TWI385280B - 電鍍機構的陰極電鍍裝置 - Google Patents
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Description
本發明是有關於一種電鍍機構的陰極電鍍裝置,特別是指一種用於被動元件電鍍加工的電鍍機構的陰極電鍍裝置。
參閱圖1,目前使用於被動元件電鍍之電鍍機構的陰極電鍍裝置包含一電鍍槽11,及一陰極軸12,是可移動地浸置於電鍍機構容盛的電鍍液(圖未示出)中,並配合電鍍機構的陽極裝置300提供電能,對待鍍的被動元件進行電鍍。
該電鍍槽11可相對該陰極軸12轉動,具有一連通外界的開口112,並界定出具有一容置空間113的槽體111,及一可開啟地封閉該開口112的封蓋114。
該陰極軸12由剛性的導電材料構成並呈齒梳形,具有一平行於該電鍍槽11長軸方向設置的軸柱121,及複數由該軸柱121間隔地向下延伸的傳導柱122。
進行電鍍時,待電鍍的被動元件自該開口112裝盛入該容置空間113中,並以該封蓋114封閉該開口112後,即以陽極裝置300與該陰極軸12配合提供電能進行電鍍,且在電鍍進行的同時,該電鍍槽11相對該陰極軸12轉動,讓容置於該容置空間113的被動元件的相對位置改變,也使得電鍍液的濃度因滾動而攪拌均勻,進而讓被動元件具有良好的電鍍鍍膜品質。
然而,因為陰極軸12呈齒梳狀,因此,當該電鍍槽11轉動而帶動被動元件改變相對位置時,會擊破毀損在電鍍槽11中堆積的被動元件,增加製造成本。
此外,因為電流是經由該等傳導柱122的端部放出,放電產生的電場是以每一傳導柱122的端部向外實質呈一球形發散,所以,由這樣多數個球形電場構成的整體電場並不均勻而會影響鍍膜的品質。
因此,如何改善目前電鍍機構的陰極電鍍裝置,提昇被動元件於電鍍處理時的品質,並提昇電鍍製程的良率,一直是於此領域研究者不斷進行改善研究的重要課題之一。
因此,本發明的目的,是在提供一種電鍍機構的陰極電鍍裝置,該陰極電鍍裝置與該電鍍機構的陽極裝置配合電鍍被動元件,可以提昇鍍膜的品質與電鍍製程良率。
本發明電鍍機構的陰極電鍍裝置,包含一電鍍槽、一陰極單元,及複數第一助導物。
該電鍍槽可移動地浸置在該電鍍機構容盛的電鍍液中,包括緊鄰設置的一電鍍槽區,及一放電槽區,該電鍍槽區界定出一第一容置空間,該放電槽區界定出一第二容置空間。
該陰極單元可與陽極裝置配合提供電能,包括一穿設該放電槽區的陰極軸,及至少一可導電的放電件,該陰極軸設置於該第二容置空間,該放電件設置於該第一容置空間並沿該電鍍槽區的長軸方向穿設該電鍍槽區,且該放電件具有一凸出於該第二容置空間的連接部。
該等第一助導物由導電材料所構成,堆置於該第二容置空間,且共同堆疊連接該陰極軸及該連接部
本發明的功效在於:利用電鍍槽之電鍍槽區及放電槽區的雙槽區設置,將陰極軸及放電件分別設置於該放電槽區及電鍍槽區,並藉由該等第一助導物的共同堆疊連接,將該陰極軸流出的電流傳導至放電件後再與陽極裝置配合提供電流,可藉此提升放電時的電場均勻性而使鍍膜的均勻性提高,並可避免電鍍過程因對被動元件的碰撞所造成的元件毀損。
有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效,在以下配合參考圖式之一個較佳實施例的詳細說明中,將可清楚的呈現。
參閱圖2、圖3,本發明電鍍機構的陰極電鍍裝置,是可移動地浸置於電鍍機構容盛的電鍍液400中,並配合電鍍機構的陽極裝置300提供電能,對待鍍的被動元件進行電鍍。
該陰極電鍍裝置的一較佳實施例包含一電鍍槽2、一陰極單元3,及複數第一助導物4,圖2是本發明陰極電鍍裝置該較佳實施例的立體圖,圖示中未包含電鍍液且於該第二容置空間221內沒有堆置該等第一助導物4,圖3是圖2的正視剖視圖,但於圖示中包含電鍍液400且於該第二容置空間221內堆置有該等第一助導物4。
該電鍍槽2可轉動地浸置在該電鍍機構容盛的電鍍液400中,包括左右緊鄰設置的一電鍍槽區21,及一放電槽區22。該電鍍槽區21界定出一第一容置空間211並具有一連通外界的第一開口212,及一可開啟地封閉該第一開口212的
第一封蓋213,該放電槽區22界定出一第二容置空間221並具有一連通外界的第二開口222,及一可開啟地封閉該第二開口222的第二封蓋223。
該陰極單元3包括一陰極軸31,及一放電件32。
該陰極軸31具有由剛性的導電材料所構成的一轉軸部311、一放電段312,及一由絕緣材料所構成的軸套313。該轉軸部311是實質地平行於該放電槽區22的長軸方向且可轉動地穿設該放電槽區22並設置於該第二容置空間221,該放電段312由該轉軸部311向該放電槽區22的底部延伸,並具有一放電端314,該軸套313包覆該轉軸部311及該放電段312,且該放電端314為凸伸於該軸套313外。
該放電件32是由剛性的導電材料所構成並呈長條棒狀,沿該電鍍槽區21的長軸方向穿設該電鍍槽區21及該放電槽區22而設置於該第一容置空間211中,並具有一凸出於該第二容置空間221的連接部321。當該電鍍槽2轉動時,該轉軸部311是反向於該電鍍槽2的轉動方向運動使該放電端314保持實質地朝向該放電槽區22的底部。
該等第一助導物4,是由導電材料所構成,例如瓷珠、鐵球等,堆置於該第二容置空間221,且該等第一助導物4堆疊設置的高度為至少可同時連接該放電端314及該連接部321。
電鍍時,該陰極軸31、第一助導物4,及該放電件32可藉由該等第一助導物4的連接形成陰極,配合陽極裝置300作為陽極而提供電能對待鍍被動元件進行電鍍。
當以上述陰極電鍍裝置進行被動元件的電鍍處理時,會先將待鍍的被動元件由該第一開口212置入該第一容置空間211,再將該等第一助導物4由該第二開口222置入該第二容置空間221,並以該第一、二封蓋213、223封閉該第一、二開口212、222後,即可與陽極裝置300配合提供電能進行電鍍。
電鍍時,電流由該陰極軸31流出並經由該放電段312的放電端314輸出後,藉由該等堆置於該第二容置空間221內並同時連接該放電端314及該連接部321的第一助導物4的傳導,使電流可由該陰極軸31藉由該等第一助導物4傳輸至該放電件32,再經由該棒狀的放電件32與該陽極裝置相互配合分散進入該電鍍液400中而使得進行電鍍的電流分佈均勻而穩定。
另外於施加電流進行電鍍的同時,將該電鍍槽2以該轉軸部311為軸心進行轉動,而使容置於該第一容置空間211中被動元件的相對位置改變並可使該第一容置空間211中的電鍍液400濃度因電鍍槽2的轉動而攪拌均勻,因此可得到較佳的鍍膜均勻性,且因為該放電件32為棒狀並與該電鍍槽區21的空間距離較大,當該電鍍槽2進行轉動而使被動元件的相對位置改變時,較不易因被動元件間的聚集而造成元件的擠壓破壞,因此可避免習知因陰極軸呈齒梳狀產生狹縫而容易造成被動元件間的聚集,並因為電鍍槽轉動而帶動被動元件與該齒梳狀陰極軸碰撞造成電鍍槽中被動元件的毀損而增加製造成本。
值得一提的是,該放電件32數量亦可為複數。由前述說明可知該等第一助導物4堆疊的高度為可同時連結該放電端314及該連接部321,當放電件32數量為複數時,可降低該等第一助導物4堆疊的數量,且放電件32為複數時可讓電流從不同方向向電鍍液內分散導入,而更可提升整體電流分布的均勻度,但是當放電件32數量增多時,放電件32與該電鍍槽區21內壁面的空間距離相對地就會減小,而容易造成元件間的碰撞擠壓破壞。.
參閱圖4、圖5,圖4是放電件32數量為3支,且於該第二容置空間22內沒有堆置該第一助導物4的立體圖,圖5為圖4在該第二容置空間22內有堆置該第一助導物4的側視剖視圖。
另外,也可於該第一容置空間21放置複數第二助導物,該等第二助導物的組成及形狀與該等第一助導物4相類似,可讓該第一容置空間211中的電流分佈及電鍍液的濃度更均勻而穩定。
又,值得一提的是,為了降低因為電鍍槽2轉動使容置於該第一容置空間211中的被動元件與該放電件32造成的碰撞破壞,因此該放電件32可以由複數實質呈環狀的電極圈彼此相扣連接成一長鏈狀的放電件,或是可選自具撓性的導電材料構成,而降低被動元件與放電件32間的碰撞所造成的破壞。
綜上所述,本發明用於被動元件電鍍之電鍍機構的陰極電鍍裝置,利用電鍍槽之電鍍槽區及放電槽區的雙槽區設
置,將陰極軸及放電件分別置於該放電槽區及電鍍槽區中,並藉由複數第一助導物的堆置連結將陰極軸流出的電流傳導至放電件後,再與該陽極裝置配合供給電能進行被動元件的電鍍,可避免目前電鍍槽於放電時,電流會因經由傳導柱的尖端放電造成電場不均勻所導致的鍍膜品質不佳的問題,及因為陰極軸的齒梳狀結構於電鍍槽轉動時,容易與被動元件碰撞而造成元件的破壞問題,而可藉此提升放電時的電場均勻性使鍍膜的均勻性提高,並可避免電鍍過程因對被動元件的碰撞所造成的元件毀損,故確實能達成本發明之目的。
惟以上所述者,僅為本發明之較佳實施例而已,當不能以此限定本發明實施之範圍,即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾,皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
11‧‧‧電鍍槽
111‧‧‧槽體
112‧‧‧開口
113‧‧‧容置空間
114‧‧‧封蓋
12‧‧‧陰極軸
121‧‧‧軸柱
122‧‧‧傳導柱
2‧‧‧電鍍槽
21‧‧‧電鍍槽區
211‧‧‧第一容置空間
212‧‧‧第一開口
213‧‧‧第一封蓋
22‧‧‧放電槽區
221‧‧‧第二容置空間
222‧‧‧第二開口
223‧‧‧第二封蓋
3‧‧‧陰極單元
31‧‧‧陰極軸
311‧‧‧轉軸部
312‧‧‧放電段
313‧‧‧軸套
314‧‧‧放電端
32‧‧‧放電件
321‧‧‧連接部
4‧‧‧第一助導物
300‧‧‧陽極裝置
400‧‧‧電鍍液
圖1是一立體圖,說明習知電鍍機構的陰極電鍍裝置;圖2是一立體圖,說明本發明電鍍機構的陰極電鍍裝置的較佳實施例圖3是一側視剖視圖,說明圖2且於第二容置空間內堆置有第一助導物;圖4是一立體圖,說明本發明該較佳實施例具有3支放電件的實施態樣,且於第二容置空間內沒有堆置第一助導物;及圖5是一側視剖視圖,說明圖4且於第二容置空間內堆
置有第一助導物。
300‧‧‧陽極裝置
400‧‧‧電鍍液
2‧‧‧電鍍槽
21‧‧‧電鍍槽區
211‧‧‧第一容置空間
22‧‧‧放電槽區
221‧‧‧第二容置空間
3‧‧‧陰極單元
31‧‧‧陰極軸
311‧‧‧轉軸部
312‧‧‧放電段
313‧‧‧軸套
314‧‧‧放電端
32‧‧‧放電件
321‧‧‧連接部
4‧‧‧第一助導物
Claims (4)
- 一種電鍍機構的陰極電鍍裝置,與該電鍍機構的陽極裝置配合電鍍被動元件,該陰極電鍍裝置包含:一電鍍槽,可移動地浸置在該電鍍機構容盛的電鍍液中,包括彼此緊鄰設置的一電鍍槽區,及一放電槽區,該電鍍槽區界定出一第一容置空間,該放電槽區界定出一第二容置空間;一陰極單元,包括一穿設於該放電槽區的陰極軸,及至少一可導電的放電件,該陰極軸設置於該第二容置空間,該放電件設置於該第一容置空間且沿該電鍍槽區的長軸方向穿設該電鍍槽區,並具有一凸出於該第二容置空間的連接部,其中,該陰極軸具有由導電材料所構成的一轉軸部、一放電段,及一由絕緣材料所構成的軸套,該轉軸部實質地平行於該放電槽區的長軸方向穿設該放電槽區,該放電段由該轉軸部向該放電槽區的底部延伸並具有一放電端,該軸套包覆該轉軸部及該放電段,且該放電端為凸伸於該軸套外;及複數第一助導物,由導電材料所構成,堆置於該第二容置空間並共同堆積地連接該陰極軸及該連接部形成陰極,可與該陽極裝置配合提供電能。
- 依據申請專利範圍第1項所述電鍍機構的陰極電鍍裝置,其中,該電鍍槽是可轉動的浸置在該電鍍機構的電鍍液中,且該陰極軸的放電端恆保持朝向該放電槽區的底部。
- 依據申請專利範圍第1項所述電鍍機構的陰極電鍍裝置,其中,該等第一助導物是堆置連接該放電端及該連接部。
- 依據申請專利範圍第1項所述電鍍機構的陰極電鍍裝置,其中,該放電件是剛性且實質呈長條柱狀。
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TW97137468A TWI385280B (zh) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | 電鍍機構的陰極電鍍裝置 |
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TW201012974A TW201012974A (en) | 2010-04-01 |
TWI385280B true TWI385280B (zh) | 2013-02-11 |
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TWM291974U (en) * | 2005-11-04 | 2006-06-11 | Giant Guang Chem Ind Co Ltd | Structure of auxiliary conductor for barrel plating |
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2008
- 2008-09-30 TW TW97137468A patent/TWI385280B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TWM291974U (en) * | 2005-11-04 | 2006-06-11 | Giant Guang Chem Ind Co Ltd | Structure of auxiliary conductor for barrel plating |
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