TWI487298B - 射頻裝置 - Google Patents

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Description

射頻裝置
本發明係指一種射頻裝置,尤指一種可利用阻抗單元做為傳輸線終端來降低串音雜訊之射頻裝置。
隨著科技的發展及產品製造技術的精進,使得電子產品不斷地朝向輕薄短小化研發,且伴隨著產品工作頻率的提升,電磁干擾的效應也變得越來越重要。關於降低電磁干擾的對策,目前已有許多各式各樣的方法可供使用。舉例來說,在射頻電路中,為了克服串音雜訊(cross talk)或抑制輻射功率,以避免造成影響周遭其他電路的運作,常見的作法是利用電磁吸收體來解決前述之問題。
請參考第1圖,第1圖為習知使用吸收體之一射頻裝置10之示意圖。射頻裝置10包含一絕緣基板102、一接地層104、一射頻電路106、一開路殘段ST以及一吸收體108。其中開路殘段ST係為射頻電路106之一部分。習知技術主要係透過將吸收體108黏貼於開路殘段ST上,以抑制訊號傳輸時所產生的電磁干擾。一般來說,傳統上業界在製造射頻裝置10時,仍必須以人工作業方式來將吸收體108黏貼至相對應的開路殘段ST上,如此一來,不但耗時又費力。另一方面,目前的電路裝置都已非常小型化,因而極可能因為人為疏失而無法準確地將吸收體108黏貼至相應的位置,進而使得串音雜訊或輻射功率的抑制效果不彰。此外,由於吸收體108的成本較高,因此,若是使用過多的吸收體108,將會造成射頻裝置10之製造成本過高的問題。換言之,在射頻電路中,使用吸收體108來抑制線路間之串音雜訊或是過高的輻射功率,將會面臨冗長的施工時間及高昂的製造成本。
因此,本發明主要在於提供一種射頻裝置。
本發明揭露一種射頻裝置,包含有:一絕緣基板,包含有一第一面及一第二面;一接地層,佈於該絕緣基板之該第二面上,用來提供接地;一第一訊號端,形成於該絕緣基板之該第一面上;一第二訊號端,形成於該絕緣基板之該第一面上,並耦接至該接地層;一射頻電路,佈於該絕緣基板之該第一面上,並耦接至該第一訊號端;以及一阻抗單元,設置於該絕緣基板之該第一面上,並耦接至該第一訊號端與該第二訊號端。
請參考第2圖,第2圖為本發明實施例之一射頻裝置20之示意圖。絕緣基板202、一接地層204、射頻電路206及訊號端P1、P2。絕緣基板202、一接地層204、一射頻電路206及一阻抗單元208。絕緣基板202包含有上、下兩面,其中一面設置射頻電路206、訊號端P1、P2及阻抗單元208,另一面則佈有接地用之接地層204。此外,如第2圖所示,射頻電路206耦接至訊號端P1,阻抗單元208耦接至訊號端P1與訊號端P2之間,而訊號端P2耦接於接地層204。換言之,本發明於射頻電路206操作時,透過阻抗單元208下地之設計,可將傳輸線中較容易輻射出之能量導引至接地層204,以抑制射頻電路206所產生的輻射功率,而可避免進一步對其他的主動元件造成干擾。
詳細來說,阻抗單元208可由一電阻來實現。因此,對於射頻電路206來說,相當於傳輸線終端提供一高阻抗,來降低電阻在傳輸線造成的損耗。進一步地,若射頻電路206有直流訊號存在,則可於阻抗單元208中加入一電容,來提供直流阻絕的功能,以避免發生短路。換言之,阻抗單元208可以一電阻與一電容來實現,並以串聯形式聯連接。當然,由於係為串聯電路,若在訊號端P1先串接一電容,再透過電阻下地,並不影響直接電阻下地的效應。因此,電阻與電容的連接順序亦可對調。也就是說,在阻抗單元208中,各元件的耦接方式可為電阻之一第一端串接於訊號端P1,電阻之一第二端耦接於電容之一第一端,以及電容之一第二端耦接於訊號端P2;或者,電容之一第一端串接於訊號端P1,電容之一第二端耦接於電阻之一第一端,以及電阻之一第二端耦接於訊號端P2。
因此,相較於習知技術,本發明透過於射頻電路206之終端串接阻抗單元208來降低輻射功率,進而避免串音雜訊干擾的問題,因此,將可省去使用人工作業方式來黏貼吸收體的工時,而大幅縮短生產時間與降低製造生產成本。更重要的是,電阻以及電容的成本遠低於吸收體,且電阻及電容通常係利用表面黏著技術(SMT)來進行打件,在特性上相對較為穩定。整體來說,使用電阻或電容亦可進一步降低製造生產成本。而若傳輸線上無直流訊號時,更僅需電阻即可達到抑制輻射功率的目的,如此一來,將可再降低生產成本。
需注意的是,射頻裝置20僅為本發明之一實施例,本領域具通常知識者當可據以做不同之修飾。舉例來說,訊號端P2可透過貫穿孔或導線連接之方式耦接至接地層204,但不以此為限。此外,較佳地,射頻電路206可應用於各種射頻訊號頻段,例如可應用於一Ka頻段或一Ku頻段。
舉例來說,若阻抗單元208係由一電阻所實現,請參考第3圖及第4圖,第3圖為本發明實施例以電阻實現第2圖中之阻抗單元208之示意圖,第4圖為第3圖之射頻裝置20之輻射功率示意圖。如第3圖所示,阻抗單元208包含一電阻R。電阻R耦接於訊號端P1與訊號端P2之間。假設射頻電路206(未繪於第3圖中)係為一低雜訊放大器之射頻扼流圈(RF choke),而微帶線殘段ST為該射頻扼流圈中的開路殘段,且係耦接於訊號端P1。換言之,在第3圖中,藉由連接於接地層之電阻R串連於屬於射頻電路206之微帶線殘段ST,來降低射頻電路206之輻射功率干擾。若以不同電阻值之電阻R來實現阻抗單元208,則射頻裝置20的頻率響應如第4圖所示。其中,橫軸表示工作頻率,單位為GHz;縱軸表示輻射功率,單位為dB。在第4圖中,分別顯示有使用吸收體於微帶線殘段ST時、使用電阻R為50歐姆時及電阻R為500歐姆時的結果。由第4圖可知,無論使用電阻R為50歐姆或是500歐姆時,微帶線殘段ST之輻射功率皆小於習知使用吸收體之方式,但使用50歐姆時,在開路殘段將有一理想的負載(一般射頻系統阻抗通常是50歐姆),此時,將失去開路殘段本身的特性,表示大部分的能量將從50歐姆電阻被引導至接地層。
進一步地,若是考慮到直流阻絕的應用,請參考第5圖及第6圖,第5圖為本發明實施例之使用電阻串聯電容來實現第2圖中之阻抗單元108之示意圖,第6圖為第5圖之射頻裝置20之輻射功率示意圖。如第5圖所示,阻抗單元208係包含一電阻R與一電容C,其中,電阻R與電容C係以串接形式連接。電容C耦接於訊號端P1與一訊號端P3之間。電阻R耦接於訊號端P2與訊號端P3之間。假設射頻電路206(未繪於第3圖中)係為一低雜訊放大器之射頻扼流圈,且該射頻扼流圈之一微帶線殘段ST係耦接於訊號端P1。換言之,在第3圖中,藉由以串連形式連接之電阻R與電容C作為射頻電路206之終端,來降低輻射功率干擾。請繼續參考第6圖,第6圖中,分別顯示有完全不使用任何電磁干擾抑制裝置時、使用吸收體於微帶線殘段ST時、使用電阻R為500歐姆且電容C為0.5微微法拉來實現阻抗單元208時及使用電阻R為500歐姆來實現阻抗單元208時的結果。由第6圖可知,無論使用電阻R與電容C來實現阻抗單元208之結果,微帶線殘段ST之輻射功率仍小於習知使用吸收體之方式。此外,請參考第7圖顯示第5圖之射頻裝置20操作於8GHz至16GHz時,反射係數之分佈圖。由第7圖可知,當阻抗單元208加上電容C後會有稍微向低頻區域偏移的現象。此現象最主要的原因是電容C本身的寄生電感所造成,解決之道,可以透過縮短相對應之射頻扼流圈的長度或是縮短微帶線殘段ST的長度來避免第7圖中之偏移現象。
請參考第8圖,第8圖為第5圖之射頻裝置20於使用不同電阻值之電阻R時之頻率響應示意圖。在第8圖中,分別顯示使用電阻R為550歐姆、750歐姆、950歐姆、1150歐姆時以及使用吸收體於微帶線殘段ST時所呈現之輻射功率的結果。由第8圖可知當電阻R之電阻值在950歐姆以下時,射頻裝置20之抑制輻射功率的能力皆比傳統使用吸收體之方式來的更好。因此,可選擇電阻值在950歐姆以下之電阻來實現電阻R。請參考第9圖,第9圖為第5圖之射頻裝置20於使用不同電阻值之電阻R時之頻率響應示意圖。由第9圖可知當電阻R之電阻值在500歐姆以上,反射係數的變化逐漸變小,因此,為了不讓電阻在傳輸線上產生過大的損耗,可選擇電阻值在500歐姆以上之電阻來實現電阻R。
除此之外,請參考第10圖,第10圖為本發明第二實施例之使用電阻來實現第2圖中之阻抗單元208之示意圖。假設射頻電路206係為應用於一集波器(LNBF)之一低通濾波器。此低通濾波器之通行頻段係介於0.95GHz至2.15GHz,而截止頻段係介於9.75GHz至12.75GHz。射頻電路206包含有傳輸導線TL1、傳輸導線TL2、殘段ST1與殘段ST2。如第10圖所示,傳輸導線TL1耦接於殘段ST1。傳輸導線TL2耦接於殘段ST2與傳輸導線TL1。阻抗單元208係由一電阻R所實現。電阻R耦接於訊號端P1與訊號端P2之間。由於射頻電路206係為低通濾波器,因此當射頻電路106介於9.75GHz至12.75GHz間的訊號將可能會由殘段ST1或殘段ST2輻射出去,而造成其他主動元件的干擾問題。換言之,本發明透過將耦接於接地層204之阻抗單元208連接至射頻電路206之開路殘段,來抑制輻射功率。另一方面,在此實施例中並無直流訊號,因此,不需使用電容來做直流隔絕。
請參考第11圖,第11圖為習知技術與第10圖之射頻裝置20操作時之頻率響應示意圖。在第11圖中,分別顯示有完全不使用任何電磁干擾抑制裝置時、單獨使用吸收體於殘段ST1或ST2時、同時使用吸收體於殘段ST1與ST2時以及使用電阻值為550歐姆之電阻R於殘段ST1時的之穿透係數。由第11圖可知,傳統使用吸收體的方式,由於等效介電系數因為吸收體的加入而改變,所以會造成操作頻率向低頻偏移的現象。而此實施例中無偏移的現象,主要是將電阻視為一理想電阻所致,若考慮本身的寄生效應,則同吸收體會產生頻偏現象。請參考第12圖,第12圖為第10圖之射頻裝置20於使用不同電阻值之電阻R時之輻射功率示意圖。在第12圖中,分別顯示有完全不使用任何電磁干擾抑制裝置時、使用電阻R為550歐姆、750歐姆、950歐姆、1150歐姆時以及使用吸收體於微帶線殘段ST1時所呈現之輻射功率的結果。由第12圖可知本發明之方式抑制輻射功率的效果比習知技術更佳,當電阻R之電阻值愈小,則抑制能力愈佳。
綜上所述,相較於習知技術,本發明透過於射頻電路206之終端串接阻抗單元208來降低輻射功率,以避免串音雜訊干擾的問題,將可省去使用人工作業方式來黏貼吸收體的工時,而大幅縮短生產時間與降低製造生產成本。另一方面,電阻以及電容的成本遠低於吸收體,且電阻及電容通常係利用表面黏著技術(SMT)來進行打件,在特性上相對較為穩定,因此,整體來說,使用電阻或電容亦可進一步降低製造生產成本。而且,若傳輸線上無直流訊號時,更僅需電阻即可達到抑制輻射功率的目的,如此一來,將可再降低生產成本。
以上所述僅為本發明之較佳實施例,凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾,皆應屬本發明之涵蓋範圍。
10、20‧‧‧射頻裝置
102、202‧‧‧絕緣基板
104、204‧‧‧接地層
106、206‧‧‧射頻電路
108‧‧‧吸收體
208‧‧‧阻抗單元
R‧‧‧電阻
C‧‧‧電容
P1、P2‧‧‧訊號端
ST、ST1、ST2‧‧‧殘段
TL1、TL2‧‧‧傳輸導線
第1圖為習知使用吸收體之一射頻裝置之示意圖。
第2圖為本發明實施例之一射頻裝置之示意圖。
第3圖為本發明第一實施例之使用電阻來實現第2圖中之阻抗單元之示意圖。
第4圖為第3圖之射頻裝置之輻射功率示意圖。
第5圖為本發明實施例之使用電阻串聯電容來實現第2圖中之阻抗單元之示意圖。
第6圖為第5圖之射頻裝置之輻射功率示意圖。
第7圖為第5圖之射頻裝置之頻率響應示意圖。
第8圖為第5圖之射頻裝置於使用不同電阻值之電阻時之輻射功率示意圖。
第9圖為第5圖之射頻裝置於使用不同電阻值之電阻時之頻率響應示意圖。
第10圖為本發明第二實施例之使用電阻來實現第2圖中之阻抗單元之示意圖。
第11圖為習知技術與第10圖之射頻裝置操作時之頻率響應示意圖。
第12圖為第10圖之射頻裝置於使用不同電阻值之電阻時之輻射功率示意圖。
20...射頻裝置
202...絕緣基板
204...接地層
206...射頻電路
208...阻抗單元
P1、P2...訊號端

Claims (7)

  1. 一種射頻裝置,包含有:一絕緣基板,包含有一第一面及一第二面;一接地層,佈於該絕緣基板之該第二面上,用來提供接地;一第一訊號端,形成於該絕緣基板之該第一面上;一第二訊號端,形成於該絕緣基板之該第一面上,並耦接至該接地層;一射頻電路,佈於該絕緣基板之該第一面上,並耦接至該第一訊號端;以及一阻抗單元,設置於該絕緣基板之該第一面上,並耦接至該第一訊號端與該第二訊號端,其中該阻抗單元包含有一電阻,該電阻之一第一端耦接於該第一訊號端,該電阻之一第二端耦接於該第二訊號端,該電阻之阻抗值係大於500歐姆且小於950歐姆。
  2. 如請求項1所述之射頻裝置,其中該射頻電路包含有:一傳輸線元件,佈於該絕緣基板之該第一面上,並耦接於該第一訊號端。
  3. 如請求項1所述之射頻裝置,其中該阻抗單元另包含有:一電容,耦接於該電阻之該第二端與該第二訊號端之間,其包含有一第一端,耦接於該電阻之該第二端,以及一第二端,耦 接於該第二訊號端。
  4. 如請求項1所述之射頻裝置,其中該阻抗單元另包含有:一電容,耦接於該第一訊號端與該電阻之該第一端之間,其包含有一第一端,耦接於該第一訊號端,以及一第二端,耦接於該電阻之該第一端。
  5. 如請求項1所述之射頻裝置,其中該第二訊號端係透過一貫穿孔耦接至該接地層。
  6. 如請求項1所述之射頻裝置,其中該射頻電路之操作頻段係相應於一Ka頻段。
  7. 如請求項1所述之射頻裝置,其中該射頻電路之操作頻段係相應於一Ku頻段。
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