TWI408116B - 顯示器用玻璃基板 - Google Patents

Description

顯示器用玻璃基板

本發明係關於一種顯示器用玻璃基板，尤其關於一種使用於液晶顯示器之玻璃基板。

如第1圖所示，液晶顯示器之構造係為將液晶晶元(cell)1夾設於2片玻璃基板內，亦即，背面玻璃基板2(陣列用玻璃基板)與前面玻璃基板3(彩色濾光片用玻璃基板)內。

陣列用玻璃基板2係於與液晶晶元1接觸側之基板表面形成有薄膜電晶體(TFT)4、透明之像素電極5及配向膜6，而於其相反側表面則黏貼有偏光板7。

此外，彩色濾光片用玻璃基板3係在與液晶晶元1接觸側之基板表面形成有透明之對向電極8、紅、藍、綠之彩色濾光片9及配向膜10，而其相反側表面則黏貼有偏光板11。另外，黏貼在陣列用玻璃基板2之偏光板7之偏光方向與黏貼在彩色濾光片用玻璃基板3之偏光板11之偏光方向係呈相互正交。

在陣列用玻璃基板2之背後設有背光源(back light)12。在筆記型個人電腦等所使用之液晶顯示器中，背光源12係具有例如將數支細徑冷陰極管之光穿經擴散板(未圖示)而導入至液晶晶元之結構。

液晶顯示器之顯示原理之概要係如下所述。藉由將由薄膜電晶體4控制之電壓施加於像素電極5與對向電極8 之間，而使液晶晶元1內之液晶分子13筆直地排列，而由黏貼於陣列用玻璃基板2之偏光板7所偏光之從背光源12所發出之光之振動方向，由於不會在液晶晶元1內旋轉(旋光)，因此光會在黏貼於彩色濾光片用玻璃基板3之偏光板11被遮斷，而呈現出黑色。反之，未將電壓施加於電極間時，由於液晶晶元1內之液晶分子13係維持於被扭轉之狀態，因此由黏貼於陣列用玻璃基板2之偏光板7所偏光之從背光源12所發出之光的振動方向會在液晶晶元1內旋轉(旋光)，且穿透黏貼於彩色濾光片用玻璃基板3之偏光板11，而呈現出紅、藍或綠。如此，藉由控制液晶晶元內之液晶分子之排列，來控制來自背光源之光之振動方向，且藉由黏貼於彩色濾光片用玻璃基板之偏光板使光穿透或遮斷而使圖像顯示。

然而，以玻璃基板而言，係使用以浮移(float)法、槽孔下拉(Slot Down Draw)法、溢流下拉(Overflow Down Draw)法、重拉(Redraw)法等而將玻璃熔爐所熔融之玻璃熔液成形為一定之厚度，並切割為預定尺寸之大小者。

通常，藉由上述方法所製造之玻璃基板會殘留有應變，且於玻璃基板產生光程延遲(retardation)，而使穿透光之偏光狀態產生變化。因此，若將殘留有應變之玻璃基板使用於液晶顯示器用途時，則在原本光應被遮斷之部位會產生漏光，而會有在整體畫面或一部分產生亮度不均之問題。為了解決此問題，雖可考慮對於切割為預定尺寸之玻璃基板施以退火處理，而將殘留於玻璃基板之應變量縮 小，惟會有耗費處理時間與成本之問題。

因此，為了防止亮度不均之產生，在專利文獻1中，乃提出一種將所使用之玻璃基板之厚度與光彈性常數之乘積限制在預定值以下之方案。此外，在專利文獻2中，則提出一種將所使用之玻璃基板之玻璃熱膨脹係數、楊氏係數(Young’s modulus)及光彈性常數之乘積限制在預定值以下之方案。

專利文獻1：日本特開2001－255517號公報 專利文獻2：日本特開2001－172041號公報

近年來，由於顯示器大型化之進展，玻璃基板之尺寸亦隨之而趨於變大。

然而，玻璃基板變得愈大，則所殘留之應變量就有變得愈大之傾向，即使使用專利文獻1及2所揭示之玻璃基板，亦會有在整體畫面產生亮度不均之情形。

本發明之目的在提供一種即使大畫面亦可抑制液晶顯示器產生亮度不均之液晶顯示器用玻璃基板。

本發明人經各種檢討之結果，發現將藉由與玻璃基板面正交之光把玻璃基板面內之光程延遲設為△(nm)、且將該光程延遲相對於玻璃基板之邊方向的方位角設為θ(∘)之際，把玻璃基板面內由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值之不均現象予以減少，亦即，藉由將玻璃基板面內之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值之變化率抑制在一定值以下，即可於製成液晶顯示 器之際，抑制亮度不均之產生，故而提出本發明。

亦即，本發明之顯示器用玻璃基板之特徵為：將藉由與玻璃基板面正交之光以50mm之間隔測量玻璃基板面內而獲得之光程延遲設為△(nm)、將該光程延遲相對於玻璃基板之邊方向之方位角設為θ(∘)、且將任意測量點a處之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值設為A、將與測量點a相鄰之測量點a’處之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值設為A’之際，相鄰之測量點a、a’之值A、A’之變化率((A－A’)/50)為4.0×10^－7 以下。

由於本發明之玻璃基板係將藉由與玻璃基板面正交之光把玻璃基板面內之光程延遲設為△、將該光程延遲相對於玻璃基板之邊方向之方位角設為θ之際，在玻璃基板面內，將相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值之變化率減小，因此於製成液晶顯示器之際，可抑制亮度不均之產生。因此，可適於作為使用於液晶顯示器之顯示器用玻璃基板。

顯示器亮度不均之產生並不僅是因為玻璃基板之光程延遲之大小，亦會由於該光程延遲相對於玻璃基板之邊方向之方位角或此等之分布狀態而受到影響。

因此，如上所述，本發明之顯示器用玻璃基板係由於將相鄰之測量點處之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/ 550)}² 所求得值之變化率減小成為4.0×10^－7 以下，因此在製成液晶顯示器之際，可抑制亮度不均之產生。另外，若相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值的變化率變得較4.0×10^－7 更大，則在製成液晶顯示器之際，整體畫面會容易產生亮度不均。此值之較佳範圍係為3.8×10^－7 以下，而更佳為3.6×10^－7 以下。

另外，為了更確實地抑制亮度不均之產生，在上述以外，另以在各測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值設為3.5×10^－5 以下為佳。

為了獲得上述之玻璃基板，例如，以成形爐(成形體)將玻璃熔爐中所熔融之玻璃熔液成形為板狀玻璃(玻璃帶(glass ribbon))之際，以玻璃帶端部之厚度與玻璃帶中央部之厚度大致相同之方式成形，或於用徐冷爐將已成形之玻璃帶予以徐冷(冷卻)之際，只要以玻璃帶寬度方向之溫度分布儘可能減小之方式予以冷卻即可。

另外，在成形步驟中，以玻璃帶端部之厚度與玻璃帶中央部之厚度大致相同之方式成形之理由，係由於玻璃帶端部之厚度若與玻璃帶中央部之厚度不同，則在成形後之冷卻步驟中，冷卻速度會在玻璃帶之端部與中央部不同，結果，就會有在玻璃基板面內之光程延遲之大小或其方位角容易產生參差不齊之情形。為了使玻璃帶端部之厚度與玻璃帶中央部之厚度相同，係可藉由將用以將玻璃熔液延伸成形為玻璃帶之成形輥(roll)等之旋轉速度等予以調整來進行。

此外，在藉由徐冷爐之冷卻步驟中，為了要將玻璃帶在寬度方向之溫度分布儘可能地減小，可藉由以下之方式來進行。

(1)為使玻璃帶均一地加熱，將加熱器(heater)之數量增多。

(2)為使來自加熱器之熱均勻地傳導至玻璃帶，在加熱器與玻璃帶之間設置均熱板。

(3)為使玻璃帶之中央部與端部之冷卻速度差變小，在玻璃帶之端部設置圍柵，或於該部分配置多個加熱器。

(4)使玻璃之板拉伸速度減低(減慢)。

另外，在成形爐將玻璃熔液成形為玻璃帶之後，一面朝垂直方向(下方向)進行板拉伸，一面在徐冷爐進行冷卻(徐冷)之後，藉由切割而獲得玻璃基板之溢流下拉法或槽孔下拉法，係與將玻璃熔液朝水平方向進行板拉伸、徐冷、切割而獲得玻璃基板之浮移法不同，係低溫之氣流總是從屬於低溫環境之切割步驟，朝屬於高溫環境之徐冷爐及成形爐之方向，沿著玻璃帶之表面上升，而上升之低溫氣流在徐冷爐等內部加熱之後，其一部分通過周壁部之間隙而洩漏至外部環境，因此徐冷爐或成形爐之環境溫度容易變動。結果，以溢流下拉法或槽孔下拉法所成形之玻璃基板，就會在玻璃基板面內之光程延遲之大小或其方位角容易產生參差不齊。

因此，在藉由溢流下拉法或槽孔下拉法將玻璃基板成形時，除須將玻璃帶之端部與中央部之厚度作成大致相 同、將溫度分布減小外，尚須要抑制在徐冷爐或成形爐中之低溫氣流之上升。

另外，為了抑制徐冷爐或成形爐中之低溫氣流之上升，只要於徐冷爐內設置對流防止板，或使用送風機等將成形爐或徐冷爐之外部環境之氣壓調整成較高等方式，而使成形爐或徐冷爐內之空氣難以洩漏至外部環境即可。

此外，在上述之方法以外，亦可將玻璃中之SiO₂ 或Al₂ O₃ 或B₂ O₃ 之含量增多，而使玻璃之熱膨脹係數減小，或將鹼土類金屬氧化物之含量增多，而使玻璃之光彈性常數減小。

此外，對容易殘留形變，且容易顯著呈現亮度不均之大型玻璃基板，具體而言為短邊長度為1000mm以上之玻璃基板來說本發明之顯示器用玻璃基板尤其適用。

此外，本發明之顯示器用玻璃基板之具體組成，只要考慮耐藥品性、熱收縮性、熔融性、成形性、熱膨脹係數等，依據用途適宜決定即可。較佳之組成範圍，以質量百分比為SiO₂ 40至70%、Al₂ O₃ 2至25%、B₂ O₃ 0至20%、MgO 0至10%、CaO 0至15%、SrO 0至10%、BaO 0至15%、ZnO 0至10%、R₂ O(R係表示Li、Na、K)0至25%、ZrO₂ 0至10%。

在本發明中，將玻璃之組成限定為上述之理由如下。

SiO₂ 係為構成玻璃之網狀形成劑(Network Former)之成分，且為用以使玻璃之熱膨脹係數降低，以抑制玻璃基板之光程延遲△及該光程延遲相對於玻璃基板之邊方向之 方位角θ之參差不齊，而使在相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值之變化率減小之成分。此外，亦為使玻璃之耐酸性提昇、使玻璃之應變點上升而將玻璃基板之熱收縮減小之成分。其含量係為40至70%。若SiO₂ 之含量變多，則玻璃之高溫黏度變高，而使熔融性惡化，並且會有方石英(cristobalite)之失透物容易析出之傾向。另一方面，若含量變少，則玻璃之熱膨脹係數即容易變大，而使玻璃基板之光程延遲△及該光程延遲之方位角θ之參差不齊有變大之傾向，且在相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值之變化率會有變大之傾向。此外，玻璃之耐酸性或應變點會有降低之傾向。SiO₂ 之較佳之範圍係為50至67%，尤佳之範圍係為57至64%。

Al₂ O₃ 係用以使玻璃之熱膨脹係數降低，而抑制玻璃基板之光程延遲△及該光程延遲相對於玻璃基板之邊方向之方位角θ之參差不齊，而將在相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值之變化率加以減小之成分。此外，亦具有使玻璃之應變點上升，或抑制方石英之失透物之析出之效果。其含量係為2至25%。若Al₂ O₃ 之含量變多，則玻璃之耐緩衝氫氟酸性會惡化，或有液相溫度上升而難以成形之傾向。另一方面，若含量減少，則玻璃之熱膨脹係數即易於變大，而有使玻璃基板之光程延遲△及該光程延遲之方位角θ之參差不齊變大之傾向，且有在相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/ 550)}² 所求得之值之變化率變大之傾向。此外，會有玻璃之應變點降低之傾向。Al₂ O₃ 之較佳之範圍係為10至20%，尤佳之範圍係為14至17%。

B₂ O₃ 係為作為熔劑發揮作用，以降低玻璃之黏性，且改善熔融性之成分。此外，亦為用以使玻璃之熱膨脹係數降低，而抑制玻璃基板之光程延遲△或該光程延遲相對於玻璃基板之邊方向之方位角θ的參差不齊，並使在相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值之變化率減小之成分，其含量係為0至20%。若B₂ O₃ 之含量變多，則玻璃之應變點降低，並有使耐酸性惡化之傾向。另一方面，若含量變少，則玻璃之熱膨脹係數即容易變大，而使玻璃基板之光程延遲△或該光程延遲之方位角θ之參差不齊有變大之傾向，且在相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值之變化率會有變大之傾向。此外，會有無法作為熔劑充分發揮作用而有熔融性降低之傾向。B₂ O₃ 之較佳範圍係為5至15%，尤佳之範圍係為7.5至12%。

MgO係為不會降低玻璃之應變點而僅會使高溫黏性降低，而改善玻璃之熔融性之成分。此外，亦為使玻璃之光彈性常數減低之成分，其含量係為0至10%。若MgO之含量變多，則失透物即容易析出。此外，氫氟酸耐緩衝性會降低，而使玻璃基板表面受侵蝕，反應生成物會附著於玻璃基板表面，而使玻璃基板容易白濁。MgO之較佳範圍係為0至5%，尤佳之範圍係為0至3.5%。

CaO係為不會降低玻璃之應變點而僅會使高溫黏性降低，而顯著改善玻璃之熔融性之成分。此外，亦為使玻璃之光彈性常數減低之成分。其含量係為0至15%。若CaO之含量變多，則會有氫氟酸耐緩衝性惡化之傾向。CaO之較佳範圍係為0至12%，尤佳之範圍係為3.5至9%。

SrO係為使玻璃之耐藥品性與耐失透性提昇之成分。此外，亦為使玻璃之光彈性常數減低之成分。其含量係為0至10%。若SrO之含量變多，則玻璃之熱膨脹係數容易變大，且玻璃基板之光程延遲△或該光程延遲之方位角θ之參差不齊會有變大之傾向，且在相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值之變化率會有變大之傾向。SrO之較佳範圍係為0至8%，尤佳之範圍係為0.5以上至8%。

BaO係與SrO同樣為使玻璃之耐藥品性與耐失透性提昇之成分。此外，亦為使玻璃之光彈性常數減低之成分。其含量係為0至15%。若BaO之含量變多，則會有玻璃之密度及熱膨脹係數變大，或熔融性顯著惡化之傾向。BaO之較佳範圍係為0至10%，尤佳之範圍係為0至8%。

ZnO係為改善玻璃之氫氟酸耐緩衝性及熔融性之成分。其含量係為0至10%。若ZnO之含量變多，則玻璃之耐失透性及應變點會有降低之傾向。ZnO之較佳範圍係為0至5%，尤佳之範圍係為0至1%。

R₂ O(R係表示Li、Na、K)係為使玻璃之黏度降低而改善熔融性之成分。其含量係為0至25%。若R₂ O之含量變 多，則玻璃之應變點會有降低之傾向。R₂ O之較佳範圍係為0至20%。

另外，將本發明之顯示器用玻璃基板使用於液晶顯示器用途時，使用之玻璃應採用無鹼玻璃。其理由係為若於玻璃中含有鹼金屬氧化物，則玻璃中之鹼成分恐會有使形成於玻璃基板上之各種膜或TFT元件之特性劣化之故。另外，所謂無鹼係指R₂ O為0.1%以下。

ZrO₂ 係為提高玻璃之應變點之成分，其含量係為0至10%。若ZrO₂ 之含量變多，則會有玻璃之密度顯著上升、或因ZrO₂ 而使失透物析出之傾向。ZrO₂ 之較佳範圍係為0至7%，尤佳之範圍係為0至5%。

此外，在本發明中，除上述成分以外，例如，為使液相溫度降低而使成形性提昇，亦可將Y₂ O₃ 、La₂ O₃ 、Nb₂ O₃ 、P₂ O₅ 各添加到3%，且將As₂ O₃ 、Sb₂ O₃ 、SnO₂ 、SO₃ 、F、Cl等總合量添加到2%為止以作為澄清劑。惟由於As₂ O₃ 、Sb₂ O₃ 係環境負荷物質，此外，以浮移法成形時，由於在浮移槽(float bath)中會被還原成為金屬異物，因此應避免導入。

接著說明製造本發明之顯示器用玻璃基板之方法。

首先，調配玻璃原料成為上述之玻璃組成範圍。接下來，將調配後之玻璃原料投入於連續熔融爐進行加熱熔融，並於消泡之後，將玻璃熔液供給至成形裝置，以使端部之厚度與中央部之厚度成為大致相同之方式將玻璃帶成形，或在徐冷爐之冷卻步驟中，儘可能將玻璃帶寬度方向之溫度分布縮小，藉此而獲得相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值之變化率較小之玻璃基板。

另外，以玻璃基板之成形方法而言，雖有浮移法、槽孔下拉法、溢流下拉法、重拉法等各種成形方法，惟以藉由下拉法，尤其藉由溢流下拉法成形為板狀為較佳。其理由係為溢流下拉法之情況較容易獲得大型之玻璃基板，而且，與其他成形方法不同，由於玻璃基板之表面未與成形體接觸，因此可獲得具有玻璃表面無污染部之玻璃基板。因此，不需要研磨玻璃基板表面，而可抑制製造成本之故。此外，亦可將因研磨所造成之微小傷痕加以消除。惟以溢流下拉法使玻璃基板成形時，除了要將玻璃帶之端部與中央部之厚度設為大致相同、及將溫度分布減小之外，還須抑制徐冷爐及成形爐中之低溫氣流之上升。

(實施例)

以下根據實施例詳細說明本發明之顯示器用玻璃基板。

第1表係分別顯示本發明之實施例(試料No.1、2)及比較例(試料No.3)。

表中之各試料係以下列方式製作。

首先，調配玻璃原料，使其組成依質量%成為SiO₂ 59%、Al₂ O₃ 15%、B₂ O₃ 10%、CaO 6%、SrO 7%、BaO 2%、ZnO 1%，並在連續熔融爐進行熔融。

接下來，使用第2圖所示之溢流下拉設備，將熔融玻璃A供給至設於成形爐20內之成形體21之頂部，且將該熔融玻璃A從成形體21之頂部溢出，並且在其下端部融合，且將經融合之熔融玻璃A之兩端部，藉由設於成形體21之下端部附近之一對成形輥(軋邊輥)22加以挾持進行板拉伸而使玻璃帶B成形。

接著，以使已成形之玻璃帶B不因表面張力等而朝寬度方向收縮之方式，藉由在徐冷爐23內設置成垂直方向之複數對拉伸輥(退火輥)24將玻璃帶B朝寬度方向拉伸，而 使玻璃帶B中央部之溫度為700℃時在玻璃帶B中央部與端部之溫度差、玻璃帶B中央部之溫度為680℃時在玻璃帶寬度方向之最高溫度與最低溫度之差及板拉伸速度成為第1表所示之值之方式，一面冷卻一面朝下方拉引，藉此而製成中央部與端部之厚度為約0.7mm之玻璃帶B。

接著，將藉由配置在徐冷爐23下方之冷卻室25之複數對支撐輥26所固化之玻璃帶B一面朝下方拉引一面冷卻到室溫為止，且藉由在切割室27將玻璃帶B切割而獲得玻璃基板C，並將其作為試料玻璃。

另外，為了抑制成形爐20及徐冷爐23中之低溫氣流之上升，乃使配置於成形室28之送風機29運轉，且經由安裝於周壁部30之過濾器(filter)31從此設備之外部將空氣導入至成形室28內，藉此將成形爐20及徐冷爐23之外部環境加壓，以製作玻璃基板。此外，所謂徐冷爐係指具備加熱器及冷卻器，可控制包括玻璃之徐冷點至應變點之範圍之溫度之裝置，第1表中之板拉伸速度中之L(cm)係指此徐冷裝置之長度。此外，關於試料No.1及No.3係切割成1000mm×1200mm之尺寸、而試料No.2係切割成1050mm×1250mm之尺寸而作為試料玻璃。

測量所獲得之玻璃之熱膨脹係數、光彈性常數、徐冷點及應變點可得知，各試料熱膨脹係數均為37×10^－7 /℃，光彈性常數為33(nm/cm)MPa，此外，徐冷點為705℃，應變點為650℃。

針對以此方式所獲得之各試料，將玻璃基板內之光程 延遲△、該光程延遲相對於玻璃基板之邊方向之方位角θ以50mm間隔進行測量，且求出在相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值之變化率。此外，使用所製得之玻璃基板製作顯示器裝置，評估亮度不均之產生狀態。茲將此等結果顯示於第1表。

從第1表可明瞭，實施例之試料No.1在玻璃基板面內，在相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值之變化率之最大值為1.0×10^－7 ，此外，試料No.2係小到3.5×10^－7 。此外，製作顯示器裝置並使其亮燈之際之亮度不均之產生狀態完全無法確認或是很微弱。

相對於此，比較例之試料No.3在相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值之變化率之最大值達7.0×10^－7 ，而製成顯示器裝置並使其亮燈之際之亮度不均亦顯著產生。

另外，關於在相鄰之測量點之由{sin(2 θ)}² ×{sin (180∘．△/550)}² 所求得之值之變化率，係使用Uniopt製之應變儀藉由光外差(heterodyne)法，將玻璃基板面內以50mm間隔進行該光程延遲△及該光程延遲相對於玻璃基板之邊方向之方位角θ之測量，且求出在測量點a之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值A及與測量點a相鄰之測量點a’之由{sin(2 θ)}² ×{sin(180∘．△/550)}² 所求得之值A’，並以((A－A’)/50)求出。另外，在第3圖至第5圖中，各圓之中心係顯示測量點、圓之直 徑係顯示光程延遲△之大小、作為圓之直徑所描繪之線之方向係顯示光程延遲相對於玻璃基板之邊方向之方位角θ。

此外，關於亮度不均之產生狀態係以目視觀察顯示器裝置亮燈之際之畫面上之亮度不均，在完全未確認有亮度不均時設為「◎」、亮度不均產生微弱時設為「○」、亮度不均產生較強時設為「×」。

關於熱膨脹係數，係使用白金坩堝將各試料在1400℃進行再熔融(remelt)而製作玻璃塊，並將所獲得之玻璃塊加工為直徑5.0mm、長度20mm之圓柱狀試料，而以膨脹儀(dilatometer)測量在30至380℃之平均熱膨脹係數。

關於光彈性常數，係製作直徑30mm×5mm之試料，且藉由圓盤壓縮法而求出。

關於徐冷點及應變點，係根據ASTM C336－71之方法而測量。

[產業上之可利用性]

本發明之顯示器用玻璃基板不限於液晶顯示器用途，亦可作為例如電漿顯示器、電場發射型顯示器、電致發光顯示器等用途之玻璃基板來使用。

1‧‧‧液晶晶元

2‧‧‧背面玻璃基板(陣列用玻璃基板)

3‧‧‧前面玻璃基板(彩色濾光片用玻璃基板)

4‧‧‧薄膜電晶體(TFT)

5‧‧‧像素電極

6‧‧‧配向膜(背面用)

7‧‧‧偏光板(背面用)

8‧‧‧對向電極

9‧‧‧彩色濾光片

10‧‧‧配向膜(前面用)

11‧‧‧偏光板(前面用)

12‧‧‧背光源

13‧‧‧液晶分子

20‧‧‧成形爐

20a‧‧‧成形爐之爐壁

21‧‧‧成形體

22‧‧‧成形輥(軋邊輥)

23‧‧‧徐冷爐

23a‧‧‧徐冷爐之爐壁

24‧‧‧拉伸輥

25‧‧‧冷卻室

26‧‧‧支撐輥

27‧‧‧切割室

28‧‧‧成形室

29‧‧‧送風機

30‧‧‧周壁部

31‧‧‧濾光片

A‧‧‧熔融玻璃

B‧‧‧玻璃帶

C‧‧‧玻璃基板

第1圖係為顯示液晶顯示器之結構之概略圖。

第2圖係為顯示藉由溢流下拉法之玻璃基板之製造設備之概略正面圖。

第3圖係為顯示將試料No.1中之玻璃基板之光程延遲 及其方位角進行測量後之結果圖。

第4圖係為顯示將試料No.2中之玻璃基板之光程延遲與其方位角進行測量後之結果圖。

第5圖係為顯示將試料No.3中之玻璃基板之光程延遲與其方位角進行測量後之結果圖。

1‧‧‧液晶晶元

2‧‧‧背面玻璃基板(陣列用玻璃基板)

3‧‧‧前面玻璃基板(彩色濾光片用玻璃基板)

4‧‧‧薄膜電晶體(TFT)

5‧‧‧像素電極

6‧‧‧配向膜(背面用)

7‧‧‧偏光板(背面用)

8‧‧‧對向電極

9‧‧‧彩色濾光片

10‧‧‧配向膜(前面用)

11‧‧‧偏光板(前面用)

12‧‧‧背光源

13‧‧‧液晶分子

Claims (5)

1. 一種顯示器用玻璃基板，其特徵為：將藉由與玻璃基板面正交之光以50mm之間隔測量玻璃基板面內而獲得之光程延遲設為△(nm)、將該光程延遲相對於玻璃基板之邊方向之方位角設為θ(°)，且將任意測量點a處之由{sin(2θ)}² ×{sin(180°‧△/550)}² 所求得之值設為A、將與測量點a相鄰之測量點a’處之由{sin(2θ)}² ×{sin(180°‧△/550)}² 所求得之值設為A’之際，相鄰之測量點a、a’之值A、A’之變化率((A-A’)/50)為3.5×10^-7 以下。
2. 如申請專利範圍第1項之顯示器用玻璃基板，其中，玻璃基板之短邊長度係為1000mm以上。
3. 如申請專利範圍第1或2項之顯示器用玻璃基板，其中，該顯示器用玻璃基板係由以質量百分比含有SiO₂ 40至70%、Al₂ O₃ 2至25%、B₂ O₃ 0至20%、MgO 0至10%、CaO 0至15%、SrO 0至10%、BaO 0至15%、ZnO 0至10%、R₂ O(R係表示Li、Na、K)0至25%、ZrO₂ 0至10%之玻璃所構成。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項之顯示器用玻璃基板，其中，該顯示器用玻璃基板係藉由下拉成形法成形而成。
5. 如申請專利範圍第1項或第2項之顯示器用玻璃基板，其中，該顯示器用玻璃基板係使用作液晶顯示器之玻璃 基板。