TWI433829B - 使用含稀土元素之沸石及氫化金屬之催化劑的烷化法 - Google Patents

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Description

使用含稀土元素之沸石及氫化金屬之催化劑的烷化法
本發明揭露了一種改良的烷化方法,其係使用包含稀土元素之沸石及氫化金屬的固態酸觸媒。
烷化一詞係指可烷化化合物(如芳香或飽和烴)與烷化劑(如烯烴)之反應。此種反應令人感到興趣的原因是:經由異丁烷與含有2-6個碳原子之烯烴的烷化反應,可以獲得一種具有高辛烷值的烷化物,其會在汽油範圍內沸騰。與那些藉由重油餾份裂解所得汽油(如真空製氣油和常壓渣油)不同的是:由烷化所獲得的汽油基本上不含如硫和氮之類的污染物,因此具有清淨燃燒的特性。它的高防爆性質(由高辛烷值可看出)可減少所需添加對環境有害的防爆化合物(如芳香化合物或鉛)。同時,它也不像那些以重組石油腦或裂解重油餾份所得的汽油,烷化物如果含有芳香化合物或烯烴時,只會含有少量,可提供更佳的環境優勢。
這種烷化反應為酸催化反應。傳統的烷化製程設備係使用液態酸觸媒,如硫酸和鹽酸。使用此類液態酸觸媒會伴隨著許多不同的問題。例如,硫酸和鹽酸都具有高度腐蝕性,因此,所使用的設備必需能夠符合嚴苛的服務需求。由於在所得燃料中出現高腐蝕性物質是相當不利的,因此必須將殘留的酸自烷化物中移除。同時,由於必須進行液相分離,使得方法變得複雜且昂貴。除此之外,也總是 有毒性物質(如氟化氫)排放到環境中的危險。
本發明提供了一種改良的烷化方法,其係使用包含含稀土元素之沸石及氫化金屬的固態酸觸媒。
觸媒的水含量係介於約1.5重量%至約6重量%之間,在一個具體實施例中,其介於約1.8重量%至約4重量%之間,而在另一個具體實施例則是介於約2重量%至約3重量%之間。觸媒之水含量的定義為:當觸媒用於烷化方法期間的水含量,並且係以觸媒在600℃加熱兩小時後測量重量損失而得(燃燒損失或LOI 600)。
此觸媒還包含氫化金屬。適合之氫化金屬的實例為過渡金屬,如週期表第Ⅷ族的金屬和其混合物。其中,以週期表第Ⅷ族中的貴金屬為較佳。鉑、鈀和其混合物為特佳。氫化金屬的量將視其本質而定。當氫化金屬為週期表第Ⅷ族的貴金屬時,此種觸媒一般會含有約0.01至約2重量%的金屬。在一個具體實施例中,係介於約0.1至約1重量%之間,其係計算金屬的含量並且以觸媒的總重量為基準。
此觸媒還包含固態酸。固態酸的實例為沸石,如沸石β、MCM-22、MCM-36、絲光沸石、八面沸石(如X-沸石和Y-沸石),包括H-Y沸石和USY-沸石;非沸石固態酸,如二氧化矽-氧化鋁、硫酸化氧化物(如鋯、鈦、或錫的硫酸化氧化物),鋯、鉬、鎢、磷等的混合氧化物,和氯化的 氧化鋁或黏土。較佳的固態酸為沸石,包括絲光沸石、沸石β、八面沸石(如X-沸石和Y-沸石),包括H-Y沸石和USY-沸石。也可以使用固態酸的混合物。在一個具體實施例中,固態酸為具有24.72至約25.00埃之單位格子大小(a0 )的八面沸石;在另一個具體實施例中,固態酸為具有24.34至24.72埃之單位格子大小的Y-沸石,然而在另一個具體實施例中,固態酸為具有24.42至24.56埃之單位格子大小的Y-沸石。還有在另一個具體實施例中,固態酸為具有24.56至24.72埃之單位格子大小的Y-沸石。
觸媒的固態酸成分包含稀土元素,亦即選自鑭系的元素。在一個具體實施例中,稀土元素介於約0.5重量%至約32重量%之間。在另一個具體實施例中,稀土元素介於約2重量%至約9重量%之間。還有在另一個具體實施例中,稀土元素介於約4重量%至約6重量%之間。
稀土元素可以藉由傳統方式交換成為固態酸成分。在一個具體實施例中,固態酸成分為交換鑭的Y-沸石。
觸媒還可額外包含一種基質材料。適合的基質材料之實例為氧化鋁、二氧化矽、氧化鈦、氧化鋯、黏土和其混合物。一般以包含氧化鋁的基質材料為較佳。在一個具體實施例中,觸媒包含約2重量%至約98重量%的固態酸以及約98重量%至約2重量%的基質材料,其係以出現在觸媒中的固態酸和基質材料之總重量為基準。在另一個具體實施例中,觸媒包含約10重量%至約90重量%的固態酸以及約90重量%至約10重量%的基質材料,其係以觸媒中所 含的固態酸和基質材料之總重量為基準。在另一個具體實施例中,觸媒包含約10重量%至約80重量%的基質材料,其餘為固態酸。還有在另一個具體實施例中,觸媒包含約10重量%至約40重量%的基質材料,其餘為固態酸,其係以觸媒中所含的固態酸和基質材料之總重量為基準。
觸媒中以不含鹵素成分為較佳。
在一個具體實施例中,觸媒包含觸媒粒子,其中(i)直徑為約40至約8,000奈米之觸媒孔隙(以下稱為“大孔隙”)體積與(ii)觸媒粒子的比長度(specific length)之間的比率介於約0.01至約0.90毫升(克*毫米)之間,並且其中觸媒具有的總孔隙體積至少為0.20毫升/克。
觸媒粒子的比長度之定義為:觸媒粒子固態部分之幾何體積和幾何表面之間的比率。習於本技術領域者已知如何決定幾何體積和幾何表面,並且可以依照(例如)DE 2354558中所述的方式來進行。
大孔隙的體積以及總孔隙體積係藉由水銀侵入法來量測,其係以涵蓋直徑3.6至8,000奈米的Washburn方程式為基礎。
在一個具體實施例中,大孔隙中的體積和比長度之間的比率大於約0.2毫升/(克*毫米),並且在另一個具體實施例中,則是大於約0.3毫升/(克*毫米)。還有在另一個具體實施例中,此比率係大於約0.4毫升/(克*毫米),但低於約0.80毫升/(克*毫米)。
在一個具體實施例中,觸媒具有的總孔隙體積至少為 約0.23毫升/克,並且在另一個具體實施例中,則是至少為約0.25毫升/克。
在一個具體實施例中,觸媒粒子的比長度至少為約0.10毫米,在另一個具體實施例至少為約0.16毫米,還有在另一個具體實施例至少為約0.20毫米。在一個具體實施例中,比長度的上限為約2.0毫米,在另一個具體實施例為約1.0毫米,還有在另一個具體實施例為約0.6毫米。
在觸媒的一個具體實施例中,大孔隙中的孔隙體積為至少約0.05毫升/克,在另一個具體實施例則為至少約0.08毫升/克。在一個具體實施例中,大孔隙中的孔隙體積上限為低於約0.30毫升/克,在另一個具體實施例則為低於約0.25毫升/克。
觸媒粒子可以有許多不同的形狀,包括球形、圓柱體、環形和對稱或不對稱的多瓣形,例如三和四瓣形。
在一個具體實施例中,觸媒粒子的平均粒徑為至少約0.5毫米,在另一個具體實施例則為至少約0.8毫米,還有在另一個具體實施例為至少約1.0毫米。在一個具體實施例中,平均粒徑的上限為約10.0毫米,在另一個具體實施例則為約5.0毫米,還有在另一個具體實施例為約3.0毫米。
本發明方法中所用的觸媒係藉由調整水含量來製備。例如,固態酸成分可與基質材料混合,以形成載體粒子,接著將粒子鍛燒。可以藉由(例如)以氫化金屬成分的溶液浸漬載體粒子的方式,使氫化官能結合到觸媒組成物中。 經過浸漬之後,可以將觸媒予以鍛燒。
在一個具體實施例中,觸媒於還原氣體(如氫氣)中係在約200至約500℃的溫度範圍內被還原。在另一個具體實施例中,觸媒是在約250至約350℃的溫度範圍內被還原。還原反應可在水含量調整之前、將水添加至觸媒之後和/或利用還原來調整水含量的方式來進行。在一個具體實施例中,係在水含量調整之前進行還原。在另一個具體實施例中,還原反應是在將觸媒於乾燥、非還原氣體(如氮氣、氦氣、空氣等)的環境下予以乾燥之後進行。
觸媒的水含量可藉由各種方法來調整,如PCT/EP2005/000929中所述,其經由引用而全部納入本文。此類方法列舉如以下所述的方法1、2和3。
方法1係藉由使觸媒接觸到水的方式來提高觸媒的LOI。這可以藉由將觸媒曝露於含水的大氣(例如周遭空氣)中而達成。這種方法的具體實例包括使還原的觸媒接觸到水,直到達到所需的LOI為止;使未還原的觸媒接觸到水,直到達到高於所需LOI的標準以上為止,接著將觸媒予以還原,因而使LOI降低至所需標準;使還原的觸媒接觸到水,直到達到高於所需LOI的標準以上為止,接著在惰性或是還原大氣中處理觸媒,因而使LOI降低至所需標準,並且使觸媒在含有氫氣和水的大氣中還原。
方法2係藉由將具有高於所需LOI標準之未還原觸媒予以還原,以使得現有觸媒的LOI降低至所需的標準。
方法3係涉及就地添加水,其係以具有低於所需LOI 標準之觸媒來啟動烷化方法,並且在加工期間將水添加至烷化單元,例如將水添加至烴進料、將觸媒在含水大氣中再生和/或將再生觸媒曝露於含水大氣中。
可以將上述方法中的兩種或以上的方法予以組合使用。
在烷化方法中被烷化的烴類為一種分枝的飽和烴,如具有4至10個碳原子的異烷烴。實例為異丁烷、異戊烷、異己烷或其混合物。烷化劑為具有2至10個碳原子的烯烴或烯烴混合物。在一個具體實施例中,烷化方法係包括異丁烷與丁烯的烷化反應。
習於此技術領域者可清楚瞭解,此烷化方法可以任何適合的形式來進行,包括流體化床方法、漿料方法和固定床方法。此方法可以在數個床體和/或反應器中進行,如有需要可以每一個皆能單獨添加烷化劑。在此情況下,本發明方法可以在每一個單獨的床體或反應器中進行。
如前所述,為了將觸媒的LOI提高至所需標準,可以在方法期間加入水。可以在烷化反應期間,經由(例如)烴進料或是烷化劑進料引進水。或者是,在以下所述的選用(溫和)再生步驟期間,利用含水大氣使觸媒水合,或者是在單獨的中間水合步驟中,讓觸媒與水接觸。在觸媒的LOI於加工期間(亦即烷化反應和/或再生期間)降低之後,可以施用類似的程序使觸媒再水合。
習於此技術領域者可瞭解適當的方法條件。較佳係使用在WO 98/23560中所揭露的烷化方法。施用於本發明之 方法條件總結如下表:
此觸媒可以選擇性地以氫氣在氣相中進行高溫再生。高溫再生可以在至少約150℃的溫度下進行,在一個具體實施例中,再生的進行是在約150℃至約600℃,在另一個具體實施例中,再生的進行是在約200℃至約400℃。至於再生的程序細節,可參考WO 98/23560,特別是第4頁,第12至19行,其經由引用而全部納入本文。高溫再生可以在烷化方法期間週期性地施用。如果高溫再生的結果使得觸媒的水含量降低至所需的標準之下,觸媒可以依照前述的方式,在方法期間進行再水合。
除了高溫再生處理之外,可以在烷化方法期間施用一種較溫和的再生方法,如WO 98/23560中所述,特別是由第9頁第13行至第13頁第2行,其經由引用而全部納入本文。在烷化方法期間,可以將觸媒與含有烴和氫氣的進料接觸,使觸媒間歇性地進行再生步驟;在一個具體實施例中,該再生係在觸媒活性週期(active cycle)約90%或更小的時候進行,在另一個具體實施例為60%或更小,還有在另一個具體實施例為20%或更小,在另一個具體實施例為10%或更小。在本文中,觸媒活性週期的定義是指由烷 化劑進料開始到20%的烷化劑(與添加至含有觸媒之反應器區段中的烷化劑相比)在未被轉化的情況下離開含有觸媒之反應器區段的時間,其並未計算分子內的異構化。
本發明觸媒之製備包括以下步驟:a)在約400至約575℃的溫度範圍內鍛燒含固態酸的粒子;b)將第Ⅷ族的貴金屬摻入經鍛燒的粒子中,以形成含貴金屬的粒子;以及c)在約350至約600℃的溫度範圍內鍛燒含貴金屬的粒子。
如果在摻入氫化成分之前和之後的鍛燒步驟皆在特定的溫度範圍內進行時,本發明觸媒在烷化反應中的性能可以被進一步改善。
在步驟(a)中,含固態酸的粒子是在約400至約575℃的溫度範圍內鍛燒,另一個具體實施例則是在約450至約550℃的溫度範圍內,還有在另一個具體實施例則是在約460至約500℃的溫度範圍內。加熱速率介於約0.1至約100℃/分鐘之間,並且在一個具體實施例中為約0.5℃至約50℃/分鐘,而在另一個具體實施例中為約1℃至約30℃/分鐘。鍛燒進行約0.01至約10小時,並且在一個具體實施例中為約0.1至約5小時,而在另一個具體實施例中為約0.5至約2小時。它可以在空氣和/或惰性氣體(例如氮氣)流中進行。在一個具體實施例中,這種氣流是乾燥的。
在另一個具體實施例中,在含固態酸粒子被鍛燒之前,先將其予以乾燥。此乾燥操作可在約110至約150℃的溫度下進行。
鍛燒可在任何設備中進行,如固定床反應器、流體化床反應器和旋轉管式鍛燒爐。
接著在步驟(b)中將第Ⅷ族的貴金屬併入經鍛燒之含固態酸粒子中。在一個具體實施例中,其係使用含有第Ⅷ族貴金屬離子和/或其錯合物及(選用的)NH4 + 離子之溶液來浸漬或含固態酸粒子的競爭離子交換作用來進行。在另一個具體實施例中,第Ⅷ族貴金屬為鉑、鈀和其混合物。還有在另一個具體實施例中,至少有一個第Ⅷ族貴金屬為鉑。適合的第Ⅷ族貴金屬鹽包括貴金屬的硝酸鹽、氯化物和硝酸銨鹽或其錯合物(例如NH3 錯合物)。
接著在步驟(c)中將所得含貴金屬的粒子在350至600℃的溫度範圍內鍛燒。在一個具體實施例中,粒子是在約400至約550C的溫度下鍛燒,另一個具體實施例則是在約450至約500C。可以將粒子以約0.1至約100℃/分鐘的速率來加熱,而使溫度可達到所需最終數值,介於約350至約600℃之間。在一個具體實施例中,它們是以約0.5℃至約50℃/分鐘的速率加熱,而在另一個具體實施例中則是約1℃至約30℃/分鐘。鍛燒可以進行約0.01至約10小時,並且在一個具體實施例中為約0.1至約5小時,而在另一個具體實施例中為約0.5至約2小時。鍛燒可以在空氣和/或惰性氣體(例如氮氣)流中進行。在一個具體實施例中,這種氣流是乾燥的。
可以選擇性地在步驟(b)和(c)之間施用一個單獨的乾燥步驟。或者是,在鍛燒步驟期間乾燥含貴金屬的粒子。 同樣可選用是,在溫度為約200至約250℃時,暫停約15至120分鐘。
在鍛燒步驟(c)之後,可將所得之觸媒粒子在約200至約500℃的溫度範圍內還原,在一個具體實施例中,為約250至約350℃,其係在還原氣體(如氫氣)中進行。
實施例
含稀土離子之觸媒相較於不含稀土(RE)離子之對照觸媒的效能:以傳統的途徑來製備不含稀土離子的對照標準Y-沸石,亦即製備鈉-Y-沸石(NaY)(SAR 5.5,Na2 O約13重量%),接著以NH4 + 離子進行離子交換(殘留的Na2 O通常為約4.2重量%),在約575至約625℃下蒸處,結果造成ao 為約24.53至24.57埃,以NH4 + 離子進行第二次離子交換(殘留的Na2 O通常為約1.0重量%),在約500至約550℃下再次蒸處,結果造成ao 為約24.44至24.52埃,在溫度為約80℃及沒有NH4 + 離子的情況下,以硫酸或鹽酸來進行酸瀝取,而使得整體SAR(SAR之定義為:在沸石材料中所存在之SiO2 和Al2 O3 的比率(莫耳/莫耳))由約6增加至約12(Na2 O下降至約0.2重量%),並且予以乾燥。
本發明之沸石係依照類似的程序來製備,然而,在第一個交換步驟中係使用NH4 + 以及稀土離子,並且將蒸處的溫度降低至約400至約500℃。在這種低蒸處的溫度下,所形成的非骨架氧化鋁較少,並且不需要酸瀝取。因此,在第一次蒸汽處理之後,只需要與NH4 + 離子交換,接著再乾燥沸石。然而,如果要達到適當的SAR、ao 和Na2 O含 量,可以使用多次蒸處和與NH4 + 離子交換的步驟。在一個具體實施例中,Na2 O介於約0.2至約0.9重量%之間,SAR介於約6至約8之間,而ao 則是介於約24.58至24.72埃且稀土元素介於約2至約9重量%之間。
在另一個具體實施例中,Na2 O介於約0.3至約0.6重量%之間,SAR介於約6至約7之間,而ao 則是介於約24.62至24.70埃且稀土元素介於約4至約6重量%之間。
被測試的烷化觸媒具有以下組成和性質:約60至約80%的上述沸石、約20至約40%的氧化鋁、約0.15至約0.5%的鉑;平均粒子長度介於約2至約6毫米之間,平均長度/直徑比介於約1至約7.5之間,粒子直徑介於約0.5至約3毫米之間,並且側抗壓強度介於約1.5至約10磅/毫米之間。
一般測試程序:在直徑2公分的固定床循環反應器[如WO 9823560中所述,其經由引用而全部納入本文]中,裝入38.6克觸媒擠出物(其為乾基,亦即真正的重量扣除水含量)和碳化矽(carborundum)粒子(60網目)之混合物,其體積比為1:1的。在反應器管子的中間,安裝一個直徑6毫米的熱電偶。以乾燥的氮氣沖洗反應器達30分鐘(21 Nl/小時)。接著,在壓力被設定為21巴且氮氣流達到21 Nl/小時之後,於增壓下測試系統的洩漏情形。接著以1℃/分鐘的速率將反應器溫度上升至275℃,在275℃氮氣被乾燥的氫氣取代,並且觸媒在275℃下還原。
或者是,如果是相同的觸媒樣品在不同回合之間進行高溫再生,在維持烷化反應溫度的同時,以氫氣排洩和沖洗反應器以去除烴類之後,將氫氣流設定為21 Nl/小時,並且接著以1℃/分鐘的速率,將反應器溫度提升至275℃,並且在275℃的溫度下再生觸媒。
經過2小時之後,反應器溫度被降低至約75℃的反應溫度。在冷卻期間,將水添加至氫氣流中,以得到觸媒的LOI為約2至4重量%(觸媒的LOI被定義為:觸媒在600℃加熱兩小時之後的觸媒重量損失)。
達到反應溫度時將中止氫氣流。以約4.0公斤/小時的速率,將含有約2.5至3重量%烷化物(添加的目的是為了加速去活化的速率,所添加烷化物的組成類似於在所述條件下由方法所產生的烷化物)的異丁烷和約1莫耳%的溶解氫供應至反應器中。大約有95至98%的異丁烷/烷化物混合物回送到反應器。大約有2至5%被排洩出來以供分析。這種數量的異丁烷/烷化物混合物被供應至反應器係為了確保系統中的液體量固定。當系統穩定時,停止添加氫氣,並且加入此等數量的順式-2-丁烯,而使得順式-2-丁烯-WHSV為0.16或更高。系統中之液體的總流速維持在約4.0公斤/小時。在反應器入口,異丁烯相對於順式-2-丁烯的重量比為約500至650。反應器中的壓力為約21巴。在測試期間,藉由控制排洩用於分析的流體,使得烴再循環流的烷化物總濃度維持在約6.5至7.5重量%。
在每進行反應1小時之後,以異丁烷/烷化物混合物 沖洗5分鐘而使得觸媒再生,接著經由與1莫耳%的H2 (在異丁烷/烷化物混合物中)溶液接觸的方式,進行50分鐘再生,接著以異丁烷/烷化物混合物再沖洗5分鐘(沖洗和再生的時間總共1小時)。於此沖洗步驟後,再次開始烷化。
在沖洗步驟、再生步驟和反應步驟期間的溫度相同。
此方法係依上述方式進行,並且催化效能是以時間函數來測量。
效能係以反應器每程(pass)的烯烴轉化率和研究辛烷值(RON)來代表。RON係依WO 9823560中的第13和14頁所述的方式來量測,唯一的例外是所有C9+(排除2,2,5-三甲基己烷)的RON貢獻是被估計為84而非90。
反應器每程的烯烴轉化率為在觸媒床入口和出口之間被轉化烯烴的重量分率(以百分比來表示),其並未計算烯烴分子之間的異構化。
第1、2和3圖係顯示觸媒加速去活化試驗的結果。
第1圖係顯示在相同測試條件下(whsv=0.16),新觸媒(在沸石上具有不同數量的RE)與參考觸媒(不含RE)相比,其可維持在較高的烯烴轉化率。
第2圖係顯示在相似的去活化速率之下,新觸媒與參考觸媒相比,其可容許較高的whsv(0.2)。因此,新觸媒可在較高whsv的條件下操作,而使得在產生固定數量的烷化物時,需要較少的觸媒,亦即在烷化物工廠的固定生產力 之下,需要較少的觸媒。
第3圖係顯示,新觸媒所產生烷化物的RON至少與參考觸媒所獲得之RON相同。具有約5重量%RE在沸石上的觸媒結合了最高的穩定性且所產生的烷化物具有相當高的RON。

Claims (39)

  1. 一種烷化烴之方法,其中可烷化的有機化合物與烷化劑在有觸媒存在的情況下反應,以形成一種烷化物,其中該可烷化的有機化合物為異丁烷,烷化劑包含丁烯或丁烯類之混合物,該觸媒包含氫化官能及含稀土元素的固態酸成分,此觸媒藉由與含有飽和烴和氫的進料接觸來間歇性地進行再生步驟,該再生係在觸媒活性週期約90%或更小的時候進行,觸媒活性週期的定義是指由烷化劑進料開始到,與含有觸媒之反應器區段入口相比,有20%的烷化劑在未被轉化的情況下離開含有觸媒之反應器區段的時間,其並未計算分子內的異構化,其中該觸媒是在該觸媒尚未有任何實質活性降低之前被再生。
  2. 如申請專利範圍第1項之方法,其中再生是在觸媒活性週期60%或更小的時候進行。
  3. 如申請專利範圍第2項之方法,其中再生是在觸媒活性週期20%或更小的時候進行。
  4. 如申請專利範圍第1項之方法,其中觸媒具有的粒子直徑係介於約0.75至約2毫米之間。
  5. 如申請專利範圍第1項之方法,其中觸媒包含一種在載體上的氫化官能,其包含2至98重量%的基質材料且其餘為固態酸成分。
  6. 如申請專利範圍第5項之方法,其中觸媒載體包含20至80重量%的基質材料且其餘為固態酸成分。
  7. 如申請專利範圍第6項之方法,其中觸媒載體包含20至50 重量%的基質材料且其餘為固態酸成分。
  8. 如申請專利範圍第5項之方法,其中基質材料包含氧化鋁。
  9. 如申請專利範圍第1項之方法,其中固態酸成分為八面沸石或沸石β。
  10. 如申請專利範圍第9項之方法,其中固態酸成分為Y-沸石。
  11. 如申請專利範圍第10項之方法,其中固態酸成分係藉由一種方法來製備,該方法包括的步驟為:製備鈉沸石,以NH4 + -和稀土離子與鈉沸石離子交換使得Na2 O降低至約4至5重量%,在約400至約500℃下蒸處沸石使得ao 介於約24.62至24.70埃之間,以NH4 + 離子進行離子交換使得Na2 O降低至約0.3至0.9重量%,並且予以乾燥。
  12. 如申請專利範圍第11項之方法,其中產物沸石的整體SAR介於約6至約12之間。
  13. 如申請專利範圍第1項之方法,其中氫化官能為週期表第Ⅷ族的貴金屬,存在數量為0.01至2重量%,其係計算金屬。
  14. 如申請專利範圍第13項之方法,其中氫化官能為鉑、鈀或其混合物。
  15. 如申請專利範圍第1項之方法,其中稀土元素為鑭。
  16. 如申請專利範圍第1項之方法,其中用於再生的飽和烴為可烷化的有機化合物。
  17. 如申請專利範圍第16項之方法,其中再生溫度和/或再生壓力各自與以攝氏表示的反應溫度及反應壓力之間的差異不超過50%。
  18. 如申請專利範圍第17項之方法,其中再生溫度和/或再生壓力各自與以攝氏表示的反應溫度及反應壓力之間的差異不超過20%。
  19. 如申請專利範圍第18項之方法,其中再生是在與反應實質上相同的溫度和/或壓力下進行。
  20. 如申請專利範圍第1項之方法,其中再生步驟期間為反應步驟期間的0.1至10倍。
  21. 如申請專利範圍第20項之方法,其中再生步驟期間為反應步驟期間的0.5至2倍。
  22. 如申請專利範圍第1項之方法,其中在再生步驟之前,實質上於沒有氫氣和烷化劑的情況下以飽和烴進行沖洗步驟,在再生步驟之後接著於實質上沒有氫氣和烷化劑的情況下以飽和烴進行沖洗步驟,或者是兩者皆進行。
  23. 如申請專利範圍第1項之方法,其中觸媒以氫氣在氣相中進行週期性地高溫再生。
  24. 如申請專利範圍第23項之方法,其中觸媒每經過以飽和烴和氫再生50次之後,以氫氣在氣相中進行高溫再生。
  25. 如申請專利範圍第1項之方法,其中製備觸媒係藉由a)在400至575℃的溫度範圍內鍛燒含固態酸的粒子,b)將第Ⅷ族的貴金屬併入經鍛燒的粒子中,以形成含貴金屬的粒子,以及c)在350至600℃的溫度範圍內鍛燒含貴金屬的粒子。
  26. 如申請專利範圍第25項之方法,其中在步驟a)中所施用的溫度介於450至550℃之間。
  27. 如申請專利範圍第26項之方法,其中溫度介於460至500℃ 之間。
  28. 如申請專利範圍第25項之方法,其中在步驟c)中所施用的溫度介於400至550℃之間。
  29. 如申請專利範圍第27項之方法,其中溫度介於450至500℃之間。
  30. 如申請專利範圍第29項之方法,其中固態酸為一種沸石,其係選自由沸石β和八面沸石所構成之組群。
  31. 如申請專利範圍第1項之方法,其中觸媒還包含約1.5至約6重量%的水,其係以在600℃的燃燒損失來量測。
  32. 如申請專利範圍第31項之方法,其中觸媒包含約1.8至約4重量%的水。
  33. 如申請專利範圍第32項之方法,其中觸媒包含約2至約3重量%的水。
  34. 如申請專利範圍第31項之方法,其中固態酸為八面沸石或沸石β。
  35. 如申請專利範圍第34項之方法,其中固態酸為Y-沸石。
  36. 如申請專利範圍第31項之方法,其中氫化金屬為第Ⅷ族貴金屬。
  37. 如申請專利範圍第36項之方法,其中烴為飽和烴。
  38. 如申請專利範圍第31項之方法,其中觸媒係在用於烷化方法之前藉由將水添加至包含固態酸和氫化金屬的乾燥觸媒中來製備。
  39. 如申請專利範圍第31項之方法,其中烷化方法係利用包含少於約1.5重量%水的觸媒來啟動,並且其中水是在烷化方法期間添加至觸媒中。
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