TWI424209B - 積體化光學膜之製作方法 - Google Patents

積體化光學膜之製作方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI424209B
TWI424209B TW98134221A TW98134221A TWI424209B TW I424209 B TWI424209 B TW I424209B TW 98134221 A TW98134221 A TW 98134221A TW 98134221 A TW98134221 A TW 98134221A TW I424209 B TWI424209 B TW I424209B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
optical film
optical
integrated
substrate
composite
Prior art date
Application number
TW98134221A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201113569A (en
Inventor
Chi Chang Hsieh
Ching Kao Chang
Original Assignee
Univ Nat Kaohsiung 1St Univ Sc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Univ Nat Kaohsiung 1St Univ Sc filed Critical Univ Nat Kaohsiung 1St Univ Sc
Priority to TW98134221A priority Critical patent/TWI424209B/zh
Publication of TW201113569A publication Critical patent/TW201113569A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI424209B publication Critical patent/TWI424209B/zh

Links

Description

積體化光學膜之製作方法
　　本發明係有關於一種光學膜之製作方法，特別係有關於一種積體化光學膜之製作方法。
　　習知液晶顯示器之背光模組為達到光源的有效利用，係會在背光模組中設置多片具有不同光學特性之光學膜片(如稜鏡片、擴散片等)，來提高光源之使用效率及實現光學最佳化，然而，習知光學膜片皆為單獨製作之構件，因此，必須各別裁切後再組裝於背光模組中，倘若光學膜片使用數量增加，則裁切及組裝次數就會隨之增加，導致組裝及製作成本大幅提高。另外，習知雖有以壓合方式製作多層光學膜片，惟，各層光學膜片上之光學結構仍必須以不同製程分開製作，並於各別製作完後在壓合一起，上述作法雖可降低組裝成本，但製作成本仍高，且壓合層數最多只能達到3層，無法因應多層數需求。
　　本發明之主要目的係在於提供一種積體化光學膜之製作方法，其包含提供一光學基材，該光學基材係具有一第一表面及一相對於該第一表面之第二表面；滾壓該光學基材，以使該第一表面及該第二表面分別形成有一第一光學結構及一第二光學結構；壓合一第一光學膜材於該光學基材之該第一表面及壓合一第二光學膜材於該光學基材之該第二表面，以形成一複合光學膜材；摺疊該複合光學膜材，以使該複合光學膜材具有相互重疊之一第一部份與一第二部分以及一連接該第一部份與該第二部分之彎折部；以及壓合該複合光學膜材之該第一部份及該第二部分，以形成一積體化光學膜，本發明係以一連續製程製作光學結構及同時進行光學膜材壓合，且於連續製程中藉由摺疊再壓合技術可製作高層數之積體化光學膜，此外，本發明所製得之積體化光學膜係可取代習知多片組裝而成之光學膜片組，其功效上可大幅降低光學膜之組裝成本及製作成本。
　　請參閱第1及2A至2F圖，其係本發明之一較佳實施例，一種積體化光學膜之製作方法，其步驟係詳述如下：首先，請參閱第1圖之步驟(a)及第2A圖，提供一光學基材10，該光學基材10係具有一第一表面10a及一相對於該第一表面10a之第二表面10b，在本實施例中，該光學基材10係為一軟性基材；接著，請參閱第1圖之步驟(b)及第2B圖，滾壓該光學基材10，以使該第一表面10a及該第二表面10b分別形成有一第一光學結構11及一第二光學結構12，在本實施例中，其係分別利用一具有一第一微結構S1之第一滾輪R1及一具有一第二微結構S2之第二滾輪R2滾壓該光學基材10之該第一表面10a及該第二表面10b，以分別形成該第一光學結構11及該第二光學結構12，較佳地，該第二光學結構12係不同於該第一光學結構11；之後，請參閱第1圖之步驟(c)及第2C圖，以滾輪壓合方式壓合一第一光學膜材20於該光學基材10之該第一表面10a及壓合一第二光學膜材30於該光學基材10之該第二表面10b，以形成一複合光學膜材40，在本實施例中，該第一光學膜材20係覆蓋該光學基材10之該第一光學結構11，而該第二光學膜材30係覆蓋該光學基材10之該第二光學結構12，較佳地，該第一光學膜材20之折射率及該第二光學膜材30之折射率係不等於該光學基材20之折射率，且該第一光學膜材20之折射率係不等於該第二光學膜材30之折射率；接著，請參閱第1圖之步驟(d)及第2D圖，摺疊該複合光學膜材40，以使該複合光學膜材40具有相互重疊之一第一部份41與一第二部分42以及一連接該第一部份41與該第二部分42之彎折部43；之後，請參閱第1圖之步驟(e)及第2E圖，壓合該複合光學膜材40之該第一部份41及該第二部分42，以形成一積體化光學膜50；最後，請參閱第1圖之步驟(f)及第2F圖，對該積體化光學膜50進行一裁切步驟，以獲得適當尺寸之該積體化光學膜50，在本實施例中，該裁切步驟係包含切除該複合光學膜材40之該彎折部43。
　　本發明係以一連續製程製作光學結構及同時進行光學膜材壓合，且於連續製程中藉由摺疊再壓合技術可製作高層數之該積體化光學膜50，此外，本發明所製得之該積體化光學膜50係可取代習知多片組裝而成之光學膜片組，其功效上可大幅降低光學膜之組裝成本及製作成本。
　　本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準，任何熟知此項技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內所作之任何變化與修改，均屬於本發明之保護範圍。
10‧‧‧光學基材
10a‧‧‧第一表面
10b‧‧‧第二表面
11‧‧‧第一光學結構
12‧‧‧第二光學結構
20‧‧‧第一光學膜材
30‧‧‧第二光學膜材
40‧‧‧複合光學膜材
41‧‧‧第一部份
42‧‧‧第二部分
43‧‧‧彎折部
50‧‧‧積體化光學膜
R1‧‧‧第一滾輪
R2‧‧‧第二滾輪
S1‧‧‧第一微結構
S2‧‧‧第二微結構
(a)‧‧‧提供一光學基材，該光學基材係具有一第一表面及一相對於該第一表面之第二表面
(b)‧‧‧滾壓該光學基材，以使該第一表面及該第二表面分別形成有一第一光學結構及一第二光學結構
(c)‧‧‧壓合一第一光學膜材於該光學基材之該第一表面及壓合一第二光學膜材於該光學基材之該第二表面，以形成一複合光學膜材
(d)‧‧‧摺疊該複合光學膜材，以使該複合光學膜材具有相互重疊之一第一部份與一第二部分以及一連接該第一部份與該第二部分之彎折部
(e)‧‧‧壓合該複合光學膜材之該第一部份及該第二部分，以形成一積體化光學膜
(f)‧‧‧對該積體化光學膜進行一裁切步驟
第1圖：依據本發明之一較佳實施例，一種積體化光學膜之製作方法流程圖。
第2A至2F圖：依據本發明之一較佳實施例，該積體化光學膜之製作方法示意圖。
(a)‧‧‧提供一光學基材，該光學基材係具有一第一表面及一相對於該第一表面之第二表面
(b)‧‧‧滾壓該光學基材，以使該第一表面及該第二表面分別形成有一第一光學結構及一第二光學結構
(c)‧‧‧壓合一第一光學膜材於該光學基材之該第一表面及壓合一第二光學膜材於該光學基材之該第二表面，以形成一複合光學膜材
(d)‧‧‧摺疊該複合光學膜材，以使該複合光學膜材具有相互重疊之一第一部份與一第二部分以及一連接該第一部份與該第二部分之彎折部
(e)‧‧‧壓合該複合光學膜材之該第一部份及該第二部分，以形成一積體化光學膜
(f)‧‧‧對該積體化光學膜進行一裁切步驟

Claims (9)

  1. 一種積體化光學膜之製作方法，其包含：
    提供一光學基材，該光學基材係具有一第一表面及一相對於該第一表面之第二表面；
    滾壓該光學基材，以使該第一表面及該第二表面分別形成有一第一光學結構及一第二光學結構；
    壓合一第一光學膜材於該光學基材之該第一表面及壓合一第二光學膜材於該光學基材之該第二表面，以形成一複合光學膜材；
    摺疊該複合光學膜材，以使該複合光學膜材具有相互重疊之一第一部份與一第二部分以及一連接該第一部份與該第二部分之彎折部；以及
    壓合該複合光學膜材之該第一部份及該第二部分，以形成一積體化光學膜。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之積體化光學膜之製作方法，其另包含對該積體化光學膜進行一裁切步驟。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之積體化光學膜之製作方法，其中該裁切步驟係包含切除該複合光學膜材之該彎折部。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之積體化光學膜之製作方法，其中該第二光學結構係不同於該第一光學結構。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之積體化光學膜之製作方法，其中該第一光學膜材係覆蓋該第一光學結構。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之積體化光學膜之製作方法，其中該第二光學膜材係覆蓋該第二光學結構。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之積體化光學膜之製作方法，其中該第一光學膜材之折射率係不等於該光學基材之折射率。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之積體化光學膜之製作方法，其中該第二光學膜材之折射率係不等於該光學基材之折射率。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之積體化光學膜之製作方法，其中該第一光學膜材之折射率係不等於該第二光學膜材之折射率。
TW98134221A 2009-10-09 2009-10-09 積體化光學膜之製作方法 TWI424209B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW98134221A TWI424209B (zh) 2009-10-09 2009-10-09 積體化光學膜之製作方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW98134221A TWI424209B (zh) 2009-10-09 2009-10-09 積體化光學膜之製作方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201113569A TW201113569A (en) 2011-04-16
TWI424209B true TWI424209B (zh) 2014-01-21

Family

ID=44909670

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW98134221A TWI424209B (zh) 2009-10-09 2009-10-09 積體化光學膜之製作方法

Country Status (1)

Country Link
TW (1) TWI424209B (zh)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030223216A1 (en) * 2002-05-28 2003-12-04 Emmons Robert M. Multifunctional optical assembly

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030223216A1 (en) * 2002-05-28 2003-12-04 Emmons Robert M. Multifunctional optical assembly

Also Published As

Publication number Publication date
TW201113569A (en) 2011-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW557395B (en) Optical interference type reflection panel and the manufacturing method thereof
TWI603133B (zh) 液晶顯示器裝置、電子裝置及其製造方法以及製造經塗佈物件之方法
TW200413810A (en) Light interference display panel and its manufacturing method
JP2006507528A (ja) 曲面ディスプレイの製造方法
WO2016061850A1 (zh) 曲面液晶面板的制作方法
TWI489179B (zh) 製造導光板的方法、治具以及相關的導光板
JP2014514612A (ja) 接着剤層をもった偏光子アッセンブリー
JP2012501462A5 (zh)
JP2011086802A (ja) 積層コンデンサ、その製造方法、回路基板および電子機器
TW201317123A (zh) 複合板結構及其製造方法
CN112992998B (zh) 显示面板、显示装置及显示面板的制作方法
JP2023118748A (ja) 微細凹凸積層体及びその製造方法、並びに、カメラモジュール搭載装置
TWI424209B (zh) 積體化光學膜之製作方法
KR20150079054A (ko) 적층형 광학시트
US20180284535A1 (en) Display panels, wire grid polarizers, and the manufacturing methods thereof
WO2014188636A1 (ja) 表示装置の製造方法、表示装置及びフィルムデバイス
CN208421297U (zh) 导光结构、背光模组及显示装置
JP2004295090A5 (zh)
JP2007183379A5 (ja) 光学多層膜およびその成膜方法
US10213999B1 (en) Systems and methods for roll to roll laminations
TWI359960B (en) Color filter, liquid crystal display panel and liq
TWI549560B (zh) 弧形顯示裝置及其製作方法
JP2009012187A (ja) 積層フィルム及びその製造方法
TWM505981U (zh) 多層式透光膜塗佈裝置
KR101352055B1 (ko) 일체형 광학 필름 제조 방법 및 일체형 광학 필름

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees