TWI444698B - 調校裝置及其調校方法 - Google Patents

Description

調校裝置及其調校方法

本發明是有關於一種調校裝置及其調校方法，特別是有關於一種利用複數個可移動平台，結合複數個定位模組，以調整感光元件之一對焦平面之傾斜角度及其與鏡頭之距離。

隨著光學科技的進步，與近年來各大相機廠的強力行銷，現代人多以相機來記錄日常生活的點滴，取代了以往以手寫日記之紀錄型態，而為了因應此消費市場的龐大需求，如何降低相機生產成本與簡化生產流程，成了各大相機廠的首要課題。

在相機出廠前，須經過多道校對作業，其中最重要的校對作業，莫過於感光元件與攝像裝置光軸之調校。感光元件需設置於攝像裝置之光軸上，且感光元件之感光面需與攝像裝置之焦平面重合，以使攝像裝置可清晰成像。若感光元件之感光面未與攝像裝置之焦平面重合，則使用者在使用攝像裝置時，會發生脫焦之狀況，或是無法對焦之情況。

現今感光元件的調校裝置多利用一調整模組，推抵感光元件之放置平台，以使感光元件與光軸平行，但往往在調校過程中，調整模組易使感光元件發生旋轉，進而造成無法精準調校。故，如何設計一理想的調校裝置，能達到可調整感光元件與光軸與關係之功效，以解決目前調校裝置之在調校過程中會發生旋轉之問題，已成市場應用上之一刻不容緩的議題。有鑑於此，本發明之發明人思索並設計一種調校裝置，以針對現有技術之缺失加以改善，進而增進產業上之實施利用。

有鑑於上述習知技藝之問題，本發明之其中一目的就是在提供一種調校裝置及其調校方法，以解決目前無法防止感光元件於調校過程中發生旋轉之問題。

根據本發明之另一目的，提出一種調校裝置，其包含：一第一平台、一第二平台、一第三平台及一蓋體。第一平台具有至少三容槽，各容槽具有一定位模組，各定位模組具有一曲面體及一定位彈性件。第二平台設置於第一平台之一側，對應各曲面體具有一凹槽，且第二平台向外延伸一承抵部。第三平台設置於第一平台之另一側，且電性連接一控制模組，控制模組控制第三平台沿一軸向進行位移，並使第一平台與第二平台同時隨第三平台進行位移。蓋體設置於第二平台之一側，以壓制感光元件，使其平貼於第二平台。其中，一外力推抵第二平台之承抵部，第二平台沿軸向進行位移，以進行感光元件之傾斜調整動作，且藉由各定位彈性件之伸張，各曲面體與各凹槽保持接觸。

其中，調校裝置更可包含一調整部，其可具有至少三工作爪，以分別推抵承抵部，進而使第二平台沿軸向進行位移。

其中，第一平台與第二平台間可設有複數個回復彈性件，當第二平台沿軸向進行位移時，藉由該些回復彈性件，以使第一平台隨第二平台沿軸向進行位移，第二平台更具有複數個吸附單元，藉由該些吸附單元以使感光元件平貼於第二平台，且感光元件放置於第二平台之一放置表面，放置表面與承抵部之一承抵表面相互平行。

其中，蓋體可具有複數個針腳，且該些針腳對應感光元件之外形，均勻地壓制在感光元件上，以使感光元件平貼於第二平台，且各針腳之間距介於三釐米與感光元件之一長寬值間。

其中，調校裝置更可包含一感測模組，以感測第二平台沿軸向進行位移之一位移量，以產生一位移訊號，控制模組依據位移訊號，以控制第三平台沿軸向進行反向位移，進而使第一平台及第二平台沿軸向進行反向位移。

根據本發明之再一目的，提出一種調校方法，適用於調校一感光元件，其包含：提供一第一平台，係具有至少三容槽；設置一定位模組於各容槽，且各定位模組具有一曲面體及一定位彈性件；設置一第二平台於第一平台之一側，對應各曲面體具有一凹槽，且第一平台向外延伸一承抵部；設置一第三平台於第一平台之另一側，且電性連接一控制模組，控制模組控制第三平台沿一軸向進行位移，並使第一平台與第二平台同時隨第三平台進行位移；設置一蓋體於第二平台之一側，以壓制感光元件，使其平貼於第二平台。當承抵部被推抵時，第二平台沿軸向進行位移，且藉由各定位彈性件之伸張，各曲面體與各凹槽保持接觸。

其中，調校方法更可包含下列步驟：藉由一調整部，其可具有至少三工作爪，分別推抵承抵部，以使第二平台沿軸向進行位移。

其中，調校方法更可包含下列步驟：設置複數個回復彈性件於第一平台與第二平台間間；藉由該些回復彈性件之伸張，以使第一平台隨第二平台沿軸向進行位移；設置複數個吸附單元於第二平台，藉由該些吸附單元以使感光元件平貼於第二平台，且感光元件放置於第二平台之一放置表面，放置表面與承抵部之一承抵表面相互平行。

其中，蓋體可具有複數個針腳，且該些針腳對應感光元件之外形，均勻地壓制在感光元件上，以使感光元件平貼於第二平台，且各針腳之間距係介於三釐米與感光元件之一長寬值間。

其中，調校方法更包含下列步驟：提供一感測模組，以感測第二平台沿軸向位移之一位移量，以產生一位移訊號；藉由控制模組依據位移訊號，控制模組依據位移訊號，以控制第三平台沿軸向進行反向位移，進而使第一平台及第二平台沿軸向進行反向位移。

承上所述，依本發明之調校裝置及其調校方法，其可具有一或多個下述優點：
(1) 此調校裝置及其調校方法，利用至少三組定位模組，以使感光元件於調校過程中，僅進行軸向位移，而不發生旋轉，以達到精確調校之功效。
(2) 此調校裝置及其調校方法，利用一控制模組及定位模組，以同步調整感光元件之焦平面傾角及焦平面距離，藉此可以有效地提升調校裝置之效率。

為利貴審查員瞭解本發明之技術特徵、內容與優點及其所能達成之功效，茲將本發明配合附圖，並以實施例之表達形式詳細說明如下，而其中所使用之圖式，其主旨僅為示意及輔助說明書之用，未必為本發明實施後之真實比例與精準配置，故不應就所附之圖式的比例與配置關係解讀、侷限本發明於實際實施上的權利範圍，合先敘明。

請一併參閱第1圖及第2圖。第1圖係為本發明之調校裝置之第一示意圖；第2圖係為本發明之調校裝置之第二示意圖。如圖所示，調校裝置1包含：一第一平台11、一第二平台12、一第三平台13、一控制模組14及一蓋體15。第一平台11具有至少三容槽111，各容槽111具有一定位模組112，各定位模組112具有一曲面體1121及一定位彈性件1122。其中，定位模組112可以是一滾珠軸承連接一彈簧。第二平台12設置於第一平台11之一側，對應各曲面體1121具有一凹槽121，且第二平台12向外延伸一承抵部122。第三平台13設置於第一平台11之另一側，且電性連接一控制模組14，控制模組14控制第三平台13沿一軸向進行位移，並使第一平台11與第二平台12同時隨第三平台13進行位移。蓋體15設置於第二平台12之一側，以壓制感光元件10，使其平貼於第二平台12。當承抵部122被推抵時，第二平台12沿軸向進行位移，且藉由各定位彈性件1122之伸張，各曲面體1121與各凹槽121保持接觸。

換言之，感光元件10放置於第二平台12，當欲調校感光元件10與對焦平面之傾斜角時，可藉由推抵第二平台12之承抵部122，以使感光元件10調整至所需之位置；而在調整過程中，第二平台12漸漸遠離第一平台11，藉由定位模組112之各個定位彈性件1122之伸張，以使各個曲面體1121隨時與第二平台12之凹槽121保持接觸，進而可使第二平台12沿軸向位移時，不會發生水平方向之旋轉。

請一併參閱第3圖至第5圖。第3圖係為本發明之調校裝置之第一實施例之第一示意圖；第4圖係為本發明之調校裝置之第一實施例之第二示意圖；第5圖係為本發明之調校裝置之第一實施例之第三示意圖。如圖所示，調校裝置1包含：一第一平台11、一第二平台12、一第三平台13、一控制模組14、一蓋體15、一調整部16及四個回復彈性件17。第一平台11具有三個容槽111，各容槽111內設有一定位模組112，且各定位模組112由一曲面體1121及一定位彈性件1122組成。其中，定位模組112在實際應用中可以是結合彈簧之滾珠軸承。第二平台12設置於第一平台11之一側，且對應各曲面體1121具有一凹槽121。第一平台11與第二平台12間設有四個回復彈簧17。各曲面體1121可以是球面或弧面，可以視實際需求而加以設計。感光元件10放置於第二平台12之一放置平面123，且第二平台12對應放置平面123，設有複數個吸附單元124，藉由吸附之方式，以使感光元件10平貼於放置平面123。其中，放置平面123與承抵部122之一承抵面1221相互平行。感光元件10可以是電荷耦合元件(Charge-coupled device, CCD)或互補式金屬-氧化層-半導體(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor, CMOS)。第二平台12更向外延伸出一承抵部122。第三平台13設置於第一平台11之另一側，且電性連接控制模組14。蓋體15具有複數個針腳151，該些針腳151對應感光元件10之外形，均勻地壓制於感光元件10上，以使感光元件10平貼於第二平台12之放置平面123。其中，各針腳151之間距可以是介於3釐米到感光元件10之長寬值間。調整部16具有四個工作爪161，各工作爪161分別抵頂第二平台12之承抵部122，以使第二平台12沿軸向進行位移。其中，調整部16可以利用螺紋結構或可以利用齒輪模組，以分別驅動各工作爪161作動，於此實施例中以螺紋結構為示範態樣，實際應用則不為此限。

當感光元件10放置於第二平台12之放置平面123時，感光元件10與軸線(圖式中以虛線表示)可能會有一傾斜角度，此時可藉由調整部16之各工作爪161，分別推抵第二平台12之承抵部122，以透過第二平台12調整感光元件10與軸線之傾斜角度。又，因為放置平面123與承抵面1221相互平行，故，可由推抵承抵面1221以調整感光元件10與軸線之傾斜角。另外，當在進行傾斜調整過程中，藉由定位模組112，可以使第二平台12僅進行軸向位移，而不產生軸向旋轉。

詳細地說，感光元件10放置於第二平台12之放置平面123時，可能與軸線成一傾斜角，而為使感光元件10精確地裝設在攝像裝置中，須使感光元件10之感光面與軸線垂直。由於第二平台12之承抵部122之承抵面1221與放置平面123相互平行，所以可以藉由推抵承抵部122，以達到調整感光元件10之目的。當承抵部122被推抵時，第二平台12可能會發生軸向位移、旋轉或兩者同時發生，而為避免發生旋轉，可藉由定位模組112之曲面體1121與第二平台12之凹槽121相互作動，以使第二平台12僅做軸向位移而不發生旋轉。當第二平台12進行軸向位移時，可藉由複數個回復彈簧17，使第一平台11同時與第二平台12進行位移，以使第一平台11與第二平台12保持一定間距，進而避免因兩平台間距過大造成定位模組112的損壞。另外，可利用控制模組14控制第三平台13，以調整感光元件10至調校裝置1之一預設焦平面。

請一併參閱第6圖及第7圖。第6圖係為本發明之調校裝置之第二實施例之第一示意圖；第7圖係為本發明之調校裝置之第二實施例之第二示意圖。如圖所示，調校裝置1包含：一第一平台11、一第二平台12、一第三平台13、一控制模組14、一蓋體15、一調整部16、複數個回復彈性件17、一感測模組18及一殼體19。第一平台11具有三容槽111，各容槽111設有一定位模組112，各定位模組112包含一曲面體1121及一定位彈性件1122。第二平台12設置於第一平台11之一側，且對應各曲面體1121具有三凹槽121。其中，第一平台11與第二平台12間設有複數個回復彈性件17。第二平台12更向外延伸出一承抵部122。感光元件10放置於第二平台12之一放置平面123，並藉由第二平台12內之複數個吸附單元124，以平貼於放置平面123。第三平台13設置於第一平台11之另一側，且電性連接控制模組14。蓋體15藉由複數個針腳151，將感光元件10壓制於第二平台12。其中，在實際應用中蓋體15可以是一掀蓋，複數個針腳151則對應感光元件10設置於掀蓋之一上蓋。調整部16具有四個工作爪161，藉由各工作爪161推抵承抵部122，以使第二平台12沿軸線進行位移。感測模組18對第二平台12之位移量進行感測，以產生一位移訊號傳送至控制模組14。

具體地說，將一感光元件10放置於第二平台12之一放置平面123，感光元件10可能與軸線(攝像裝置之光軸)有一傾斜角，而為了使感光元件10可以正確的設置於攝像裝置內，故需將感光元件10之感光面調校成與光軸垂直。此時可利用調整部16之各工作爪161，推抵第二平台12之承抵部122，以使感光面與光軸垂直。在推抵過程中，藉由定位模組112之定位彈性件1122的伸張，使曲面體1121隨時與第二平台12之凹槽121保持接觸，進而使第一平台11與第二平台12於調校過程中，僅沿軸向進行位移，而不發生旋轉。另外，值得一提的是，調校裝置1於初始狀態時(第二平台12未被推抵時)，第二平台12平貼於第一平台11之一側，換言之，調校裝置1於初始狀態時，第一平台11與第二平台12間並無間隙，而在進行調校過程中，第二平台12被推抵後，漸漸遠離第一平台11，此時可藉由四個回復彈簧17，使第一平台11隨第二平台12位移，以避免定位模組112在調校過程中，因第一平台11與第二平台12之間隙過大而造成損壞。在調校過程中，感測模組18隨時感測第二平台12之位移量，以產生一位移訊號，並將其傳送至控制模組14。其中，在實際應用中，可利用一光感式距離量測模組，以量測第二平台12與一固定頂蓋之距離，藉以可量測推知第二平台12之實際位移量。當感光元件10調校完成後，可利用控制模組14，依據位移訊號將第三平台13降回一原始位置；或可以是在調校過程中，為避免第一平台11及第二平台12沿軸向進行過多位移，而造成無法調校之問題，可使控制模組14接收並判讀位移訊號，當位移量到達一臨界值時，控制模組14則控制第三平台13進行反向位移，以帶動第一平台11及第二平台12同時反向進行軸向位移。

請參閱第8圖，其係為本發明之調校方法之流程圖。調校方法可適用於ㄧ調校裝置，以調校一感光元件，其包含下列步驟：
步驟S81，提供一第一平台，係具有至少三容槽；
步驟S82，設置一定位模組於各容槽，且各定位模組具有一曲面體及一定位彈性件；
步驟S83，設置一第二平台於第一平台之一側，對應各曲面體具有一凹槽，且第一平台向外延伸一承抵部；
步驟S84，設置一第三平台於第一平台之另一側，且電性連接一控制模組，控制模組控制第三平台沿一軸向進行位移，並使第一平台與第二平台同時隨第三平台進行位移；
步驟S85，設置一蓋體於第二平台之一側，以壓制感光元件，使其平貼於第二平台；以及
步驟S86，當承抵部被推抵時，第二平台沿軸向進行位移，且藉由各定位彈性件之伸張，各曲面體與各凹槽保持接觸。

本實施例之調校方法的詳細說明與前面敘述本發明之調校裝置相似，在此為了簡略說明便不再敘述。

以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本發明之精神與範疇，而對其進行之等效修改或變更，均應包含於後附之申請專利範圍中。

1．．．調校裝置

10．．．感光元件

11．．．第一平台

111．．．容槽

112．．．定位模組

1121．．．曲面體

1122．．．定位彈性件

12．．．第二平台

121．．．凹槽

122．．．承抵部

1221．．．承抵面

123．．．放置平面

124．．．吸附單元

13．．．第三平台

14．．．控制模組

15．．．蓋體

151．．．針腳

16．．．調整部

161．．．工作爪

17．．．回復彈性件

18．．．感測模組

19．．．殼體

第1圖係為本發明之調校裝置之第一示意圖。

第2圖係為本發明之調校裝置之第二示意圖。

第3圖係為本發明之調校裝置之第一實施例之第一示意圖。

第4圖係為本發明之調校裝置之第一實施例之第二示意圖。

第5圖係為本發明之調校裝置之第一實施例之第三示意圖。

第6圖係為本發明之調校裝置之第二實施例之第一示意圖。

第7圖係為本發明之調校裝置之第二實施例之第二示意圖。

第8圖係為本發明之調校方法之流程圖。

1．．．調校裝置

10．．．感光元件

11．．．第一平台

111．．．容槽

112．．．定位模組

1121．．．曲面體

1122．．．定位彈性件

12．．．第二平台

121．．．凹槽

122．．．承抵部

13．．．第三平台

14．．．控制模組

15．．．蓋體

Claims (10)

1. 一種調校裝置，適用於調校一感光元件，其包含：
   一第一平台，係具有至少三容槽，各該容槽具有一定位模組，各該定位模組具有一曲面體及一定位彈性件；
   一第二平台，係設置於該第一平台之一側，對應各該曲面體具有一凹槽，且該第二平台向外延伸一承抵部；
   一第三平台，係設置於該第一平台之另一側，且電性連接一控制模組，該控制模組控制該第三平台沿一軸向進行位移，並使該第一平台與該第二平台同時隨該第三平台進行位移；以及
   一蓋體，係設置於該第二平台之一側，以壓制該感光元件，使其平貼於該第二平台；
   其中，一外力推抵該第二平台之該承抵部，該第二平台沿該軸向進行位移，以進行該感光元件之傾斜調整動作，且藉由各該定位彈性件之伸張，各該曲面體與各該凹槽保持接觸。
2. 如申請專利範圍第1項所述之調校裝置，其中更包含一調整部，係具有至少三工作爪，以分別推抵該承抵部，進而使該第二平台沿該軸向進行位移。
3. 如申請專利範圍第1項所述之調校裝置，其中該第一平台與該第二平台間設有複數個回復彈性件，當該第二平台沿該軸向進行位移時，藉由該些回復彈性件，以使該第一平台隨該第二平台沿該軸向進行位移，該第二平台更具有複數個吸附單元，藉由該些吸附單元以使該感光元件平貼於該第二平台，且該感光元件放置於該第二平台之一放置表面，該放置表面與該承抵部之一承抵表面相互平行。
4. 如申請專利範圍第1項所述之調校裝置，其中該蓋體具有複數個針腳，且該些針腳對應該感光元件之外形，均勻地壓制在該感光元件上，以使該感光元件平貼於該第二平台，且各該針腳之間距係介於三釐米與該感光元件之一長寬值間。
5. 如申請專利範圍第1項所述之調校裝置，其中更包含一感測模組，以感測該第二平台沿該軸向進行位移之一位移量，以產生一位移訊號，該控制模組依據該位移訊號，以控制該第三平台沿該軸向進行反向位移，進而使該第一平台及該第二平台沿該軸向進行反向位移。
6. 一種調校方法，適用於調校一感光元件，其包含：
   提供一第一平台，係具有至少三容槽；
   設置一定位模組於各該容槽，且各該定位模組具有一曲面體及一定位彈性件；
   設置一第二平台於該第一平台之一側，對應各該曲面體具有一凹槽，且該第一平台向外延伸一承抵部；
   設置一第三平台於該第一平台之另一側，且電性連接一控制模組，該控制模組控制該第三平台沿一軸向進行位移，並使該第一平台與該第二平台同時隨該第三平台進行位移；
   設置一蓋體於該第二平台之一側，以壓制該感光元件，使其平貼於該第二平台；以及
   藉由一外力推抵該承抵部，使該第二平台沿該軸向進行位移，且藉由各該定位彈性件之伸張，各該曲面體與各該凹槽保持接觸。
7. 如申請專利範圍第6項所述之調校方法，其中更包含下列步驟：
   藉由一調整部，係具有至少三工作爪，分別推抵該承抵部，以使該第二平台沿該軸向進行位移。
8. 如申請專利範圍第6項所述之調校方法，其中更包含下列步驟：
   設置複數個回復彈性件於該第一平台與該第二平台間；
   藉由該些回復彈性件之伸張，以使該第一平台隨該第二平台沿該軸向進行位移；以及
   設置複數個吸附單元於該第二平台，藉由該些吸附單元以使該感光元件平貼於該第二平台，且該感光元件放置於該第二平台之一放置表面，該放置表面與該承抵部之一承抵表面相互平行。
9. 如申請專利範圍第6項所述之調校方法，其中該蓋體具有複數個針腳，且該些針腳對應該感光元件之外形，均勻地壓制在該感光元件上，以使該感光元件平貼於該第二平台，且各該針腳之間距係介於三釐米與該感光元件之一長寬值間。
10. 如申請專利範圍第6項所述之調校方法，其中更包含下列步驟：
    提供一感測模組，以感測該第二平台沿該軸向位移之一位移量，以產生一位移訊號；以及
    藉由該控制模組依據該位移訊號，該控制模組依據該位移訊號，以控制該第三平台沿該軸向進行反向位移，進而使該第一平台及該第二平台沿該軸向進行反向位移。