TWI417634B - 投影裝置 - Google Patents

Description

投影裝置

本發明係有關於一種投影裝置；特別是有關於一種使用發光二極體之投影裝置。

隨著發光二極體(Light Emitting Diode)發光效率之提升及其種種優點(如高反應速度及高視角)，發光二極體漸漸成為目前投影裝置中光源之主要選擇。因為發光二極體另具有體積小、重量小以及長使用壽命之優點，因此目前成為投影裝置中光源之主流。

發光二極體實質上係為投影裝置內部元件中發熱功率最大的元件之一。一般小型化的LED投影裝置，由於其光源發熱功率較低及有限的內部空間，因此未有強制性的空氣冷卻機制，例如：未加裝風扇幫助空氣對流；但當LED投影裝置之亮度規格提高，發光二極體使用功率越來越大的同時，其發熱功率也將隨著使用功率而增加。一般會將散熱件(Heat Sink)接合於發光二極體以幫助散熱，但是對於小型化之LED投影裝置而言，由於其三色(R/G/B)光源分別設置於光線混合部之三側，且三光源實質上呈90度(以光線混合部為中心)，因其受限之內部空間將限制散熱件之最大尺寸及散熱件可裝設之位置，以及在入風口背風處之光源散熱不易，導致小型投影裝置之整體散熱效能亦將因此空間的限制而受到負面的影響。因此如何有效地利用內部空間、內部元件配置，使用數量最少之風扇可達到散熱目的，將成為提升小型投影裝置散熱效率之重要課題。

本發明之目的為提供一種投影裝置，具有較佳之整體散熱性能。本發明之投影裝置包含殼體、成像模組、光源模組、光線傳輸件及至少一個風扇，其中成像模組及光源模組係設置於殼體之內，光線傳輸件係用於傳輸光線，其兩端係分別接合於成像模組以及光源模組。光源模組輸出一目標光線至光線傳輸件並藉由光線傳輸件將目標光線傳輸至成像模組。

本發明之殼體包含第一開口以及第二開口，其中殼體及成像模組實質上包圍光源模組並形成實質上圍繞光源模組之環狀流道。風扇則是用於引導氣流自第一開口進入環狀流道並自第二開口離開殼體。本發明之光源模組包含至少第一光源、第二光源及光線混合部，其中光線混合部處理第一光源及第二光源所發出的光線以產生目標光線。此外，第一開口及第二開口將環狀流道實質上切割成一流阻較高及另一流阻較低之兩流道。本發明之光源及其他主要發熱元件係設置於環狀流道之兩流道中，其中光源係根據其耐溫規格或發熱功率而適應性地設置環狀流道中。在不同實施例中，風扇係設置於光源模組之上並引導氣流在環狀流道中圍繞光源模組流動。氣流之後將帶著環狀流道中元件之廢熱自第二開口離開殼體。在本實施例中，第二開口係形成於殼體上，且貼近環狀流道之部分，但不限於此。

本發明係提供一種投影裝置用於根據影像訊號輸出相對應之影像。本發明投影裝置包含一個光源模組，其中光源模組包含複數發光二極體。該等發光二極體較佳包含分別發出不同顏色之發光二極體。本發明之投影裝置具有複數通氣口以供風扇將冷卻氣流注入投影裝置中或將帶有廢熱之氣流吸出投影裝置之中。此外，本發明之投影裝置藉由元件在空間中的設置來在投影裝置中創造出一個圍繞光源模組之氣體流道，其中上述氣體流道中亦設有其他如電路元件等電子元件。風扇則是用於使冷卻氣流在氣體流道中流動並同時帶離光源模組及其他元件所產生之廢熱。

圖1A所示為本發明投影裝置100之示意圖。如圖1A所示，投影裝置100包含殼體200、成像模組300、光源模組400、光線傳輸件500及風扇600，其中成像模組300、光源模組400、光線傳輸件500係設置於殼體200之中。本實施例之風扇600則是選擇性地設置於殼體200之外表面或內部。在本實施例中，光線傳輸件500係用於傳輸光線且兩端分別接合於光源模組400及成像模組300。本實施例之光線傳輸件500係為一光導管，但不限於此；在不同實施例中，光線傳輸件500亦可為一光導柱或其他用於傳輸光線之元件。光源模組400藉由光線傳輸件500將光線傳輸至成像模組300。本實施例之成像模組300包含放映鏡頭模組310以及成像光學模組320，其中成像光學模組320係連接於光線傳輸件500以接受光線。成像光學模組320之後根據影像資料以處理光線而得到複數目標光線(影像)並藉由放映鏡頭模組310將目標光線投射於殼體200之外而形成影像。

殼體200包含第一開口220及第二開口230，其中本實施例之第二開口230係形成於靠近殼體200角落之位置。此外，在圖1A所示之實施例中，殼體200具有一個第一開口220作為入風口及一個第二開口230作為出風口，總共加起來兩個風口但不限於此；在不同實施例中，殼體200亦可選擇性地包含其他數目之風口。光源模組400則是設置於殼體200及成像模組300之間，其中環狀流道700係形成於光源模組400及殼體200和成像模組300之間。環狀流道700實質上包圍光源模組400，且第一開口220及第二開口230係位於環狀流道之相對側。風扇600則是用於引導氣流250自第一開口220進入環狀流道中，並通過環狀流道後自第二開口230離開殼體200。在本實施例中，風扇600係設置於殼體200內部靠近第一開口220之位置，但不限於此；風扇600亦可設置於殼體200外靠近第一開口220或其他合適之位置。

請同時參考圖1A及圖1B所示之實施例。環狀流道700包含第一流道710及第二流道720，第一流道710及第二流道720實質上起始並分支於殼體200中靠近第一開口220之位置並可會合於靠近第二開口230之位置。此外，在圖1A及圖1B所示，第一流道710及第二流道720所占的範圍實質上係由虛線所界定，於本實施例中，由於第一流道710之長度係小於第二流道720之長度，因此在本實施例中，第一流道710的流阻係小於第二流道720的流阻。此外，第二流道720係位於光源模組400以及成像模組300之間，由於光線傳輸件500亦屬發熱元件之一，因此將光線傳輸件500設置於第二流道720之中，可幫助光線傳輸件500的散熱。如圖1A所示，本實施例之光線傳輸件500實質上係垂直於第二流道，且氣流250係以垂直方式與光線傳輸件500接觸。如圖1A所示，第一開口220及第二開口230將環狀流道700分割成一流阻較高及一流阻較低的兩流道。在本實施例中，由於第一流道710之長度係小於第二流道720之長度，因此第一流道710的流阻係小於第二流道720的流阻。此外，本實施例係根據流道710、720之長度來說明流道710、720之整體流阻，但不限於此；其他如氣流250之流速、流道710、720本身的面積、長度及寬度等因素亦將影響流道710、720之整體流阻。在圖1A所示之實施例中，光源模組400包含第一光源410、第二光源420、第三光源430以及光線混合部440。光源410、420及430係選擇性設置於環狀流道光線混合部440之周圍，其中光線混合部440之一側係連接於光線傳輸件500。光源410、420及430分別向光線混合部440射出具有不同顏色或波長之光線，而光線混合部440將接受該等光線並向光線傳輸件500輸出白光。在本實施例中，光源410、420及430分別為輸出綠、紅及藍三色之發光二極體，但不限於此；光源410、420及430亦包含發出白光或其他色光之發光二極體。此外，由於第一流道710之長度係小於第二流道720之長度，因此流道710及720分別包圍光源模組400之光線混合部440不同部分之周圍。如圖1A所示，第一流道710包圍光線混合部440周圍之比例係小於第二流道720包圍光線混合部440周圍之比例。上述兩流道710、720包圍光線混合部440的比例可藉由改變第一開口220及第二開口230之位置來進行調整。換言之，第一流道710及第二流道720係以光線混合部440為中心分別以一環繞角度圍繞著光線混合部440之不同部分，其中第一流道710圍繞光線混合部440之環繞角度係小於第二流道720之環繞角度。由於第一開口220及第二開口230同時是流道710、720之兩端，因此上述兩流道710、720之環繞角度可藉由改變第一開口220及第二開口230設置於殼體200之位置來進行調整。此外，本實施例之開口220、230係分別形成於殼體200之一側面及一角落，但不限於此；在不同實施例中，開口220、230亦可根據光源410、420及430之位置、流道710、720面積、長度及寬度或其他因素形成於殼體200之不同部分。換言之，環狀流道700本身的環狀形態使得開口220、230可選擇性地設置於殼體200合適之位置。

此外，在本實施例中，光源410、420及430係為三個分別對應於發光二極體。發光二極體光源來說，在溫度超過其耐溫規格的情況下，該光源之發光率及壽命將會受到影響。換言之，在正常運作情況下，設計者應避免光源410、420及430所在位置之溫度高於該光源之耐溫規格。在本實施例中，光源410、420及430分別係為發出綠色、紅色及藍色之發光二極體。光源410、420及430之耐溫規格實質上約為攝氏130度、90度及120度，但不限於此；在不同實施例中，上述光源410、420及430之耐溫規格亦可根據製造材料或其他因素的不同而有所改變。由於光源410、420及430分別具有不同的耐溫規格及發熱功率，而光源410、420及430之位置也將因上述參數而有所不同。本發明光源410、420及430之耐溫規格及發熱功率大小順序不必然相同，因此不同實施例中的光源410、420及430的設置位置亦因不同的參數而有所不同。因此，以下藉由圖1A及圖1C之實施方式分別針對光源410、420及430之耐溫規格及發熱功率來做說明。

此外，在圖1A所示之實施例中，第一光源410具有最大之發熱功率。因此第一光源410所產生之廢熱需有效率地被帶出，以避免第一光源410因過熱而損壞，以及避免第一光源410的廢熱影響其他光源。為此第一光源410以及第一散熱件900係設置於第一流道710中以更有效率地帶出第一光源410所發出的廢熱至殼體200外。此外，由於第二光源420之發熱功率較第一光源410及第三光源430為小，因此第二光源420係設置於環狀流道700中靠近第一開口220之位置。此外，在本實施例中，第三光源430之發熱功率係大於第二光源420之發熱功率。第三光源430係設置於靠近第二開口230之位置而第二光源420係設置於靠近第一開口220之位置。如此一來，第三光源430所發出之廢熱將較易被帶出殼體200之外。此外，如圖1A所示，環狀流道700靠近第二開口230之部分實質上係介於第一光源410及第三光源430之間。因此可以分別藉由流道710帶出第一光源410所產生之廢熱氣流及藉由流道720帶出第二光源420與第三光源430所產生之廢熱氣流250,其將可實質上同時自第二開口230離開。此外，在本實施例中，第一光源410及第三光源430分別係設置於第一流道710及第二流道720中，但不限於此；在不同實施例中，第一光源410及第三光源430可分別根據氣流250之流向、光源410及430散熱之需要或其他設計上的需求將第一光源410及第三光源430的位置互換。換言之，第一光源410可選擇性設置第一流道710或第二流道720中，第三光源430亦可選擇性設置於第一流道710或第二流道中。

圖1C所示為本發明實施例之示意圖。在本實施例中，第一光源410及第二光源420分別具有最大及最小之耐溫規格；而第三光源430之耐溫規格係介於第一光源410及第二光源420之間。在本實施例中，由於第二光源420之耐溫規格最低，因此第二光源420係設置於環狀流道700中靠近第一開口220的位置。藉此，第二光源420可優先接觸風扇600所帶入之較冷氣流250，也因此第二光源420產生之廢熱將優先被帶離以避免第二光源420因過溫而產生故障。此外，由於第一光源410較光源420、430耐溫規格高，因此第一光源410較可容忍其上游光源420所發出之廢熱而設置於第二流道720中且靠近第二開口230之位置。第三光源430係設置於第一流道710中。此外，在圖1A及圖1C所示之實施例中，設計者可根據投影裝置之整體規格要求，選擇性地根據光源410、420、430之發熱功率或耐溫規格來將光源410、420、430設置於環狀流道700之不同位置，但不限於此。

圖1D所示為圖1A中第三散熱件920之側面圖。第三散熱件920包含複數散熱鰭片930，以相互平行方式自第三散熱件920延伸而出。如圖1D所示，散熱鰭片930之間夾有間隙以供氣流250流過散熱鰭片930並同時帶走散熱鰭片930之廢熱。本發明之第一散熱件900及第二散熱件910亦包含複數實質上相同於第三散熱件920之散熱鰭片930之翼片，且兩散熱件900、910之結構實質上相同於第三散熱件920，因此在此不再贅述。此外，在本實施例中，散熱鰭片930係設置於環狀流道中靠近光源之位置且散熱鰭片930之延伸方向較佳係平行於環狀流道之延伸方向，但不限於此；此外，投影裝置100另包含電路元件1000，其中電路元件1000進一步包含光源驅動電晶體1010及電流回饋感測電阻1020。光源驅動電晶體1010係電性連接並驅動光源410、420及430至少其中之一以發出具有不同波長之光線。電流回饋感測電阻1020係電性連結光源模組400並用於感測光源410、420及430及其他元件之電流並根據測得的電流提供一回授控制訊號，其中本實施例之回授控制訊號係與光源410、420及430之輸出光線亮度成正相關，因此可作為光源驅動電晶體1010驅動光源410、420及430輸出光線亮度之依據，但不限於此；電流回饋感測電阻1020所產生的回授控制訊號亦可作為其他控制功能之依據。電性連接於光源模組400之第一光源410、第二光源420及第三光源430。電路元件1000係用於驅動光源發出具有不同波長之光線。電路元件1000亦將發出廢熱；因此在本實施例中，電路元件1000可設置於環狀流道700中，並可依空間或整體散熱之要求而選擇性地設置於第一流道710或第二流道720中。本實施例之電路元件1000係為散離電晶體(Discrete Transistor)，但不限於此；在不同實施例中，電路元件1000亦包含其他電晶體或合適之電力電子(Power Electronics)元件。此外，本實施例之電路元件1000係設置於第二流道720中靠近光線傳輸件500之位置，但不限於此；在不同實施例中，電路元件1000亦可設置於光線傳輸件500與殼體200之間的夾縫中或環狀流道700之其他部分。

圖2所示為本發明投影裝置100之另一實施例。如圖2，投影裝置100包含第一風扇610及第二風扇620，分別設置於殼體200中靠近第一開口220之位置。第一風扇610對應第一流道710並引導氣流250自第一開口220流入第一流道710並最終自第二開口230離開。第二風扇620對應第二流道720並引導氣流250自第一開口220流入第二流道720並同樣地自第二開口230離開。此外，由於本實施例使用兩個風扇610及620，因此本實施例之投影裝置100之整體氣體流量係大於圖1A所示實施例之氣體流量。

圖3A所示為圖2所示投影裝置100之變化實施例。如圖3A所示，第二風扇620係設置於殼體200之第二流道720中。在圖3A所示之實施例中，投影裝置100另包含第一隔板810、第二隔板820、第三隔板830及第四隔板840。第一隔板810係設置於第一風扇610及光線混合部440之間並將第一流道710及第二流道720實質上隔離，藉此避免兩流道中氣流250的廢熱在第一開口220處接觸而混合。本實施例之第二隔板820係設置於第二流道720中並且在光線混合部440和第二散熱件910之間。此外，第二隔板820自光線混合部440延伸而出，其中部分第二隔板820係位於第二風扇620之側邊。第二隔板820係用於確保氣流250將不會繞過第二風扇620而直接流到第二流道720中並確保第二流道720中氣流250流動之通暢。第三隔板830係設置於殼體200中靠近第二開口230之位置，其中第三隔板830係介於光線混合部440及第二開口230之間。本實施例之第三隔板830係用於在第二開口230隔離第一流道710及第二流道720之出口氣流250，藉此避免兩流道中氣流250的廢熱於第二開口230會合處因接觸而混合。此外，第四隔板840設置於環狀流道700及成像模組300之間，以用於實質上阻擋環狀流道700之氣流250與成像模組300之接觸。換言之，隔板840係用於避免帶有廢熱之氣流250直接接觸到放映鏡頭模組310並使得放映鏡頭模組310所發出的目標光線發生熱失真的現象。

圖3B所示為圖3A所示投影裝置100之變化實施例。如圖3B所示，第一風扇610及第二風扇620將氣流250自第二開口230吸入環狀流道700中，之後氣流250將自第一開口220離開殼體200。如此一來，第一開口220及第二開口230可藉由改變第一風扇610及第二風扇620引導氣流250的方向，來選擇性作為投影裝置100之入風口及出風口。此外，由於氣流之流向係相反於圖3A中氣流之流向。因此在本實施例中，第三光源430之耐溫規格最低，第二光源420的耐溫規格為最高而第一光源410之耐溫規格係介於第一光源410及第三光源430之間。換言之，光源410、420及430可根據其性能的不同以藉由位置的改變來配合氣流的流向。

圖4所示為圖3A所示投影裝置100之變化實施例。如圖4所示，成像模組300包含一光學影像處理單元330，其中光學影像處理單元330係位於殼體200角落之位置，如圖4所示殼體200之左下角。此外，光學影像處理單元330係接合於第四散熱件940，以供第四散熱件940接受光學影像處理單元330所產生之廢熱並藉由氣流250將廢熱帶出第三開口240。本實施例之光學影像處理單元330係為數位微型反射鏡元件(Digital Micromirror Device)，用於根據影像訊號之控制以處理光線以形成影像，但不限於此；在不同實施例中，光學影像處理單元330亦可包含矽基液晶(Liquid Crystal on Silicon)或其他可根據影像訊號處理光線之元件。此外，本實施例之電路元件1000進一步包含影像處理控制晶片1030，電性連接並控制光學影像處理單元330中微型反射鏡之方位。藉此，影像處理控制晶片1030可控制光學影像處理單元330所形成之影像。此外，殼體200更包含第三開口240，形成於殼體200靠近光學影像處理單元330之位置並形成自第二流道720延伸而出之分支流道730。由於分支流道730及第二流道720共享第二風扇620所帶入之氣流250，因此分支流道730可視為第二流道720的一個支流。換言之，部分氣流250將自第二流道720進入分支流道730並自第三開口240離開殼體200。如此可有效地將光學影像處理單元330(亦可稱為熱源)所產生之廢熱帶出。

如圖4所示，投影裝置100進一步包含分流隔板裝置850，設置於第二流道720及分支流道730之間。分流隔板裝置850 係用於隔離第二流道720及分支流道730之間的氣流250，以避免第二流道720及分支流道730中氣流250相互接觸並因此使得之廢熱混合。在本實施例中，分流隔板裝置850係設置於第二流道720中較靠近分支流道730之位置，但不限於此；在不同實施例中，分流隔板裝置850亦可根據氣流250在第二流道720或分支流道730中的流量需要而選擇性設置於第二流道720中之其他位置。此外，分流隔板裝置850之尺寸、導引角度、設定分隔位置等亦可根據氣流250在第二流道720或分支流道730中的流量比例之需要而選擇性調整，藉此來分配第二流道720及分支流道730中氣流250的流量。如此一來，設計者可根據氣流250之流向及第二流道720及分支流道730中元件排熱之需要，來調整分流隔板裝置850之位置。換言之，設計者可由調整分流隔板裝置850的位置來分配第二流道720及分支流道730中氣流250的流量。

圖5所示為圖4所示投影裝置100之另一變化實施例。如圖5所示，第二風扇620係設置於第二流道720中靠近第三光源430之位置並實質上面對光學影像處理單元330。第二風扇620係同時引導氣流250自第一開口220及第三開口240進入環狀流道，並最終自第二開口230離開殼體200。由於進入殼體200之氣流250流量係大於其他實施例中進入殼體200之氣流250流量，因此第二開口230的尺寸係相對應增大，以供所有進入殼體200之氣流250能自第二開口230離開並避免因氣體淤積而產生的廢熱堆積現象。

圖6A及圖6B所示分別為本發明投影裝置100另一實施例之剖面圖及側視圖。如圖6A及圖6B所示，風扇600係設置於光源模組400之上並將氣流250吹入環狀流道700並圍繞光源模組400流動。氣流250之後將自第二開口230離開殼體200，其中本實施例之第二開口230係形成於殼體200之側壁上，但不限於此。風扇600亦可將氣流250自第二開口230及第三開口240吸入環狀流道700，之後氣流250將經由風扇600離開殼體200。如圖6B所示，風扇600包含第一側630及第二側640，其中本實施例之第一側630及第二側640係為相對。此外，在本實施例中，氣流250係自第一側630進入風扇600並自第二側640吹出至殼體200中。在本實施例中，第一開口(未繪示)係形成於殼體200之頂面並對應於風扇600之第一側630。換言之，至少部分風扇600係對應設置於第一開口中。在本實施例中，風扇600之第一側630係位於環狀流道700中並實質上面對光源模組400。本實施例之風扇600係設置於殼體200之內，且風扇600將氣流250自殼體200外引導至環狀流道並同時吹向第一光源410、第一散熱件900、第二光源420、第二散熱件910、第三光源430、第三散熱件920、光線傳輸件500、光線混合部440以及電路元件1000。氣流250之後將帶著上述元件之廢熱自第二開口230離開殼體200。

在圖6A所示之實施例中，第二開口230係環繞環狀流道700形成於殼體200之側壁210。在本實施例中，第二開口230係為一個環繞設置於殼體200上之連續開口，但不限於此；在不同實施例中，第二開口230亦可包含複數不連續之開口，分佈於殼體200的側壁210之上。

雖然前述的描述及圖式已揭示本發明之較佳實施例，必須瞭解到各種增添、許多修改和取代可能使用於本發明較佳實施例，而不會脫離如所附申請專利範圍所界定的本發明原理之精神及範圍。熟悉該技藝者將可體會本發明可能使用於很多形式、結構、佈置、比例、材料、元件和組件的修改。因此，本文於此所揭示的實施例於所有觀點，應被視為用以說明本發明，而非用以限制本發明。本發明的範圍應由後附申請專利範圍所界定，並涵蓋其合法均等物，並不限於先前的描述。

100．．．投影裝置

200．．．殼體

210．．．側壁

220．．．第一開口

230．．．第二開口

240．．．第三開口

250．．．氣流

300．．．成像模組

310．．．放映鏡頭模組

320．．．成像光學模組

330．．．光學影像處理單元

400．．．光源模組

410．．．第一光源

420．．．第二光源

430．．．第三光源

440．．．光線混合部

500．．．光線傳輸件

600．．．風扇

610．．．第一風扇

620．．．第二風扇

630．．．第一側

640．．．第二側

700．．．環狀流道

710．．．第一流道

720．．．第二流道

730．．．分支流道

800．．．隔板

810．．．第一隔板

820．．．第二隔板

830．．．第三隔板

840．．．第四隔板

850．．．分流隔板裝置

900．．．第一散熱件

910．．．第二散熱件

920．．．第三散熱件

930．．．散熱鰭片

940．．．第四散熱件

1000．．．電路元件

1010．．．光源驅動電晶體

1020．．．電流回饋感測電阻

1030．．．影像處理控制晶片

圖1A所示為本發明投影裝置之示意圖，其中殼體及成像模組包圍光源模組並形成一個環狀流道；

圖1B所示為本發明投影裝置之另一示意圖；

圖1C所示為本發明投影裝置另一實施例之示意圖；

圖1D所示為圖1A中第三散熱件之側面圖；

圖2所示為本發明投影裝置之另一實施例，其中第一風扇及第二風扇係分別設置於第一流道及第二流道中；

圖3A所示為圖2所示投影裝置之變化實施例，其中投影裝置包含複數用於隔離氣流之隔板；

圖3B所示為圖3A所示之變化實施例，其中兩實施例之氣流流動方向係實質上相反；

圖4所示為圖3A所示投影裝置之變化實施例。其中環狀流道進一步包含分支流道，自第二流道延伸而出；

圖5所示為圖4所示投影裝置之另一變化實施例，其中風扇係設置於殼體之中；以及

圖6A及圖6B所示分別為本發明投影裝置另一實施例之剖面圖及側視圖，其中風扇係設置於光源模組之上並引導氣流圍繞光源模組流動。

100．．．投影裝置

200．．．殼體

220．．．第一開口

230．．．第二開口

250．．．氣流

300．．．成像模組

310．．．放映鏡頭模組

320．．．成像光學模組

400．．．光源模組

410．．．第一光源

420．．．第二光源

430．．．第三光源

440．．．光線混合部

500．．．光線傳輸件

600．．．風扇

700．．．環狀流道

710．．．第一流道

720．．．第二流道

800．．．隔板

900．．．第一散熱件

910．．．第二散熱件

920．．．第三散熱件

1000．．．電路元件

1010．．．光源驅動電晶體

1020．．．電流回饋感測電阻

Claims (24)

1. 一種投影裝置，包含：一殼體，包含一第一開口及一第二開口；一成像模組，設置於該殼體中；一光源模組，設置於該殼體中，供輸出一目標光線，該殼體及該成像模組包圍該光源模組以形成一環狀流道，且該第一開口及該第二開口切割該環狀流道中以形成一第一流道及一第二流道；一電路元件，設置於該殼體中，該電路元件設置於該第二流道中；一光線傳輸件，設置於該第二流道中，一端係連接於該光源模組，另一端連接於該成像模組，該光線傳輸件可接受並傳輸該光源模組所輸出之該目標光線至該成像模組；以及至少一風扇，設置於該殼體中，供引導一氣流由該第一開口進入該第一流道及該第二流道並自該第二開口離開，其中該光線傳輸件之光線傳輸方向實質垂直於通過該光線傳輸件之氣流方向。
2. 如請求項1所述之投影裝置，其中該光源模組包含一第一光源及一第二光源，其中該第一光源之耐溫規格係大於該第二光源之耐溫規格，該第一光源及該第二光源係設置於該環狀流道中，且該第二光源係位於靠近該第一開口之位置。
3. 如請求項1所述之投影裝置，其中該光源模組包含一第一光源及一第二光源，其中該第一光源之發熱功率係大於該第二光源之發熱功率，該第一光源及該第二光源係設置於該環狀流道中，且該第二光源係位於靠近該第一開口之位置。
4. 如請求項1所述之投影裝置，其中該電路元件包含一光源驅動電晶體，電性連接於該光源模組並驅動該光源模組。
5. 如請求項1所述之投影裝置，其中該電路元件包含一電流回饋感測電阻，電性連接於該光源模組並感測該光源模組之電流。
6. 如請求項1所述之投影裝置，其中該電路元件包含一影像處理控制晶片，電性連接於該成像模組並控制該成像模組。
7. 如請求項1所述之投影裝置，其中該風扇係設置於該環狀流道中。
8. 如請求項1所述之投影裝置，其中該環狀流道包含一第一流道及一第二流道，分別以該光源模組為中心環繞該光源模組不同部分，其中該第一流道環繞該光源模組之環繞角度係小於該第二流道環繞該光源模組之環繞角度。
9. 如請求項1所述之投影裝置，其中該環狀流道包含一第一流道及一第二流道，分別具有相對應之一流阻，其中該第一流道之該流阻係小於該第二流道之該流阻。
10. 如請求項9所述之投影裝置，其中該環狀流道之該第一流道及該第二流道自該殼體中靠近該第一開口之位置分支，該第一流道及該第二流道係自該殼體中靠近該第二開口之位置會合。
11. 如請求項10所述之投影裝置，進一步包含至少一隔板，供實質上隔離該第一流道中之該氣流及該第二流道中之該氣流，該隔板係選擇性設置於該第一流道及該第二流道分支於該第一開口之位置或該第一流道及該第二流道會合於該第二開口之位置。
12. 如請求項1所述之投影裝置，另包含一熱源位於該殼體中，該 殼體更包含一第三開口，設置於該熱源附近並形成一分支流道，該分支流道係由該環狀流道延伸而出。
13. 如請求項12所述之投影裝置，進一步包含一分流隔板裝置，設置於該環狀流道及該分支流道之間。
14. 如請求項1所述之投影裝置，其中該殼體具有一頂面及複數個側壁，該第一開口設置於該頂面，該第二開口設置於該些側壁上，該風扇係設置於該第一開口處，供引導該氣流於該環狀流道實質上圍繞該光源模組流動，且該氣流自該第二開口離開該殼體，該風扇包含一第一側以及一第二側，該第一側實質上面對該第一開口，該第二側實質上面對該光源模組。
15. 如請求項14所述之投影裝置，其中該風扇之尺寸實質上對應於該環狀流道之尺寸。
16. 一種投影裝置，包含：一殼體，包含一第一開口及一第二開口；一成像模組，設置於該殼體中；一光源模組，設置於該殼體中，供輸出一目標光線，該殼體及該成像模組包圍該光源模組以形成一環狀流道，且該第一開口及該第二開口切割該環狀流道以形成一流阻較低之第一流道及一流阻較高之第二流道，該光源模組包含一第一光源、一第二光源以及一第三光源，其中該第二光源之耐溫規格低於該第一光源及該第三光源，該第一光源設置於該第二流道，該第三光源設置於該第一流道，該第二光源設置於該第一開口處；以及至少一風扇，供引導一氣流由該第一開口進入該第一流道及該第二流道並自該第二開口離開。
17. 如請求項16所述之投影裝置，其中該環狀流道之該第一流道及該第二流道自該殼體中靠近該第一開口之位置分支，該第一流道及該第二流道係自該殼體中靠近該第二開口之位置會合。
18. 如請求項17所述之投影裝置，進一步包含一散熱件，其包含複數個互相平行之散熱鰭片，該散熱件設置於於該第一流道及該第二流道分支於該第一開口附近之位置，且耦合於該第二光源，該散熱件引導該氣流進入該第一流道及該第二流道。
19. 如請求項16所述之投影裝置，其中該第一光源之耐溫規格最高，該第三光源之耐溫規格係介於該第一光源之耐溫規格和該第二光源之耐溫規格之間。
20. 一種投影裝置，包含：一殼體，包含一第一開口及一第二開口；一成像模組，設置於該殼體中；一光源模組，設置於該殼體中，供輸出一目標光線，該殼體及該成像模組包圍該光源模組以形成一環狀流道，且該第一開口及該第二開口切割該環狀流道以形成一第一流道及一第二流道，該光源模組包含一第一光源、一第二光源及一第三光源，其中該第二光源之發熱功率係低於該第一光源及該第三光源之發熱功率，該第二光源係設置於該環狀流道中靠近該第一開口之位置；以及至少一風扇，供引導一氣流由該第一開口進入該第一流道及該第二流道並自該第二開口離開。
21. 如請求項20所述之投影裝置，其中該環狀流道包含一第一流道及一第二流道，分別以該光源模組為中心環繞該光源模組不 同部分，其中該第一流道環繞該光源模組之環繞角度係小於該第二流道環繞該光源模組之環繞角度。
22. 如請求項20所述之投影裝置，其中該環狀流道包含一第一流道及一第二流道，分別具有相對應之一流阻，該第一流道之流阻係小於該第二流道之流阻。
23. 如請求項22所述之投影裝置，其中該風扇包含一第一風扇及一第二風扇，分別設置於該第一流道及該第二流道中，該第一風扇係用於引導該氣流於該第一流道流動，該第二風扇係用於引導該氣流於該第二流道中流動。
24. 如請求項22所述之投影裝置，其中該第三光源係設置於該環狀流道之該第二流道中，該第一光源係設置於該第一流道中。