TWI477774B - 掃瞄設備 - Google Patents

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TWI477774B
TWI477774B TW099126254A TW99126254A TWI477774B TW I477774 B TWI477774 B TW I477774B TW 099126254 A TW099126254 A TW 099126254A TW 99126254 A TW99126254 A TW 99126254A TW I477774 B TWI477774 B TW I477774B
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Bo I Lee
William Cheng
Tsung Ding Wang
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Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd
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Description

掃瞄設備
本發明係有關於一種掃瞄設備，特別係有關於一種超音波掃瞄式顯微鏡。
參照第1A圖，其係顯示習知之超音波掃瞄式顯微鏡1(C-Mode Scanning Acoustic Microscope)的掃瞄情形。習知之超音波掃瞄式顯微鏡1包括一軌道10、一探測頭20以及介質液體30。待測物(晶片)40置於該介質液體30之中，該探測頭20沿軌道10滑動，該探測頭20朝該待測物(晶片)40發出一超音波訊號2，該超音波訊號2接觸該待測物(晶片)40之後，由該待測物(晶片)40反射，並由該探測頭20所接收。藉此，以檢測該待測物(晶片)40的表面情況。
參照第1B圖，然而，當待測物(晶片)40表面的彎曲程度過大時，由該待測物(晶片)40所反射的超音波訊號2將被散射，而無法充分的由探測頭20接收，因此將導致檢測失敗。
本發明即為了欲解決習知技術之問題而提供之一種掃瞄設備，用以對一待測物進行檢測，包括一軌道、一探測頭、一連接裝置以及一轉位單元。該連接裝置連接該軌道以及該探測頭，該連接裝置包括一推送單元，該推送單元連接該軌道，使該連接裝置及該探測頭沿該軌道滑動。轉位單元連接於該探測頭以及該軌道，該轉位單元透過磁力控制該探測頭相對於該軌道而轉動。
應用本發明之掃瞄設備，由於探測頭可以透過磁力調制而相對於該軌道轉動，因此可以調整超音波訊號的射出方向。當待測物(晶片)表面的彎曲程度過大時，超音波訊號的行進方向仍然可以大致垂直於該待測物(晶片)表面，因此由該待測物(晶片)所反射的超音波訊號仍可充分的由探測頭接收，避免檢測失敗的情況發生。
參照第2圖，其係顯示本發明實施例之掃瞄設備100，用以對一待測物40進行檢測，包括一軌道110、一探測頭120、一連接裝置130、介質液體30以及一轉位單元140。待測物40置於該介質液體30之中。連接裝置130連接該軌道110以及該探測頭120。連接裝置130包括一推送單元131。推送單元131連接該軌道110，使該連接裝置130及該探測頭120沿該軌道110滑動。轉位單元140連接該探測頭120以及該軌道110，該轉位單元140透過磁力控制該探測頭120相對於該軌道110而轉動。
參照第3圖，其係顯示第2圖中之沿X方向觀察之剖面圖。搭配參照第2、3圖，軌道110包括一支撐部111以及一懸吊部112，該支撐部111形成於該懸吊部112的兩側，該推送單元131於該支撐部111接觸該軌道110。該推送單元131可以為滾輪，該滾輪(131)於該軌道110之支撐部111上滑動。
該探測頭120包括一頂面121，該頂面121上形成有一凹槽122。
搭配參照第2、3圖，該轉位單元140包括複數個懸吊電磁元件141、複數個懸吊磁鐵142、複數個輔推電磁元件143以及複數個輔推磁鐵144。
該等懸吊磁鐵142設於該探測頭120之該頂面121之上，該等懸吊電磁元件141設於該軌道110之該支撐部111之上。該等懸吊電磁元件141對應該等懸吊磁鐵142，透過調制該等懸吊電磁元件141對於該等懸吊磁鐵142的吸力，可使該探測頭120相對於該軌道110轉動。
該等輔推磁鐵144設於該探測頭120之該凹槽122之中，該等輔推電磁元件143設於該軌道110之該懸吊部112之上(接近底端)，該等輔推電磁元件143對應該等輔推磁鐵144，透過調制該等輔推電磁元件143對於該等輔推磁鐵144的吸力，可使該探測頭120相對於該軌道110轉動。
參照第3圖，該連接裝置130更包括一支撐框件132，該支撐框件132連接該推送單元131以及該探測頭120。
參照第4A以及4B圖，其係顯示本發明之掃瞄設備100的掃瞄情形，其中，由於探測頭120可以透過磁力調制而相對於該軌道110轉動，因此可以調整超音波訊號2的射出方向。當待測物(晶片)40表面的彎曲程度過大時，超音波訊號2的行進方向仍然可以大致垂直於該待測物(晶片)40表面，因此由該待測物(晶片)40所反射的超音波訊號2仍可充分的由探測頭20接收，避免檢測失敗的情況發生。
在上述實施例中，掃瞄設備100可以根據探測頭20所接收的超音波訊號2，動態控制探測頭120的旋轉方位。
在上述實施例中，該等懸吊磁鐵142設於該探測頭120之上，該等懸吊電磁元件141設於該軌道110之上，該等輔推磁鐵144設於該探測頭120之上，該等輔推電磁元件143設於該軌道110之上。然，上述描述並限制本發明，在一變形例之中，懸吊磁鐵142與懸吊電磁元件141亦可以互換位置，輔推磁鐵144與輔推電磁元件143亦可以互換位置。
該掃瞄設備100可以為一超音波掃瞄式顯微鏡(C-Mode Scanning Acoustic Microscope)或其他型式之掃瞄設備。
雖然本發明已以具體之較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此項技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，仍可作些許的更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1．．．超音波掃瞄式顯微鏡
2．．．超音波訊號
10．．．軌道
20．．．探測頭
30．．．介質液體
40．．．待測物
100．．．掃瞄設備
110．．．軌道
111．．．支撐部
112．．．懸吊部
120．．．探測頭
121．．．頂面
122．．．凹槽
130．．．連接裝置
131．．．推送單元
132．．．支撐框件
140．．．轉位單元
141．．．懸吊電磁元件
142．．．懸吊磁鐵
143．．．輔推電磁元件
144．．．輔推磁鐵
第1A圖係顯示習知之超音波掃瞄式顯微鏡
第1B圖係顯示當待測物(晶片)表面的彎曲程度過大時，習知之超音波掃瞄式顯微鏡的掃瞄情形；
第2圖係顯示本發明實施例之掃瞄設備；
第3圖係顯示第2圖中之沿X方向觀察之剖面圖；以及
第4A以及4B圖係顯示本發明之掃瞄設備的掃瞄情形。
30．．．介質液體
40．．．待測物
100．．．掃瞄設備
110．．．軌道
120．．．探測頭
130．．．連接裝置
131．．．推送單元
140．．．轉位單元
141．．．懸吊電磁元件
142．．．懸吊磁鐵
143．．．輔推電磁元件
144．．．輔推磁鐵

Claims (10)

  1. 一種掃瞄設備，用以對一待測物進行檢測，包括：一軌道；一探測頭；一連接裝置，該連接裝置連接該軌道以及該探測頭，該連接裝置包括一推送單元，該推送單元連接該軌道，使該連接裝置及該探測頭沿該軌道滑動；以及一轉位單元，連接於該探測頭以及該軌道，該轉位單元透過磁力控制該探測頭相對於該軌道而轉動。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之掃瞄設備，其中，該推送單元包括複數個滾輪，該滾輪於該軌道中滑動。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之掃瞄設備，其中，該轉位單元包括複數個懸吊磁鐵以及複數個懸吊電磁元件，該等懸吊磁鐵設於該探測頭之上，該等懸吊電磁元件設於該軌道，該等懸吊電磁元件對應該等懸吊磁鐵，透過調制該等懸吊電磁元件對於該等懸吊磁鐵的吸力，該探測頭相對於該軌道轉動。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之掃瞄設備，其中，該軌道包括一支撐部以及一懸吊部，該支撐部形成於該懸吊部的兩側，該推送單元於該支撐部接觸該軌道，該等懸吊電磁元件係設於該支撐部之上。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之掃瞄設備，其中，該轉位單元更包括複數個輔推磁鐵以及複數個輔推電磁元件，該等輔推磁鐵設於該探測頭之上，該等輔推電磁元件設於該軌道，該等輔推電磁元件對應該等輔推磁鐵，透過調制該等輔推電磁元件對於該等輔推磁鐵的吸力，該探測頭相對於該軌道轉動。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之掃瞄設備，其中，該該等輔推電磁元件係設於該懸吊部之上。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之掃瞄設備，其中，該探測頭包括一頂面，該頂面上形成有一凹槽，該等懸吊磁鐵係設於該頂面之上，該等輔推磁鐵係設於該凹槽之中。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之掃瞄設備，其中，該連接裝置更包括一支撐框件，該支撐框件連接該推送單元以及該探測頭。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之掃瞄設備，其中，該掃瞄設備為一超音波掃瞄式顯微鏡(C-Mode Scanning Acoustic Microscope)。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之掃瞄設備，其中，該轉位單元包括包括複數個磁鐵以及複數個電磁元件，該等磁鐵設於該軌道之上，該等電磁元件設於該探測頭，該等電磁元件對應該等磁鐵，透過調制該等電磁元件對於該等磁鐵的吸力，該探測頭相對於該軌道轉動。
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