TWI490452B - 雷射對心儀校正系統及其方法 - Google Patents

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TWI490452B TW100126709A TW100126709A TWI490452B TW I490452 B TWI490452 B TW I490452B TW 100126709 A TW100126709 A TW 100126709A TW 100126709 A TW100126709 A TW 100126709A TW I490452 B TWI490452 B TW I490452B
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Chieh Ho
Sheng Huei Lin
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Nat Chung Shan Institude Of Science And Technology
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Description

雷射對心儀校正系統及其方法
本創作是一種雷射對心儀校正系統及其方法,特別是以一校正平台為其檢驗平檯,可以做X軸的水平方向移動,也可以做Y軸的垂直方向移動,即可達到校正的目的。
雷射對心儀的操作原理是利用碘穩頻紅色雷射光的原理,當發射光源與接收器之相對位置產生移動時,利用干涉條紋的計算量測出距離。
實際操作時將雷射光發射機與接收機同時面對面安裝在不同的軸心上,利用同步旋轉,檢查雙軸心是否有偏差,在0度位置歸零,旋轉180度後其顯示之偏差除以二即為X軸偏心距,同理90度歸零後,180度顯示之偏差除以二即為Y軸偏心距。
操作時利用V型夾具以兩枝穿過雷射光發射機的金屬圓桿與鍊條將發射機固定在一軸心上,另外以同一方法將接收機固定在另一軸心上,如此即可感應到雙方軸心之距離,直到旋轉360度其感應之偏心達到0或調整至最小值為止。
有鑑於此,本創作係為雷射對心儀校正系統及其方法,利用一校正平台,可以做X軸的水平方向移動,也可以做Y軸的垂直方向移動,即可達到校正及降低製造成本之目的。
鑒於上述習知技術之缺點,本創作之主要目的在於提供一校正平台,可做X軸的水平方向移動,也可做Y軸的垂直方向移動,即可達到校正及降低製造成本之目的。
在長度校正實驗室中要模擬雙軸對心的環境是十分困難的,因為雙軸必須旋轉達360度,經不斷研究討論後,以校正平台來作檢驗長度尺寸的儀具,解析度達到1微米,精密度可達校正需求。
其檢驗檯面可做X軸的水平方向移動,也可做Y軸的垂直方向移動,其範圍均超過雷射對心儀的最大行程。雖然檯面無法旋轉但仍可達到校正的目的。
將雷射光發射機固定於校正平台之檢驗檯面上,雷射光接收機安裝在校正平台之懸臂上。
再以校正平台之X軸與Y軸調整發射機與接收機之相對位置。接著調整接收機上之角鏡旋鈕,使得X、Y軸座標顯示為(零,零)。若X、Y軸座標顯示為"OFF",則表示無法接收反射信號。若X、Y軸座標顯示為"END",則表示接收訊號為反射光與邊緣接近。往復上述步驟直到發射機與接收成最佳狀態。
以上之概述與接下來的詳細說明及附圖,皆是為了能進一步說明本創作達到預定目的所採取的方式、手段及功效。而有關本創作的其他目的及優點,將在後續的說明及圖示中加以闡述。
以下係藉由特定的具體實例說明本創作之實施方式,熟悉此技藝之人士可由本說明書所揭示之內容輕易地瞭解本創作之其他優點與功效。
一種雷射對心儀校正系統及其方法,該校正系統及其方法包含:(a)製備一校正環境一校正平台3,將接收機5、發射機4與主機之電纜線接妥,將雷射光發射機4固定於校正平台3之檢驗檯面上,雷射光接收機5安裝在校正平台3之懸臂6上。開啟校正平台3與雷射對心儀電源,並按壓雷射對心儀控制器上M鍵,等待發射機4上雷射光源穩定,紅色LED不再閃爍,其校正平台3表面上有X軸2、Y軸1該座標顯示值均歸為(零,零);(b)利用該待校件上之感應座標系統感應上述校正平台X軸2、Y軸1,按雷射對心儀控制器上之啟動鍵並移開蓋板,再以校正平台3之X軸2與Y軸1調整發射機4與接收機5之相對位置,並調整接收機5上之角鏡旋鈕,使得X軸2、Y軸1座標顯示為(零,零),若X軸2、Y軸1座標顯示為"OFF",則表示無法接收反射信號。若X軸2、Y軸1座標顯示為"END",則表示接收訊為反射光與邊緣接近。往復上述步驟直到發射機4與接收成最佳狀態;(c)使發射機4與反射信號呈X、Y座標位置,調整校正平台3X軸2、Y軸1,直到雷射對心儀座標位置為零零點,依接收範圍選擇十點到二十點(通常為5mm),進行校正(d)當移動校正平台3X軸2、Y軸1時並檢視該感應座標系統上出現之X軸2、Y軸1座標值的相差量。
上述之實施例僅為例示性說明本創作之特點及其功效,而非用於限制本創作之實質技術內容的範圍。任何熟習此技藝之人士均可在不違背本創作之精神及範疇下,對上述實施例進行修飾與變化。因此,本創作之權利保護範圍,應如後述之申請專利範圍所列。
1...Y軸
2...X軸
3...校正平台
4...發射機
5...接收機
6...懸臂
s11~s16為雷射對心儀校正系統及其方法之操作流程圖
第1圖:顯示本創作裝置系統結構圖。
第2圖:顯示本創作裝置系統操作流程圖。
s11~s16...為雷射對心儀校正系統及其方法之操作流程圖

Claims (7)

  1. 一種雷射對心儀校正方法,該校正方法包含:(a)製備一校正平台,其校正平台需置於一校正環境中,校正平台一表面上有X、Y軸,該座標顯示值均歸為(零,零);(b)利用該待校件上之感應座標系統,感應上述校正平台X、Y軸,啟動雷射對心儀光源並移開蓋板;(c)使發射機與反射信號呈X、Y座標位置,調整校正平台X、Y軸,直到雷射對心儀座標位置為(零,零),依接收範圍選擇十點到二十點,進行校正(d)當移動校正平台X、Y軸時並檢視該感應座標系統上出現之X、Y軸座標值的相差量作以記錄。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之雷射對心儀校正方法,係用雷射對心儀一感應座標系統與一掃瞄座標系統間之相互關係,以使該雷射對心儀完成校正。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之雷射對心儀校正方法,其中該校正環境溫度為20±1℃及濕度為50%+10%。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之雷射對心儀校正方法,其中該待校件須置於實驗室校正區八小時以上,使溫度與系統相同。
  5. 一種雷射對心儀校正系統,其系統係包括:一校正環境,係包括有環境溫度及溼度;一固定單元組件,係包括有一校正平台、一垂直懸臂座;一移動單元構件,設置於該校正平台上,包含一X軸及一Y軸;一發射單元構件,設置於該X軸及一Y軸移動平台上,包含一雷射光發射元件;一接收單元構件,設置於該懸臂座上,包含一雷射光接收元件;其中當該雷射光發射元件激發出光源而雷射光接收元件接收光源進而判讀相關數據。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之雷射對心儀校正系統,其中該校正平台精度為解析度為1μm、精度2μm及重複性1μm。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之雷射對心儀校正系統,其中該校正環境溫度為20±1℃及濕度為50%±10%。
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Non-Patent Citations (1)

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李有為、林昌進,"軸心雷射校正",國立成功大學機械工程學系碩士論文,民國九十六年七月 *

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