TWI498085B

TWI498085B - 調配物

Info

Publication number: TWI498085B
Application number: TW100112941A
Authority: TW
Inventors: Neil George; James Owen Forrest; Rebecca Claire Burton
Original assignee: Syngenta Ltd
Priority date: 2010-04-15
Filing date: 2011-04-14
Publication date: 2015-09-01
Also published as: MX351763B; EP2557925B1; CN102883605A; US20130203792A1; RS55226B1; UA111939C2; NZ625000A; JP5860030B2; AP2012006494A0; CN102883605B; NZ602986A; UY33338A; MX2012011686A; IL222402A; ZA201207686B; CN104250229A; IL222402A0; KR20130057981A; JP2013527151A; WO2011128618A1

Description

調配物

本發明係關於賽普洛或派美尼之新穎共晶及該等共晶於殺真菌組成物中，尤其是於農用化學組成物中之用途。

賽普洛及派美尼皆為苯胺基嘧啶殺真菌劑，且被認為藉由抑制甲硫胺酸之生物合成及真菌水解酶之分泌來起作用。賽普洛作為葉面殺真菌劑用於禾穀類、葡萄、仁果、核果、草莓、蔬菜、農作物及觀賞植物且作為拌種用於大麥，以控制各種病原體，諸如絲狀眼斑病菌(Tapesia yallundae )及針狀眼斑病菌(T. acuformis )、白粉菌屬(Erysiphe spp.)、圓核腔菌(Pyrenophora teres )、黑麥喙孢菌(Rhynchosporium secalis )、葡萄胞屬(Botrytis spp.)、交鏈孢屬(Alternaria spp.)、黑星菌屬(Venturia spp.)及鏈核盤菌屬(Monilinia spp.)。派美尼用於控制藤本植物、果實、蔬菜及觀賞植物之灰黴(灰葡萄孢，Botrytis cinerea )及控制仁果之葉瘡痂(蘋果黑星菌(Venturia inaequalis )或梨黑星菌(V. pirina ))。兩者皆可在市面上購得且描述於The Pesticide Manual中[The Pesticide Manual-A World Compendium；第13版；編輯：C. D. S. Tomlin;The British Crop Protection Council]。

已知存在兩種賽普洛多晶形式，兩者皆展現特徵(但不同的)熔融範圍：形式A於70℃與72℃之間熔融且形式B於74℃與76℃之間熔融。多晶形式A及B之熱力學穩定性互變相關且展現相變溫度，該相變溫度雖然對其他條件敏感，但典型地在15℃與40℃之間，其當然在農用化學調配物加工及儲存過程中可能出現的溫度波動範圍(典型地為-10℃至+50℃)內。在相變溫度以下時，形式A為熱力學穩定形式，而在相變溫度以上時，形式B為熱力學穩定形式。因此，在儲存條件下，固態賽普洛可因在兩種多晶形式之間再結晶而經歷轉變，導致產生較大且不合需要的粒子，該等粒子可能例如在產品施用過程中阻塞噴嘴。另外，該等再結晶事件意謂可能難以將該產品維持為均質調配物，且此種情況可能在轉移至稀釋槽的過程中及在稀釋時獲得正確濃度方面引起問題。因此，此特性目前限制將賽普洛調配為溶解有賽普洛之組成物(例如乳劑)。派美尼存在類似問題，其亦可能在正常調配及儲存條件下結晶。另外，派美尼為頗具揮發性之化合物。該等問題使得難以調配為例如水懸劑且在某些情況下限制派美尼之使用。因此，該等問題意謂在調配、儲存及施用派美尼的過程中會出現與使用賽普洛時遇到之問題類似的問題。

形成具有至少一個以下性質之新穎固態賽普洛或派美尼將使調配為固態分散液(例如水懸劑(suspension concentrate)、濃懸乳劑(suspo-emulsion)或濕式造粒)成為可能：(i)在儲存溫度波動窗口內不展現相變；(ii)在調配及儲存時不經歷結晶；及(iii)揮發性小於母體化合物，該等固態分散液可具有合乎需要的毒物學性質、受控釋放性質或化學穩定性。尤其注意到，一般而言，水懸劑可展示低於乳劑之植物毒性，且因此，該等水懸劑明顯為更合乎需要的農用化學調配物。該等特徵可歸因於不存在溶劑及其他添加劑，但另外，亦有可能共晶本身在與單獨的活性成分相比時可展示經改良之植物毒性。

因此，本發明提供賽普洛或派美尼之新穎共晶形式，其與該等殺真菌劑之市售版本相比具有經改良之性質。特定言之，其提供一種共晶，該共晶包含選自賽普洛及派美尼之苯胺基嘧啶殺真菌劑及具有至少一個醯亞胺及/或肟官能基之共晶形成化合物。更特定言之，該共晶形成化合物係選自由苯均四酸二醯亞胺、對苯二甲醛二肟、二甲基乙二肟、2,3-萘二甲醯亞胺、2-羥亞胺基-2-苯基乙腈及鄰苯二甲醯亞胺組成之群。該苯胺基嘧啶殺真菌劑較佳為賽普洛。

賽普洛或派美尼與醯亞胺或肟共晶形成化合物之共晶形式可藉由晶體結構(用單位晶胞進行描述)或藉由用2θ角表示的X射線粉末繞射圖之所選峰來表徵。

在本發明之一具體實例中，提供賽普洛與苯均四酸二醯亞胺之共晶形式。在另一具體實例中，賽普洛與苯均四酸二醯亞胺之共晶形式係藉由表1中展示之賽普洛/苯均四酸二醯亞胺單晶的單位晶胞參數來表徵。此單晶係使用實施例1a之方法所獲得。藉由單晶結構分析確認該共晶之化學計量為2:1。

表1

在該表中，a、b、c=單位晶胞棱邊之長度；α、β、γ=單位晶胞之角；且Z=單位晶胞中賽普洛：苯均四酸二醯亞胺複合物(2:1)之數目。

在另一具體實例中，賽普洛與苯均四酸二醯亞胺之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含至少3個選自包含以下各者之群的2θ角值：7.3±0.2、10.5±0.2、11.7±0.2、18.3±0.2、21.4±0.2、26.8±0.2、28.0±0.2及30.2±0.2。該X射線粉末繞射圖更佳包含全部此等2θ角值。此等2θ角值來源於彼等可完全歸於該共晶之X射線粉末繞射圖之峰；表2包含此等2θ值以及出現於賽普洛及/或苯均四酸二醯亞胺以及該共晶之X射線粉末繞射圖中之其他峰值。在一具體實例中，賽普洛與苯均四酸二醯亞胺之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含表2中列舉的所有2θ角值，亦即，該X射線粉末繞射圖包含以下2θ角值：7.3±0.2、10.5±0.2、11.7±0.2、16.6±0.2、17.1±0.2、18.3±0.2、18.8±0.2、19.7±0.2、21.4±0.2、23.2±0.2、24.1±0.2、24.3±0.2、26.4±0.2、26.8±0.2、28.0±0.2及30.2±0.2。表2中之全部峰來源於已使用來自賽普洛-苯均四酸二醯亞胺單共晶之資料計算出之X射線粉末繞射圖，該賽普洛-苯均四酸二醯亞胺單共晶係使用實施例1a之方法所獲得。表2亦列舉該等峰之強度(強(S)、中等(M)或弱(W))。全部此等峰位所來源之繞射圖展示於圖1中。

表2

在另一具體實例中，賽普洛與苯均四酸二醯亞胺之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含至少3個選自包含以下各者之群的2θ角值：7.2±0.2、10.3±0.2、11.5±0.2、16.4±0.2、16.7±0.2、19.2±0.2、20.1±0.2、23.6±0.2及23.9±0.2。該X射線粉末繞射圖更佳包含全部此等2θ角值。此等2θ角值來源於彼等可完全歸於該共晶之X射線粉末繞射圖之峰；表3包含此等2θ值以及出現於賽普洛及/或苯均四酸二醯亞胺以及該共晶之X射線粉末繞射圖中之其他峰值。在一具體實例中，賽普洛與苯均四酸二醯亞胺之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含表3中列舉的所有2θ角值，亦即，該X射線粉末繞射圖包含以下2θ角值：7.2±0.2、10.3±0.2、11.5±0.2、16.4±0.2、16.7±0.2、18.0±0.2、18.5±0.2、19.2±0.2、20.1±0.2、21.1±0.2、23.0±0.2、23.6±0.2、23.9±0.2、26.3±0.2、27.5±0.2及29.5±0.2。表3中之全部峰來源於使用實施例1a之方法獲得的賽普洛-苯均四酸二醯亞胺共晶之X射線粉末繞射圖。表3亦列舉該等峰之強度(強(S)、中等(M)或弱(W))。全部此等峰位所來源之繞射圖展示於圖2中。該共晶之差示掃描熱量測定[DSC]資料展示於圖3中。

表3

在本發明之一具體實例中，提供賽普洛與對苯二甲醛二肟之共晶形式。在另一具體實例中，賽普洛與對苯二甲醛二肟之共晶形式係藉由表4中展示之賽普洛/對苯二甲醛二肟單晶之單位晶胞參數來表徵。此單晶係使用實施例1a之方法所獲得。藉由單晶結構分析確認該共晶之化學計量為2:1。

表4

在該表中，a、b、c=單位晶胞棱邊之長度；α、β、γ=單位晶胞之角；且Z=單位晶胞中賽普洛：對苯二甲醛二肟複合物(2:1)之數目。

在另一具體實例中，賽普洛與對苯二甲醛二肟之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含至少3個選自包含以下各者之群的2θ角值：4.4±0.2、8.8±0.2、11.4±0.2、12.9±0.2、17.7±0.2、19.0±0.2、19.2±0.2、20.9±0.2、24.4±0.2、24.6±0.2、25.7±0.2及28.7±0.2。該X射線粉末繞射圖更佳包含全部此等2θ角值。此等2θ角值來源於彼等可完全歸於該共晶之X射線粉末繞射圖之峰；表5包含此等2θ值以及出現於賽普洛及/或對苯二甲醛二肟以及該共晶之X射線粉末繞射圖中之其他峰值。在一具體實例中，賽普洛與對苯二甲醛二肟之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含表5中列舉的所有2θ角值，亦即，該X射線粉末繞射圖包含以下2θ角值：4.4±0.2、8.8±0.2、11.4±0.2、12.9±0.2、13.2±0.2、17.7±0.2、19.0±0.2、19.2±0.2、20.9±0.2、21.3±0.2、22.5±0.2、23.0±0.2、23.4±0.2、24.4±0.2、24.6±0.2、25.7±0.2、26.4±0.2及28.7±0.2。表5中之全部峰來源於已使用來自賽普洛-對苯二甲醛二肟單共晶之資料計算出之X射線粉末繞射圖，該賽普洛-對苯二甲醛二肟單共晶係使用實施例1a之方法所獲得。表5亦列舉該等峰之強度(強(S)、中等(M)或弱(W))。全部此等峰位所來源之繞射圖展示於圖4中。

表5

在另一具體實例中，賽普洛與對苯二甲醛二肟之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含至少3個選自包含以下各者之群的2θ角值：4.3±0.2、8.9±0.2、12.9±0.2、17.6±0.2、19.0±0.2、19.3±0.2、20.9±0.2、22.3±0.2、24.4±0.2及26.6±0.2。該X射線粉末繞射圖更佳包含全部此等2θ角值。此等2θ角值來源於彼等可完全歸於該共晶之X射線粉末繞射圖之峰；表6包含此等2θ值以及出現於賽普洛及/或對苯二甲醛二肟以及該共晶之X射線粉末繞射圖中之其他峰值。在一具體實例中，賽普洛與對苯二甲醛二肟之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含表6中列舉的所有2θ角值，亦即，該X射線粉末繞射圖包含以下2θ角值：4.3±0.2、8.9±0.2、11.4±0.2、12.9±0.2、13.2±0.2、17.6±0.2、19.0±0.2、19.3±0.2、20.9±0.2、21.3±0.2、22.3±0.2、22.9±0.2、24.4±0.2、26.3±0.2、26.6±0.2及28.4±0.2。表6中之全部峰來源於使用實施例1a之方法所獲得的賽普洛-對苯二甲醛二肟共晶之X射線粉末繞射圖。表6亦列舉該等峰之強度(強(S)、中等(M)或弱(W))。全部此等峰位所來源之繞射圖展示於圖5中。該共晶之差示掃描熱量測定[DSC]資料展示於圖6中。

表6

在本發明之一具體實例中，提供賽普洛與二甲基乙二肟之共晶形式。在另一具體實例中，賽普洛與二甲基乙二肟之共晶形式係藉由表7中展示之賽普洛/二甲基乙二肟單晶的單位晶胞參數來表徵。此單晶係使用實施例1b之方法所獲得。藉由單晶結構分析確認該共晶之化學計量為2:1。

表7

在該表中，a、b、c=單位晶胞棱邊之長度；α、β、γ=單位晶胞之角；且Z=單位晶胞中賽普洛：二甲基乙二肟複合物(2:1)之數目。

在另一具體實例中，賽普洛與二甲基乙二肟之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含至少3個選自包含以下各者之群的2θ角值：8.4±0.2、9.6±0.2、10.5±0.2、12.7±0.2、13.0±0.2、15.8±0.2、18.9±0.2、20.9±0.2、25.8±0.2及31.4±0.2。該X射線粉末繞射圖更佳包含全部此等2θ角值。此等2θ角值來源於彼等可完全歸於該共晶之X射線粉末繞射圖之峰；表8包含此等2θ值以及出現於賽普洛及/或二甲基乙二肟以及該共晶之X射線粉末繞射圖中之其他峰值。在一具體實例中，賽普洛與二甲基乙二肟之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含表8中列舉的所有2θ角值，亦即，該X射線粉末繞射圖包含以下2θ角值：8.4±0.2、9.6±0.2、10.5±0.2、12.7±0.2、13.0±0.2、15.0±0.2、15.8±0.2、17.1±0.2、18.9±0.2、20.3±0.2、20.9±0.2、22.4±0.2、23.4±0.2、25.3±0.2、25.8±0.2、27.5±0.2及31.4±0.2。表8中之全部峰來源於已使用來自賽普洛-二甲基乙二肟單共晶之資料計算出之X射線粉末繞射圖，該賽普洛-二甲基乙二肟單共晶係使用實施例1b之方法所獲得。表8亦列舉該等峰之強度(強(S)、中等(M)或弱(W))。全部此等峰位所來源之繞射圖展示於圖7中。

表8

在另一具體實例中，賽普洛與二甲基乙二肟之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含至少3個選自包含以下各者之群的2θ角值：8.3±0.2、10.4±0.2、12.8±0.2、16.7±0.2、16.9±0.2、20.6±0.2、22.2±0.2、24.8±0.2、25.6±0.2及30.9±0.2。該X射線粉末繞射圖更佳包含全部此等2θ角值。此等2θ角值來源於彼等可完全歸於該共晶之X射線粉末繞射圖之峰；表9包含此等2θ值以及出現於賽普洛及/或二甲基乙二肟以及該共晶之X射線粉末繞射圖中之其他峰值。在一具體實例中，賽普洛與二甲基乙二肟之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含表9中列舉的所有2θ角值，亦即，該X射線粉末繞射圖包含以下2θ角值：8.3±0.2、9.5±0.2、10.4±0.2、12.8±0.2、14.7±0.2、15.7±0.2、16.7±0.2、16.9±0.2、18.7±0.2、19.3±0.2、20.0±0.2、20.6±0.2、22.2±0.2、23.0±0.2、24.8±0.2、25.6±0.2、27.1±0.2及30.9±0.2。表9中之全部峰來源於使用實施例1b之方法所獲得的賽普洛-二甲基乙二肟共晶之X射線粉末繞射圖。表9亦列舉該等峰之強度(強(S)、中等(M)或弱(W))。全部此等峰位所來源之繞射圖展示於圖8中。該共晶之差示掃描熱量測定[DSC]資料展示於圖9中。

表9

在本發明之一具體實例中，提供賽普洛與2,3-萘二甲醯亞胺之共晶形式。在另一具體實例中，賽普洛與2,3-萘二甲醯亞胺之共晶形式係藉由表10中展示之賽普洛/2,3-萘二甲醯亞胺單晶的單位晶胞參數來表徵。此單晶係使用實施例1d之方法所獲得。藉由單晶結構分析確認該共晶之化學計量為1:1。

表10

在該表中，a、b、c=單位晶胞棱邊之長度；α、β、γ=單位晶胞之角；且Z=單位晶胞中賽普洛：2,3-萘二甲醯亞胺複合物(2:1)之數目。

在另一具體實例中，賽普洛與2,3-萘二甲醯亞胺之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含至少3個選自包含以下各者之群的2θ角值：15.3±0.2、16.0±0.2、19.2±0.2、21.3±0.2、22.0±0.2、23.9±0.2、24.4±0.2及25.4±0.2。該X射線粉末繞射圖更佳包含全部此等2θ角值。此等2θ角值來源於彼等可完全歸於該共晶之X射線粉末繞射圖之峰；表11包含此等2θ值以及出現於賽普洛及/或2,3-萘二甲醯亞胺以及該共晶之X射線粉末繞射圖中之其他峰值。在一具體實例中，賽普洛與2,3-萘二甲醯亞胺之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含表11中列舉的所有2θ角值，亦即，該X射線粉末繞射圖包含以下2θ角值：11.5±0.2、15.3±0.2、16.0±0.2、17.3±0.2、19.2±0.2、19.3±0.2、19.9±0.2、21.3±0.2、22.0±0.2、22.4±0.2、22.9±0.2、23.9±0.2、24.4±0.2、25.4±0.2、27.2±0.2及27.9±0.2。表11中之全部峰來源於已使用來自賽普洛-2,3-萘二甲醯亞胺單共晶之資料計算出之X射線粉末繞射圖，該賽普洛-2,3-萘二甲醯亞胺單共晶係使用實施例1d之方法所獲得。表11亦列舉該等峰之強度(強(S)、中等(M)或弱(W))。全部此等峰位所來源之繞射圖展示於圖10中。

表11

在本發明之一具體實例中，提供賽普洛與2-羥亞胺基-2-苯基乙腈之共晶形式。在另一具體實例中，賽普洛與2-羥亞胺基-2-苯基乙腈之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含至少3個選自包含以下各者之群的2θ角值：7.5±0.2、10.7±0.2、13.8±0.2、19.1±0.2、21.4±0.2、23.8±0.2、27.7±0.2及30.9±0.2。該X射線粉末繞射圖更佳包含全部此等2θ角值。此等2θ角值來源於彼等可完全歸於該共晶之X射線粉末繞射圖之峰；表12包含此等2θ值以及出現於賽普洛及/或2-羥亞胺基-2-苯基乙腈以及該共晶之X射線粉末繞射圖中之其他峰值。在一具體實例中，賽普洛與2-羥亞胺基-2-苯基乙腈之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含表12中列舉的所有2θ角值，亦即，該X射線粉末繞射圖包含以下2θ角值：7.5±0.2、10.7±0.2、13.8±0.2、15.6±0.2、17.1±0.2、18.6±0.2、19.1±0.2、19.9±0.2、21.4±0.2、22.5±0.2、23.8±0.2、24.3±0.2、25.4±0.2、27.7±0.2、28.3±0.2、29.3±0.2、30.9±0.2及32.3±0.2。表12中之全部峰來源於使用實施例1a之方法所獲得的賽普洛-2-羥亞胺基-2-苯基乙腈共晶之X射線粉末繞射圖。表12亦列舉該等峰之強度(強(S)、中等(M)或弱(W))。全部此等峰位所來源之繞射圖展示於圖11中。該共晶之差示掃描熱量測定[DSC]資料展示於圖12中。

表12

在本發明之一具體實例中，提供賽普洛與鄰苯二甲醯亞胺之共晶形式。在另一具體實例中，賽普洛與鄰苯二甲醯亞胺之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含至少3個選自包含以下各者之群的2θ角值：7.6±0.2、11.9±0.2、13.7±0.2、19.0±0.2、20.6±0.2、21.3±0.2、22.2±0.2、24.2±0.2、24.5±0.2及25.5±0.2。該X射線粉末繞射圖更佳包含全部此等2θ角值。此等2θ角值來源於彼等可完全歸於該共晶之X射線粉末繞射圖之峰；表13包含此等2θ值以及出現於賽普洛及/或鄰苯二甲醯亞胺以及該共晶之X射線粉末繞射圖中之其他峰值。在一具體實例中，賽普洛與鄰苯二甲醯亞胺之共晶形式係藉由用2θ角表示之X射線粉末繞射圖來表徵，其中該X射線粉末繞射圖包含表13中列舉的所有2θ角值，亦即，該X射線粉末繞射圖包含以下2θ角值：7.6±0.2、9.5±0.2、11.9±0.2、13.7±0.2、15.6±0.2、17.7±0.2、19.0±0.2、19.4±0.2、20.6±0.2、21.3±0.2、22.2±0.2、22.9±0.2、23.7±0.2、24.2±0.2、24.5±0.2、25.5±0.2、26.4±0.2及27.1±0.2。表13中之全部峰來源於使用實施例1c之方法所獲得的賽普洛-鄰苯二甲醯亞胺共晶之X射線粉末繞射圖。表13亦列舉該等峰之強度(強(S)、中等(M)或弱(W))。全部此等峰位所來源之繞射圖展示於圖13中。該共晶之差示掃描熱量測定[DSC]資料展示於圖14中。

表13

本發明之共晶係藉由使賽普洛或派美尼與共晶形成化合物接觸來形成。可藉由以下步驟完成此接觸：(i)一起研磨兩種固體；(ii)熔融一或兩種組分且允許其再結晶；及(iiia)溶解或部分溶解賽普洛或派美尼且添加共晶形成化合物，或(iiib)溶解或部分溶解共晶形成化合物且添加賽普洛或派美尼。亦有可能將賽普洛或派美尼溶解或部分溶解於共晶形成化合物中，反之亦然。隨後允許在合適條件下發生結晶。舉例而言，結晶可能需要改變溶液性質，諸如pH值或溫度，且可能需要通常藉由移除溶劑且典型地藉由乾燥溶液來濃縮溶質。移除溶劑使賽普洛或派美尼之濃度隨時間而增加，以便促進結晶。在一些情況下，可使用微波照射或音波處理(或微波照射及音波處理兩者)促進結晶。一旦形成包含任何結晶之固相，即可如本文所述進行測試。

因此，本發明提供一種製造本發明之共晶之方法，其包含：

(a)在結晶條件下，對賽普洛或派美尼與共晶形成化合物進行研磨、加熱或在溶解狀態下接觸，以便形成固相；

(b)分離包含賽普洛或派美尼及共晶形成化合物之共晶。

用於本發明之方法的共晶形成化合物係如上文所定義。在該方法之一具體實例中，該共晶形成化合物具有至少一個醯亞胺及/或肟官能基。在另一具體實例中，該共晶形成化合物係選自由苯均四酸二醯亞胺、對苯二甲醛二肟、二甲基乙二肟、2,3-萘二甲醯亞胺、2-羥亞胺基-2-苯基乙腈及鄰苯二甲醯亞胺組成之群。

更適當言之，本發明提供賽普洛與如上文所定義之共晶形成化合物的一種共晶。

如本文中所用，「共晶」意謂一種按某種化學計量比包含兩種或兩種以上獨特組分之結晶材料，該等組分各含有特殊物理特徵，諸如結構、熔點及熔化熱。如本文中所用，共晶不同於結晶鹽，因為共晶由中性組分而非鹽中所發現之帶電荷組分組成。共晶可經由若干分子辨識(molecular recognition)模式來構建，包括氫鍵結、Π(pi)堆疊、客體-主體複合及凡得瓦交互作用。在以上列舉之交互作用中，氫鍵結為形成共晶的過程中之主要交互作用，藉以在一部分之氫鍵供體與另一部分之氫鍵受體之間形成非共價鍵。本發明之較佳共晶為在共晶形成化合物與賽普洛或派美尼之間存在氫鍵結之彼等共晶。注意，可在晶體中形成多點接觸。舉例而言，兩個賽普洛分子可與同一共晶形成分子上之不同官能基形成接觸，或實際上在單個賽普洛分子與單個共晶形成分子之間可能存在多點接觸。

要注意到的是，氫鍵結可產生若干不同的分子間組合，且因此本發明之共晶可以一或多種多晶形式存在。多晶型共晶可含有賽普洛對共晶形成化合物之任意莫耳比，但典型地應在5:1至1:5之範圍內。在賽普洛或共晶形成化合物展現異構現象之系統中，多晶形式亦可含有不同異構比。每一多晶形式可藉由一或多種固態分析技術來定義，包括X射線單晶繞射、X射線粉末繞射、DSC、拉曼或紅外線光譜法。

該共晶中賽普洛或派美尼的共晶形成化合物之莫耳比適於在5:1至1:5之範圍內。該共晶中賽普洛或派美尼對共晶形成化合物之莫耳比更適於在3:1至1:3之範圍內。賽普洛或派美尼對共晶形成化合物之莫耳比甚至更適於在2:1至1:1之範圍內。

可藉由此項技術中已知的習知方法檢定固相是否存在賽普洛或派美尼與共晶形成化合物之共晶。舉例而言，方便且常規的做法是使用X射線粉末繞射技術評估共晶之存在。可藉由比較賽普洛或派美尼、共晶形成化合物及假定共晶之光譜，以便確定是否已形成真實的共晶來實現此評估。以類似方式使用之其他技術包括差示掃描熱量測定(DSC)、熱解重量分析(TGA)及拉曼或紅外線光譜法、NMR、氣相層析或HPLC。X射線單晶繞射尤其適用於鑑別共晶結構。

本發明之共晶可易於藉由習知方法併入於殺真菌組成物(包括農用化學組成物)中。因此，本發明亦提供一種殺真菌組成物，其包含殺真菌有效量之如上文所定義之本發明共晶及稀釋劑。在一具體實例中，該殺真菌組成物為農用化學組成物。包含本發明共晶之農用化學組成物可用於在許多植物品種上控制植物病原真菌。因此，本發明亦提供一種在植物或植物繁殖材料上預防或控制真菌感染之方法，其包含用殺真菌有效量之本發明農用組成物處理該植物或植物繁殖材料。「植物繁殖材料」意謂各種各樣的種子(果實、塊莖、球莖、穀物等)、插枝、伐條及其類似物。

特定言之，本發明之農用化學組成物可用於控制例如禾旋孢腔菌(Cochliobolus sativus )、白粉菌屬(包括白粉菌(E .graminis ))、穎枯殼小球腔菌(Leptosphaeria nodorum )、柄鏽菌屬(Puccinia spp.)、圓核腔菌、小麥黃斑病真菌(Pyrenophora tritici-repentis )、黑麥喙孢菌(Rhynchosporium secalis )、殼針孢屬(Septoria spp.)、香蕉生球腔菌(Mycosphaerella musicola )、香蕉黑條葉斑病菌(Mycosphaerella fijiensis var.difformis )、幣斑病真菌(Sclerotinia homoeocarpa )、立枯絲核菌(Rhizoctonia solani )、長蠕孢屬(Helminthosporium spp.)(包括稻長蠕孢(Helminthosporium oryzae ))、髒穗病(dirty panicle complex)、咖啡駝孢鏽菌(Hemileia vastatrix )、尾孢屬(Cercospora spp.)、鏈核盤菌屬、叉絲單囊殼屬(Podosphaera spp.)、單囊絲殼屬(Sphaerotheca spp.)、疣雙胞鏽菌屬(Tranzschelia spp.)、絲狀眼斑病菌及針狀眼斑病菌、葡萄胞屬、交鏈孢屬及黑星菌屬。

本發明之農用化學組成物適於在許多植物及其繁殖材料上控制該疾病，植物及其繁殖材料包括(但不限於)以下目標作物：禾穀類(小麥、大麥、裸麥、燕麥、玉米(包括飼料玉米、爆粒種玉米及甜玉米)、水稻、高粱及相關作物)；甜菜(糖用甜菜及飼用甜菜)；豆科植物(菜豆、扁豆、豌豆、大豆)；油料植物(油菜、芥菜、向日葵)；黃瓜科植物(南瓜、黃瓜、甜瓜)；纖維植物(棉花、亞麻、大麻、黃麻)；蔬菜(菠菜、萵苣、蘆筍、卷心菜、胡蘿蔔、茄子、洋蔥、胡椒、番茄、馬鈴薯、紅辣椒、秋葵)；種植作物(香蕉、果樹、橡膠樹、樹木苗圃)、觀賞植物(花、灌木、闊葉樹及常青樹，諸如針葉樹)；以及其他植物，諸如藤本植物、野莓(諸如藍莓)、蔓越莓、越橘、胡椒薄荷、大黃、綠薄荷、甘蔗及草皮草，其包括(但不限於)冷季型草皮草(例如早熟禾屬(Poa L .)，諸如草地早熟禾(Poa pratensis L.)、普通早熟禾(Poa trivialis L.)、加拿大早熟禾(Poa compressa L.)及一年生早熟禾(Poa annua L.)；翦股穎屬(Agrostis L.)，諸如匍匐剪股穎(Agrostis palustris Huds.)、細紀翦股穎(Agrostis tenius Sibth.)、絨毛翦股穎(Agrostis canina L.)及紅頂草(Agrostis alba L.)；羊茅屬(Festuca L.)，諸如高羊茅(Festuca arundinacea Schreb.)、草地羊茅(Festuca elatior L.)及細羊茅，諸如匍匐紫羊茅(Festuca rubra L.)、邱氏羊茅(Festuca rubra var. commutata Gaud.)、羊茅(Festuca ovina L.)及硬羊茅(Festuca longifolia )；及黑麥草屬(Lolium L.)，諸如多年生黑麥草(Lolium perenne L.)及一年生(意大利)黑麥草(Lolium multiflorum Lam.))及暖季型草皮草(例如狗牙根屬(Cynodon L. C. Rich)，包括雜交狗牙根及普通狗牙根；結縷草屬(Zoysia Willd. )、聖奧古斯丁草(Stenotaphrum secundatum (Walt.) Kuntze)；及假儉草(Eremochloa ophiuroides (Munro.) Hack.))。

另外，應將‘作物’理解為包括已由於習知育種或遺傳工程方法而耐受有害生物及殺有害生物劑(包括除草劑或除草劑種類)之彼等作物。對例如除草劑之耐受性意謂：與習知作物品種相比，對特定除草劑所引起之損害的敏感性降低。作物可經改質或育種以便耐受例如HPPD抑制劑(諸如甲基磺草酮(mesotrione))或EPSPS抑制劑(諸如草甘膦(glyphosate))。

本發明之農用化學組成物的施用率將取決於欲控制之特定真菌類型、所需控制程度及施用時機與方法，且可易於由熟習此項技術者確定。一般而言，本發明之組成物，以該組成物中活性殺真菌劑之總量計，可以介於0.005公斤/公頃(kg/ha)與約5.0 kg/ha之間的施用率來施用。在約0.1 kg/ha與約1.5 kg/ha之間的施用率較佳，而在約0.3 kg/ha與0.8 kg/ha之間的施用率尤其較佳。

在實踐中，包含本發明共晶之農用化學組成物係作為含有業內已知或業內所使用之各種佐劑及載劑的調配物來施用。該等農用化學組成物可因此調配為顆粒、可濕性粉劑、乳劑、水懸劑(包括油性分散液)、粉劑或噴粉、流動劑、溶液、懸浮劑或乳液、濃懸乳劑或受控釋放形式(諸如微囊)。本發明之農用化學組成物可適於調配為水懸劑、濃懸乳劑或濕式造粒。此等調配物在下文進行更詳細描述且可含有僅為約0.5wt%至多達約95wt%或更多之呈共晶形式的活性成分。最佳量將取決於調配物、施用設備及欲控制之植物病原真菌的屬性。

可濕性粉劑呈易於分散於水或其他液體載劑中之細粉狀粒子的形式。該等粒子含有保留於固體基質中之活性成分。典型固體基質包括漂白土、高嶺土、矽石及其他易於濕潤的有機或無機固體。可濕性粉劑通常含有約5wt%至約95wt%之活性成分加少量濕潤劑、分散劑或乳化劑。

乳劑為可分散於水或其他液體中之均質液體組成物，且可能完全由活性化合物與液體或固體乳化劑組成，或亦可含有液體載劑，諸如二甲苯、重芳烴油、異佛爾酮(isophorone)及其他非揮發性有機溶劑。使用時，將此等乳劑分散於水或其他液體中且通常作為噴霧施用至欲處理之區域。活性成分之量可在約0.5wt%至約95wt%之乳劑之範圍內。

水懸劑為活性化合物之細粉狀固體粒子穩定懸浮之調配物。該等固體粒子可懸浮於水溶液或油(作為油性分散液)中。該等調配物包括防沉劑及分散劑，且可進一步包括濕潤劑以同時增強消泡抑制劑及晶體生長抑制劑之活性。使用時，將此等水懸劑稀釋於水中且通常作為噴霧施用至欲處理之區域。活性成分之量可在約0.5wt%至約95wt%之水懸劑之範圍內。

顆粒調配物包括擠出物及相對較粗的粒子，且可例如以未經稀釋的形式施用至需要控制植物病原真菌之區域或在施用之前分散於噴霧罐中。用於顆粒調配物之典型載劑包括砂子、漂白土、綠坡縷石土、膨潤土、蒙脫土、蛭石、珍珠岩、碳酸鈣、磚、浮石、葉蠟石、高嶺土、白雲石、石膏、木屑、碎玉米穗軸、碎花生殼、糖、氯化鈉、硫酸鈉、矽酸鈉、硼酸鈉、鎂土、雲母、氧化鐵、氧化鋅、氧化鈦、氧化銻、冰晶石、石膏、矽藻土、硫酸鈣及其他有機或無機材料，其吸附活性化合物或可與活性化合物一起塗佈。以未經稀釋的形式使用之顆粒調配物通常含有約5wt%至約25wt%之活性成分，其可包括：表面活性劑，諸如重芳烴油、火油及其他石油餾分、或植物油；及/或黏著劑，諸如糊精、膠或合成樹脂。當在施用之前將顆粒分散於噴霧罐中時，活性成分含量可增加至80wt%。

噴粉為活性成分與充當分散劑及載劑之細粉狀固體(諸如滑石、黏土、麵粉及其他有機及無機固體)之自由流動混合物。

微囊典型地為封裝於惰性多孔外殼中之活性成分微滴或顆粒，其允許活性成分以受控速率從封裝材料逸出至環境。囊封微滴之直徑典型地為約1微米至約50微米。封裝液體典型地構成約50wt%至95wt%之膠囊，且除活性化合物之外亦可包括溶劑。囊封顆粒一般為用多孔膜密封顆粒孔開口，將液體形式活性物質保留於該等顆粒孔內之多孔顆粒。顆粒之直徑典型地在1毫米至1公分(且較佳為1毫米至2毫米)之範圍內。顆粒為藉由擠壓、聚結或成粒所形成或為天然存在的。該等材料之實例為蛭石、燒結黏土、高嶺土、綠坡縷石土、鋸屑及碳粒。殼材料或膜材料包括自然及合成橡膠、纖維素材料、苯乙烯-丁二烯共聚物、聚丙烯腈、聚丙烯酸酯、聚酯、聚醯胺、聚脲、聚胺基甲酸酯及黃原酸澱粉。

其他適用於農用化學施用之調配物包括活性成分於溶劑中之簡單溶液，該活性成分在合乎需要的濃度下完全溶解於該溶劑中，諸如丙酮、烷基化萘、二甲苯及其他有機溶劑。亦可使用加壓噴霧器，其中該活性成分由於低沸點分散溶劑載劑之汽化而以細粉狀形式分散。

許多上述調配物包括濕潤劑、分散劑或乳化劑。實例為烷基磺酸酯及烷基芳基磺酸酯與烷基硫酸酯及烷基芳基硫酸酯及其鹽、多元醇；聚乙氧基化之醇、酯及脂肪胺。此等試劑在使用時通常佔0.1wt%至40wt%之調配物。

適用於以上述調配物類型來調配本發明之組成物的農用佐劑及載劑為熟習此項技術者所熟知。不同類別之合適實例見於以下非限制性列表中。

可使用之液體載劑包括水及共晶在其中不具有溶解度或具有有限溶解度的任何溶劑，例如甲苯、二甲苯、石腦油、作物油(crop oil)、丙酮、甲基乙基酮、環己酮、乙酸酐、乙腈、苯乙酮、乙酸戊酯、2-丁酮、氯苯、環己烷、環己醇、乙酸烷基酯、二丙酮醇、1,2-二氯丙烷、二乙醇胺、對二乙苯、二乙二醇、二乙二醇松香酸酯、二乙二醇丁基醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇甲基醚、N,N-二甲基甲醯胺、二甲亞碸、1,4-二噁烷、二丙二醇、二丙二醇甲基醚、二丙二醇二苯甲酸酯、二丙二醇醚、烷基吡咯啶酮、乙酸乙酯、2-乙基己醇、碳酸伸乙酯、1,1,1-三氯乙烷、2-庚酮、α-蒎烯、d-檸檬烯、乙二醇、乙二醇丁基醚、乙二醇甲基醚、γ-丁內酯、甘油、二乙酸甘油酯、單乙酸甘油酯、三乙酸甘油酯、十六烷、己二醇、乙酸異戊酯、乙酸異冰片酯、異辛烷、異佛爾酮、異丙基苯、十四烷酸異丙酯、乳酸、十二烷基胺、異亞丙基酮、甲氧基-丙醇、甲基異戊基酮、甲基異丁基酮、十二烷酸甲酯、辛酸甲酯、油酸甲酯、二氯甲烷、間二甲苯、正已烷、正辛胺、十八烷酸、辛基胺乙酸酯、油酸、油胺、鄰二甲苯、苯酚、聚乙二醇(PEG400)、丙酸、丙二醇、丙二醇單甲醚、對二甲苯、甲苯、磷酸三乙酯、三乙二醇、二甲苯磺酸、石蠟、礦物油、三氯乙烯、四氯乙烯、乙酸乙酯、乙酸戊酯、乙酸丁酯、甲醇、乙醇、異丙醇及較高分子量醇(諸如戊醇、四氫糠醇、己醇、辛醇等)、乙二醇、丙二醇、甘油、N-甲基-2-吡咯啶酮及其類似物。水一般為用於稀釋濃縮物之所選載劑。

合適固體載劑包括滑石、二氧化鈦、葉蠟石黏土、矽石、綠坡縷石土、矽藻土、白堊、矽藻土、石灰、碳酸鈣、膨潤土、漂白土、棉花籽殼、小麥粉、大豆粉、浮石、木屑、核桃殼粉、木質素及其類似物。

廣泛範圍之表面活性劑適宜用於該等液體及固體組成物，尤其是經設計以在施用之前用載劑稀釋之彼等組成物。表面活性劑在特性方面可為陰離子型、陽離子型、非離子型或聚合型，且可用作乳化劑、濕潤劑、懸浮劑或用於其他目的。典型表面活性劑包括烷基硫酸鹽，諸如十二烷基硫酸二乙醇銨；烷基芳基磺酸鹽，諸如十二烷基苯磺酸鈣；烷基酚-環氧烷加成產物，諸如壬基酚-C₁₈ 乙氧基化物；醇-環氧烷加成產物，諸如十三烷醇-C₁₆ 乙氧基化物；皂，諸如硬脂酸鈉；烷基萘磺酸鹽，諸如二丁基萘磺酸鈉；磺基丁二酸鹽之二烷基酯，諸如二(2-乙基己基)磺基丁二酸鈉；山梨糖醇酯，諸如山梨糖醇油酸酯；四級銨，諸如十二烷基三甲基氯化銨；脂肪酸之聚乙二醇酯，諸如硬脂酸聚乙二醇酯；環氧乙烷及環氧丙烷之嵌段共聚物；及磷酸單烷基酯及磷酸二烷基酯之鹽。

常用於農用組成物中之其他佐劑包括結晶抑制劑、黏度調節劑、懸浮劑、噴霧滴改質劑、顏料、抗氧化劑、發泡劑、遮光劑、相容劑、消泡劑、螯合劑、中和劑及緩衝劑、防腐劑、染料、氣味劑、分散劑、滲透助劑、微量營養素、潤膚劑、潤滑劑、黏著劑及其類似物。

另外，其他殺生物活性成分或組成物可進一步與本發明之農用化學組成物組合。舉例而言，該等組成物可含有其他殺真菌劑、除草劑、殺昆蟲劑、殺細菌劑、殺蟎劑、殺線蟲劑及/或植物生長調節劑，以便擴大抗菌效力譜(spectrum of activity)。

上述調配物中之每一者可製備為含有殺真菌劑以及該調配物之其他成分(稀釋劑、乳化劑、界面活性劑等)的封裝。該等調配物亦可藉由桶混方法來製備，在此方法中單獨獲得該等成分且在生長物部位組合該等成分。

此等調配物可藉由習知方法施用於需要控制之區域。例如可藉由使用動力撒粉機、噴灑器及手動噴霧器及噴霧噴粉機來施用噴粉及液體組成物。亦可由飛機以噴粉或噴霧形式施用該等調配物或藉由繩芯施用器來施用該等調配物。固體及液體調配物皆亦可施用於欲處理之植物所在地的土壤，使活性成分經由根滲透植物。本發明之調配物亦可用於在植物繁殖材料上拌種施用，以提供對抗植物繁殖材料上之真菌感染以及對抗土壤中存在之植物病原性真菌的保護。活性成分可適當地藉由用殺真菌劑之液體調配物浸漬植物繁殖材料(尤其是種子)或用固體調配物塗佈該植物繁殖材料而施用於欲保護之植物繁殖材料。在特殊情況下，亦可能使用其他施用類型，例如對用於繁殖之植物插枝或小枝進行特殊處理。

本發明之農用化學組成物及調配物適於在病害發展之前施用。該等調配物之使用率及使用頻率為此項技術中習知所用之使用率及使用頻率，且將取決於真菌病原體侵害之危險性。

現將經由以下非限制性實施例及圖式來描述本發明。

實施例

1a.藉由冷卻製備賽普洛共晶

將賽普洛及共成形劑(co-former)(如下表14中所指示)添加在一起，產生正確的化學計量混合物。添加列表顯示量之溶劑且加熱反應小瓶至50℃兩小時，同時攪拌溶解。隨後歷時5小時冷卻混合物至5℃且維持在5℃下隔夜。在早上分離結晶產物。使用PXRD及DSC進行的分析證實共結晶。

表14

所得晶體之X射線粉末繞射圖展示於如上所述之圖式中。該等晶體X射線粉末繞射圖之所選峰位之2θ值展示於上述表中。

1b.藉由微波照射製備賽普洛共晶

添加賽普洛(0.5 g)及二甲基乙二肟(0.13 g)以產生莫耳化學計量為2:1之混合物。添加乙腈(4 ml)且使用微波照射(300 W)加熱所得混合物至150℃十分鐘。分離結晶產物。使用PXRD及DSC進行的分析證實共結晶。

1c.藉由漿液成熟製備賽普洛共晶

添加賽普洛(2.0 g)及鄰苯二甲醯亞胺(1.3 g)以產生莫耳化學計量為1:1之混合物。添加乙醇(7.5 ml)且加熱所得混合物至50℃，確保固體仍未溶解。在50℃下攪拌混合物四小時且隨後在室溫下靜置四小時。重複此循環7天且隨後分離結晶產物。使用PXRD及DSC進行的分析證實共結晶。

1d.藉由蒸發製備賽普洛共晶

添加賽普洛(75 mg)及2,3-萘二甲醯亞胺(68 mg)以產生莫耳化學計量為1:1之混合物。添加庚烷(500 μl)且加熱所得混合物至50℃，確保固體仍未溶解。在50℃下攪拌混合物四小時且隨後在室溫下靜置四小時。重複此循環7天且隨後分離結晶產物。添加DMSO(250 μl)以及9 mg共晶種(藉由於庚烷中漿液成熟而預先製備)，且在室溫下攪動所得混合物一小時以確保溶解所有組分。歷時1至2週使溶液蒸發至乾且分離固體結晶產物。使用PXRD進行的分析證實共結晶。

2.賽普洛共晶之穩定性

於水中製備含有在15wt%與20wt%之間的2:1賽普洛-苯均四酸二醯亞胺共晶及2:1賽普洛-對苯二甲醛二肟共晶之固體的濃漿，且用1%賽普洛及相關共成形劑結晶種。將此等漿液置於0℃及50℃下多達四週之時間。使用DSC分析由該等漿液分離出之固體，以確定其是否以共晶形式或以賽普洛+共成形劑形式存在。

對於在0℃下四週時間的兩種共晶而言，由漿液分離出之固體經確定為共晶。對於在50℃下3週後之賽普洛-苯均四酸二醯亞胺系統而言，由漿液分離出之固體經確定為共晶。對於在50℃下兩週後之賽普洛-對苯二甲醛二肟系統而言，由漿液分離出之固體經確定為共晶。不收集任一系統在50℃下之其他資料。

3.賽普洛共晶之作物安全性

將調配為SC300之賽普洛稀釋於200 L/ha之10% v/v異丙醇於水中之噴霧溶液中，得到2400 g/ha、1200 g/ha、600 g/ha、300 g/ha及150 g/ha之活性成分最終濃度(g/ha)。使用軌道噴霧器，用該溶液噴霧於14天的小麥(品種Lona)及大麥(品種Regina)植物。在處理後，該等植物在18℃及60%相對濕度之溫室中生長。在施用後以肉眼評估植物毒性7天，且記錄為每盆葉損害%。

以同樣的方式測試賽普洛-苯均四酸二醯亞胺共晶及賽普洛-對苯二甲醛二肟共晶。

表15展示賽普洛本身及兩種共晶之結果：

表15

可明顯看出，與單獨的賽普洛於大麥植物中之平均植物毒性%相比，兩種共晶各減少於大麥植物中之平均植物毒性%。因此，此情形不僅意謂共晶將允許形成穩定的賽普洛SC調配物，此調配物本身與例如EC調配物相比而言將減小植物毒性，而且意謂該等共晶本身改良賽普洛對於大麥之固有植物毒性。

雖然已參照本發明之較佳具體實例及實施例對本發明進行描述，但本發明之範疇並不僅限於彼等所述具體實例。如熟習此項技術者應顯而易見，可在不悖離由隨附申請專利範圍所定義及限定之本發明精神及範疇的情況下對上述發明進行修改及調適。出於一切目的，本文中所引用之所有公開案均以全文引用的方式併入本文中，其程度就如同每一個別公開案經特定且個別地指示為以引用的方式如此併入一般。

圖1展示(a)苯均四酸二醯亞胺、(b)根據來自使用實施例1a中所述之技術獲得之賽普洛及苯均四酸二醯亞胺之共晶的單晶資料計算出的、(c)賽普洛形式A及(d)賽普洛形式B之X射線粉末繞射圖。

圖2展示(a)苯均四酸二醯亞胺、(b)使用實施例1a中所述之技術獲得的賽普洛-苯均四酸二醯亞胺共晶、(c)賽普洛形式A及(d)賽普洛形式B之X射線粉末繞射圖。

圖3展示(a)苯均四酸二醯亞胺、(b)使用實施例1a中所述之技術獲得的賽普洛-苯均四酸二醯亞胺共晶及(c)賽普洛形式B之DSC跡線。

圖4展示(a)對苯二甲醛二肟、(b)根據來自使用實施例1a中所述之技術獲得之賽普洛及對苯二甲醛二肟之共晶的單晶資料計算出的、(c)賽普洛形式A及(d)賽普洛形式B之X射線粉末繞射圖。

圖5展示(a)對苯二甲醛二肟、(b)使用實施例1a中所述之技術獲得的賽普洛-對苯二甲醛二肟共晶、(c)賽普洛形式A及(d)賽普洛形式B之X射線粉末繞射圖。

圖6展示(a)對苯二甲醛二肟、(b)使用實施例1a中所述之技術獲得的賽普洛-對苯二甲醛二肟共晶及(c)賽普洛形式B之DSC跡線。

圖7展示(a)二甲基乙二肟、(b)根據來自使用實施例1b中所述之技術獲得之賽普洛及二甲基乙二肟之共晶的單晶資料計算出的、(c)賽普洛形式A及(d)賽普洛形式B之X射線粉末繞射圖。

圖8展示(a)二甲基乙二肟、(b)使用實施例1b中所述之技術獲得的賽普洛-二甲基乙二肟共晶、(c)賽普洛形式A及(d)賽普洛形式B之X射線粉末繞射圖。

圖9展示(a)二甲基乙二肟、(b)使用實施例1b中所述之技術獲得的賽普洛-二甲基乙二肟共晶及(c)賽普洛形式B之DSC跡線。

圖10展示(a)2,3-萘二甲醯亞胺、(b)根據來自使用實施例1d中所述之技術獲得之賽普洛及2,3-萘二甲醯亞胺之共晶的單晶資料計算出的、(c)賽普洛形式A及(d)賽普洛形式B之X射線粉末繞射圖。

圖11展示(a)2-羥亞胺基-2-苯基乙腈、(b)使用實施例1a中所述之技術獲得的賽普洛-2-羥亞胺基-2-苯基乙腈共晶、(c)賽普洛形式A及(d)賽普洛形式B之X射線粉末繞射圖。

圖12展示(a)2-羥亞胺基-2-苯基乙腈、(b)使用實施例1a中所述之技術獲得的賽普洛-2-羥亞胺基-2-苯基乙腈共晶及(c)賽普洛形式B之DSC跡線。

圖13展示(a)鄰苯二甲醯亞胺、(b)使用實施例1c中所述之技術獲得的賽普洛-鄰苯二甲醯亞胺共晶、(c)賽普洛形式A及(d)賽普洛形式B之X射線粉末繞射圖。

圖14展示(a)鄰苯二甲醯亞胺、(b)使用實施例1c中所述之技術獲得的賽普洛-鄰苯二甲醯亞胺共晶及(c)賽普洛形式B之DSC跡線。

Claims

一種共晶，其包含賽普洛(cyprodinil)及選自苯均四酸二醯亞胺(pyromellitic diimide)及對苯二甲醛二肟(terephthalaldehyde dioxime)之共晶形成化合物。
如申請專利範圍第1項之共晶，其中該共晶形成化合物為苯均四酸二醯亞胺。
如申請專利範圍第2項之共晶，其中單位晶胞參數如下：類別：單斜，空間群：P 2₁ /c，晶胞長度(Å)：a=5.4584(9)，b=17.178(3)，c=16.913(3)，晶胞角(°)：α=90.00，β=94.973(6)，γ=90.00，體積(Å³ )：1581.35，Z：4且R-因子(%)：4.56。
如申請專利範圍第2項之共晶，其具有用2θ角值表示之X射線粉末繞射圖，其中該X射線粉末繞射圖包含至少3個選自包含以下各者之群的2θ角值：(a)7.3±0.2、10.5±0.2、11.7±0.2、18.3±0.2、21.4±0.2、26.8±0.2、28.0±0.2及30.2±0.2或(b)7.2±0.2、10.3±0.2、11.5±0.2、16.4±0.2、16.7±0.2、19.2±0.2、20.1±0.2、23.6±0.2及23.9±0.2。
如申請專利範圍第1項之共晶，其中該共晶形成化合物為對苯二甲醛二肟。
如申請專利範圍第5項之共晶，其中該等單位晶胞參數如下：類別：單斜，空間群：C 2/c，晶胞長度(Å)：a=40.859(3)，b=5.0750(4)，c=15.7686(11)，晶胞角(°)：α=90.00，β=100.4370(10)，γ=90.00，體積(Å³ )：3215.67，Z：8且R-因子(%)：3.88。
如申請專利範圍第5項之共晶，其具有用2θ角值表示之X射線粉末繞射圖，其中該X射線粉末繞射圖包含至少3個選自包含以下各者之群的2θ角值：(a)4.4±0.2、8.8±0.2、11.4±0.2、12.9±0.2、17.7±0.2、19.0±0.2、19.2±0.2、20.9±0.2、24.4±0.2、24.6±0.2、25.7±0.2及28.7±0.2或(b)4.3±0.2、8.9±0.2、12.9±0.2、17.6±0.2、19.0±0.2、19.3±0.2、20.9±0.2、22.3±0.2、24.4±0.2及26.6±0.2。
一種製備如申請專利範圍第1項至第7項中任一項之共晶的方法，其包含：(a)在結晶條件下，對賽普洛與該共晶形成化合物進行研磨、加熱或在溶液中接觸，以便形成固相；及(b)分離包含賽普洛及該共晶形成化合物之共晶。
一種殺真菌組成物，其包含如申請專利範圍第1項至第7項中任一項之共晶。
如申請專利範圍第9項之組成物，其為農用化學組成物。
一種預防或控制植物真菌感染之方法，其包含用殺真菌有效量之如申請專利範圍第9項或第10項之組成物處理該植物。