TWI511476B - 估計光學通道之反射剖面的方法及裝置 - Google Patents

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TWI511476B TW102117751A TW102117751A TWI511476B TW I511476 B TWI511476 B TW I511476B TW 102117751 A TW102117751 A TW 102117751A TW 102117751 A TW102117751 A TW 102117751A TW I511476 B TWI511476 B TW I511476B
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Description

估計光學通道之反射剖面的方法及裝置
本發明係關於一種用來估計光學通道之反射剖面的方法與裝置。
這些日子，存取網路，也稱為被動光學網路(PON)，係被使用來連接複數個客戶到資料傳輸的核心網路。
在此一存取網路中，該核心網路與該存取網路之間的互連係產生於所謂的中央辦公室上，其包含光線路終端(OLT)。
OLT係經由至少一光纖，較佳地稱為光纖饋線，來連接到所謂的遠端節點。在此遠端節點，藉由OLT傳送的一光學下載訊號，會被分為不同的光學支線，一或多個客戶可藉由光學網路單元(ONU)而連接到此。
客戶們經由該等光學支線，發送光學上傳訊號朝向該遠端節點，其係將這些光學上傳訊號組合成一組合上傳訊號，並且將該組合訊號經由該光纖饋線傳輸到該中央辦公 室，其係包含OLT。
為了決定一裝置傳輸光學訊號入內之該傳輸通道的傳輸特性，光學時間領域反射儀(OTDR)的測量技術可被施加。在此一OTDR測量中，可估計該傳輸通道的反射剖面。較佳地，OTDR技術可在該OLT上實施。
為了OTDR之目的，呈光學脈衝形式的光學測量訊號可被傳輸到該光學通道內，其係包含一或多條光纖。此光纖通常由不均勻的材料製成，其係導致該光學測量訊號的反向散射。該反向散射光學訊號，較佳地稱為接收反應訊號，隨後可隨著時間被記錄當作該反射剖面。一知道在該光纖內之光學訊號的傳播速度，該接收的反應訊號可從該時間領域被轉換成一距離。
該光學通道的不同缺陷，譬如例如一開啟連接器或一髒的光纖連接器，可造成該測量訊號之特徵增加或減少的反向散射，其係依次可被觀察當作該反射剖面內的反射尖峰。藉由檢查被包含在該剖面中的反射剖面與反射尖峰，吾人可得到在何距離、缺陷存在於該光學通道內。
替代使用單一光學脈衝當作測量訊號，可使用更先進的OTDR技術。此先進技術利用一光學訊號，該光學訊號依靠相關順序而在其振幅上調節。該接收的反應訊號首先會被記錄並且隨後使用於決定該反射剖面。這是藉由將該接收反應訊號的時間離散版本與最初相關序列本身產生關聯來得到。在此情形中，該相關序列的自動相關函數等於或近似狄拉克δ函數，該相關結果會在該時間領域中產生 該光學通道之脈衝反應的估計，其係近似該反射剖面。
當使用一傳輸裝置來傳輸一光學傳輸訊號，以將傳輸資料攜帶入該光學通道內時，有一種藉由使用進一步、隔開裝置實施OTDR技術的可能性。在此情形中，該傳輸裝置與該隔開OTDR裝置兩者均耦合到相同的光學通道，較佳地經由一光學耦合器。
一種更先進的技術係為嵌入OTDR(eOTDR)，其中該傳輸裝置本身包含產生光學傳輸訊號的硬體以及實施OTDR測量所必須的硬體。較佳地，該光學傳輸訊號依靠一相關序列被直接調節，其中可選擇此直接調節的頻率，以致於它不會干擾在一接收側上的資料接收。在將該光學傳輸訊號傳輸到該光學通道內以後，其係攜帶該直接調節的測量訊號，該光學通道的接收反應訊號可藉由過濾那頻率來得到，在此，該光學傳輸訊號可被調節。此接收反應訊號隨後可被使用來經由訊號相關性技術而來決定一反射剖面，如它在以上所事先說明地。
所提出的係為一種估計光學通道之反射剖面的方法，該方法包含不同步驟。
該光學通道的測量反射剖面係被提供。一或多個反射尖峰係在該測量反射剖面內被估計。
藉由從該測量反射剖面移除該估計的反射尖峰，可決定一殘留的反射剖面。更者，藉由修改在該殘留反射剖面 內的一或多個估計串音頻率元件，一修改的殘留反射剖面可被決定。
最後，藉由將該估計的反射尖峰與該修改的殘留反射剖面重疊，來決定該估計的反射剖面。
為了瞭解所提出方法的優點，以下態樣可被列入考量。
當實施嵌入OTDR的方法時，實施該反射剖面之測量的硬體元件，其係可經歷存在於一個相同裝置內之其他硬體元件所導致之串音噪音的影響。此串音噪音可使該測量的反應訊號以及因此同樣地該測量反射剖面降級。在OTDR裝置之整合入該傳輸裝置係以小成形要素插件(SFP)來產生的情形中，串音噪音尤其存在。
為了得到可靠的估計反射剖面，串音噪音的影響必須降低。一種對策係為保護該硬體裝置，以便降低該硬體裝置所產生電磁場所導致的該串音噪音量。由於實施eOTDR裝置所產生的空間限制，此一對策一方面麻煩，且另一方面也昂貴。
為了從該測量反射剖面移除該串音噪音，過濾技術可被施加。此過濾技術不僅對該串音噪音有影響，也對存在於該測量反射剖面內的反射尖峰有影響。因為它已經在先前被說明，所以此反射尖峰應該仍存在於一被過濾的反射剖面內，以便檢測該光學通道的缺陷。
所提出的方法首先估計該反射尖峰並隨後移除這些尖峰，以便產生殘留的反射剖面。接著，將該殘留的反射剖 面過濾，以致於估計的串音頻率元件能夠被修改。由於串音通常造成在反射剖面之光譜內一或多個光譜尖峰的事實，該串音噪音可藉由修改該估計的串音頻率元件來降低。在修改該串音頻率元件以後，所產生的修改殘留反射剖面會與先前估計的反射尖峰重疊。
因此，所提出估計反射的方法施加一過濾技術，其中，在各別過濾該頻率領域中的串音噪音且隨後最後再度重疊該過濾結果與該保留的反射尖峰以前，估計的反射尖峰首先會與該測量反射剖面隔開。因此，用於降低串音影響的此過濾技術，可避免存在於該最後估計反射剖面內之反射尖峰的嚴重降級。因此，該估計的反射剖面包含保存良好的反射尖峰。因此，該估計的反射剖面可被使用於檢測經由該反射尖峰之光學通道的缺陷，以及可靠地估計起因於串音噪音減少之光學通道的衰減剖面。
CT‧‧‧串音頻率元件
EP‧‧‧估計反射尖峰
ERP‧‧‧線性領域的估計反射剖面
ERPL‧‧‧對數領域的估計反射剖面
ERPD‧‧‧線性領域的估計反射剖面
ERPDL‧‧‧對數領域的估計反射剖面
FD‧‧‧第一衍生物
FR‧‧‧光譜範圍
LL‧‧‧下頻率限制
UL‧‧‧上頻率限制
MRRP‧‧‧修改殘留反射剖面
P1,P2,P3,P4‧‧‧反射尖峰
RP‧‧‧反射剖面
RPL‧‧‧反射剖面
RRP‧‧‧殘留反射剖面
SD‧‧‧第二衍生物
T1‧‧‧臨界值
T2‧‧‧臨界值
D‧‧‧裝置
DI‧‧‧資料介面
DB‧‧‧資料匯流排
P‧‧‧處理裝置
M‧‧‧記憶體裝置
圖1顯示根據一種實施例所提出方法的流程圖。
圖2a與2b顯示在該線性與該對數領域中的一測量反射剖面。
圖3顯示在該線性領域中之測量反射剖面的第二衍生物。
圖4a顯示估計反射尖峰。
圖4b顯示殘留反射剖面。
圖5顯示該殘留反射剖面之光譜的量值。
圖6顯示該量值的第一衍生物。
圖7顯示一修改的殘留反射剖面。
圖8a與8b顯示各別在橫座標之時間標度上所繪製之線性與對數領域中的估計反射剖面。
圖9a與9b顯示各別在橫座標之距離標度上所繪製之線性與對數領域中的估計反射剖面。
圖10顯示根據一種實施例所提出的裝置。
圖1顯示根據較佳實施例所提出方法的流程圖。在步驟S1中，其係提供做為光學通道之測量反射剖面的OTDR軌跡。此OTDR軌跡可藉由也實施所提出方法的裝置來測量。根據一替代性解法，OTDR軌跡可藉由第一裝置、經由第二裝置的資料介面而被提供到第二裝置，其係接收OTDR軌跡的資料，而且其隨後提供OTDR軌跡到第二裝置的進一步子裝置，以實施所提出方法的進一步步驟。
OTDR軌跡較佳地係為呈時間離散取樣訊號形式的測量反射剖面。較佳地，該取樣測量反射剖面的取樣頻率位於數兆赫茲範圍內，較佳地40MHz。此一取樣頻率40MHz對應25奈秒的取樣間隔。考慮光纖內之光學訊號的典型傳播速率，取樣間隔25奈秒對應在距離2.5m的解析度。
所測量的反射剖面RP係被提供到所提出方法的下一 步驟S2。圖2a顯示在線性領域中之測量反射剖面RP的實例，其中對應以微秒為主之時間解析度的時間標度係沿著橫座標來顯示。在此實例中，該反射剖面RP包含至少三個反射尖峰P1、P2、P3以及串音噪音，其係以重疊該反射剖面RP的噪音訊號而顯而易見。
圖2a的反射剖面RP再一次地顯示於圖2b中，以當作在對數領域中的反射剖面RPL。圖2a與2b的反射剖面RP與RPL兩者，係以在微秒之時間標度上的時間連續訊號被繪製在此，其中一般熟諳該技藝者將確認，此時間連續繪圖代表時間離散與取樣反射剖面。因此，反射剖面RP與RPL的繪製值可被考慮當作在離散指標上所繪製的時間離散值，其係對應在圖2a與2b中所示的時間標度。
回到圖1，在步驟S2內，存在於反射剖面RP內的反射尖峰EP係被估計。在隔開的步驟S21中，這些估計的反射尖峰EP隨後可被儲存。該測量反射剖面RP係被提供在時間領域中，同時該估計的反射尖峰EP較佳地也在時間領域中被估計。為了估計該反射尖峰，可決定該測量反射剖面的第二衍生物。這可藉由決定在該時間領域中之第二差分順序之訊號的時間離散測量反射剖面來得到。由於已經產生此第二衍生物，反射尖峰係被估計呈給那些時間離散指標，就此，第二衍生物會超過一定義的臨界值。
圖3顯示連同臨界值T1的第二衍生物SD。藉由決定第二衍生物SD的中位數絕對值，臨界值T1可被決定。較佳地，臨界值T1係被選為此中位數絕對值乘以一固定 因子。該固定因子較佳地係在值1與10之間的範圍內被選出。在較佳實施例中，該固定因子係被選為值6。
如先前所描述地，為了估計一或多個反射尖峰的存在，第二衍生物的那些時間離散指標係被決定，就此，第二衍生物會超過該臨界值。該估計的反射尖峰隨後係以該測量反射剖面RP的那些值來決定，其時間離散指標對應或等於該決定的時間離散指標。
較佳地，不僅該測量反射剖面RP的這些決定值被使用當作該估計的反射尖峰並且隨後被移除，還有該測量反射剖面RP的進一步值被決定使用當作該估計的反射尖峰。這些進一步值係為其相應的進一步時間離散指標位於預定時間窗口的那些，其係圍繞該先前決定時間離散指標中心。因此，較佳地，對應一組合組時間離散指標的一組合組值係被使用於估計該反射尖峰，其中該組合組的時間離散指標係為先前決定組時間離散指標與進一步時間離散指標的組合。
就該測量反射剖面RP的取樣頻率40MHz而言，時間窗口較佳地具有8個時間離散指標的寬度，其對應200奈秒或距離解析度20m。更者，當僅僅使用OTDR測量用的單一光學脈衝以替代相關序列時，該時間窗口的及時寬度對應光學脈衝的半峰全幅值。甚至更者，該時間窗口的及時寬度對應起因於使用相關序列之OTDR測量之狄拉克δ函數的及時寬度。
該時間窗口較佳地為加權窗口，其定義位於該時間窗 口內之該測量反射剖面之值的加權因子。根據第一解法，該加權窗口係為施加固定因子1到該測量反射剖面之那些值的簡單有蓋貨車窗口，其係位於該時間窗口內。根據另一解法，該加權窗口係為上升餘弦窗口，其施加在範圍0至1內的不同值到該測量反射剖面的那些值，其係位於該時間窗口內。藉由使用此一上升餘弦窗口，代表反射尖峰之值與不代表任何反射尖峰之值的更平順轉變可被得到。
圖4a顯示在線性領域中的許多估計反射尖峰EP。
回到圖1，在步驟S3內，該估計的反射尖峰可從該測量的反射剖面RP被移除。這產生殘留反射剖面RRP。圖4b顯示在線性領域中的殘留反射剖面RRP。藉由替代在那些指標上之測量反射剖面的最初值，該反射尖峰係從該殘留反射剖面RRP被移除，在此，藉由那些指標之反射剖面的平均值，反射尖峰可被檢測出，其係相鄰在此反射尖峰被檢測出的指標。
回到圖1，所得到的殘留反射剖面RRP隨後可被使用於過濾該串音噪音。
圖5顯示殘留反射剖面之光譜的量值S。該串音噪音的頻率元件CT也在圖5中被指示。藉由修改在該殘留反射剖面之光譜內的估計串音頻率元件，可決定一修改的殘留反射剖面。
此修改係在圖1的步驟S4中被實施。在圖5所示的該串音頻率元件CT係在頻率領域中被估計，而且也在頻率領域中被修改。此串音頻率元件CT係被預期為下頻率 領域內的光譜尖峰，同時正常地，沒有任何不連續性被預期用於該殘留反射剖面之光譜內的更高頻率。
為了估計該串音頻率元件CT，藉由將該殘留反射剖面從該時間領域轉換到該頻率領域，該反射剖面的光譜可被決定。這較佳地由一頻率轉換所實施，其係在該時間領域中為離散且在該頻率領域中為離散。較佳地，快速傅立葉轉換(FFT)係被使用。這產生複雜的離散頻譜。此一離散頻譜的量值S係為在圖5所示者，其中做為連續標度的頻率標度係沿著橫座標來繪製。在本實例中，所繪製離散值的數目係為4096。
就最後檢測該串音頻率元件CT而言，該複雜的離散頻譜會被一次微分，較佳地藉由決定第一順序的微分訊號。這會產生複雜的第一衍生物。然後，第一衍生物的量值可被決定，其係會產生真正的值。
圖6顯示該殘留反射剖面光譜之第一衍生物的量值FD。第一衍生物之量值FD的那些光譜指標會被決定，就此，第一衍生物的量值FD超過光譜臨界值T2。該複雜的光譜隨後可在那些指標上的其複雜值中被修改，其對應該決定的光譜指標。
藉由決定第一衍生物量值FD的中位數值，臨界值T2可被決定。較佳地，臨界值T2係被選為此中位數值乘以一固定因子。該固定因子較佳地在值1與10之間的範圍內被選出。在較佳實施例中，該固定因子被選為值6。
較佳地，藉由在預定光譜範圍FR內決定第一衍生物 之量值FD的中位數值，可決定臨界值T2。此光譜範圍FR具有下頻率限制LL與上頻率限制UL。此中位數值隨後可乘以固定因子。該固定因子較佳地在值1與10之間的範圍內被選出。在較佳實施例中，該固定因子係被選為值6。
較佳地，該光譜之複雜光譜值的修改不僅被實施用於在那些光譜指標上的光譜值，就此第一衍生物的量值FD超過光譜臨界值T2，也用於該光譜的進一步值，其進一步光譜指標位於一或多個預定的頻譜窗，其係圍繞該先前決定光譜指標的中央。
因此，較佳地，對應一組合組離散光譜指標的一組合組數值，係被使用來估計該串音頻率元件並且隨後修改這些元件，其中該組合組離散光譜指標係為先前決定組離散光譜指標與進一步離散光譜指標的組合。
較佳地，該頻譜窗具有一預定寬度，其係較佳地為八個光譜指標的寬度。較佳地，此頻譜窗係為一加權窗口，在一個替代性解法中，其係為施加加權因子1或0的有蓋貨車窗口。根據一替代性解法，該頻譜窗係為施加0與1之間範圍內之變化加權因子的一上升餘弦窗口。
該相應的複雜光譜值，其對應使用來估計該串音頻率元件的光譜指標，係被修改成一各別的平均值。就這些相應複雜光譜值的其中一個而言，該各別複雜平均值係被決定當作該相鄰光譜值的平均，其係相鄰欲被修改的相應值。
較佳地，串音頻率元件的估計與這些元件的修改係受限於預定的頻率範圍FR。
該修改的複雜光譜隨後可從該頻率領域轉換回到該時間領域，其係較佳使用一時間離散與離散頻率轉換以作為一反轉換。此反轉換較佳地為反快速傅立葉轉換(IFFT)。
一得到的修改殘留反射剖面隨後可從步驟S4提供到步驟S5，如圖1所示。此一修改殘留反射剖面MRRP的實例係顯示於圖7的線性領域中。如圖1所示，在步驟S5內，所產生的修改殘留反射剖面MRRP隨後與先前估計的反射尖峰EP重疊。這產生一估計的反射剖面ERP。
圖8a與8b顯示在線性領域的估計反射剖面ERP以及在對數領域ERPL中者，其中這些剖面係被繪製於橫座標上的時間標度上。藉由比較在線性領域中圖2a的最初測量反射剖面RP以及圖8a的估計反射剖面ERP，必須注意的是，串音噪音量可被降低，同時，該降低串音噪音之步驟對該反射尖峰的影響可被維持在最小量。注視圖8a，吾人可清楚看見，不僅最初可見的反射尖峰P1、P2與P3可被觀察，反射尖峰P4也是，其係不會在圖2a的反射剖面RP內被事先簡單看見。
所提出的方法係為有利的，因為首先它將該估計的反射尖峰與該測量的反射剖面隔開，那時以前過濾該殘留的反射剖面，以用來降低串音噪音量。更者，藉由稍後將該估計的反射剖面與該修改的殘留反射剖面重疊，一估計的
反射剖面會被得到，其中兩者所針對的降低串音噪音與保留反射尖峰均可得到。
圖9a與9b各別顯示在線性領域的估計反射剖面ERPD與在對數領域中者ERPDL，其中這些剖面係在橫座標上的距離標度上被繪製。
圖10顯示根據較佳實施例之用於估計光學通道之反射剖面的提出裝置。
裝置D包含一資料介面DI，在其上可得到代表一測量反射剖面的資料。
較佳地，該資料介面DI經由資料匯流排DB被連接到處理裝置P以及記憶體裝置M。
該記憶體裝置M與該處理裝置P係為可操作，以致於它們能夠共同地實施以上詳細說明之提出方法的不同步驟。
因此，該記憶體裝置M與處理裝置P係可操作來共同地估計在一測量反射剖面內的反射尖峰，並且此外，藉由從該測量反射剖面移除該估計的反射尖峰，來決定一殘留的反射剖面。
此外，該裝置P與M係可操作來共同地修改在該殘留反射剖面內的估計串音頻率元件，以用來決定被修改的殘留反射剖面。最後，該裝置P與M係可操作來共同地重疊該估計的反射尖峰與該修改的殘留反射剖面，以用來決定該估計的反射剖面。
在圖10所示之種種元件的函數，包括標示為〝處理 器〞的任何功能性方塊，其係可經由專屬硬體以及能夠執行軟體之硬體結合適當軟體之使用來提供。當藉由處理器來提供時，該等函數可由單一專屬處理器、由單一共享處理器、或由複數個各別處理器所提供，其中一些可被共享。更者，〝處理器〞一詞的明確使用或者不應該被詮釋為唯一意指能夠執行軟體的硬體，其係並且含蓄地包括、不限於數位訊號處理器(DSP)硬體、網路處理器、特殊應用積體電路(ASIC)、場可程式化閘極陣列(FPGA)、用來儲存軟體的唯讀記憶體(ROM)、隨機存取記憶體(RAM)以及非揮發性儲存體。其他硬體，習知與/或定製，也可被包括。
那些熟諳該技藝者應該理解到，在此的任何方塊圖代表實施本發明原理之說明性電路的概念圖。同樣地，將理解的是，任何流程圖實質上係以電腦可讀取媒體來代表並且如此可由電腦或處理器所執行，不論此電腦或處理器是否被明確顯示。
EP‧‧‧估計反射尖峰
RP‧‧‧反射剖面
RRP‧‧‧殘留反射剖面
ERP‧‧‧線性領域的估計反射剖面
MRRP‧‧‧修改殘留反射剖面

Claims (13)

  1. 一種估計光學通道之反射剖面的方法，包含- 提供該光學通道的一測量反射剖面(RP)，- 估計在該測量反射剖面(RP)內的一或多個估計反射尖峰(P1、P2、P3)，- 藉由從該測量反射剖面(RP)移除該估計反射尖峰(P1、P2、P3)，來決定一殘留反射剖面(RRP)，- 藉由修改在該殘留反射剖面(RRP)內的一或多個估計串音頻率元件(CT)，來決定一修改的殘留反射剖面(MRRP)，- 藉由將該估計的反射尖峰(P1、P2、P3)與該修改的殘留反射剖面(MRRP)重疊，來決定該估計的反射剖面(ERP)。
  2. 如申請專利範圍第1項之方法，其中該測量反射剖面(RP)係被提供在一時間領域中，進一步包含- 估計在該時間領域中的該反射尖峰(P1、P2、P3)，- 移除在該時間領域中的該估計反射尖峰(P1、P2、P3)。
  3. 如申請專利範圍第2項之方法，其中估計在該時間領域中之該反射尖峰(P1、P2、P3)的步驟包括 - 決定該測量反射剖面(RP)的一第二衍生物(SD)，- 決定該第二衍生物(SD)的該些指標，就此，該第二衍生物(SD)會超過一臨界值(T1)。
  4. 如申請專利範圍第3項之方法，其中估計在該時間領域中之該反射尖峰(P1、P2、P3)的該步驟包括- 使用該測量反射剖面(RP)的該些值，其指標對應該決定指標。
  5. 如申請專利範圍第4項之方法，其中估計在該時間領域中之該反射尖峰(P1、P2、P3)的該步驟包括- 進一步使用該測量反射剖面(RP)的該些值，其指標位於圍繞該決定指標中心的一或多個預定時間窗口內。
  6. 如申請專利範圍第3項之方法，其中該臨界值(T1)可使用該第二衍生物的中位數絕對值來決定。
  7. 如申請專利範圍第1項之方法，其中該測量反射剖面(RP)係被提供在該時間領域中，進一步包含- 估計在該頻率領域中的該串音頻率元件(CT)，- 修改在該頻率領域中的該串音頻率元件(CT)。
  8. 如申請專利範圍第7項之方法，其中估計在該頻率領域中之該串音頻率元件(CT)的步驟進一步包括- 藉由將該殘留反射剖面(RRP)從時間領域轉換成 頻率領域，來決定該殘留反射剖面(RRP)的光譜(S)，- 決定該光譜(S)之量值的第一衍生物(FD)，- 決定該第一衍生物(FD)的一些光譜指標，就此該第一衍生物(FD)超過光譜臨界值(T2)。
  9. 如申請專利範圍第8項之方法，其中修改在該頻率領域中之該串音頻率元件(CT)的步驟進一步包括- 修改該光譜(S)的該些值，其光譜指標對應該決定的光譜指標。
  10. 如申請專利範圍第9項之方法，其中修改在該頻率領域中之該串音頻率元件(CT)的步驟進一步包括- 也修改該光譜(S)的該些值，其光譜指標位於圍繞該決定光譜指標中心的一或多個預定頻譜窗內。
  11. 如申請專利範圍第10項之方法，其中修改在該頻率領域中之該串音頻率元件(CT)的步驟進一步包括- 將在一各別頻譜窗內的光譜值設定在各別平均值，其中該平均值係以該些光譜值的平均來決定，其指標相鄰該各別頻譜窗。
  12. 如申請專利範圍第8項之方法，其中決定該修改殘留反射剖面(MRRP)的步驟進一步包括- 藉由將該修改光譜轉換回到該時間領域，來決定該修改的殘留反射剖面(MRRP)。
  13. 一種估計光學通道之反射剖面的裝置，包含- 至少一個資料介面(DI)， - 至少一個記憶體裝置(M)，- 至少一個處理裝置(P)，其中該資料介面(DI)係可操作來接收該光學通道的測量反射剖面(RP)，且其中該記憶體裝置(M)與該處理裝置(P)係可操作來共同地- 估計在該測量反射剖面(RP)內的一或多個估計反射尖峰(P1、P2、P3)，- 藉由從該測量反射剖面(RP)移除該估計的反射尖峰(P1、P2、P3)，決定一殘留反射剖面(RRP)，- 藉由修改在該殘留反射剖面(RRP)內的一或多個估計串音頻率元件(CT)，來決定一修改的殘留反射剖面(MRRP)，以及- 藉由重疊該估計的反射尖峰(P1、P2、P3)與該修改的殘留反射剖面(MRRP)，來決定該估計的反射剖面(ERP)。
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