通連接。接著,被裝設在該各吸附筒(2)的氣體排出閥(18)係與被裝設在相同吸附筒(2)的氣體導入閥(7)的開閉作動進行連動開閉,在對吸附筒(2)內供給臭氧/氧混合氣體時進行開閥,而將未被吸附劑(1)吸附的氧氣、及部分被吸附而殘留下來的臭氧氣體供給至臭氧分解器(19)。
接著,將在與各吸附筒(2)相連接的氣體排出路(6)的氣體排出閥(18)更為上游側(吸附筒側)部分,以介裝有流路開閉閥(20)的連通路(21)進行連通連接。此外,與吸附筒(2)相連接的前述合流路(17)彼此亦以介裝有流路開閉閥(20)的連通路(21)來進行連通連接。該連通路(21)係將其合計通路剖面積與臭氧/氧混合氣體的供給流量相比較,構成為流通大流量的剖面積。此時,若將連通路(21)設在吸附筒(2)的排出側、或者合流路(17)側的其中一方時,僅將其一方連通路(21)的通路剖面積作為對象。
在圖1中,符號(22)係裝設在氣體排出路(6)的臭氧分解器(19)的入口部分的臭氧濃度檢測器,(23)係裝設在濃縮臭氧氣體導出路(5)的質流控制器(14)的出口側的臭氧濃度檢測器,(24)係顯示吸附筒(2)或緩衝槽(13)的內壓的壓力計,(25)係將配置在氣體導入路(4)的質流控制器(9)的下游側與在氣體排出路 (6)的臭氧濃度檢測器(22)的入口部分進行連通連接的旁通路徑,(26)係裝設在該旁通路徑(25)的流路遮斷閥。
在如上所示所構成的臭氧濃縮裝置中,在將氣體導入閥(7)與氣體排出閥(18)進行開閥,並且將氣體導出閥(10)進行閉閥的狀態下,將在臭氧發生器(8)所發生的臭氧/氧混合氣體供給至一方吸附筒(2),使其在吸附筒(2)內流通。此時,吸附劑(1)並不會由外部賦予加熱或冷卻的熱能,而維持所謂常溫狀態(自然放置狀態)。被供給至吸附筒(2)的臭氧/氧混合氣體係其中的臭氧氣體成分被吸附劑(1)吸附,吸附剩下的一部分臭氧氣體與作為載體氣體的氧氣由氣體排出路(6)被送入臭氧分解器(19)。
將臭氧/氧混合氣體以預定時間流至吸附筒(2),若在吸附劑(1)的吸附量成為預定量時,將在至今原本流通臭氧/氧混合氣體的吸附筒(2)的氣體導入閥(7)與氣體排出閥(18)進行閉閥,並且將在原處於脫離工程的吸附筒(2)的氣體導出閥(10)進行閉閥,將連接氣體排出路(6)彼此的連通路(21)與連接合流路(17)彼此的連通路(21)的任一者或二者的流路開閉閥(20)進行開閥作動,使吸附工程已結束的高壓側的吸附筒(2)、與脫離工程已結束的低壓側的吸附筒(2)相連通,使兩吸附筒(2)(2)的內壓均一化。在該均壓化作業中,由臭氧發生器(8)至吸附筒(2)的氣體導入路 (4)雖被閉塞,但是此時藉由將旁通路徑(25)的流路遮斷閥(26)進行開閥,臭氧/氧混合氣體會由旁通路徑(25)流至氣體排出路(6)側,因此可防止氣體導入路(4)的封鎖。
將流路開閉閥(20)進行閉閥作動,接著,將原處於吸附工程的吸附筒(2)的氣體導出閥(10)進行開閥,使吸附筒(2)內與真空泵(11)相連通,而使吸附筒(2)內減壓,藉此使臭氧成分由吸附劑(1)作真空脫離。此時,將至今原處於脫離工程的吸附筒(2)的氣體導入閥(7)與氣體排出閥(18)進行開閥,將在臭氧發生器(8)所發生的臭氧/氧混合氣體供給至一方吸附筒(2),使其在吸附筒(2)內流通而使臭氧氣體吸附在吸附劑(1)。
藉由將由吸附筒(2)所被脫離的濃縮臭氧氣體暫時貯留在緩衝槽(13),即使在由吸附筒(2)所脫離的臭氧氣體濃度有濃度變化,亦可在緩衝槽(13)內使其平均化,可在維持一定範圍的濃度的狀態下供給至臭氧消耗設備等。此時,被送給至緩衝槽(13)的濃縮臭氧氣體由於為被吸附劑(1)所吸附的氧氣成分利用壓力均一化處理而優先脫離且在被移送至其他吸附筒後脫離的臭氧氣體成分,因此成為純度高的臭氧氣體。因此,可將被貯留在緩衝槽(13)內的臭氧氣體的濃度形成為20至90vol%的中/高純度氣體。
在該一方吸附筒(2)正在進行脫離操作的期間,另 一方吸附筒(2)係進行吸附操作,以2台吸附筒(2)(2)交替進行吸附-脫離,連續取出濃縮臭氧氣體。其中,該吸附筒(2)可為複數對,亦可藉由控制在複數對吸附筒(2)的各閥切換時序,來連續地取出濃縮臭氧氣體。
此外,以此時的吸附劑而言,以金屬成分少的高純度矽氧凝膠為佳,亦可為一般的矽氧凝膠或沸石等吸附劑。
其中,臭氧使用設備側容許在一定濃度範圍內的臭氧氣體濃度變動時,亦可省略前述緩衝槽(13),將藉由真空泵(11)所被吸引排出的濃縮臭氧氣體直接供給至臭氧使用設備。
〔實施例1〕
將填充有作為臭氧氣體吸附劑(1)的高純度矽氧凝膠650g的內容積1L的吸附筒(2)並聯配置2個,使兩吸附筒(2)的氣體排出路(6)彼此及合流路(17)彼此在口徑3/8吋的連通路(21)相連通,由氣體導入路(4)對吸附筒(2)以供給量14.71slm供給臭氧/氧混合氣體,在吸附筒(2)的吸附壓力以100kPa.G、脫離時的到達壓力-90kPa.G進行運轉。將吸附-脫離以40秒週期進行切換,形成為無壓力均一化工程(0秒)、壓力均一化工程0.5秒、1秒、1.5秒來進行臭氧濃縮的結果顯示於表1及圖2、圖3。
由該表1及圖2可知,與未施行壓力均一化處理的情形(處理1)相比,在施行1.5秒的壓力均一化處理時(處理4),臭氧濃度由405g/m3大幅變化成534g/m3(濃縮率3.12至4.11)。
此外,如圖3所示,可知脫離開始時的壓力在未施行壓力均一化處理時(處理1)為100kPa.G,相對於此,在施行1.5秒的壓力均一化處理時(處理4),減低至約10kPa.G為止。
在本實施例之構成中,若脫離開始時的壓力超過30kPa.G時,由於發現在真空泵(11)因脫離開始瞬後的急遽壓力上升而起的臭氧氣體的自我分解較為容易發生的傾向,因此藉由壓力均一化工程,使作用於濃縮臭氧氣體導出路(5)的壓力減低,藉此防止在真空泵(減壓發生手段)(11)的急遽壓力上升,並且預防發生自我分解。藉此,可以吸附壓力30kPa.G以上來安全實施臭氧氣體的濃縮。
此外,關於在壓力均一化工程結束時的吸氣筒內壓的差壓,在該實施例中,在未取得壓力均一化時間的處理1 中為190kPa,在壓力均一化時間0.5秒的處理2中為130kPa,在壓力均一化時間1.0秒的處理3中為70kPa,在壓力均一化時間1.5秒的處理4中小至10kPa,但是若以壓力均一化時間2.0秒實施時成為差壓0,即使比2.0秒更加長處理時間,亦未發現其以上的濃縮率的提升。在差壓成為0kPa以前,較佳為在成為初期差壓的10%左右的時點結束壓力均一化工程,來切換吸附-脫離工程為宜。即使為差壓成為0kPa的以前,亦有如圖2所示,臭氧濃度的上升程度係若加長處理工程時間即變得平緩的傾向,因此將差壓成為初期差壓的40%以下的時點作為壓力均一化工程的結束時序來進行吸附-脫離工程的切換為更佳。順帶一提,在將壓力均一化時間設定為1.0秒的處理3中,在壓力均一化工程結束時的差壓為初期差壓的約37%。
此外,若為對吸附筒以14.71slm供給原料臭氧氣體的一般升壓的情形,升壓速度為約20kPa/sec。另一方面,在使用2條口徑3/8吋的連通路(21)的本實施例中,藉由壓力均一化工程所致之升壓速度為60kPa/sec。
藉由實施壓力均一化工程,在吸附後的吸附筒側的一部分臭氧氣體係會漏出在脫離後的吸附筒側,但是在本實施例中,並未發現臭氧量的急遽減少。此被認為是因為初期升壓速度在處理4較大,在預定的吸附壓力(100kPa.G)以上的保持時間為40秒的週期中,未施行壓力均一化處理的處理1為30秒,相對於此,在處理4中係加長為 33秒,因此吸附量增大,而與該增大的吸附量相抵之故。此外,在脫離時,相較於未施加壓力均一化處理的處理1,進行壓力均一化處理1.5秒的處理4以低壓推移,處理4取出為更高濃度的臭氧,因此吸附時及脫離時的該等效果被認為有助於臭氧高濃度化。
如上所示,將達成壓力均一化之連通路(21)的氣體流路剖面積設定為比作為吸附原料氣體之臭氧/氧混合氣體的供給量流通更為大流量的剖面積,藉此不會大幅減少臭氧量,而可達成臭氧的高濃度化。其中,該連通路(21)可為1支配管,亦可形成為複數配管而以其合計剖面積來進行設計。
〔實施例2〕
與前述實施例1同樣地,將填充有作為臭氧氣體吸附劑(1)的高純度矽氧凝膠的內容積1L的吸附筒(2)並聯配置2個,使兩吸附筒(2)的氣體排出路(6)彼此及合流路(17)彼此在口徑3/8吋的連通路(21)相連通,由氣體導入路(4)對吸附筒(2)以供給量14.71slm供給臭氧/氧混合氣體,將在吸附筒(2)的吸附壓力以100kPa.G、脫離時的到達壓力-90kPa.G進行運轉。將吸附-脫離的切換週期設定為40秒,追加將在吸附後的吸附筒的氣體導入閥(7)及氣體導出閥(10)進行閉閥,且將氣體排出閥(17)進行開閥一定時間的解壓工程,在該解壓工程之後進行壓力均一化工程。其中,該解壓工程 中係在脫離側的吸附筒繼續脫離工程。
將改變解壓工程的繼續時間與壓力均一化工程的繼續時間所進行的結果顯示於表2及圖5。
由表2及圖5可知,藉由實施解壓工程,可減低吸附後壓力。在該實施例中,隨著加長解壓時間,吸附側吸附筒解壓後的壓力會減低。
僅在壓力均一化工程中,係在吸附壓力產生上限。例如,在實施例1中,在與脫離後壓力-90kPa.G的壓力均一化後,成為30kPa.G以下的吸附後壓力,亦即吸附壓力150kPa.G左右即為上限。但是,藉由導入解壓工程,可實施以超過吸附壓力150kPa.G的壓力(而且未達臭氧發生器的耐壓)的吸附工程,可更加達成臭氧氣體的高濃度化、臭氧量增大、濃縮率的提升。
在本實施例中,係僅顯示至濃縮臭氧氣體濃度550g/m3的實驗例,但是亦可照原樣的構成,使700g/m3左右的濃縮臭氧氣體發生。此外,藉由將減壓發生手段的後段形成為負壓,亦可使如1710g/m3(80vol%)、 1930g/m3(90vol%)般的超高濃度臭氧氣體容易發生。
〔產業上可利用性〕
本發明係可使用在以圖求高濃度臭氧氣體的安定供給的半導體製造領域為代表的各種臭氧氣體使用領域。
1‧‧‧吸附劑
2‧‧‧吸附筒
3‧‧‧臭氧原料氣體源
4‧‧‧氣體導入路
5‧‧‧濃縮臭氧氣體導出路
6‧‧‧氣體排出路
7‧‧‧氣體導入閥
8‧‧‧臭氧發生器
9‧‧‧質流控制器
10‧‧‧氣體導出閥
11‧‧‧減壓發生手段(真空泵)
11b‧‧‧吐出口
12‧‧‧流路切換閥
13‧‧‧緩衝槽
14‧‧‧質流控制器
15‧‧‧流路開閉閥
16‧‧‧連接路
17‧‧‧合流路
18‧‧‧氣體排出閥
19‧‧‧臭氧分解器
20‧‧‧流路開閉閥
21‧‧‧連通路
22‧‧‧臭氧濃度檢測器
23‧‧‧臭氧濃度檢測器
24‧‧‧壓力計
25‧‧‧旁通路徑
26‧‧‧流路遮斷閥
圖1係顯示本發明之實施形態之一例的系統圖。
圖2係顯示壓力均一化時間與臭氧濃度、臭氧量、流量的關係的圖表。
圖3係顯示吸附筒內壓力變化與經過時間的關係的圖表。
圖4係顯示吸附筒內壓力變化與經過時間的關係的圖表。
圖5係顯示解壓時間與臭氧濃度、臭氧量、流量的關係的圖表。
1‧‧‧吸附劑
2‧‧‧吸附筒
3‧‧‧臭氧原料氣體源
4‧‧‧氣體導入路
5‧‧‧濃縮臭氧氣體導出路
6‧‧‧氣體排出路
7‧‧‧氣體導入閥
8‧‧‧臭氧發生器
9‧‧‧質流控制器
10‧‧‧氣體導出閥
11‧‧‧減壓發生手段(真空泵)
11b‧‧‧吐出口
12‧‧‧流路切換閥
13‧‧‧緩衝槽
14‧‧‧質流控制器
15‧‧‧流路開閉閥
16‧‧‧連接路
17‧‧‧合流路
18‧‧‧氣體排出閥
19‧‧‧臭氧分解器
20‧‧‧流路開閉閥
21‧‧‧連通路
22‧‧‧臭氧濃度檢測器
23‧‧‧臭氧濃度檢測器
24‧‧‧壓力計
25‧‧‧旁通路徑
26‧‧‧流路遮斷閥

Claims (4)

  1. 一種臭氧氣體濃縮方法,其係將在內部在非冷卻狀態下填充吸附劑(1)而成的至少2台吸附筒(2)作並聯配置,將臭氧/氧混合氣體供給至吸附筒(2),使臭氧氣體選擇吸附在被收容在各吸附筒(2)的非冷卻狀態的吸附劑(1),並且在臭氧氣體脫離操作時,將各吸附筒(2)進行減壓處理,藉此使臭氧氣體由吸附劑(1)脫離,而將臭氧氣體進行濃縮精製,將至少2台吸附筒(2)分別交替反覆吸附工程與脫離工程,並且以任一吸附筒(2)處於吸附工程時,其他吸附筒(2)成為脫離工程的方式進行控制,該臭氧氣體濃縮方法之特徵為:臭氧氣體由吸附工程切換至脫離工程時,使原處於吸附工程的吸附筒(2)、與處於脫離結束階段的吸附筒(2)相連通,在進行吸附筒內壓力均一化後,使原處於吸附階段的吸附筒(2)與減壓發生手段(11)相連通,使臭氧氣體由吸附劑(1)脫離。
  2. 如申請專利範圍第1項之臭氧氣體濃縮方法,其中,將壓力均一化工程的結束時序控制成:高壓側吸附筒的內壓與低壓側吸附筒的內壓的差壓,與壓力均一化工程開始時的差壓相比較,在達到40%以下的壓力的階段結束。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項之臭氧氣體濃縮方法,其中,在壓力均一化工程開始瞬前,將原處於吸附工程的吸附筒的臭氧氣體入口側的閥(7)進行閉閥,並且 將出口側的閥(18)進行開閥,藉此使吸附筒內壓減低。
  4. 一種臭氧氣體濃縮裝置,其特徵為:將在內部填充吸附劑(1)而成的吸附筒(2)並聯配置至少2台,在各吸附筒(2)分別裝設氣體導入閥(7)與氣體導出閥(10)及氣體排出閥(18),在前述氣體導入閥(7)連接裝設臭氧發生器(8)而成的氣體導入路(4),在氣體導出閥(10)連接裝設減壓發生手段(11)而成的濃縮臭氧氣體導出路(5),在氣體排出閥(18)連接裝設臭氧分解器(19)而成的氣體排出路(6),以將被裝設在各吸附筒(2)的氣體導入閥(7)與氣體排出閥(18)同步進行開閉作動的方式構成,並且以將被裝設在同一吸附筒(2)的氣體導入閥(7)與氣體導出閥(10)擇一進行開閥作動的方式進行控制,交替反覆各吸附筒(2)與氣體導入路(4)相連通的吸附工程、和與濃縮臭氧氣體導出路(5)相連通的脫離工程,並且以至少2台吸附筒(2)的任一者處於吸附工程而其他吸附筒成為脫離工程的方式將各閥(7)(10)(18)進行切換控制,在相較於各閥(7)(10)(18)為較接近吸附筒(2)側配置將吸附筒(2)的內部彼此相連通的至少1系統的連通路(21),並且在該連通路(21)裝設流路開閉閥(20),使該流路開閉閥(20)與前述氣體導入閥(7)和氣體導出閥(10)的開閉作動同步進行開閉控制。
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