TWI444669B - 光學薄膜、其製造方法及使用方法 - Google Patents

Description

光學薄膜、其製造方法及使用方法 相關申請案

此申請案係請求來自2005年5月5日提交的美國臨時申請案60/677,837號之優先權且將其以引用方式併入。

發明領域

本發明概括有關光學薄膜、光學薄膜的製造方法、及光學薄膜的使用方法；更特別有關傾斜狀波導光學薄膜、傾斜狀波導光學薄膜的製造方法、及傾斜狀波導光學薄膜的使用方法。

發明背景

包括附有邊緣照明式照射器的背光板之顯示器係需要具有低功率消耗、高明度、高的光利用效率、良好的光均勻度、低輪廓、輕重量、最小的色彩效應及低成本。然而，因為在功率消耗、明度、光利用效率、光均勻度、輪廓、重量、色彩效應及成本之間通常具有取捨關係，故難以達成此作用。譬如，較高輸出強烈度的光源係可提高明度但亦增加了功率消耗。為此，該技藝中強烈地需要改良包括附有邊緣照明式照射器的背光板之顯示器中的功率消耗、明度、光利用效率、光均勻度、輪廓、重量、色彩效應及成本。

發明概要

本發明的一態樣係提供一包括自一材料形成的複數個結構 之光學薄膜，其中各結構係包括：一基底、一與基底形成一銳角之第一側壁、及一與基底形成一鈍角之第二側壁。光學薄膜可進一步包括一具有一頂表面之基材，其中該等複數個結構位於頂表面上或與其相鄰。該銳角可等於約(90+δ)/2，其中δ為進入複數個結構內之光的角度。參數h可等於約a tanδtanθ/(tanθ-tanδ)，其中h為結構的高度，a為各結構的基底之寬度，δ為進入複數個結構內之光的角度，而θ為該銳角。各結構可包括一頂部以使第一側、第二側、基底及頂部形成一四邊形。頂部可為扁平或紋路狀。該材料可為一經光聚合材料。另一材料可位於複數個結構的相鄰結構之間且可具有比複數個結構的材料更低之一折射率。另一材料可包括散射粒子。另一材料可為空氣。光學薄膜可進一步包括一覆蓋住另一材料之擴散材料及與基底相對之各結構的一表面。各第一側壁可塗覆有一反射塗層。反射塗層可為一金屬塗層或一介電塗層。另一材料可位於複數個結構的相鄰結構之間且可覆蓋住與基底相對之各結構的一表面。

本發明的另一態樣係在於提供一包括一基材之光學薄膜，複數個結構位於基材上或與其相鄰且自一經光聚合材料形成，其中各結構係包括：一基底、一與基底形成一銳角之第一側壁、一與基底形成一鈍角之第二側壁、及一頂部。頂部大致平行於基底，而與第二側壁形成一銳角，且與第一側壁形成一鈍角，且另一材料比複數個四邊形結構的材料具有一更低折射率，該另一材料設置於相鄰的第一及第二側壁之間。另一材料可覆蓋住複數個結構的頂部。

本發明的另一態樣係在於提供一製造一光學薄膜之方法，其包括：將一可光聚合材料沉積在一表面上，選擇性地聚合部分的可光聚合材料以使複數個經聚合結構形成於可光聚合材料中，各經聚合結構具有一與表面形成一銳角之第一側壁、及一與表面形成一鈍角之第二側壁，以及移除未聚合之可光聚合材料。可藉由以一非法向角入射在表面上之經準直光照射一光罩來進行選擇性聚合。該方法可進一步包括在移除未聚合的可光聚合材料之步驟後將一光學清澈填料材料沉積在複數個經聚合結構之間。

本發明的另一態樣係提供使用於一光源中之一包括一基材及自一可光聚合材料形成的複數個結構之光學薄膜，其中各結構係包括：一基底、一與基底形成一銳角之第一側壁、及一與基底形成一鈍角之第二側壁。h等於約a tanδtanθ/(tanθ-tanδ)，其中h為結構的高度，a為各結構的基底之寬度，δ為自一光源進入複數個結構內之光的角度，而θ為該銳角。

圖式簡單說明

將參照下列圖式詳細地描述本發明，其中類似的編號係指類似的元件，其中：第1圖顯示根據本發明自一光源穿過一光學薄膜之光射線；第2圖顯示完成第十及第十一製造步驟後之經完成的光學薄膜；第3圖顯示完成第一製造步驟後之光學薄膜；第4圖顯示完成第二製造步驟後之光學薄膜；第5圖顯示完成第三製造步驟後之光學薄膜； 第6圖顯示完成第四製造步驟後之光學薄膜；第7圖顯示完成第五製造步驟後之光學薄膜；第8圖顯示完成第六製造步驟後之光學薄膜；第9圖顯示完成第七、第八及第九製造步驟後之光學薄膜；第10圖顯示類似於第2圖之另一光學薄膜，但其進一步包括一擴散器媒體；第11圖顯示類似於第2圖之另一光學薄膜，但其進一步包括位於複數個結構之側壁表面的一者上之一反射塗層；第12圖顯示一具有連續結構之示範性光學薄膜；第13圖顯示一具有分段結構之示範性光學薄膜；第14、15及16圖顯示一光學薄膜之各種不同參數；第17圖為具有高尺寸比之一光學薄膜的一黑白照片；第18圖為具有低尺寸比之一光學薄膜的一黑白照片；第19圖顯示用於一透射型LCD之一先前技藝背照射器或背光板；及第20圖顯示四背光板單元之效能。

詳細描述

本發明提供一包括複數個微結構之光學薄膜，其藉由透射及/或反射及/或折射經接收光來耦合及重新導引光以使經接收光大致被重新導引前往一所需要的輸出方向。這部分地顯示於第1圖中，其中一光學薄膜200係接收三個不同光射線。第一射線102僅簡單地穿過光學薄膜200而無折射或反射。第二射線104係被光學 薄膜200的一微結構108折射且隨後在相同微結構108內經歷全內反射。第三射線106進入光學薄膜200的一微結構108且隨後在相同微結構108內經歷全內反射。這三個射線102、104、106各者沿著所需要的輸出方向輸出。正是藉由光學薄膜200耦合從一光源110所接收之光的一顯著部分且將其重新導引前往所需要方向之能力，讓此光學薄膜200極有效率。至少部分地因為光學薄膜200能夠反射部分的輸入光而達成此作用。

光學薄膜200的效率及簡單構造係可允許具有降低的功率消耗，其轉而得以具有較小的電池、降低的尺寸及降低的重量，這在行動應用中是有利的且可依據應用來提供其他優點。譬如，光學薄膜200的高光利用效率係使明度提高且有助於確保可在日光下觀視。光學薄膜200亦可降低厚度、改良對比比值、改良均勻度、且改良代表一所需要應用的能力之色彩或灰階。當光學薄膜200替代數個其他習知元件時，光學薄膜200的簡單構造係可降低成本。

第2圖顯示一示範性光學薄膜200，包括一基材202、藉由聚合光聚合物204之一塗層的選定部分所形成之複數個結構216、及設置於複數個結構216之間的光學清澈材料220。可使用一光微影程序來製造第2圖的光學薄膜200。譬如，第3圖顯示完成第一製造步驟後之光學薄膜200。第一步驟中，可由對於UV光大致透明的材料諸如PET PC、PVA、PMMA、MS或任何其他適當材料等製成且具有約0.5密耳至約8.0密耳厚度且通常約2.0至約3.0密耳之基材202係在使用之前被清理或作其他製備。除了對於UV光透 明之外，基材202應對於光學薄膜200所將重新導引之光頻率(譬如，位於300至800奈米範圍的可見光)呈光學透明，尚且，基材202可有利地為無刮痕且具有低的霾值(haze value)。

第4圖顯示完成第二製造步驟後之光學薄膜200。此步驟中，選擇光聚合物204的一塗層藉以產生具有所需要高度的一經聚合結構。可使用任何適當的光聚合物。譬如，光聚合物可為一單體或各種不同單體的混合物、一光引發劑、一抗氧化物及一黏著促進劑。單體或各種不同單體的混合物係可為丙烯酸酯。譬如，單體係以二丙烯酸酯或三丙烯酸酯為基礎，諸如來自司達托摩公司(Startomer Corporation)的Startomer。光引發劑可為任何光引發劑。譬如，來自西霸(Ciba)的Igacure。抗氧化物有助於防止經由氧化效應之聚合作用且可為任何適當的抗氧化物。譬如，來自西霸(Ciba)的Iganox。可用來促進單體與基材之間黏著能力之黏著促進劑係可能任何適當的黏著促進劑。譬如，以矽烷基團或聚酯丙烯酸酯為基礎之黏著促進劑。第5圖顯示完成第三製造步驟後之光學薄膜200。此步驟中，塗有光聚合物204之基材202係被放置在一具有一經預先界定的設計之光罩212上。光罩212位於一基材210上。一率匹配流體208可被放置在基材202與光罩212之間、基材202與其基材210之間。光罩212可為一Cr光罩、一乳劑光罩或任何其他的適當光罩。率匹配流體208經過選擇係具有類似於基材202折射率之一折射率且可為IPA、EOH、MeOH、丙酮或一或多種任何其他的適當材料。

第6圖顯示完成第四步驟後之光學薄膜200。此步驟中，一光 學透明覆蓋膜214被放置在光聚合物204的塗層上。光學透明覆蓋膜214作為一氧障壁。可使光學透明覆蓋膜214類似於基材202，但差異在於其厚度可能製成更薄(譬如約0.5至約2.0密耳厚)。

第7圖顯示完成第五製造步驟後之光學薄膜200。此步驟中，一經準直紫外光源係由足以形成所需要的複數個結構216之充分能量來產生光206。此光206隨後以一預定角度投射至光罩212上故使對應於光罩212中的間隙之光聚合物204塗層的區域被聚合以形成所需要的複數個結構216，同時留存區域係留待作為未聚合的光聚合物218。

第8圖顯示完成第六製造步驟後之光學薄膜200。此步驟中，光學透明覆蓋膜214被移除以使光聚合物204可進行顯影。

第9圖顯示完成第七、第八及第九製造步驟後之光學薄膜200。第七步驟中，光罩212及率匹配流體208被移除。然後，第八步驟中，藉由施加一可溶解未聚合光聚合物218之溶劑來顯影光聚合物204的塗層。用來顯影光聚合物204的塗層之溶劑係可為IPA、EOH、MeOH、MEK、DCM、丙酮或任何其他的適當材料。

然後，第九步驟中，可進行一後UV曝光來確保複數個結構的所有單體皆完全地固化。此後UV曝光具有用以強化複數個結構216之進一步優點。

第2圖顯示完成第十及第十一步驟後之完成的光學薄膜200。第十步驟中，複數個結構216各者之間的間隙係充填有一光學清澈填料材料220，其具有比複數個結構216更低的折射率。光學清澈填料材料220可為一可UV固化材料、一可熱固化材料或任 何其他的適當材料。譬如，光學清澈填料材料220可為包括一觸媒之矽、一具有一光引發劑之光聚合物或任何其他的一或多種適當材料。有利情形中，可控制複數個結構216上方之光學清澈填料材料220厚度藉以得到最大反射(譬如，全內反射)。譬如，此厚度可經過選擇大於四分之一波長。最後，第十一步驟中，光學清澈填料材料220被固化。

第10圖顯示另一光學薄膜1000，其類似於第2圖者但進一步包括一擴散器媒體1002。擴散器媒體1002係與複數個結構216及光學清激填料材料相鄰並可為一其中以一特定量散佈有諸如玻璃、矽石或聚合物珠等光散射粒子之清澈材料，一經浮雕隨機表面浮雕擴散器或用以擴散光之任何其他結構或材料。擴散器媒體1002提供額外的光擴散且提供光學薄膜1000之額外整體擴散率的控制。

第11圖顯示另一光學薄膜1100，其類似於第2圖者但進一步包括位於複數個結構216的側壁表面一者上之一反射塗層1102。可包括反射塗層1102以增強處於任何入射角度之光反射且由一金屬薄膜、一介電材料薄膜或一或多種任何其他適當材料製成。譬如，反射塗層1102可為諸如鋁或銀薄膜等任何金屬性薄膜，或一介電薄膜。

第12圖顯示一具有連續結構216之示範性光學薄膜1200，而第13圖顯示一具有分段結構216之示範性光學薄膜1300。具有連續結構216之光學薄膜1200係具有經改良的光學效能，而具有分段結構216之光學薄膜1300具有降低的收縮應力。

光學薄膜200係包括三個主要組件：一主結構、一圍繞媒體及一運送平台。主結構作為一光引導管及光反射表面。此結構係包括以依據來自光源之光所決定的一特定角度傾斜之多個光管。光管的角度係在曝光程序期間決定。因為經準直光化輻射的緣故，光管的側壁角度可能不同。側壁角度係不但由曝光角度、亦由此系統中使用的單體與曝光期間所形成的聚合物之間的折射率差異所界定。圍繞媒體係設置於主結構周圍且可為空氣或比起曝光及後硬固化期間由固化程序形成之主結構的經固化聚合物具有更低折射率之一或多個材料。運送平台係在處理期間攜載材料並支撐主結構及圍繞媒體。運送平台可為一基材或其他適當結構。譬如，運送平台可為對於從300至800奈米波長範圍呈現透明之一薄膜或片。第2至9圖所示的光微影程序中，主結構係對應於複數個結構216，圍繞媒體對應於光學清澈填料材料220，而運送平台對應於基材202。

第14、15及16圖顯示一光學薄膜200的各種不同參數，包括：α=光的原始入射角(媒體0中之入射角)；β=在媒體0及媒體1介面處折射後之光的折射角(媒體1中之入射角)；δ=90度減去在媒體0及媒體1介面處折射之後及在媒體1及媒體2介面處折射後但未穿過媒體3之光的折射角之角度

Φ=打擊於結構的一側壁之光的掠射角；θ₁=結構的側壁之一者及結構的基底所形成之銳角；θ₂=180度減去結構的側壁之另一者及結構的基底之鈍角； a=結構的基底維度；b=結構的頂部維度；x=一結構的基底及相鄰結構的基底之間的空間；t=結構上方之圍繞媒體的厚度；h=結構的高度；δ=90度減去進入結構內之光的折射角之角度；σ=全內反射之臨界角；及n ₀ 、n ₁ 、n ₂ 、n ₃ =分別為媒體0、媒體1、媒體2及媒體3的折射率。

假設光以一角度δ進入結構且希望使光以一法向角(90度)離開結構，結構的角度θ₁可如下導出：因為且，因此θ₁=(90+δ)/2 (等式1)角度δ可取決於角度α，其係為來自光源、光導板或其他結構之光的角度。大部分案例中，來自光源、光導板或其他結構之光在10至20度之間的輸出角範圍中具有最高強度。為了在側壁“A”獲得全內反射條件及以一法向角來重新導引光，結構的角度應依據入射角決定。

全內反射的臨界角σ可如下自司乃耳定律(Snell’s law)導出：，因此

如果光穿過運送平台(媒體1)及主結構(媒體2)或圍繞媒體(媒體3)，光應該在自主結構或圍繞媒體逃出之前碰擊主結構的至少一側壁，否則來自結構頂部或圍繞媒體之光將具有與原始入射角 (α)相同的角度。為了避免此問題，應以控制“a”、“h”及θ₁及θ₂的維度之方式來設計該結構。可如下達成此作用。

參數θ₁及θ₂由曝光程序所界定，可藉由曝光包括有罩幕、基材及塗覆在基材上的單體混合物之系統予以獲得。參數a及結構之間的間隙可由罩幕設計所決定。可根據光源之特徵或來自光源之光、光導板或其他結構來設計整體組態。包括結構的維度及形狀之設計規則可自下述說明導出。

假設大部份光以一角度α離開，且進入具有折射率n₁之媒體1(基材)。則藉由司乃耳定律，假設媒體0為空氣，則n₁為1。

因此

因此，且，因此

且，

因此，

譬如，如果a=30μ且α=80度，δ將約為53度。則θ₂應為71.87度。因此。

根據式1、2及3，在α為80度之案例中θ₁應為71.48度藉以符合上述條件。此外，如果a為70度，θ₁應近似為70.48度。如果考慮到以10至20度之間角度進入媒體的光且媒體的折射率為n₀=1、 n₁=1.52、n₂=1.56、及n₃=1.43，角度應約為比約23.56度的臨界角σ更小之18.5。因此，大部份的光可經歷全內反射。

為此，諸如θ₁及h等關鍵參數可依據諸如α(光的原始入射角)及a(結構的基底維度)等初始條件被導出。雖然α可由背光板系統之組態或來自光源、光導板或其他結構之光所預先決定，應藉由考慮曝光系統的解析能力、受塗覆材料量、光學薄膜的整體厚度及程序的便利性來決定a。

第17圖為具有高尺寸比(大的h/a)之一光學薄膜200的一黑白照片。第18圖為具有低尺寸比(低的h/a)之一光學薄膜200的一黑白照片。

此處所揭露的光學薄膜可使用於數種先前技藝背光板及其他裝置中。譬如，第19圖中顯示用於一透射型LCD之一先前技藝背照射器或背光板。背光板係包括一諸如冷陰極螢光燈或發光二極體等光源1902、一塗鋁反射片1904、一在光導板1908後表面印有點或模製溝槽1906之光導板1908、一擴散器1910、一底稜鏡片1912、一上稜鏡片1914、另一擴散器。一如此處所揭露的光學薄膜可替代第19圖的背光板中使用的所有擴散器1910、1916及稜鏡片1912、1914且可在先前技藝裝置中作出類似的替代。此替代方式可減少元件數量、降低成本且改良效能。

第20圖顯示包括先前技藝點列印式光導板/擴散器/明度增強薄膜組合(DPLGP/diff/BEF)、一先前技藝光導板/擴散器/明度增強薄膜組合(PLGP/diff/BEF)、及使用在BLU中之本發明的兩範例之四背光板單元(BLUs)的效能。採用本發明之範例係包括一稜鏡光 導板，其與根據本發明的一光學薄膜(TrT)相組合。在藉由比PLGP/TrT1 BLU中具有更低霾值的一基材所形成之PLGP/TrT2 BLU中，係具有不同之包含根據本發明的光學薄膜之BLU的效能。如圖所示，包括一新穎光學薄膜之BLUs的光強烈度係具有比起相類似的先前技藝BLU而言大幅增加之光強烈度。

示範性光學薄膜形成：

藉由去離子空氣來噴吹得自加州橘郡的Tekra之一具有2密耳厚度的002 MEL 454 PET基材以清理PET薄膜。或者，可使用一黏性薄膜來清理基材。接著，得自賓州沃林頓的司達托摩公司(Startomer)的SR349單體(約95%重量)及得自紐約泰瑞敦的西霸專用化學公司(Ciba Specialty Chemical Corp.)的IrgaCure 651光引發劑(約5%重量)之一混合物係在PET基材上塗覆至約5密耳厚度。接著，使用來自一金屬電弧燈具有大於10°之紫外光(λ=365奈米)以30°至40°角度來照射Cr光罩以選擇性地聚合化基材上的SR349單體。金屬電弧燈(25瓦特/平方公尺)係被增能以提供7至11毫焦耳/平方公尺劑量且典型約為10毫焦耳/平方公尺劑量。或者，可使用諸如UV雷射等經較佳準直的光源。未聚合的單體隨後在99+%純甲醇或乙純之一經攪動的溶劑池中被移除。該池持續約15至25秒，約為30至45次攪打。藉由吹去任何留存溶劑來乾燥基材及經聚合單體。最後，藉由增能金屬電弧燈以提供500至300010毫焦耳/平方公尺的UV劑量來進行一後固化。這導致具有a=~30微米、b=~18至20微米、x=~12微米、h=~65微米、θ₁=~63°且θ₂=~71°之一光學薄膜。

此處所揭露的光學薄膜可連同任何習知光學薄膜使用。譬如，其可配合使用擴散器及明度增強薄膜。

雖然已經詳細地描述本發明的數項實施例，應瞭解其中可作出改變、替代、轉變、修改、變異、交換及更改而不脫離本發明的教導，本發明的精神及範圍由申請專利範圍界定。

102‧‧‧第一射線

104‧‧‧第二射線

106‧‧‧第三射線

108‧‧‧微結構

110,1902‧‧‧光源

200,1000,1100,1200,1300‧‧‧光學薄膜

202,210‧‧‧基材

204‧‧‧光聚合物

206‧‧‧光

208‧‧‧率匹配流體

212‧‧‧光罩

214‧‧‧光學透明覆蓋膜

216‧‧‧結構

218‧‧‧未聚合的光聚合物

220‧‧‧光學清澈材料，光學清澈填料材料

1002‧‧‧擴散器媒體

1102‧‧‧反射塗層

1904‧‧‧塗鋁反射片

1906‧‧‧點或模製溝槽

1908‧‧‧光導板

1910,1916‧‧‧擴散器

1912‧‧‧底稜鏡片

1914‧‧‧上稜鏡片

A‧‧‧側壁

a‧‧‧結構的基底維度，結構的基底之寬度

b‧‧‧結構的頂部維度

h‧‧‧結構的高度

n ₀ ‧‧‧媒體0的折射率

n ₁ ‧‧‧媒體1的折射率

n ₂ ‧‧‧媒體2的折射率

n ₃ ‧‧‧媒體3的折射率

x‧‧‧結構的基底及相鄰結構的基底之間的空間

α‧‧‧光的原始入射角(媒體0中之入射角)

β‧‧‧在媒體0及媒體1介面處折射後之光的入射角(媒體1中之入射角)

δ‧‧‧在媒體0及媒體1介面處折射後及在媒體1及媒體2介面處折射後但未穿過媒體3之光的 入射角(媒體2中之入射角)，進入結構內之光的角度

θ‧‧‧銳角

θ₁‧‧‧結構的側壁及結構的基底所形成之銳角

θ₂‧‧‧180度減去結構的側壁及結構的基底之鈍角

σ‧‧‧全內反射的臨界角

Φ‧‧‧打擊於結構的一側壁之光的入射角

第1圖顯示根據本發明自一光源穿過一光學薄膜之光射線；第2圖顯示完成第十及第十一製造步驟後之經完成的光學薄膜；第3圖顯示完成第一製造步驟後之光學薄膜；第4圖顯示完成第二製造步驟後之光學薄膜；第5圖顯示完成第三製造步驟後之光學薄膜；第6圖顯示完成第四製造步驟後之光學薄膜；第7圖顯示完成第五製造步驟後之光學薄膜；第8圖顯示完成第六製造步驟後之光學薄膜；第9圖顯示完成第七、第八及第九製造步驟後之光學薄膜；第10圖顯示類似於第2圖之另一光學薄膜，但其進一步包括一擴散器媒體；第11圖顯示類似於第2圖之另一光學薄膜，但其進一步包括位於複數個結構之側壁表面的一者上之一反射塗層；第12圖顯示一具有連續結構之示範性光學薄膜；第13圖顯示一具有分段結構之示範性光學薄膜；第14、15及16圖顯示一光學薄膜之各種不同參數； 第17圖為具有高尺寸比之一光學薄膜的一黑白照片；第18圖為具有低尺寸比之一光學薄膜的一黑白照片；第19圖顯示用於一透射型LCD之一先前技藝背照射器或背光板；及第20圖顯示四背光板單元之效能。

102‧‧‧第一射線

104‧‧‧第二射線

106‧‧‧第三射線

108‧‧‧微結構

110‧‧‧光源

200‧‧‧光學薄膜

Claims (19)

1. 一種光學薄膜，包含：自一第一光學材料形成的複數個結構，其中各該等結構係包括：一基底；一頂部表面；一第一側壁，該第一側壁在該第一光學材料內與該基底形成一銳角；一第二側壁，該第二側壁在該第一光學材料內與該基底形成一鈍角；其中在相鄰結構之間的一第一折射率係低於該複數個結構之材料之一第二折射率；及一擴散材料，該擴散材料覆蓋相對該基底之各結構的該頂部表面；其中h等於約a tanδ tanθ/(tanθ-tanδ)，其中h為該等結構的高度，a為各該等結構的基底之寬度，δ為進入該等複數個結構內之光的角度，而θ為該銳角。
2. 如申請專利範圍第1項之薄膜，進一步包含一具有一頂表面之基材，其中該等複數個結構位於該頂表面上或與其相鄰。
3. 如申請專利範圍第1項之薄膜，其中該銳角等於約(90+δ)/2，其中δ為進入該等複數個結構內之光的角度。
4. 如申請專利範圍第1項之薄膜，其中各該等結構係包括一頂部以使該第一側壁、該第二側壁、該基底及該頂部形成一四邊形。
5. 如申請專利範圍第4項之薄膜，其中各該頂部為扁平狀。
6. 如申請專利範圍第4項之薄膜，其中各該頂部為紋路狀。
7. 如申請專利範圍第1項之薄膜，其中該材料為一經光聚合材料。
8. 如申請專利範圍第1項之薄膜，其中該擴散材料包括散射粒子。
9. 如申請專利範圍第1項之薄膜，其中該擴散材料為空氣。
10. 如申請專利範圍第1項之薄膜，其中各該第一側壁係塗覆有一反射塗層。
11. 如申請專利範圍第10項之薄膜，其中該反射塗層為一金屬塗層。
12. 如申請專利範圍第10項之薄膜，其中該反射塗層為一介電塗層。
13. 如申請專利範圍第1項之薄膜，其中另一材料位於該等複數個結構的相鄰結構之間且覆蓋住與該基底相對之各該結構的一表面。
14. 一種光學薄膜，包含：一基材；複數個結構，該複數個結構位於該基材上或與該基材相鄰且自一經光聚合材料形成，其中各該等結構係包括：一基底；一第一側壁，該第一側壁在該經光聚合材料內與該基底形成一銳角； 一第二側壁，該第二側壁與該基底形成一鈍角，其中在同一方向將該第一側壁及該第二側壁形成角度；及一頂部表面，該頂部表面實質上平行於該基底，而與該第二側壁形成一銳角，且與該第一側壁形成一鈍角；其中在相鄰結構之間的一第一折射率係低於該經光聚合材料之一第二折射率；及一擴散材料，該擴散材料覆蓋各結構的該頂部表面。
15. 如申請專利範圍第14項之薄膜，其中另一材料係覆蓋住該等複數個結構之頂部。
16. 一種製造一光學薄膜之方法，包含：將一可光聚合材料沉積在一表面上；選擇性地聚合部分的該可光聚合材料以使複數個經聚合結構形成於該可光聚合材料中，該複數個經聚合結構具有在相鄰經聚合結構之間之另一材料，該另一材料具有低於該複數個經聚合結構之材料的折射率，各該等經聚合結構具有：一頂部表面；一第一側壁，該第一側壁與該表面形成一銳角；一第二側壁，該第二側壁與該表面形成一鈍角；一擴散材料，該擴散材料覆蓋該另一材料及各結構之一表面；且移除未聚合之該可光聚合材料。
17. 如申請專利範圍第16項之方法，其中藉由以一非法向角入射在該表面上之經準直光照射一光罩來進行該選擇性聚合。
18. 如申請專利範圍第16項之方法，進一步包含在該移除未聚合的可光聚合材料之步驟後將一光學清澈填料材料沉積在該等複數個經聚合結構之間。
19. 一種使用於一光源中之光學薄膜，其包含：一基材；及複數個結構，該複數個結構自一經光聚合材料形成，該複數個結構具有在相鄰結構之間之另一材料，該另一材料具有低於該結構之材料的折射率，其中各該等結構係包括：一基底；一頂部表面；一第一側壁，該第一側壁與該基底形成一銳角；一第二側壁，該第二側壁與該基底形成一鈍角；一擴散材料，該擴散材料覆蓋該另一材料及各結構之一表面，其中h等於約a tanδtanθ/(tanθ-tanδ)，其中h為該等結構的高度，a為各該等結構的基底之寬度，δ為自一光源進入該等複數個結構內之光的角度，而θ為該銳角。