TWI494681B - 投影幕及投影幕的製作方法 - Google Patents

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Description

投影幕及投影幕的製作方法
本發明是有關於一種光學元件及其製作方法，且特別是有關於一種投影幕及其製作方法。
許多的微結構被設計在投影螢幕上，像是改變光的方向的傾斜折射或反射面、用來將光聚焦的微透鏡陣列、散射投影光的擴散結構及吸收環境光的吸光結構等。
然而，傳統的技術仍存在著投影螢幕之正面及背面的對位問題，此種對位的設計使得產品製造難度大幅提升。此外，許多習知設計的吸光層吸收了太多投影光，使得能源利用效率降低。因此，投影光利用效率的問題仍有待改進。
歐洲專利第0311189A1號所揭露的投影幕的正面具有由入射面與邊緣所構成的菲涅耳結構，入射面具有微透鏡，以將入射光散射為光束，而邊緣用以吸收光線。中國專利第102023471A揭露了一種反射型微透鏡陣列，部份來自投影儀的光線會被吸收 層所吸收。台灣專利第I378314號揭露了多個混光腔體與多個透鏡結構。美國專利公開第20050057804A1號揭露了一種投影幕。
本發明提供一種投影幕，其可提高影像之對比度與亮度增益(gain)值。
本發明提供一種投影幕的製作方法，其可製作出具有較高影像對比度與較大增益值的投影幕。
本發明的其他目的和優點可以從本發明所揭露的技術特徵中得到進一步的了解。
為達上述之一或部份或全部目的或是其他目的，本發明的一實施例提出一種投影幕，包括透光基板、多個微透鏡結構、菲涅耳結構、吸光層以及漫射式反射層。透光基板具有相對的第一表面與第二表面。微透鏡結構位於透光基板的第一表面。菲涅耳結構位於透光基板的第二表面。吸光層包括吸光部，吸光部與菲涅耳結構連接。漫射式反射層包括分散的多個漫射式反射部，這些漫射式反射部與菲涅耳結構連接，這些漫射式反射部分別與這些微透鏡結構對應，這些漫射式反射部相對於對應的這些微透鏡結構的多個光軸的偏離程度隨著對應的這些光軸上的菲涅耳結構的斜面之斜率的增加而增加。
在本發明的一實施例中，上述的吸光部直接連接於菲涅耳結構的區域為這些漫射式反射部直接連接於菲涅耳結構的區域 以外的區域。
在本發明的一實施例中，上述的菲涅耳結構包括在垂直於這些光軸的方向上實質上等寬但在平行於這些光軸的方向上實質上不等高的多個斜面。
在本發明的一實施例中，上述的菲涅耳結構包括在平行於這些光軸的方向上實質上等高但在垂直於這些光軸的方向上實質上不等寬的多個斜面。
在本發明的一實施例中，上述的吸光層更包括底層部，底層部連接吸光部，漫射式反射部位於菲涅耳結構與底層部之間，且吸光部位於菲涅耳結構與底層部之間。
在本發明的一實施例中，上述的漫射式反射層更包括底層部，底層部連接漫射式反射部，且吸光部位於菲涅耳結構與底層部之間，且漫射式反射部位於菲涅耳結構與底層部之間。
在本發明的一實施例中，上述的這些微透鏡結構在第一表面呈現隨機分佈。
為達上述之一或部份或全部目的或是其他目的，本發明的一實施例提出一種投影幕的製作方法，包括：提供透光基板，其中透光基板具有相對的第一表面與第二表面；在第一表面形成多個微透鏡結構；在第二表面形成菲涅耳結構；在菲涅耳結構上形成吸光層，其中吸光層包括吸光部；在菲涅耳結構上形成漫射式反射層，其中漫射式反射層包括分散的多個漫射式反射部，這些漫射式反射部分別與這些微透鏡結構對應，這些漫射式反射部 相對於對應的這些微透鏡結構的多個光軸的偏離程度隨著對應的這些光軸上的菲涅耳結構的斜面之斜率的增加而增加。
在本發明的一實施例中，上述的形成這些漫射式反射部的步驟包括：在該菲涅耳結構上形成負型感光材料層；提供依序經由該第一表面與該第二表面而照射於負型感光材料層的光束；對負型感光材料層作顯影處理，以移除負型感光材料層中未被光束照射的部分，而負型感光材料層之未被移除部分則形成這些漫射式反射部。
在本發明的一實施例中，上述的形成吸光部的步驟包括：在菲涅耳結構上形成覆蓋漫射式反射部的吸光層，其中吸光層中與菲涅耳結構直接連接的部分形成吸光部。
在本發明的一實施例中，上述的形成該吸光部的步驟包括：在菲涅耳結構上塗佈正型感光材料層；提供依序經由第一表面與第二表面而照射於正型感光材料層的光束；對正型感光材料層作顯影處理，以移除正型感光材料層中被光束照射的部分，而正型感光材料層之未被移除部分則形成吸光部。
在本發明的一實施例中，上述的形成這些漫射式反射部的步驟包括：在菲涅耳結構上形成覆蓋吸光部的漫射式反射層，其中漫射式反射層中與菲涅耳結構直接連接的部分形成漫射式反射部。
在本發明的一實施例中，上述的在第一表面形成這些微透鏡結構的步驟包括在第一表面隨機分佈地形成這些微透鏡結 構。
在本發明的一實施例中，上述的菲涅耳結構為一維菲涅耳結構或二維菲涅耳結構。
在本發明的一實施例中，微透鏡結構為一維柱狀微透鏡或二維陣列微透鏡。
在本發明的一實施例中，上述的微透鏡結構符合T/2≦f≦10T，其中f為每一微透鏡結構的焦距，T為微透鏡結構的底部至菲涅耳結構的底部在平行於這些光軸的方向上的距離。此外，d為菲涅耳結構的厚度。
在本發明的一實施例中，上述的形成每一漫射式反射部與吸光部的至少其中之一的步驟包括以浸泡法、噴灑法、噴印法、滾輪塗佈法或刮刀塗佈法在菲涅耳結構上形成材料。
在本發明的一實施例中，上述的形成每一微透鏡結構與菲涅耳結構的至少其中之一的方法包括熱壓法或紫外光轉寫法。
本發明的實施例可達到下列優點或功效的至少其中之一。在本發明的實施例的投影幕及其製作方法中，這些漫射式反射部相對於對應的這些微透鏡結構的多個光軸的偏離程度隨著對應的這些光軸上的菲涅耳結構的斜面之斜率的增加而增加，且吸光部與菲涅耳結構連接。因此，漫射式反射部可有效地將來自投影裝置的光漫射式反射至使用者的眼睛，且吸光部可將環境光吸收。如此一來，投影幕可藉由微透鏡結構、漫射式反射部及吸光部以提高影像之對比度，亦可藉由菲涅耳結構將來自投影裝置的 光導引至使用者的眼睛以提高亮度增益(gain)值。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
50‧‧‧投影裝置
52‧‧‧影像光束
60‧‧‧曝光光源
62‧‧‧光束
100、100a、100b、100c‧‧‧投影幕
110‧‧‧透光基板
112‧‧‧第一表面
114‧‧‧第二表面
120、120’‧‧‧微透鏡結構
130、130a、130c‧‧‧菲涅耳結構
132、132a、132c‧‧‧斜面
140、140b‧‧‧吸光層
142‧‧‧吸光部
144、154b‧‧‧底層部
150、150b、150’‧‧‧漫射式反射層
152‧‧‧漫射式反射部
H、Ha‧‧‧高度
d‧‧‧厚度
F‧‧‧偏移距離
A‧‧‧光軸
W、Wa‧‧‧寬度
T‧‧‧距離
D1、D2‧‧‧方向
圖1A為本發明之一實施例之投影幕的剖面示意圖。
圖1B為圖1A之投影幕的菲涅耳結構的正視圖。
圖2為本發明之另一實施例之投影幕的剖面示意圖。
圖3為本發明之又一實施例之投影幕的剖面示意圖。
圖4為本發明之再一實施例之投影幕之菲涅耳結構的正視示意圖。
圖5A至圖5E為用以繪示本發明之一實施例之投影幕的製作方法的流程的剖面示意圖。
圖6A至圖6C為用以繪示本發明之另一實施例之投影幕的製作方法的部分流程的剖面示意圖。
圖7為本發明之又一實施例之投影幕的立體圖。
有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之一較佳實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。以下實施例中所提到的方向用語，例如：上、下、左、右、 前或後等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用來說明並非用來限制本發明。
圖1A為本發明之一實施例之投影幕的剖面示意圖，而圖1B為圖1A之投影幕的菲涅耳結構的正視圖。請參照圖1A與圖1B，本實施例之投影幕100包括透光基板110、多個微透鏡結構120、菲涅耳結構130、吸光層140以及漫射式反射層150。透光基板110具有相對的第一表面112與第二表面114。在本實施例中，透光基板110為塑膠基板，其材質例如為聚乙烯對苯二甲酸酯(polyethylene terephthalate,PET)，微透鏡結構120位於透光基板110的第一表面112。在本實施例中，這些微透鏡結構120在第一表面112呈現隨機分佈。
菲涅耳結構130位於透光基板110的第二表面114。在本實施例中，菲涅耳結構130例如為二維菲涅耳結構，如圖1B所繪示，也就是說，菲涅耳結構130的斜面是呈曲率中心相同的多個圓弧狀。此外，在本實施例中，可以在透光基板110上塗佈紫外光固化膠，然後經成型(如壓印)而後照射紫外光固化，來形成微透鏡結構120與菲涅耳結構130。然而，在其他實施例中，微透鏡結構120與菲涅耳結構130亦可以是藉由將透光基板110加熱至玻璃相轉移溫度，而後經熱壓而形成。
吸光層140包括吸光部142，吸光部142與菲涅耳結構130連接。在本實施例中，吸光層140的材質例如為黑色塗膠或黑色的膠材。漫射式反射層150包括分散的多個漫射式反射部152， 這些漫射式反射部152與菲涅耳結構130連接，這些漫射式反射部152分別與這些微透鏡結構120對應。在本實施例中，漫射式反射部152是由感光材料所形成，例如是由白色負型感光材料所形成。
這些漫射式反射部152相對於對應的這些微透鏡結構120的多個光軸A的偏離程度(即平行於第一表面112的方向上的偏移距離F)隨著對應的這些光軸A上的菲涅耳結構130的斜面132之斜率的增加而增加。具體而言，當投影裝置50將影像光束52照射於投影幕100時，藉著影像光束52入射投影幕100的入射角度越大，菲涅耳結構130的斜面132的斜率會越大，而微透鏡結構120將影像光束52聚焦的焦點也會越為偏離微透鏡結構120的光軸A。此外，漫射式反射部152則配置於此焦點的附近。另一方面，吸光部142直接連接(即接觸)於菲涅耳結構130的區域為這些漫射式反射部152直接連接(即接觸)於菲涅耳結構130的區域以外的區域。
如此一來，當來自投影裝置50的影像光束52入射投影幕100時，會被微透鏡結構120會聚於漫射式反射部152上，漫射式反射部152會將影像光束52漫射反射而使影像光束52依序經由第二表面114與第一表面112後傳遞至使用者的眼睛。由此可知，菲涅耳結構130有助於將影像光束52導向投影幕100的正向(觀賞者的方向)，以避免影像光束52朝無觀賞者的方向投射。此外，當環境光入射投影幕100時，若環境光的入射角度與影像 光束52的入射角度不同，則環境光會被會聚於菲涅耳結構130上漫射式反射部152所在區域以外的吸光部142所在的區域。因此，環境光會被吸光部142吸收，而較不會傳遞至使用者的眼睛。如此一來，由於傳遞至使用者的眼睛的環境光的比例下降了，因此藉由微透鏡結構120、吸光部142及漫射式反射部152之配置，可使投影至投影幕100的影像對比度增加。另外，由於漫射式反射部152配置於能夠漫射影像光束52的位置，投影在投影幕100上的影像之亮度增益便可以因菲涅耳結構130的配置而有效地增加。本實施例之投影幕100由於具有上述特點，因此甚至可以在室外或燈光充足的室內使用。
此外，若不限制環境光的入射角度，由於本實施例之投影幕100採用了吸光部142，因此相對於採用整面菲涅耳結構上全部塗佈漫射反射材質的投影幕所反射出的環境光亮度，本實施例之投影幕100的環境光亮度為它的(漫射式反射部152的面積/(漫射式反射部152的面積+吸光部142的面積)×100%，這個值會小於100%，且這個值隨著吸光部142的面積所佔的比例越高而越小。由此也可證明，當漫射式反射部152的面積比例較小時，環境光對投影影像的干擾越小；反之，當漫射式反射部152的面積比例較大時，環境光對投影影像的干擾較大。因此，本實施例之投影幕100確實可以有效地降低環境光對投影影像的干擾。
此外，微透鏡結構120佔第一表面112的面積比例以接近100%為佳，如此可提高光利用效率。此外，微透鏡結構120的 節距(pitch)、菲涅耳結構130的斜面132的節距及投影影像的畫素大小以較不接近為佳，如此可有效地抑制疊紋(moire)現象。
在本實施例中，吸光層140更包括底層部144，底層部144連接吸光部142；其中漫射式反射部152位於菲涅耳結構130與底層部144之間，且吸光部142位於菲涅耳結構130與底層部144之間。
在本實施例中，菲涅耳結構130所包括的多個斜面132在垂直於這些光軸A的方向上實質上等寬(如寬度W)但在平行於這些光軸A的方向上實質上不等高(如高度H)。
在本實施例中，這些微透鏡結構120符合T/2≦f≦10T之關係式。其中，f為每一微透鏡結構120的焦距；T為微透鏡結構120的底部至菲涅耳結構130的底部在平行於這些光軸A的方向上的距離，即本實施例之透光基板110的厚度。此外，d為菲涅耳結構130的厚度。如此一來，漫射式反射部152可以維持在影像光束52的焦點附近。
圖2為本發明之另一實施例之投影幕的剖面示意圖。請參照圖2，本實施例之投影幕100a與圖1A之投影幕100類似，而兩者的差異如下所述。在本實施例投影幕100a中，菲涅耳結構130a所包括的這些斜面132a在平行於這些光軸A的方向上實質上等高(如高度Ha)但在垂直於這些光軸A的方向上實質上不等寬(如寬度Wa)。此外，在另一實施例中，這些斜面在平行於這些光軸A的方向上亦可以實質上不等高且在垂直於這些光軸A的 方向上亦實質上不等寬。
圖3為本發明之又一實施例之投影幕的剖面示意圖。請參照圖3，本實施例之投影幕100b與圖1A之投影幕100類似，而兩者的差異如下所述。在本實施例投影幕100b中，漫射式反射層150b更包括底層部154b，底層部154b連接漫射式反射部152，吸光部142位於菲涅耳結構130與底層部154b之間，漫射式反射部152位於菲涅耳結構130與底層部154b之間；此外，吸光層140b包括吸光部142，而不包括如圖1之底層部144。在本實施例中，吸光層140b為感光材料，例如為黑色正型感光材料，而漫射式反射層150b例如為白色塗層或白色膠材。
圖4為本發明之再一實施例之投影幕之菲涅耳結構的正視示意圖。請參照圖4，本實施例之菲涅耳結構130c類似於圖1B之菲涅耳結構130，而兩者的差異在於本實施例之菲涅耳結構130c為一維菲涅耳結構，亦即其斜面132c沿著一方向(例如圖4中的水平方向)延伸成長條狀，且沿著另一方向(例如圖4中的鉛直方向)排列，且此兩方向可實質上垂直。
圖5A至圖5E為用以繪示本發明之一實施例之投影幕的製作方法的流程的剖面示意圖。請參照圖5A至圖5E，本實施例之投影幕的製作方法可用以製作如圖1A的投影幕100，且可包括下列步驟。首先，請參照圖5A，提供透光基板110。然後，如圖5B所繪示，在透光基板110的第一表面112形成如圖1A之微透鏡結構120，其中這些微透鏡結構120例如是隨機分佈地形成於第 一表面112。此外，在透光基板110的第二表面114形成菲涅耳結構130。在本實施例中，菲涅耳結構130例如為如圖1B所繪示之二維菲涅耳結構。然而，在其他實施例中，菲涅耳結構130亦可以是如圖4所繪示之一維菲涅耳結構。
在本實施例中，形成微透鏡結構120與菲涅耳結構130方法可以是先在透光基板110上塗佈紫外光固化膠，然後經成型(如以模具壓印)而後照射紫外光固化而形成微透鏡結構120與菲涅耳結構130。然而，在其他實施例中，形成微透鏡結構120與菲涅耳結構130的方法亦可以是先將透光基板110加熱至玻璃相轉移溫度，而後經熱壓而形成微透鏡結構120與菲涅耳結構130。此外，本實施例並不限定形成微透鏡結構120與菲涅耳結構130的順序，何者先形成或同時形成皆可。
然後，如圖5C與圖5D所繪示，在菲涅耳結構上形成漫射式反射層150，其中漫射式反射層150包括分散的多個漫射式反射部152。在本實施例中，形成漫射式反射部152的步驟包括下列步驟。首先，如圖5C所繪示，在菲涅耳結構上形成負型感光材料層150’。在本實施例中，形成負型感光材料層150’的方法可以是浸泡法、噴灑法、噴印法、滾輪塗佈法或刮刀塗佈法。然後，提供依序經由第一表面112與第二表面114而照射於負型感光材料層150’的光束62。在本實施例中，可藉由曝光光源60提供光束62，而光束62例如為紫外光。經由微透鏡結構120的作用，負型感光材料層150’在光束62的焦點附近的部分會曝光，而其餘 部分則不會曝光。接著，如圖5D所繪示，對負型感光材料層150’作顯影處理，以移除負型感光材料層150’中未被光束照射的部分(即遠離光束62的焦點的部分)，而負型感光材料層150’之未被移除部分則形成這些漫射式反射部152。在本實施例中，曝光光源60相對於微透鏡結構120的位置可接近或相同於投影裝置60相對於微透鏡結構120的預定配置位置。
之後，如圖5E所繪示，在菲涅耳結構130上形成吸光層140，其中吸光層140包括吸光部142與底層部144。在本實施例中，形成吸光部142的步驟包括在菲涅耳結構130上形成覆蓋這些漫射式反射部152的吸光層140，其中吸光層140中與菲涅耳結構130直接連接的部分形成吸光部142。如此一來，即可以用簡易的方式製作出如圖1A的投影幕100。
在本實施例之投影幕的製作方法中，由於採用微透鏡結構120來會聚光束62，以定義出漫射式反射部152的位置，也就是採用自我對準的方式來自然地定義出漫射式反射部152的位置，所以漫射式反射部152的位置較為精準而誤差較小。此外，由於是採用自我對準的方式，因此可以不用為了使漫射式反射部152形成於準確的位置而採用其他費時較長的對位流程。所以，本實施例之投影幕的製作方法較為簡易，且工時較短。
圖6A至圖6C為用以繪示本發明之另一實施例之投影幕的製作方法的部分流程的剖面示意圖。請參照圖6A至圖6C，本實施例之投影幕的製作方法是用以製作如圖3之投影幕100b，且 類似於圖5A至圖5E的投影幕的製作方法。本實施例之投影幕的製作方法先進行了與圖5A及圖5B所繪示的步驟相同之步驟，再進行圖6A至圖6C的步驟，而與圖5A至圖5E的投影幕的製作方法不同之處在於圖6A至圖6C的步驟。也就是說，在圖5B的步驟之後，依序進行圖6A與圖6B的步驟以形成包括吸光部142的吸光層140b(如圖6B所繪示)。在本實施例中，形成吸光部142的步驟包括下列步驟。首先，如圖6A所繪示，在菲涅耳結構130上塗佈正型感光材料層140’。接著，提供依序經由第一表面112與第二表面114而照射於正型感光材料層的光束62。經由微透鏡結構120的作用，正型感光材料層140’在光束62的焦點附近的部分會曝光，而其餘部分則不會曝光。然後，如圖6B所繪示，對正型感光材料層140’作顯影處理，以移除正型感光材料層140’中被光束照射的部分，而正型感光材料層140’之未被移除部分則形成吸光部142。
然後，如圖6C所繪示，形成漫射式反射部152。在本實施例中，形成漫射式反射部152的方法包括在菲涅耳結構130上形成覆蓋吸光部142的漫射式反射層150b，其中漫射式反射層150b中與菲涅耳結構130直接連接的部分形成漫射式反射部152。
圖7為本發明之又一實施例之投影幕的立體圖。請參照圖7。本實施例的投影幕100c與上述圖1A至圖6C的實施例類似，而本實施例不同於圖1A至圖6C的實施例之投影幕100、100a、100b所包括的多個微透鏡結構120(二維陣列微透鏡)，本實施例的 投影幕100c的多個微透鏡結構120’為多個微柱狀透鏡(lenticular lens)結構(即一維柱狀微透鏡)。這些微柱狀透鏡結構(微透鏡結構120’)沿著方向D1延伸，且沿著方向D2排列。在本實施例中，方向D1實質上垂直於方向D2。本實施例的投影幕100c亦具有類似於上述圖1A至圖6C所描述的實施例之功效。
綜上所述，本發明的實施例可達到下列優點或功效的至少其中之一。在本發明的實施例的投影幕及其製作方法中，這些漫射式反射部相對於對應的這些微透鏡結構的多個光軸的偏離程度隨著對應的這些光軸上的菲涅耳結構的斜面之斜率的增加而增加，且吸光部與菲涅耳結構連接。因此，漫射式反射部可有效地將來自投影裝置的光漫射式反射至使用者的眼睛，且吸光部可將環境光吸收。如此一來，投影幕可藉由微透鏡結構、漫射式反射部及吸光部以提高影像之對比度，亦可藉由菲涅耳結構將來自投影裝置的光導引至使用者的眼睛以提高亮度增益(gain)值。
惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。另外本發明的任一實施例或申請專利範圍不須達成本發明所揭露之全部目的或優點或特點。此外，摘要部分和標題僅是用來輔助專利文件搜尋之用，並非用來限制本發明之權利範圍。另外，說明書中提及的第一表面、第二表面等用語，僅用以表示元件的名稱，並非用來限制組件數量上的上限或下限。
50‧‧‧投影裝置
52‧‧‧影像光束
100‧‧‧投影幕
110‧‧‧透光基板
112‧‧‧第一表面
114‧‧‧第二表面
120‧‧‧微透鏡結構
130‧‧‧菲涅耳結構
132‧‧‧斜面
140‧‧‧吸光層
142‧‧‧吸光部
144‧‧‧底層部
150‧‧‧漫射式反射層
152‧‧‧漫射式反射部
H‧‧‧高度
d‧‧‧厚度
F‧‧‧偏移距離
A‧‧‧光軸
W‧‧‧寬度
T‧‧‧距離

Claims (21)

  1. 一種投影幕，包括：一透光基板，具有相對的一第一表面與一第二表面；多個微透鏡結構，位於該透光基板的該第一表面；一菲涅耳結構，位於該透光基板的該第二表面；一吸光層，包括一吸光部，該吸光部與該菲涅耳結構連接，該菲涅耳結構位於該些微透鏡結構及該吸光層之間；以及一漫射式反射層，包括分散的多個漫射式反射部，該些漫射式反射部與該菲涅耳結構連接，該菲涅耳結構位於該些微透鏡結構及該漫射式反射層之間，該些漫射式反射部分別與該些微透鏡結構對應，該些漫射式反射部相對於對應的該些微透鏡結構的多個光軸的偏離程度隨著對應的該些光軸上的該菲涅耳結構的斜面之斜率的增加而增加。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的投影幕，其中該菲涅耳結構為一維菲涅耳結構或二維菲涅耳結構。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的投影幕，其中該微透鏡結構為一維柱狀微透鏡或二維陣列微透鏡。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的投影幕，其中該吸光部直接連接於該菲涅耳結構的區域為該些漫射式反射部直接連接於該菲涅耳結構的區域以外的區域。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的投影幕，其中該些微透鏡結構符合T/2≦f≦10T，其中f為每一該微透鏡結構的焦距，T為 該微透鏡結構的底部至該菲涅耳結構的底部在平行於該些光軸的方向上的距離。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的投影幕，其中該菲涅耳結構包括在垂直於該些光軸的方向上實質上等寬但在平行於該些光軸的方向上實質上不等高的多個斜面。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的投影幕，其中該菲涅耳結構包括在平行於該些光軸的方向上實質上等高但在垂直於該些光軸的方向上實質上不等寬的多個斜面。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的投影幕，其中該吸光層更包括一底層部，連接該吸光部，該些漫射式反射部位於該菲涅耳結構與該底層部之間，且該吸光部位於該菲涅耳結構與該底層部之間。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的投影幕，其中該漫射式反射層更包括一底層部，連接該些漫射式反射部，該吸光部位於該菲涅耳結構與該底層部之間，且該些漫射式反射部位於該菲涅耳結構與該底層部之間。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的投影幕，其中該些微透鏡結構在該第一表面呈現隨機分佈。
  11. 一種投影幕的製作方法，包括：提供一透光基板，其中該透光基板具有相對的一第一表面與一第二表面；在該第一表面形成多個微透鏡結構； 在該第二表面形成一菲涅耳結構；在該菲涅耳結構上形成一吸光層，使該菲涅耳結構位於該些微透鏡結構及該吸光層之間，其中該吸光層包括一吸光部；以及在該菲涅耳結構上形成一漫射式反射層，使該菲涅耳結構位於該些微透鏡結構及該漫射式反射層之間，其中該漫射式反射層包括分散的多個漫射式反射部，該些漫射式反射部分別與該些微透鏡結構對應，該些漫射式反射部相對於對應的該些微透鏡結構的多個光軸的偏離程度隨著對應的該些光軸上的該菲涅耳結構的斜面之斜率的增加而增加。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的投影幕的製作方法，其中形成該些漫射式反射部的步驟包括：在該菲涅耳結構上形成一負型感光材料層；提供依序經由該第一表面與該第二表面而照射於該負型感光材料層的一光束；以及對該負型感光材料層作顯影處理，以移除該負型感光材料層中未被該光束照射的部分，而該負型感光材料層之未被移除部分則形成該些漫射式反射部。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的投影幕的製作方法，其中形成該吸光部的步驟包括：在該菲涅耳結構上形成覆蓋該些漫射式反射部的一吸光層，其中該吸光層中與該菲涅耳結構直接連接的部分形成該吸光部。
  14. 如申請專利範圍第11項所述的投影幕的製作方法，其 中形成該吸光部的步驟包括：在該菲涅耳結構上塗佈一正型感光材料層；提供依序經由該第一表面與該第二表面而照射於該正型感光材料層的一光束；以及對該正型感光材料層作顯影處理，以移除該正型感光材料層中被該光束照射的部分，而該正型感光材料層之未被移除部分則形成該吸光部。
  15. 如申請專利範圍第14項所述的投影幕的製作方法，其中形成該些漫射式反射部的步驟包括：在該菲涅耳結構上形成覆蓋該吸光部的一漫射式反射層，其中該漫射式反射層中與該菲涅耳結構直接連接的部分形成該些漫射式反射部。
  16. 如申請專利範圍第11項所述的投影幕的製作方法，其中在該第一表面形成該些微透鏡結構的步驟包括在該第一表面隨機分佈地形成該些微透鏡結構。
  17. 如申請專利範圍第11項所述的投影幕的製作方法，其中該菲涅耳結構為一維菲涅耳結構或二維菲涅耳結構。
  18. 如申請專利範圍第11項所述的投影幕的製作方法，其中該微透鏡結構為一維柱狀微透鏡或二維陣列微透鏡。
  19. 如申請專利範圍第11項所述的投影幕的製作方法，其中該些微透鏡結構符合T/2≦f≦10T，其中f為每一該微透鏡結構的焦距，T為該微透鏡結構的底部至該菲涅耳結構的底部在平行 於該些光軸的方向上的距離。
  20. 如申請專利範圍第11項所述的投影幕的製作方法，其中形成每一該漫射式反射部與該吸光部的至少其中之一的步驟包括以浸泡法、噴灑法、噴印法、滾輪塗佈法或刮刀塗佈法在該菲涅耳結構上形成材料。
  21. 如申請專利範圍第11項所述的投影幕的製作方法，其中形成每一該微透鏡結構與該菲涅耳結構的至少其中之一的方法包括熱壓法或紫外光轉寫法。
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