TWI386987B - 電漿清洗裝置、用於電漿清洗裝置之載具及電漿清洗之方法 - Google Patents

Description

電漿清洗裝置、用於電漿清洗裝置之載具及電漿清洗之方法

本發明係關於一種用於半導體製程之清洗裝置、用於清洗裝置之載具及清洗之方法，詳言之，係關於一種電漿清洗裝置、用於電漿清洗裝置之載具及電漿清洗之方法。

參考圖1至圖4，顯示習知電漿清洗之方法之示意圖。首先，參考圖1，提供一電漿清洗儀器1(圖3)、一載具2及複數個板體3。該電漿清洗儀器1具有二個電極板11(圖3)。該載具2具有二個進出面21及複數個導引槽22。接著，參考圖2，將該等板體3置入該載具2。接著，參考圖3，將該載具2置於該等電極板11之間，使該等板體3與該等電極板11相互垂直。最後，參考圖4，啟動該電漿清洗儀器1，使該等電極板11產生電漿12，經過該等進出面21，而清洗該等板體3。

該習知電漿清洗之方法之缺點如下。由於該習知電漿清洗之方法係利用該電漿12流經該等板體3之表面，以達到清洗該等板體3之效果，然該載具2缺乏使該電漿12得以順利流通的空間，導致該習知電漿清洗之方法之清洗效果不佳。

此外，當將該等板體3置入該載具2之該等導引槽22時，如果該等導引槽22之寬度太大，會使該等板體3無法穩固置於該載具2；如果寬度太小，則放置該等板體3時需花費較多時間，導致製程效率較差。

因此，有必要提供一種創新且具進步性的電漿清洗之方法及裝置，以解決上述問題。

本發明提供一種電漿清洗裝置，其包括一電漿清洗儀器及一載具。該電漿清洗儀器具有二個電極板，用以產生電漿，該等電極板係平行排列，且間隔一預設距離。該載具係位於該等電極板之間，該載具包括一頂架、一底架、複數個支撐支架及至少一墊高腳架。該頂架具有複數個第一主支架及複數個第一連結支架，每一第一主支架具有複數個第一導引槽，該等第一導引槽係平行排列，該等第一連結支架係連結該等第一主支架，形成一鏤空面。該底架具有複數個第二主支架及複數個第二連結支架，每一第二主支架具有複數個第二導引槽，該等第二導引槽係平行排列，該等第二連結支架係連結該等第二主支架，形成一鏤空面。該等支撐支架連結該頂架及該底架，使該等第一導引槽面對該等第二導引槽，以容置複數個板體，該等板體係與該等電極板平行，該等支撐支架係不連續地平行排列，而形成複數個鏤空面。該至少一墊高腳架設置於該底架，用以支撐並墊高該載具。

本發明另提供一種用於電漿清洗裝置之載具，其包括一頂架、一底架、複數個支撐支架及至少一墊高腳架。該頂架具有複數個第一主支架及複數個第一連結支架，每一第一主支架具有複數個第一導引槽，該等第一導引槽係平行排列，該等第一連結支架係連結該等第一主支架，形成一鏤空面。該底架具有複數個第二主支架及複數個第二連結支架，每一第二主支架具有複數個第二導引槽，該等第二導引槽係平行排列，該等第二連結支架係連結該等第二主支架，形成一鏤空面。該等支撐支架連結該頂架及該底架，使該等第一導引槽面對該等第二導引槽，以容置複數個板體，該等支撐支架係不連續地平行排列，而形成複數個鏤空面。該至少一墊高腳架設置於該底架，用以支撐並墊高該載具。

本發明另提供一種電漿清洗之方法，包括以下步驟：(a)提供複數個板體、一載具及一電漿清洗儀器，該載具具有複數個鏤空面及至少一墊高腳架，該至少一墊高腳架係位於該載具之下方，且形成至少一流通空間，該電漿清洗儀器具有二個電極板；(b)將該等板體置入該載具；(c)將該載具置於該等電極板之間，使該等板體與該等電極板相互平行；及(d)啟動該電漿清洗儀器，使該等電極板產生電漿，經過該等鏤空面及該流通空間，而清洗該等板體。

藉此，該載具之該等鏤空面及該流通空間，有助於電漿產生對流效果，得以流通於該等板體之間的預定間距，達到有效清洗該等板體的效果。此外，該等導角有助於該等板體順利置入該等第一導引槽及該等第二導引槽，進而提升製程效率。

參考圖5，顯示本發明電漿清洗裝置之第一實施例之示意圖。參考圖6，顯示本發明電漿清洗裝置之第一實施例之載具之分解示意圖，其中不包含帽蓋。參考圖7A，顯示圖6之局部放大示意圖。參考圖7B，顯示圖7A之剖面示意圖。參考圖8，顯示本發明電漿清洗裝置之第一實施例之使用狀態示意圖。

該電漿清洗裝置4包括一電漿清洗儀器5及一載具6。該電漿清洗儀器5具有二個電極板51，用以產生電漿(圖中未示)，該等電極板51係平行排列，且間隔一預設距離。

該載具6包括一頂架61、一底架62、複數個支撐支架63及至少一墊高腳架64。在本實施例中，該載具6更包括複數個固定元件65、一帽蓋66及複數個補強支架67。

該頂架61具有複數個第一主支架611及複數個第一連結支架612。每一第一主支架611具有複數個第一導引槽613，在本實施例中，每一第一主支架611係為一柱體，其具有一軸向方向。該等第一導引槽613係平行排列，在本實施例中，該等第一導引槽613係與該第一主支架611之軸向方向垂直，且每一第一導引槽613係具有一導角(第一導角614)，如圖7A及圖7B所示。該等第一連結支架612係連結該等第一主支架611，形成一鏤空面(第一鏤空面615)，在本實施例中，該等第一連結支架612係與該等第一主支架611垂直。

該底架62具有複數個第二主支架621及複數個第二連結支架622。每一第二主支架621具有複數個第二導引槽623，在本實施例中，每一第二主支架621係為一柱體，其具有一軸向方向。該等第二導引槽623係平行排列，在本實施例中，該等第二導引槽623係與該第二主支架621之軸向方向垂直，每一第二導引槽623係具有一導角(第二導角624)，且該等第二導引槽623與該等第一導引槽613係為一對一之對應關係。該等第二連結支架622係連結該等第二主支架621，形成一鏤空面(第二鏤空面625)，在本實施例中，該等第二連結支架622係與該等第二主支架621垂直。

該等支撐支架63連結該頂架61及該底架62，使該等第一導引槽613面對該等第二導引槽623，以容置複數個板體7(如圖8所示)，且該等支撐支架63係不連續地平行排列，而形成複數個鏤空面(第三鏤空面631)。在本實施例中，該等支撐支架63係為一柱體，且連接該等第一連結支架612及該等第二連結支架622。該等板體7係與該等電極板51平行，在本實施例中，該等板體7係分別容置於該等對應的第一導引槽613和該等第二導引槽623之間，且該等板體7之間係存在一預定間距d(如圖8所示)，用以容置位於該等板體7上之複數個半導體元件(圖中未示)。

該墊高腳架64設置於該底架62，用以支撐並墊高該載具6，在本實施例中，該墊高腳架64與該等第二導引槽623相互垂直。在本實施例中，該等固定元件65係為複數個螺釘，用以固定該頂架61、該底架62及該等支撐支架63。在本實施例中，該帽蓋66包括一環框661及一封閉面662，該環框661係扣抵於該頂架61及該底架62之一側，該封閉面662係用以阻擋該等板體7(圖8)。在本實施例中，該等補強支架67係與該等支撐支架63相互垂直，形成複數個矩形框架68。

參考圖9，顯示本發明電漿清洗裝置之第二實施例之示意圖。參考圖10，顯示本發明電漿清洗裝置之第二實施例之載具之分解示意圖。本實施例之電漿清洗裝置8與第一實施例之電漿清洗裝置4(圖5)大致相同，其中相同之元件賦予相同之編號。本實施例與第一實施例之不同處，僅在於該載具6不包括該等補強支架67，故該頂架61及該底架62僅以該等支撐支架63相連結。

參考圖11至圖16，顯示本發明電漿清洗之方法之示意圖。首先，參考圖11，提供一電漿清洗儀器5(圖14)、一載具6及複數個板體7。該電漿清洗儀器5具有二個電極板51(圖14)。該載具6具有複數個鏤空面(包括第一鏤空面615、第二鏤空面625及第三鏤空面631)及至少一墊高腳架64。該至少一墊高腳架64係位於該載具6之下方，且形成至少一流通空間641。

在本實施例中，該載具6更包括一頂架61、一底架62、複數個支撐支架63及複數個固定元件65。該頂架61具有一鏤空面(第一鏤空面615)及複數個第一導引槽613，且每一第一導引槽613係具有一導角(第一導角614)。該底架62具有一鏤空面(第二鏤空面625)及複數個第二導引槽623，且每一第二導引槽623係具有一導角(第二導角624)。其中，該等第一導引槽613面對該等第二導引槽623，以容置該等板體7。較佳地，該等第一導引槽613與該等第二導引槽623係為一對一之對應關係。該等支撐支架63連結該頂架61及該底架62，而形成複數個鏤空面(第三鏤空面631)。該等固定元件65係為複數個螺釘，用以固定該頂架61、該底架62及該等支撐支架63。

接著，參考圖12，將該等板體7置入該載具6。在本實施例中，該等板體7係分別容置於該等對應的第一導引槽613和該等第二導引槽623之間，且該等板體7之間係存在一預定間距d，用以容置位於該等板體7上之複數個半導體元件(圖中未示)。此外，該等板體7係藉由該等導角(包括第一導角614和第二導角624)以導入於該等第一導引槽613及該等第二導引槽623。較佳地，該步驟更包括一將一帽蓋66扣抵於該載具6之一側之步驟(如圖13所示)。

接著，參考圖14，將該載具6置於該電漿清洗儀器5內且位於該等電極板51之間，使該等板體7與該等電極板51相互平行。較佳地，接著更包括一將該電漿清洗儀器5抽取真空之步驟。最後，參考圖15及圖16，顯示圖14之前視示意圖及俯視示意圖。啟動該電漿清洗儀器5，使該等電極板51產生電漿52，該電漿52經過該等鏤空面(包括第一鏤空面615、第二鏤空面625及第三鏤空面631)及該流通空間641，而清洗該等板體7。

藉此，該載具6之該等鏤空面(包括第一鏤空面615、第二鏤空面625及第三鏤空面631)及該流通空間641，有助於電漿52產生對流效果，得以流通於該等板體7之間的預定間距d，達到有效清洗該等板體7的效果。此外，該等導角(第一導角614及第二導角624)有助於該等板體7順利置入該等第一導引槽613及該等第二導引槽623，進而提升製程效率。

惟上述實施例僅為說明本發明之原理及其功效，而非用以限制本發明。因此，習於此技術之人士對上述實施例進行修改及變化仍不脫本發明之精神。本發明之權利範圍應如後述之申請專利範圍所列。

1．．．電漿清洗儀器

2．．．載具

3．．．板體

4．．．本發明電漿清洗裝置之第一實施例

5．．．電漿清洗儀器

6．．．載具

7．．．板體

8．．．本發明電漿清洗裝置之第二實施例

11．．．電極板

12．．．電漿

21．．．進出面

22．．．導引槽

51．．．電極板

52．．．電漿

61．．．頂架

62．．．底架

63．．．支撐支架

64．．．墊高腳架

65．．．固定元件

66．．．帽蓋

67．．．補強支架

68．．．矩形框架

611．．．第一主支架

612．．．第一連結支架

613．．．第一導引槽

614．．．第一導角

615．．．第一鏤空面

621．．．第二主支架

622．．．第二連結支架

623．．．第二導引槽

624．．．第二導角

625．．．第二鏤空面

631．．．第三鏤空面

641．．．流通空間

661．．．環框

662．．．封閉面

圖1至圖4顯示習知電漿清洗之方法之示意圖；圖5顯示本發明電漿清洗裝置之第一實施例之示意圖；圖6顯示本發明電漿清洗裝置之第一實施例之載具之分解示意圖，其中不包含帽蓋；圖7A顯示圖6之局部放大示意圖；圖7B顯示圖7A之剖面示意圖；圖8顯示本發明電漿清洗裝置之第一實施例之使用狀態示意圖；圖9顯示本發明電漿清洗裝置之第二實施例之示意圖；圖10顯示本發明電漿清洗裝置之第二實施例之載具之分解示意圖；及圖11至圖16顯示本發明電漿清洗之方法之示意圖。

4．．．本發明電漿清洗裝置之第一實施例

5．．．電漿清洗儀器

6．．．載具

51．．．電極板

61．．．頂架

62．．．底架

63．．．支撐支架

64．．．墊高腳架

65．．．固定元件

66．．．帽蓋

67．．．補強支架

68．．．矩形框架

611．．．第一主支架

612．．．第一連結支架

613．．．第一導引槽

614．．．第一導角

615．．．第一鏤空面

621．．．第二主支架

622．．．第二連結支架

623．．．第二導引槽

624．．．第二導角

625．．．第二鏤空面

631．．．第三鏤空面

661．．．環框

662．．．封閉面

Claims (36)

1. 一種電漿清洗裝置，包括：一電漿清洗儀器，具有二個電極板，用以產生電漿，該等電極板係平行排列，且間隔一預設距離；及一載具，位於該等電極板之間，該載具包括：一頂架，具有複數個第一主支架及複數個第一連結支架，每一第一主支架具有複數個第一導引槽，該等第一導引槽係平行排列，該等第一連結支架係連結該等第一主支架，形成一鏤空面；一底架，具有複數個第二主支架及複數個第二連結支架，每一第二主支架具有複數個第二導引槽，該等第二導引槽係平行排列，該等第二連結支架係連結該等第二主支架，形成一鏤空面；複數個支撐支架，連結該頂架及該底架，使該等第一導引槽面對該等第二導引槽，以容置複數個板體，該等板體係與該等電極板平行，該等支撐支架係不連續地平行排列，而形成複數個鏤空面；及至少一墊高腳架，設置於該底架，用以支撐並墊高該載具。
2. 如請求項1之裝置，其中每一第一主支架係為一柱體，其具有一軸向方向，該等第一導引槽係與該第一主支架之軸向方向垂直，每一第二主支架係為一柱體，其具有一軸向方向，該等第二導引槽係與該第二主支架之軸向方向垂直。
3. 如請求項1之裝置，其中該等第一主支架係與該等第一連結支架垂直，該等第二主支架係與該等第二連結支架垂直。
4. 如請求項1之裝置，其中每一第一導引槽及每一第二導引槽係具有一導角。
5. 如請求項1之裝置，其中該等第一導引槽與該等第二導引槽係為一對一之對應關係，該等板體係分別容置於該等對應的第一導引槽和該等第二導引槽之間。
6. 如請求項5之裝置，其中該等板體之間係存在一預定間距，用以容置複數個半導體元件。
7. 如請求項1之裝置，其中該等支撐支架係連接該等第一連結支架及該等第二連結支架。
8. 如請求項1之裝置，其中每一支撐支架係為一柱體。
9. 如請求項1之裝置，其中該載具更包括複數個補強支架，該等補強支架係與該等支撐支架相互垂直，形成複數個矩形框架。
10. 如請求項1之裝置，其中該至少一墊高腳架與該等第二導引槽相互垂直。
11. 如請求項1之裝置，其中該載具更包括一帽蓋，扣抵於該頂架及該底架之一側。
12. 如請求項1之裝置，其中該載具更包括複數個固定元件，該等固定元件用以固定該頂架、該底架及該等支撐支架。
13. 如請求項12之裝置，其中該等固定元件係為複數個螺 釘。
14. 一種用於電漿清洗裝置之載具，包括：一頂架，具有複數個第一主支架及複數個第一連結支架，每一第一主支架具有複數個第一導引槽，該等第一導引槽係平行排列，該等第一連結支架係連結該等第一主支架，形成一鏤空面；一底架，具有複數個第二主支架及複數個第二連結支架，每一第二主支架具有複數個第二導引槽，該等第二導引槽係平行排列，該等第二連結支架係連結該等第二主支架，形成一鏤空面；複數個支撐支架，連結該頂架及該底架，使該等第一導引槽面對該等第二導引槽，以容置複數個板體，該等支撐支架係不連續地平行排列，而形成複數個鏤空面；及至少一墊高腳架，設置於該底架，用以支撐並墊高該載具。
15. 如請求項14之載具，其中每一第一主支架係為一柱體，其具有一軸向方向，該等第一導引槽係與該第一主支架之軸向方向垂直，每一第二主支架係為一柱體，其具有一軸向方向，該等第二導引槽係與該第二主支架之軸向方向垂直。
16. 如請求項14之載具，其中該等第一主支架係與該等第一連結支架垂直，該等第二主支架係與該等第二連結支架垂直。
17. 如請求項14之載具，其中每一第一導引槽及每一第二導引槽係具有一導角。
18. 如請求項14之載具，其中該等第一導引槽與該等第二導引槽係為一對一之對應關係，該等板體係分別容置於該等對應的第一導引槽和該等第二導引槽之間。
19. 如請求項18之載具，其中該等板體之間係存在一預定間距，用以容置複數個半導體元件。
20. 如請求項14之載具，其中該等支撐支架係連接該等第一連結支架及該等第二連結支架。
21. 如請求項14之載具，其中每一支撐支架係為一柱體。
22. 如請求項14之載具，更包括複數個補強支架，該等補強支架係與該等支撐支架相互垂直，形成複數個矩形框架。
23. 如請求項14之載具，其中該至少一墊高腳架與該等第二導引槽相互垂直。
24. 如請求項14之載具，更包括一帽蓋，扣抵於該頂架及該底架之一側。
25. 如請求項14之載具，其中該載具更包括複數個固定元件，該等固定元件用以固定該頂架、該底架及該等支撐支架。
26. 如請求項25之載具，其中該等固定元件係為複數個螺釘。
27. 一種電漿清洗之方法，包括：(a)提供複數個板體、一載具及一電漿清洗儀器，該載 具包括一頂架、一底架、複數個支撐支架及至少一墊高腳架，該頂架具有一鏤空面，該底架具有一鏤空面，該等支撐支架連結該頂架及該底架，而形成複數個鏤空面，該至少一墊高腳架係位於該載具之下方，且形成至少一流通空間，該電漿清洗儀器具有二個電極板；(b)將該等板體置入該載具；(c)將該載具置於該等電極板之間，使該等板體與該等電極板相互平行；及(d)啟動該電漿清洗儀器，使該等電極板產生電漿，經過該等鏤空面及該流通空間，而清洗該等板體。
28. 如請求項27之方法，其中步驟(a)中，該頂架更具有複數個第一導引槽，該底架更具有複數個第二導引槽，該等第一導引槽面對該等第二導引槽，以容置該等板體。
29. 如請求項28之方法，其中該載具更包括複數個固定元件，該等固定元件用以固定該頂架、該底架及該等支撐支架。
30. 如請求項29之方法，其中該等固定元件係為複數個螺釘。
31. 如請求項28之方法，其中每一第一導引槽及每一第二導引槽係具有一導角。
32. 如請求項31之方法，其中該步驟(b)中，該等板體係藉由該等導角以導入於該等第一導引槽及該等第二導引槽。
33. 如請求項28之方法，其中該等第一導引槽與該等第二導 引槽係為一對一之對應關係，該等板體係分別容置於該等對應的第一導引槽和該等第二導引槽之間。
34. 如請求項33之方法，其中該等板體之間係存在一預定間距，用以容置複數個半導體元件。
35. 如請求項27之方法，其中該步驟(b)中，更包括一將一帽蓋扣抵於該載具之一側之步驟。
36. 如請求項27之方法，其中該步驟(c)之後，更包括一將該電漿清洗儀器抽取真空之步驟。