TWI393965B - Display method of display device - Google Patents

Description

顯示裝置之製造方法

本發明關於顯示裝置之製造方法，其係使用滴注法，例如在液晶顯示器(LCD)或液晶面板等的一對基板之間密封液晶等密封材料者。

詳細而言，關於一種顯示裝置之製造方法，其係在一方的基板形成有封閉成環狀的主密封件和包圍其外周的仿真密封件，在主密封件內側注入密封材料，且藉由將另一方的基板在真空中接近重疊於此後回復至大氣壓，因仿真密封件內外壓力差而使液晶胞間隙均等化，並且使密封材料擴散伸展並密封者。

以往，作為此種顯示裝置之製造方法係在主密封件周圍，每適當間隔形成多個封鎖成環狀(框架形狀)的仿真密封件，使得被該仿真密封件包圍的空間不與主密封件的密封空間重疊，且主密封件和仿真密封件不接觸，在減壓容器內貼合一對基板後，若使此容器內回復至大氣壓，則利用仿真密封件的封鎖空間被保持為減壓狀態，藉由對在上下夾持該封鎖空間的兩基板施加大氣壓，各封鎖空間被壓縮，成為將主密封件周邊兩基板的間隔設為一定的約束力，另外，因上述主密封件的密封空間壓力被填充液晶而成為大氣壓，但該密封空間外側的空間並非為密封狀態，因此，其壓力等於大氣壓，所以在被主密封件包圍的空間和其外側的空間未產生壓力差，由此，使得主密封件不破裂( 例如，參照專利文獻1)。

【專利文獻1】日本特開2002－328382號公報(第3~6頁，圖1~6)

然而，在這種以往的顯示裝置之製造方法，成為將主密封件周邊基板的間隔設為一定的約束力且被密封成環狀的仿真密封件的配置空間，主要只能確保相當於主密封件周圍的基板外周，所以存在以下問題：即，真空面積不足，不能確實地將液晶胞間隙均等化，並且利用大氣壓的壓縮力不足，在使用高粘度的主密封件或仿真密封件時有不能確實地壓潰之虞。

並且，還存在以下問題，即，由於將由仿真密封件所包圍成環狀的封鎖空間，有必要與液晶胞的生產領域個別形成，所以，尤其在從一張基板玻璃生產數十~數百的小型液晶面板的情況下，浪費的面積極少，若不壓潰一部分液晶胞，則無法作出利用仿真密封件的封閉空間，因此，面積使用效率不佳。

另外，存在以下問題，即，各仿真密封件有必要形成為分別被封鎖的環狀，因此，尤其以吐出方式來塗布時，需要時間，密封材料和塗布機器的使用效率不佳。

本發明中的第一發明，其目的在於：以節省空間一面確保間隙形成用的減壓面積一面提高主密封件的耐力。

第二發明，除第一發明的目的外，其目的在於：以簡單 的構造實現壓力調整機構。

第三發明，除第一發明的目的外，其目的在於：以簡單的構造實現壓力調整機構。

為了達成上述目的，本發明中的第一發明，其特徵在於：在仿真密封件設置，將大氣壓導入至配置在此和主密封件之間的間隙形成空間的真空部的壓力調整閥機構，並開放成大氣壓至設定時間經過後，將該間隙形成空間的壓力由真空轉換為大氣壓。

在此所說的開放成大氣壓至設定時間經過後係指隨著兩基板的壓縮而伸展的密封材料的伸展端到達主密封件的內側面並於其伸展壓力起作用時。

第二發明，其特徵在於：除第一發明的構成外，另作為上述壓力調整閥機構係在仿真密封件上形成當仿真密封件外側回復大氣壓至設定時間後因內外壓力差而斷裂的較細線(fuse)部分的構成。

第三發明，其特徵在於：除第一發明的構成外，作為上述壓力調整閥機構係在仿真密封件上形成流量甚微的小通路的構成。

本發明中第一發明，兩基板貼合時，藉由壓力調整閥機構，間隙形成空間被真空減壓，因此，兩基板在大氣壓被壓縮並使液晶胞間隙均等化，密封材料隨其擴散伸展，大氣壓開放的設定時間經過後，該密封材料的伸展端到達至 主密封件的內側面，且其伸展壓力起作用，此時，藉由壓力調整閥機構，大氣壓被導入至間隙形成空間的真空部並轉換為大氣壓或與其相近的狀態，因此，取得與密封材料的伸展壓力之間的壓力平衡，而使主密封件不會破裂。

從而，可以節省空間一面確保間隙形成用的減壓面積一面提高主密封件的耐力。

其結果，封鎖成環狀的仿真密封件的配置空間，與主要只能確保相當於主密封件周圍的基板外周的以往方法相比，可將間隙形成用的真空面積設定為接近於基板尺寸並廣泛的確保，所以，可使真空壓力差(壓着力)變大。故，即使密封粘度高也可確實地壓潰。

並且，如以往的仿真密封件，因不需要環狀的一定面積，所以面積使用效率良好。從而，如小型液晶面板之浪費的面積極小時，也可不壓潰一部分液晶胞而生產。

另外，因為仿真密封件不是如以往密封的環狀而是簡單的單層線，所以，可以以極少的材料構成，即使為吐出方式也不佔用塗布時間，密封材料和塗布機器的使用效率良好。

第二發明是，除第一發明的效果外，作為壓力調整閥機構係在仿真密封件上形成仿真密封件外側回復大氣壓至設定時間後因內外壓力差而斷裂的較細線部分，由此，儘管在大氣開放時仿真密封件內側的間隙形成空間被保持為真空，但在其一定時間後較細線部分由於內外的壓力差而斷裂，空氣從此進入至該間隙形成空間並轉換為大氣壓或與 其相近的狀態。

從而，可以用簡單的構造實現壓力調整機構。

其結果，例如縮小仿真密封件的部分封條線的寬度等使得容易部分性切斷即可，因此，可大幅度減少製造成本。

第三的發明是，除第一發明的效果外，作為壓力調整閥機構係藉由在仿真密封件上形成流量甚微的小通路，儘管在大氣壓開放時仿真密封件內側的間隙形成空間被保持成真空，但流量甚微的空氣從此大氣壓開放時流過小通路緩慢地進入至該間隙形成空間的真空部，在其一定時間後，間隙形成空間內填滿空氣並轉換為大氣壓或與其相近的狀態。

從而，可以用簡單的構造實現壓力調整機構。

其結果，例如將仿真密封件的一部分開口即可，因此，可大幅地減少製造成本。

本發明的實施方式，如圖1(a)~(d)所示，在任一方的基板1，分別以印刷或塗布等形成封鎖成環狀的主密封件2和包圍該主密封件2的仿真密封件3，在該主密封件2內側注入液晶等密封材料4，且使另一方的基板5在真空中接近並重疊於此後，藉由使這些兩基板1、5的氣體環境回復至大氣壓，以產生在仿真密封件3外側(大氣壓)及內側(真空)的壓力差，兩基板1、5向厚度方向壓縮並使兩者間的液晶胞間隙均等化，並且由此使密封材料4擴散伸展並密封為氣密狀態。

上述仿真密封件3，如圖1(d)所示，設置將大氣壓導入至配置在該仿真密封件3和主密封件2之間的間隙形成空間6的真空部的壓力調整閥機構7。由此壓力調整閥機構7的運作，上述兩基板1、5外側的氣體環境被開放在大氣壓至設定時間經過後，將該間隙形成空間6的壓力由真空轉換為大氣壓或與其相近的狀態。

在此，兩基板1、5外側的氣體環境被開放在大氣壓至設定時間經過後係指隨著兩基板1、5的壓縮而伸展的密封材料4的伸展端到達至主密封件2的內側面，利用該密封材料4的伸展壓力作用於主密封件2的內側面的時間。

作為此壓力調整閥機構7的具体例係在上述仿真密封件3，形成因仿真密封件3的外側回復到大氣壓至設定時間經過後產生在該仿真密封件3內外的壓力差而斷裂的較細線部分7a，或形成從大氣壓開放時流量甚微的空氣(大氣)緩慢進入上述間隙形成空間6的真空部的小通路7b較佳。

以下，依據圖面説明本發明的各實施例。

<實施例1>

如圖2~圖6所示，此實施例1係上述壓力調整閥機構7從大氣壓開放至設定時間後，因仿真密封件3內外壓力差而斷裂的較細線部分7a，作為任一方的基板1，例如，沿下基板的外周將仿真密封件3印刷或塗布成環狀(框架形狀)等形成，在此仿真密封件3的內側配置1個或多個主密封件2，並且在該仿真密封件3的外周及內周的任一方或兩方的適當處，部分地只形成1個寬度比該仿真密封件3的封條線 細的較細線部分7a，或者每適當間隔形成多個。

將上述較細線部分7a的強度設定成藉由仿真密封件3外側的空氣對該較細線部分7a侵蝕，其封條線幅度慢慢變細，在一定時間後斷裂，空氣順暢地進入仿真密封件3內側的間隙形成空間6並可一口氣填滿。

這種較細線部分7a的變形例示於圖2~圖6。

在圖2所示的例中，面向仿真密封件3的外周或內周，形成凹成ㄈ字形的較細線部分7a。

在圖3所示的例中，面向仿真密封件3的外周或內周，形成凹成V字形的較細線部分7a。

在圖4所示的例中，面向仿真密封件3的外周或內周，形成凹成半圓形的較細線部分7a。

在圖5所示的例中，面向仿真密封件3的外周或內周，形成凹成大致梯形的較細線部分7a。

在圖6所示的例中，面向仿真密封件3的外周或內周，形成凹成其角部具有圓弧形角部的矩形的較細線部分7a。

其次，説明如此的顯示裝置之製造方法。

首先，在真空貼合兩基板1、5後的開放大氣時，較細線部分7a尚未斷裂，但仿真密封件3內側的間隙形成空間6被保持在真空，因此，以在該仿真密封件3的外側(大氣壓)及內側(真空)產生的壓力差，兩基板1、5向厚度方向被壓縮，並使兩者間的液晶胞間隙均等化。

隨著這些兩基板1、5的壓縮，被注入在兩者間的密封材料4伸展，其伸展端到達主密封件2內側面，並經過其伸展 壓力作用於主密封件2的內側面的一定時間後，因該仿真密封件3內外的壓力差而斷裂形成於其適當處的較細線部分7a。

由此，空氣從此斷裂部分進入該間隙形成空間6，其內部轉變為大氣壓或與其相近的狀態並取得與作用於主密封件2內側面的密封材料4的伸展壓力之間的壓力平衡，而使主密封件2不會斷裂，並提高其耐力。

<實施例2>

如圖7~圖14所示，此實施例2，上述壓力調整閥機構7係微小流量的小通路7b，沿上述基板1、5的任一方的外周，將仿真密封件3印刷或塗布等形成為環狀(框架形狀)，並且在其適當處僅部分地形成1個藉由該仿真密封件3內外相通的小通路7b，或者，每適當間隔形成多個的構成不同於上述圖1~圖6所示的實施例1，此外的構成與圖1~圖6所示的實施例1相同。

將上述小通路7b的微小流量設定為充分具備如下功能：即，由真空貼合兩基板1、5後大氣開放時，仿真密封件3外側的空氣進入，但由於其量極少，仿真密封件3內側的間隙形成空間6相近於真空狀態，因此，因該仿真密封件3內外的壓力差，而兩基板1、5向厚度方向被壓縮，並使兩者間的液晶胞間隙均等化。

然後，設定成隨這些兩基板1、5的壓縮，在兩者間被注入的密封材料4伸展期間，微小流量的空氣也繼續進入間隙形成空間6的真空部，該密封材料4的伸展端到達主密封 件2的內側面，經過其伸展壓力作用於主密封件2內側面的一定時間後，在間隙形成空間6內填滿空氣轉換為大氣壓或與其相近的狀態。

如此芝小通路7b的變形例示於圖7~圖14。

在圖7所示的例中，在仿真密封件3的適當處，向與其交叉的方向切口並形成小通路7b。

在圖8所示的例中，面向仿真密封件3的外周或內周，形成凹成ㄈ字型、V字形、半圓形、大致梯形等的小通路7b。

在圖9所示的例中，使1條仿真密封件3形成為其一部分相互重疊，在這些相互重疊處之間形成小通路7b。

在圖10~圖14所示的例中，使多條仿真密封件3形成為其一部分重疊，在這些相互重疊處之間形成小通路7b。

另外，在圖9及圖11所示的例中，將下基板1或上基板5分割為多個，並分別形成仿真密封件3，在這些仿真密封件3的內側配置1個或多個主密封件2。

從而，圖7~圖14所示的實施例2，在真空貼合兩基板1、5後大氣開放時，仿真密封件3內側的間隙形成空間6相近於真空狀態，因此，因該仿真密封件3內外的壓力差，而兩基板1、5向厚度方向被壓縮，且兩者間的液晶胞間隙均等化，隨這些兩基板1、5的壓縮，伸展的密封材料4的伸展端到達主密封件2的內側面，經過其伸展壓力作用於主密封件2的內側面的一定時間後，在間隙形成空間6內填滿空氣，並轉換為大氣壓或與其相近的狀態，因此，與上述圖1~圖6所示的實施例1同樣地，取得與作用於主密封 件2內側面的密封材料4的伸展壓力之間的壓力平衡，而可使主密封件2不會斷裂，並提高其耐力。

尚且，在前示實施例，顯示了上述壓力調整閥機構7為較細線部分7a或小通路7b的情況，但不限於此，作為該壓力調整閥機構7，雖未圖示，但組合使用較細線部分7a和小通路7b，或若具有與這些較細線部分7a或小通路7b相同的功能，則也可使用其他結構。

並且，圖示例只顯示，相對於上述基板1，配置1個仿真密封件3，並在其內側配置2個主密封件2的情況，或者，將基板1分割為2個並分別配置各1個仿真密封件3的情況，但不限於此，相對於基板1、5的任一方配置的1個仿真密封件3，配置1個或3個以上的主密封件2，或者也可將基板1分割為3個以上，並分別配置1個或3個以上的仿真密封件3。

這樣的情況也可獲得與所示的實施例相同的作用效果。

1‧‧‧基板(下基板)

2‧‧‧主密封件

3‧‧‧仿真密封件

4‧‧‧密封材料

5‧‧‧基板

6‧‧‧間隙形成空間

7‧‧‧壓力調整閥機構

7a‧‧‧較細線部分

7b‧‧‧小通路

圖1係顯示本發明的顯示裝置之製造方法的實施方式的圖，(a)係橫切俯視圖，(b)~(d)係按照工程順序顯示的局部放大縱剖前視圖。

圖2係局部放大顯示實施例1的橫切俯視圖的主要部分。

圖3係局部放大顯示實施例1的變形例所示的橫切俯視圖的主要部分。

圖4係局部放大顯示實施例1的變形例所示的橫切俯視圖的主要部分。

圖5係局部放大顯示實施例1的變形例所示的橫切俯視圖 的主要部分。

圖6係局部放大顯示實施例1的變形例所示的橫切俯視圖的主要部分。

圖7係實施例2的橫切俯視圖。

圖8係顯示實施例2的變形例的橫切俯視圖。

圖9係顯示實施例2的變形例的橫切俯視圖。

圖10係顯示實施例2的變形例的橫切俯視圖。

圖11係顯示實施例2的變形例的橫切俯視圖。

圖12係顯示實施例2的變形例的橫切俯視圖。

圖13係顯示實施例2的變形例的橫切俯視圖。

圖14係顯示實施例2的變形例的橫切俯視圖。

1‧‧‧基板(下基板)

2‧‧‧主密封件

3‧‧‧仿真密封件

4‧‧‧密封材料

5‧‧‧基板

6‧‧‧間隙形成空間

Claims (3)

1. 一種顯示裝置之製造方法，在一方的基板形成有封鎖成環狀的主密封件和包圍其外周的仿真密封件，在上述主密封件內側注入密封材料，且藉由使另一方的基板在真空中接近並重疊於此後回復至大氣壓，因上述仿真密封件內外的壓力差使液晶胞間隙均等化，並且使上述密封材料擴散伸展並密封者，其特徵在於：在上述仿真密封件，設置將大氣壓導入至配置在此和上述主密封件之間的間隙形成空間的真空部的壓力調整閥機構，且於開放成大氣壓至設定時間經過後，上述密封材料的伸展端到達上述主密封件的內側面並於其伸展壓力起作用之時點，藉由上述壓力調整閥機構，而將大氣壓導入至上述間隙形成空間的真空部，並將上述間隙形成空間的壓力由真空轉換為大氣壓或與其相近的狀態。
2. 如請求項1之顯示裝置之製造方法，其中作為上述壓力調整閥機構者，係於上述仿真密封件上形成於上述仿真密封件之外側從回復到大氣壓至設定時間後，因內外壓力差而斷裂的較細線部分。
3. 如請求項1之顯示裝置之製造方法，其中作為上述壓力調整閥機構者，係於上述仿真密封件上形成流量甚微的小通路。