TWI354299B - - Google Patents
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Description
1354299 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種插入核芯内之量測裝置導管的流動振 動抑制構造。 【先前技術】 將中子檢測器等之檢測器設於加壓水形輕水反應器 (PWR)的核芯内時,係藉由插入前述核芯内之量測裝置導 管,而將前述檢測器導引於前述核芯内。將該量測裝置導 管插入核芯内之方式,先前係採用從核反應器容器之下方 向上方插入量測裝置導管的下部插入方式,而目前檢討採 用從核反應器容器之上方向下方插入量測裝置導管的上部 插入方式。 圖5 1係顯示採用上部插入方式時之量測裝置導管的插入 狀態之概略圖。如圖5 1所示,量測裝置導管1從核反應器 容器(無圖示)之上部插入核反應器容器内後,依序從上方 向下方插通介於核反應器容器内之上部核芯支撐板2與上 部核芯板3間的中空之上部核芯支撐柱4 ’及上部核芯板3 之開口部3a,而將下端部丨心番入核芯5内。中子檢測2 8與 連接於其之電纜9_起藉由量測裝置導管1從上方向下方邋 引而插入核芯5内。 下方導 專利文獻1:曰本特公平6-789號公報 專利文獻2:曰本專利第2521331號公報 專利文獻3.曰本特開平2·2〇ιι93號公報 專到文獻4_日本特開平9·8〇ι88號公報 129381.do. 1354299 【發明内容】 發明所欲解決之問題 但是,如圖51之上部插入方式中’從核芯5流出之冷卻 水(輕水)如箭頭Y1通過上部核芯板3之開口部“及上部核 心支樓柱4的腳部6間,而流入上部空腔7内時,藉由該冷 卻水之流動,如箭頭Y2之流動振動激勵於量測裝置導管 1。因而,可能造成量測裝置導管丨反覆接觸上部核芯支撐 柱4及核芯5之構造物等而磨損。
因此,本發明之課題為有鑑於上述情形,而提供一種可 抑制1測裝置導管之流動振動,以防止量測裝置導管之磨 損的量測裝置導管之流動振動抑制構造。 解決問題之技術手段
解決上述問題之第1發明的量測裝置導管之流動振動抑 制構造之特徵為包含:導管,其係設於介設於核反應器容 器内之上部核芯支撐板與上部核芯板間的中空上部核芯支 撐柱的㈣’及頂端喷嘴,其係設於前述上部核芯支撑柱 端下端從上方向下方依序插通前述導管、前述頂 端噴嘴及前述上部核芯板之開口冑,而插入核怒内,且形 成下述 構.在刖述導管側面之至少下部設下部孔,藉由 該下部孔内側與外側夕& % u , 之冷部材料的壓力差,將前述量測裝 置導管擠壓於前述導管的内周面。 此外’第2發明之量測梦番道达 ^ 〜裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第丨發明之量 則裝置導官之流動振動抑制構造 中,形成下述結構:在前十 <上。卩核芯支樓柱之側面設壓力 129381.doc 1354299 調整孔’從前述導管之下端流入前述導管内之冷卻材料通 過刖述s測裝置導管與前述下部孔之間的間隙,而從前述 導管之内側向外側流出後,通過前述壓力調整孔,而從前 述上部核芯支撐柱之内側向外側流出。 此外,第3發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為包含:導管,其係設於介設於核反應器容器内之上 部核芯支撐板與上部核芯板間的中空上部核芯支撐柱的内 部;及頂端噴嘴,其係設於前述上部核芯支撐柱之下端; 下端部從上方向下方依序插通前述導管、前述頂端噴嘴及 前述上部核芯板之開口部,而插入核芯内,且形成下述結 構:在前述導管側面之上部與下部的2處設上部孔與下部 孔,藉由此等上部孔與下部孔内側與外側之冷卻材料的壓 力差,將前述量測裝置導管擠壓於前述導管的内周面。 此外,第4發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第3發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中,形成下述結構:在前述上部核芯支撐柱側面之上部與 下部的2處設上部壓力調整孔與下部壓力調整孔,從前述 導官之上端流入前述導管内之冷卻材料通過前述量測裝置 導管與前述上部孔之間的間隙,而從前述導管之内側向外 側流出,且通過前述上部壓力調整孔,而從前述上部核芯 支撐柱之内側向外側流出,而從前述導管之下端流入前述 導管内之冷卻材料通過前述量測裝置導管與前述下部孔之 間的間隙,而從前述導管之内側向外側流出,且通過前述 下部壓力調整孔,而從前述上部核芯支撐柱之内側向外側 129381.doc ^54299 流出。 此外’第5發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第2發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中’前述壓力調整孔係可裝卸地設於前述上部核芯支撐柱 側面的插塞孔。 此外,第6發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第4發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中’前述上部壓力調整孔與前述下部壓力調整孔係可裝_ 地設於前述上部核芯支撐柱側面的插塞孔。 此外’第7發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第2發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中’形成下述結構:在比前述下部孔上方之位置,且前述 導管之側面設壓力導入孔,從前述導管下端流入前述導管 内之冷卻材料的一部分通過前述壓力導入孔,而從前述導 管之内側向外側流出,且通過前述壓力調整孔,而從前述 上部核芯支撐柱之内側向外側流出。 此外,第8發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第4發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中,形成下述結構:在前述上部孔與前述下部孔之間的位 置,且前述導管之側面設上側之第丨壓力導入孔與下側之 第2壓力導入孔,從前述導管上端流入前述導管内之冷卻 材料的一部分通過前述第1壓力導入孔,而從前述導管之 内側向外側流出,且通過前述上部壓力調整孔,而從^述 上部核芯支撐柱之内側向外側流出,從前述導管 ^ 12938 丨.doc 則述導管内之冷卻#料的—部分通過前述第2磨力導入 而從前述導管之内側向外側流出,且通過前述下部麼 力調整孔,而從前述上部核芯支標柱之内側向外側流出。 此外,第9發明之量测裝置導管之流動振動抑制構造的 广:於第8發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 在則述第1壓力導入孔與前述第2壓力導入孔之間的仇 置,且前述導管之内周面設有節流部。 此外,第1G發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第2發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中’將從前述壓力調整孔流出之冷卻材料導向下方的護蓋 設於前述上部核芯支撐柱之側面。 此外,第11發明之量測裝置㈣之流動振動抑制構造的 特徵為:於第4發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 :’將從前述下部壓力調整孔流出之冷卻材料導向下方的 護蓋設於前述上部核芯支撐柱之側面。 此外’第12發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 寺徵為L 3 管,其係設於介設於核反應器容器内之上 P核〜支樓板與上部核芯板間的中空上部核芯支樓柱的内 邛,及頂端喷嘴,其係設於前述上部核芯支撐柱之下端; 〇 方向下方依序插通前述導管、前述頂端噴嘴及 引述上邻核心板之開口部,而插入核芯内,且插通前述量 導言之引述頂端喷嘴的内周面形狀係倒截錐狀。 卜第1 3發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為包含:導管’其係設於介設於核反應器容器内之上 129381.doc 1354299 ,核、支標板與上部核芯板間的中空上部核芯支樓柱的内 頂端噴嘴,其係設於前述上部核芯支撐柱之下端; 從上方向下方依序插通前述導管、前述頂端喷嘴及 引述上。P核心板之開口#,而插入核芯内且插通前述量 測裝置導官之前述頂端噴嘴的外周面形狀係倒截錐狀且 外周面之下端與内周面之下端連續。 此外’第14發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的
特徵為包含:冑管,其係設於介設於核反應器容器内之上 :核’心支撐板與上部核芯板間的中空上部核芯支撐柱的内 户及頂端噴嘴,其係設於前述上部核芯支撐柱之下端; A端I5從上方向下方依序插通前述導管、冑述頂端喷嘴及 引述上邛核芯板之開口冑,而插入核芯内且形成下述結 構:在前述頂端喷嘴之側面設孔,藉由該孔内側與外側: 冷部材料的壓力差,將前述量測裝置導管擠壓於前述頂端 噴嘴之内周面。
此外,第15發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 :寺徵:包含:導管,其係設於介設於核反應器容器内之上 部核芯支標板與上部核芯板間的中空上部核芯支標㈣内 部:及頂端噴嘴,其係'設於前述上部核芯支轉柱之下端; 此端Pk上方向下方依序插通前述導管、冑述頂端喷嘴及 剛:上部核芯板之開口#,而插入核芯内,且構成如下: 在^述上部核芯板之開口部設整流板,藉由該調整板對通 j上部核芯板之開口部的冷卻材料之—部分加以整 流’前述冷卻水之一部分朝向上方流入前述頂端噴嘴。 29381.do, 1354299 此外,第1 6發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 寺徵為包3.導管,其係設於介設於核反應器容器内之上 P核心支撐板與上部核芯板間的中空上部核芯支樓柱的内 邛,及頂端喷嘴,其係設於前述上部核芯支撐柱之下端; 下端。P從上方向下方依序插通前述導管、前述頂端喷嘴及 前述上部核芯板之開”,而插入核芯内,且形成下述結 構2在前述頂端噴嘴之下端設延長管,且在該延長管之侧 面設孔,藉由該孔内側與外側之冷卻材料的壓力差,將前 述量測裝置導管擠壓於前述延長管之内周面。 此外’第17發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:力第8發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中’在前述第1壓力導入孔與前述第2壓力導入孔之間的位 置’將前述導管2分割成上側之第i導管部與下側之第:導 管部,且前述第1導管部之下端與前述第2導管部之上端之 間分離^ 此外,第18發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為包含1管’其係設於介設於核反應器容器内之上 部核芯支撐板與上部核芯板間的中空上部核芯支撐柱的内 部;及頂端噴嘴’其係設於前述上部核芯支撐柱之下端. :端部從上方向下方依序插通前述導管、前述頂端喷嘴及 前述上部核芯板之開口告p,而插入核芯内,且前述量測裝 置導管之形狀係波形狀,該波形狀之量測裝置導管的各 曲部抵接於前述導管之内周面。 $ 此外’第19發明之里測裝置導管之流動振動抑制構造的 129381.doc •12· 寺徵為·於弟1發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中形成下述結構:在前述導管之側面的周方向設複數前 一卜 下4孔’且在前述上部核芯支撐柱之側面設壓力調整 L藉由剛述複數下部孔中任何1個下部孔内側與外側之 、〃卩材料的壓力差’將前述量測裝置導管擠壓於前述導管 2内周面,從前述導管之下端流入導管内的冷卻材料通過 月’J述複數下部孔中之前述1個下部孔以外的下部孔,而從 削述導官之内側向外側流出,且通過前述壓力調整孔,而 從則述上部核芯支撐柱之内側向外側流出。 此外,第20發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第3發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中,形成下述結構:在前述導管之側面的周方向設複數前 述上部孔及下部孔,且在前述上部核芯支撐柱側面之上部 與下部的2處設上部壓力調整孔與下部壓力調整孔,藉由 則述複數上部孔及下部孔中任何丨個上部孔及下部孔内側 與外側之冷卻材料的壓力差,將前述量測裝置導管擠壓於 刖述導官之内周面,從前述導管之上端流入導管内的冷卻 材料通過前述複數上部孔中之前述丨個上部孔以外的上部 孔,而從别述導管之内側向外側流出,且通過前述上部壓 力調整孔,而從前述上部核芯支撐柱之内側向外側流出, 從則述導官之下端流入導管内的冷卻材料通過前述複數下 部孔中之前述〗個下部孔以外的下部孔,而從前述導管之 内側向外侧流出,且通過前述下部壓力調整孔,而從前述 上部核芯支撐柱之内側向外側流出。 12938 丨.doc 1354299 此外,第2 1發明之量測裝置導放 特徵為:於第2發明之量測裝置、S:流,振動抑制構造的 中,將使冷卻材料之流動方 4之流動振動抑制構造 部設於延長管之内周面,該:前述下部孔之方向的凸 下端,或設於前述導管之内周/係設於前述頂端噴嘴之 内周面及前述導管之内周面。,或是設於前述延長管之 此邛,第22發明之量測裝置 牯料良.仏够 s之》爪動振動抑制構造的
寺徵為.於第4發明之量測裝置 等B之流動振動抑岳丨丨堪;土 中,將使冷卻材料之流動方向 ㈣制構以 ^ 门朝向則述上部孔及前述下部 孔之方向的凸部設於延長管 、f β “ S之㈣面,該延長管係設於前 述頂鳊喷嘴之下端,或設於前述 ‘ 則述導官之内周面,或是設於 别述延長管之内周面及前述導管之内周面。 此外,第23發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:》第2發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中,在前述下部孔之相反側的位置,沿著前述導管之長度 方向設壓力導入管,使該壓力導入管内與前述導管内連 通。 此外’第24發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第4發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中’在前述上部孔及前述下部孔之相反側的位置,沿著前 述導管之長度方向設壓力導入管,使該壓力導入管内與前 述導管内連通。 此外’第25發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第23或第24發明之量測裝置導管之流動振動抑 12938l.doc 14 制構造中,將連通於前述壓力 頂端噴嘴之内周面。 導入管内之凹部形成於前述 特卜.第26發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 寻徵為.於第2 3發明夕番、ή丨丨壯 置測裝置導管之流動振動抑制構造 將使前述壓力“管内與前料管㈣通之連通孔設 於對應於前述下部孔的位置。 此外第27發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 士徵為力第24發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 ,將使前述壓力導入管内與前述導管内連通之連通孔設 於對應於前述上部孔與前述下部孔的位置。 此外,第28發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第23發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中,形成下述結構:在前述導管之側面的周方向設複數前 述下部孔,藉由前述複數下部孔中任何⑽下部孔内側盘 外側之冷卻材料的壓力i,將前述量測裝置導f擠壓於前 述導管之内周Φ,從前述導管之下端流人導管内的冷卻材 料通過#述複t下料中之前述)個下部孔以外的下部 孔,而從前述導管之内侧向外側力出,^過前述壓力調 整孔,而從前述上部核芯支撐柱之内側向外側流出。 此外’第29發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第24發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中,形成下述結構:在前述導管之側面的周方向設複數前 述上部孔及前述下部孔,藉由前述複數上部孔及下部孔令 任何1個上部孔及下部孔内側與外側之冷卻材料的壓力 I29381.doc •15- 1354299 差’將前述量測裝置導管擠壓於前述導管之内周面,從前 述導管之上知流入導管内的冷卻材料通過前述複數上部孔 中之前述1個上部孔以外的上部孔,而從前述導管之内側 向外側流出,且通過前述上部壓力調整孔,而從前述上部 核心支樓柱之内側向外側流出’從前述導管之下端流入導 管内的冷卻材料通過前述複數下部孔中之前述1個下部孔 以外的下部孔,而從前述導管之内側向外側流出,且通過
前述下部壓力調整孔,而從前述上部核芯支撐柱之内側向 外側流出。
此外,第30發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為包含:上部核芯支樓柱,其係介設於核反應器容器 内之上部核芯支撐板與上部核芯板之間;支撐柱貫穿孔, 其係貫穿於前述上部核芯支撐柱之軸方向,而與設於前述 j部核芯板的開口部連通;頂端喷嘴,其係設於核芯侧之 前述上部核芯支禮柱的端部;頂端噴嘴貫穿孔,其係貫穿 :前述頂端噴嘴之軸方向,而與前述支樓柱貫穿孔連通; I測褒置導管,其係、插通於前述支擇柱貫穿孔與前述頂端 噴:貫穿孔,並將一端部插入核芯内;及側部孔,其係設 二引述上核4支撑柱之側部,連通前述支撑柱貫穿孔與 :述上部核芯支撐柱之外部;藉由前述頂端喷嘴之開口部 —十2 P材料與刚述側部孔外側之冷卻材料的壓力差將 4里測裝置導管擠壓於前述頂端喷嘴的内周。 特卜’第31發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於㈣發明之量縣置導管之流動振動抑制構造 129381 .doc •16· Ϊ354299 中包含··冷卻材料入口,其係設於前 :出將前述冷卻材料導入前述頂端喷嘴貫穿孔;I::: ;出口,其係設於前述頂端噴嘴之前述上部 ==端:嘴之軸相反側,使導入前述頂端噴嘴 貝穿孔之别述冷郃材料向前述支撐柱貫穿孔流出。 此外,第32發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 中徵為.於㈣發明之㈣裝置W之流動 中,分別設複數前述冷卻材料入口及前述冷卻材料Γ1 特卜’第I3發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 中徵為.於第30發明之量測裝置導f之流動振動抑制構造 2在前述頂端噴嘴之内部設入口側冷卻材料通路,其係 / '刖述冷卻材料入口連通,且你此丄 ’' H ㈣且從則述支撑柱貫穿孔側向核 4 ’與U頂端Μ之軸正交的剖面開口面積逐漸變 大。 此外,第34發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 ^徵為:於第30發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 ’前述頂料嘴之核芯制内㈣從料上龍芯支樓 柱側:核㈣之前述頂端喷嘴的端部,與前述頂端嗔嘴之 軸正父的剖面開口面積變大。 此外,第35發明之量測裝置㈣之流動振動抑制構造的 特徵為:於第30發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中,前述頂端喷嘴包含:量測裝置導管保持體,其係配置 於則述量測裝置導管之外周冑;嘴嘴内空間,其係設於前 述量測裝置導管保持體之外側;隔壁,其係設於前述頂端 129381.doc 嘴嘴内空間之内面盘箭沖旦
、f + / j述s測裝置導管保持體之間,將A =内空間11分成前述冷卻材料入口側與前述冷二 二側;冷卻材料導…其係設於前述量測 = 持體之外周部,盥卸八—二1 子S保 肉介 之前述冷卻材料入口側之前述喷嘴 二間連通;及冷卻材料流出口其係設於 導管保持體之相部,I % Ί ^置
與sj分之前述冷卻材料出口側的5 述噴嘴内空間連通;叫八义 、月丨J J刀之刖述冷卻材料入口側的前述
Γ間與前述冷卻材料入口連通,劃分之前述冷卻材: 出口側的前述喷嘴内空間與前述冷卻材料出口連通。 此外,第3 6發明之量測梦署道# 、裝置導s之〜動振動抑制構造的 ^徵為包含:上部核芯支撑柱,其係介設於核反應器容器 之上部核芯支撐板與上部核芯板之間;支料貫穿孔,
”係貫穿於前述上部核芯支樓柱之軸方向,而與設於前述 上部核芯板的開口部連通;量測裝置導管,其係插通於前 ^支2柱貝穿孔’並將一端部插入核芯内;側部孔,其係 叹於則述上部核芯支樓柱之側面’連通前述支撐柱貫穿孔 與前述上部核芯支樓柱之外部;冷卻材料堵住構件,1係 形成使前述量測裝置導管插通之插通孔,並且設於比前述 ^撐^貫穿孔内之前述側部孔更上部核芯支撑板侧,堵住 机’!别述支樓柱貫穿孔内之冷卻材料;量測裝置導管保持 體’其係配置於前述量測裝置導管與前述支樓柱貫穿孔之 1且比則述冷卻材料堵住構件更核芯側;隔壁,其係設 U述支#柱貝穿孔與前述量測裝置導管保持體之間,且 比引述冷郃材料堵住構件更核芯側,將前述支撐柱貫穿孔 129381.doc * 18- 1354299 之内部劃分成設前述側部孔之側的空間與不設前述側部孔 之側的空間;冷卻材料導入口 ’其係連通不設前述侧部孔 之側的空間與前述量測裝置導管保持體之内部;及冷卻材 料流出口 ’其係連通設前述側部孔之側的空間與前述量測 裝置導管保持體之内部’藉由存在於設前述側部孔之側的 二間之冷卻材料與存在於不設前述侧部孔之側的冷卻材料 之廢力差’將前述量測裝置導管擠壓於前述量測裝置導管 保持體的内周。
此外,第37發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第36發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中’在核芯側之前述隔壁的端部包含曲面。 此外第3 8發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第36發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中,在核芯側之前述量測裝置導管保持體的端部包含曲 面 〇
矛听之罝測裝置導管之流動振動抑制構造的 特徵為:於第36發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中’在核芯侧之前述支擇柱貫穿孔的内面形成漏斗口狀。 此外’第40發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 :徵為:W發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中’且在核芯側之前述上Α 峠核心支撐柱的端部設關閉構 件’其係堵塞設有由前述隔辟 空間。 所+ 刀之前述側部孔之側的 此外,第41發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造的 129381.doc 1354299 特徵為:於第36發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造 中,在前述支撐柱貫穿孔之核芯側設冷卻材料整流機構k 其係對向前述支撐柱貫穿孔流入之前述冷卻材料加以敕 流。 疋 此外,第42發明之量測裝置導管之流動振動抑制構㈣ 特徵為:於第36發明之量測裝置導管之流動振動抑制構、生 中’前述支撐柱貫穿孔之内面係朝向核芯側之前述上部: 芯支撐柱的端部,與前述上部核芯支撐柱之軸正交的剖面 開口面積逐漸變大。 另外,上述各發明之結構亦可任意地組合。例如亦可將 第5發明之插塞與其他發明之結構組合。 發明之效果 L叫肌、切押刺稱造,可
褚由第1發明之量測裝 ::述量測裝置導管藉由前述導管向頂端喷嘴導弓丨,而順 :::入前述頂端噴嘴,且可藉由插通於頂端嘴嘴,而順 插入核芯内。而後,因為其特徵為:構成在前述導管 :側面的至少下部設下部孔’藉由該下部孔内側與外側之 ::材枓的壓力差’而將前述量測裝置導管擠壓於前述導 官的内周面,所以可藉由前+ 猎由述下邛孔内側與外側之冷卻材 料的壓力差形成之擠壓力,抑 料的流動而產生之量财置導營核心“之冷卻材 里叫衮置導管的流動振動。 藉由第2發明之量測护罢道& 特徵為.Μ A / 導s之流動振動抑制構造,其 特徵為.構成在前述上 + 孔,從前述導管之下舒人1:+支揮柱之側面設塵力調整 />,L别述導官内之冷卻材料,通過 I29381.doc 20. 1354299 前述量測裝置導管與前述下部孔之間的間隙,而從前述導 管之内側向外側流出後,係通過前述壓力調整孔而從前 述上部核芯支撐柱之内側向外側流出,因為上部核芯支撐 柱之外側(上部空腔内)的冷卻材料之壓力低,藉由在上部 核芯支撐柱中設壓力調整孔,可使上部核芯支標柱内(導 管與上部核芯支撐柱之間)的壓力更加降低。因此,因為 可使前述下部1内側肖外側之冷卻#料的M力差形成之擠 壓力增大,所以可更確實地抑制前述量測裝置導管之流動 攀 振動。 藉由第3發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,可 將前述量測裝置導管藉由前述導管向頂端喷嘴導引,而順 利地插入前述頂端喷嘴,且可藉由頂端噴嘴而順利地插入 核芯内。而後,因為其特徵為:構成在前述導管側面之上 部與下部的2處設上部孔與下部孔,藉由此等上部孔與下 部孔内側與外側之冷卻材料的壓力差,而將前述量測裝置 • 導管擠壓於前述導管的内周面,所以可藉由前述上部孔及 下部孔内側與外側之冷卻材料的壓力差形成之擠壓力抑 制藉由從核芯流出之冷卻材料的流動而產生之量測裝置導 管的流動振動。 藉由第4發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其 特徵為:構成在前述上部核芯支撐柱側面之上部與下部的 2處設上部壓力調整孔與下部壓力調整孔,從前述導管之 &入則述導管内之冷卻材料通過前述量測裝置導管與 月1J述上部孔之間的間隙,而從前述導管之内側向外側流 129381.doc -21 -
2且通過前述上部壓力調整孔,從前述上部核芯支標柱 之二側向外側流出’而從前述導管之下端流入前述導管内 =卻材料,通過前述量測裝置導管與前述下部孔之間的 而從前述導管之内側向外側流出,且通過前述下部 調整孔’而從前述上部核芯支撐柱之内側向外側流 :因為上部核芯支擇柱之外側(上部空腔内)的冷卻材料 之壓力低’藉由在上部核芯支#柱中設上部壓力調整孔與 :部壓力調整孔,可使上部核思支撐柱内(導管與上部核 芯支撐柱之間)的冷卻材料壓力更加降低。因此,因為可 使前述冷卻材料的壓力差形成之擠壓力增大,所以可更確 實地抑制前述量測裝置導管之流動振動。 藉由第5發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其 特徵為:前述壓力調整孔係可裝卸地設於前述上部核芯支 撐柱之側面的插塞之孔,因為可從孔大小不同之複數插塞 選擇任意之插塞,而安裝於前述上部核芯支撐柱之側面,
所以可任意地調整壓力調整孔之大小,並可任意地調節上 部核芯支撐柱内(導管與上部核芯支撐柱之間)之冷卻材料 壓力。因而,可任意地調整前述冷卻材料之壓力差形成的 擠壓力,且可任意地調整從核芯流出之冷卻材料向導管内 的流入量。 藉由第6發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其 特徵為:前述上部壓力調整孔與前述下部壓力調整孔係可 裝卸地設於前述上部核芯支撐柱之側面的插塞之孔,因為 可從孔大小不同之複數插塞選擇任意之插塞,而安裝於前 1293Sl.doc -22· 述上部核芯'支樓柱之側面,所以可任意地調整上部壓力調 整孔及下部壓力調整孔之大小’並可任意地調節上部核芯 支樓柱内(導管與上部核芯切枉之間)之冷卻材料壓力。 因而,可任意地調整前述冷卻材料之壓力差形成的擠壓 力’且可任意地調整冷卻材料從頂冑(上部核ο撐板之 上部空間)向導管内之流入量’與從核芯流出之冷卻材料 向導管内的流入量。 藉由第7發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:構成在比前述下部孔上方之位置,且在前述 導官之側面設壓力導入孔,從前述導管下端流入前述導管 内之冷卻材料的一部分通過前述壓力導入孔,而從前述導 管之内側向外側流出,且通過前述壓力調整孔,從前述上 部核芯支撐柱之内側向外側流出,所以從前述導管之下端 流入前述導管的冷卻材料(從核芯流出之冷卻材料)的壓力 導入至壓力導入孔之位置。結果,因為可提高在前述下部 孔之位置的前述導管内之冷卻材料壓力,所以可使前述冷 卻材料之壓力差形成的擠壓力增大,更確實地抑制前述量 測裝置導管之流動振動。 藉由第8發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:構成在前述上部孔與前述下部孔之間的位 置’且在前述導管之側面設上侧之第丨壓力導入孔與下側 之第2壓力導入孔,從前述導管上端流入前述導管内之冷 部材料的一部分’通過前述第1壓力導入孔,而從前述導 官之内側向外側流出’且通過前述上部壓力調整孔,而從 129381.doc -23· 别述上部核芯支撐柱之内側向外側流出,從前述導管之下 端流入前述導管内之冷卻材料的一部分通過前述第2壓力 導入孔,而從刖述導管之内侧向外側流出,且通過前述下 4壓力調整孔’而從前述上部核芯支撐柱之内側向外側流 出,所以從前述導管之上端流入前述導管的冷卻材料(前 述頂部之冷卻材料)的壓力導入至前述第1壓力導入孔之位 置從蝻述導管之下端流入前述導管的冷卻材料(從核芯 流出之冷卻材料)的壓力導入至前述第2壓力導入孔之2 置。結果’因為可提高在前述上部孔及前述下部孔之位置 的前述導管内之冷卻材料壓力,所以可使前述冷卻材料之 壓力差形成的擠壓力增大,更確實地抑制前述量測裝置導 管之流動振動。此外,因為從前述導管之上端流入前述導 管的低溫冷卻材料(前述頂部之冷卻材料),與從前述導管 之下端入則述導管的高溫之冷卻材料(從核芯流出之冷 卻材料),分別從前述第1壓力導入孔與前述第2壓力導入 孔個別地流出’所以可抑制因此等低溫冷卻材料與高溫冷 卻材料之界面移動而發生熱應力。 藉由第9發明之量測裝置導管之
129381.doc 别述頂部之冷卻材料),與從前述 r ^之向溫的冷卻材料(從核站流出 結果,可更確實地抑制因此等低溫 1354299 冷卻材料與高溫冷卻材料之界面移動而發生熱應力。 藉由第丨〇發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:係將從前述壓力調整孔流出之冷卻材料導向 下方的護蓋設於前述上部核芯支撐柱之側面,所以,即使 因來自鄰接之上部核芯支撐柱的冷卻材料之橫向流動的影 響’導致在前述壓力冑整孔之設置位i的上部核芯支樓柱 之外側壓力提高,仍可藉由前述護蓋將從前述壓力調整孔 流出之冷卻材料導向壓力低的下方。因而,可確保前述冷 卻材料之壓力差形成的擠壓力,而確實地抑制前述量測裝 置導管之流動振動。 藉由第11發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:係將從前述下部壓力調整孔流出之冷卻材料 導向下方的護蓋設於前述上部核芯支揮柱之側面,所以, 即使因來自鄰接之上部核芯支撐柱的冷卻材料之橫向流動 的影響,導致在前述下部壓力綢卷 I i刀;整孔之設置位置的上部核 芯支樓柱之外側廢力接古 v ^ 刀钕同仍可猎由前述護蓋將從前述下 部>1力調整孔流出之冷备知_ 4评材科導向壓力低的下方。因而, 可確保前述冷卻材料之壓力 堃力差形成的擠壓力,而確實地抑 制前述量測裝置導管之流動振動。 藉由第12發明之量測奘番道其^ ▲ 為苴鸫饩盎.批 ' 導s之〜動振動抑制構造,因 y '、裝置導k之則述頂端嗔嘴的内 周面形狀係倒截錐狀,所 、 將前述量測裝置導管插、驚更順利地 插核心内。且因為前述頂端嘖喈之 下端,前述頂端嗔由田“ 物赁質之 、嘴之内周面與前述量測裝置導管之間隙 I2938J.doc 1354299 、、可抑制因冷卻材料被前述頂端喷嘴之下端紊亂而 、卻材料的紊亂成分流入前述頂端喷嘴内。因為前 述冷卻材料之紊亂成分(激振力)造成前述量測裝置導管之 w動振動,所以藉由抑制前述冷卻材料之奮亂成分流入前 述,端噴嘴内,可抑制前述量測裝置導管之流動振動。 藉由第13發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:插通前述量測裝置導管之前述頂端噴嘴的外 肖面形狀係倒截錐狀’且外周面之下端與内周面之下端連 續,亦即,因為前述頂端喷嘴之外形成為流線形狀,所以 、"P材料不易被頂端喷嘴之下端紊亂。因&,因為不易造 成前述量測裝置導管之流動振動而產生冷卻材料之紊亂成 分(激振力),所以可抑制前述量測裝置導管發生流動振 動。 藉由第14發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:構成在前述頂端喷嘴之側面設孔,藉由該孔 φ 内側與外側之冷卻材料的壓力差,而將前述量測裝置導管 擠壓於前述頂端喷嘴之内周面,所以可藉由前述孔内側與 外側之冷卻材料的壓力差形成之擠壓力抑制前述量測裝置 導管之流動振動。 藉由第15發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:構成在前述上部核芯板之開口部設整流板, 藉由該整流板對通過前述上部核芯板之開口部的冷卻材料 之—部分加以整流,使前述冷卻水之一部分朝向上方流入 前述頂端噴嘴,所以可抑制在前述頂端噴嘴之下端紊亂冷 129381.doc -26- 1354299 卻材料之橫向流動。因此,因為不易產生造成前述量測裝 置導管之流動振動的冷卻材料之紊亂成分(激振力),所以 可抑制前述量測裝置導管發生流動振動。
藉由第16發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:構成在前述頂端喷嘴之下端設延長管,且在 該延長管之側面投孔,藉由該孔内側與外側之冷卻材料的 壓力差,而將前述量測裝置導管擠壓於前述延長管之内周 面,所以,可藉由前述孔内側與外側之冷卻材料的壓力差 形成之擠壓力,抑制前述量測裝置導管之流動振動。 藉由第17發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:在前述第丨壓力導入孔與前述第2壓力導入孔 之間的位置,將前述導管予以2分割成上側之第丨導管部與 =則之第2導管部,且前述第1導管部之下端與前述第# 管部之上端之間分離,所以可抑制因前述導管熱伸張而發 第18發明之I測裴置導管之流動振動抑制構造,因 =徵為:前述量職置導管之形狀係波形狀,該波形 導管的各彎曲部抵接於前述導管之内周面, 的内門广述量測裝置導管之各彎曲部抵接之前述導管 J門/¾面,拍J击丨於 4 仰制剛逑量測裝置導管之流動振動。 糟由第19 日日+ θ 為其特徵為管之流動振動抑制構造,因 下部孔,且在·!則 側面的周方向設複數前述 藉由前述複數:?上部核芯支撐柱之側面設壓力調整孔, 部孔中任何1個下部孔内側與外側之冷卻 129381.doc •27· 丄354299 材料的壓力差,而將前述量測裝置導管擠壓於前述導管之 内周面,從前述導管之下端流入導管内的冷卻材料通過前 述複數下部孔中之A述1個下部孔以外的下部孔,而從前 述導嘗之内側向外側流出,且通過前述麼力調整孔,而從 月’J述上部核芯支撐柱之内側向外側流出,所以,即使如前 述量測裝置導管常常彎曲,而在前述導管内之前述量測裝 置導管的位置有變動時,仍可在複數下部孔之任何一個 Φ 中,將前述量測裝置導管擠壓於前述導管之内周面。 藉由第20發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:構成在前述導管之側面的周方向設複數前述 上部孔及下部孔,且在前述上部核芯支撐柱側面之上部與 下部的2處設上部壓力調整孔與下部壓力調整孔藉由前 述複數上部孔及下部孔中任何丨個上部孔及下部孔内側與 外側之冷卻材料的壓力差,而將前述量測裝置導管擠壓於 月’J述導管之内周面,從前述導管之上端流入導管内的冷卻 φ 材料通過前述複數上部孔中之前述1個上部孔以外的上部 孔,而從前述導管之内側向外側流出,且通過前述上部壓 力調整孔,而從前述上部核芯支撐枉之内側向外側流出, 從則述導官之下端流入導管内的冷卻材料通過前述複數下 部孔中之前述1個下部孔以外的下部孔,而從前述導管之 内側向外側o,L出,且通過前述下部壓力調整孔,而從前述 上部核芯支撐柱之内側向外側流出,所以,即使如前述量 測裝置導&吊吊彎曲,而在前述導管内之前述量測裝置導 管的位置有變動時,仍可在複數上部孔及下部孔之任何一 129381.doc •28- 1354299 個=,將前述量測裝置導管擠壓於前述導管之内周面。 ::第2i發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造因 為八特徵為:將冷卻材料之流動方向朝向前述下部孔 :的凸部設於延長管之内周面,該延長管設於前述頂端喷 :之下端’或設於前述導管之内周面,或是設於前述延: 二之内周面及前述導管之内周面’所以,#由朝向前述下 4孔之流動(橫方向之流動),而 a 動)而將刖述量測裝置導管向前
述下錢之方向的擠壓力作用於前述量測裝置導管。因 而’即使如前述量測裝置導管常…,而在前述導管内 之前_裝置導管的位置有變動時,仍可將前述量測裝 置導官更確實地在前述下部孔中擠壓於前述導管之内周 面。
糟由第22發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:將冷卻材料之流動方向朝向前述上部孔及前 述下部孔之方向的凸部設於延長管之内周面,該延長管^ 於前逑頂端喷嘴之下端’或設於前述導管之内周面,或: 設於前述延長管之内周面及前述導管之内周面,所以,藉 由朝向前述上部孔及前述下部孔之流動(橫方向之流動),曰 而將前述量測裝置導管向前述上部孔及前述下部孔^方向 的擠壓力作用於前述量縣置導f。因而,即使如前述量 測裝置導管常常彎曲,而在前述導管内之前述量測裝置導 管的位置有變動時,仍可將前述量測裝置導管確實地在前 述上部孔及前述下部孔中擠壓於前述導管之内周面。 藉由第23發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 129381.doc •29· 1354299
為其特徵為:在前述下部孔之相反側的位置,沿著前述導 官之長度方向設壓力導入管,而使該壓力導入管内與前述 導管内連通’#以’藉由前述壓力導入管而在前述下部孔 之相反側導人冷卻材料之Μ力’前述下部孔之相反側的壓 力提高。因而,在前述導管内插通前述量測裝置導管時, 即使前述量測裝置導管從前述下部孔離開,因為係藉由前 述下。卩孔之相反側的壓力,而將前述量測裝置導管擠壓於 前述下部孔之方向’所以可確實地在前述下部孔中,將前 述量測裝置導管擠壓於前述導管之内周面。 藉由第24發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:在前述上部孔及前述下部孔之相反側的位 置’沿著前述導管之長度方向設壓力導入管,而使該壓力 導入管内與前述導管内連通,所以,#由前述壓力導入管 而在前述上部孔及前述下部孔之相反側導入冷卻材料之壓 力’前述上部孔及前述下部孔之相反側的壓力提高。因
而’在前料管⑽通前述量測裝料f時,即使前述量 =裝置導管從前述上部孔及前述下部孔離開,因為係藉由 =迷上部孔及前述下部孔之相反側㈣力,而將前述量測 裝置導管Μ於前述上部孔及前述下部孔之方向,所以可 ::地在前述上部孔及前述下部孔中,將前述量測裝置導 e擠壓於前述導管之内周面。 :由第25發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 ^特徵為··將連通於前㈣力導人f内之凹部形成於前 述頂知噴嘴之内周面,, 、厂,i田則述凹部而將冷 129381.doc •30- 丄 354299 部材料的上昇流導入前述壓力導入管内,所以可更確實地 進行藉由前述壓力導入管導入冷卻材料壓力。 、
藉由第26發明之置測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:將使前述塵力導入管内與前述導管内連通之 連通孔三設於對應於前述下部孔的位置,所以,比前述壓 力導=管内與前述導管内全體地連通時比較,可更確實地 j由則述壓力導人管,而在龍於前述下部孔之位置,於 前述下料之相反㈣人冷卻材㈣力1而,比前述壓 力導入官内與前述導管内全體地連通時比較,可更確實地 藉由導入刖述下部孔之相反側的冷卻材料壓力,而將前述 里測裝置導管擠壓於前述下部孔之方向。 藉由第27發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:將使前„力導人管内與前述導管内連通之 連通孔’設於對應於前述上部孔與前述下部孔的位置,所 、比則述廢力導入管内肖前述導管内全體地連通時比 ,,可:確實地藉由前述壓力導入管,而在對應於前述上 部孔及前述下部孔之位置,於前述上部孔及前述下部孔之 ^反側導入冷卻材料壓力。因而,比前述壓力導入管内與 刖,導营内全體地連通時比較,可更確實地藉由導入前述 上部孔及前述下部孔之相反側的冷卻材料壓力,而將前述 量測裝置導管擠壓於前述上部孔及前述下部孔之方向。 藉由第28發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,因 為其特徵為:構成在前述導管之側面的周方向設複數前述 下部孔,藉由前述複數下部孔中任⑴個下部孔内側與外 129381.doc •31 - 側之冷卻材料的壓力差, 述導管之内月面产將則述置測裝置導管㈣於前 内周面’“述導管之下端流入 科通過前述複數下部孔中 17材 孔,而從中之則述1個下部孔以外的下部 整孔,而從η、十-… 卜匍-出且通過前述壓力調 以,"核芯支樓柱之内側向外側流出,所 ,測裝置導管在前述導管内偏向一邊的, 仍可在複數下部孔之任何— 壓於前述導管之内周面。 將别述置測裝置導管擠 藉由第29發明之量測裝詈遙其 』我置導管之流動振動抑制構造,因 特徵為,構成在前述導營之彳目I丨而沾网士上 义导s之側面的周方向設複數前述 上。P孔及前述下部孔,藉由前述複數上部孔及下部孔十任 何1個上部扎及下部孔内側與外側之冷卻材料的壓力差, 而將前述量測裝置導管擠壓於前述導管之内周自,從前述 導:之上端流人導管内的冷卻材料通過前述複數上部孔中 之別述1個上部孔以外的上部孔,而從前述導管之内側向 外側流出,且通過前述上部壓力調整孔,而從前述上部核 芯支撐柱之内側向外側流出,從前述導管之下端流入導管 内的冷卻材料通過前述複數下部孔中之前述丨個下部孔以 外的下部孔,而從前述導管之内側向外側流出,且通過前 述下部壓力調整孔,而從前述上部核芯支撐柱之内側向外 側流出,所以,前述量測裝置導管在前述導管内偏向一邊 的位置時,仍可在複數上部孔及下部孔之任何一個中,將 前述量測裝置導管擠壓於前述導管之内周面。 藉由第30發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,係 I29381.doc -32· 藉由頂端噴嘴之開口部令的冷卻材料與設於上部核芯支撑 柱之側部孔外側的冷卻材料之麼力差,而將量測裝置導管 ,於頂端噴嘴的内周。藉此,可藉由頂端噴嘴之開口部 的冷部材料與設於上部核芯支樓柱之側部孔外側之冷卻 材料的屡力差形成之擠麗力,抑制藉由從核芯流出之冷卻 材料的流動而產生之量測裝置導管的流動振動。此外’因 為利用頂端噴嘴,所以構造簡單,可抑制成本增加。 藉由第31發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,係 將在頂端噴嘴貫穿孔中導入冷卻材料之冷卻材料入口,及 將使導人_㈣貫穿孔之冷卻材料向切柱貫穿孔流出 的冷:材料出口,對頂端喷嘴之軸配置於概略對稱的位 f。藉此’將冷卻材料之壓力有效地傳導至量測裝置導 官’可將量測裝置導管擠壓於頂端喷嘴之内周。社果,可 更有效地抑制藉由從核芯流出之冷卻材料的流動而產生之 量測裝置導管的流動振動。 藉由第32發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,係 分別設複數冷卻材料入口及前述冷卻材料出口。藉此,由 於可更加增大將量測裝置㈣漏於頂端噴嘴内周9之力, 因此’可更有效地抑制藉由從核芯流出之冷卻材料的流動 而產生之量測裝置導管的流動振動。 藉由第33發明之量測裝置導管之流動振動抑制構 在頂端喷嘴之内部呈偌λ „ μ、人,、u ,, ’、 /、備入口側冷钾材料通路,其係 側之=材料人口連通,且從支撑柱貫穿孔側向核芯側: 與頂Μ嘴之轴正父的剖面之開口面積逐漸變大。藉此, 12938I.doc •33- 由於可將對量測裝置導 支樓柱貫穿孔側形成相同程二:卻材料入口側向 力之不平衡。级里 X大小,因此可抑制前述擠壓 動。…果可更穩定地抑制量測裝置導管之流動振 以‘頂d::量測裝置導管之流動振動抑制構造,係 芯側之==的内*'從上部一柱側向核 口面積變大的方2部,與頂端噴嘴之轴正交的剖面之開 藉由冷卻材料將量測裝置導;路。結果,由於可 内周,因此可更確… 擠壓於頂端喷嘴的 藉由㈣發明制量測裝置導管之流動振動。 構成頂端喷嘴包含里導管之流動振動抑制構造,係 持體;及隔壁,訂”於:测裝置導管之量測裝置導管保 量測裝置導管伴持體端嘴嘴之喷嘴内空間之内面與 料入口側與冷郤姑姐山 竹^嘴内工間劃分成冷卻材 部的冷卻材二與設於上由在頂端喷嘴之開口 材料之壓力差形心j 部孔外側的冷卻 成物嘴:而將量測裝1導管擠歷於構 成頁端噴嘴之—部分的量測裝置導 制藉由從核芯流出之冷卻材料的 :,。果,可抑 的流動振動。 m生之置導管 藉由第36發明之量測裝置導 :量測裝"管保_,其係在 。探柱的切柱貫穿孔⑽持量㈣置導管·及隔壁, 129381.doc -34- 1354299 其係設於頂端喷嘴之哈峰 姓栌夕門 冑嘴内1間的内面與量測裝置導管保 持=間,而將喷嘴内空間劃分成冷卻材料入口側與冷卻 二門二後,藉由隔壁劃分之存在於設側部孔之側 = = = :存在於不設前述側部孔之側的冷卻材 ’里測裝置導管擠屋於量測裝置導管保持 错此’可抑制藉由從核芯流出之冷卻材料的流
則裝置導管的流動振動。此外,由於不需要頂 端喷嘴,因此構造更簡單,可抑制成本增加。 藉由第37發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,係 構成在核芯側之隔壁的端部包含曲面。此外,採用第38發 明之=測裝置導官之流動振動抑制構造時,係、構成在核芯 側之里測裝置導管保持體的端部包含曲面。藉此,可抑制 流入支樓柱貫穿孔内之冷卻材料在隔壁之端部及量測裝置 導官保持體之端部剝離。藉此可更有效地抑制量測 管之流動振動。 、、 藉由第39發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,在 核〜側之支禮柱貫穿孔的内面形成漏斗口狀。藉此,藉 此,由於可抑制流入支撐柱貫穿孔内之冷卻材料在上部核 芯支撐柱之核芯側的端部剝離,因此可更有效 裝置導管之流動振動。 ' 藉由第40發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,係 在核芯側之上部核芯支撐柱的端部設關閉構件,其係堵塞 設有藉由隔壁而劃分之側部孔之側的空間。藉此,由於可 抑制冷卻材料流入設側部孔之側的空間,因此可使設側部 12938I.doc -35- 孔之側的空間中之冷卻材料壓力更加降低。結果,由於量 測裝置導官係以更大之擠壓力擠壓於量測裝置導管保持 體,因此可更有效地抑制量測裝置導管之流動振動。 藉由第41發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,係 在支撐柱貫穿扎之核芯側設冷卻材料整流機構,其係對向 支撐柱貫穿孔流入之冷卻材料加以整流。藉此由於冷卻 材料被多孔板等冷卻材料整流機構整流後流入支撐柱貫穿 孔,因此抑制因支撐柱貫穿孔發生渦流。結果可更有效地 抑制量測裝置導管之流動振動。 藉由第42發明之量測裝置導管之流動振動抑制構造,係 構成支撐柱貫穿孔之内面,朝向核芯側之上部核芯支撐柱 的縞邛,與上部核芯支撐柱之軸正交的剖面之開口面積逐 漸變大。藉此,藉此,由於可使對量測裝置導管之擠壓 力,從冷卻材料入口側朝向設於支撐柱貫穿孔之冷卻材料 堵住構件形成相同程度之大小,因此可抑制前述擠壓力之 不平衡。結果可更穩定地抑制量測裝置導管之流動振動。 【實施方式】 以下,依據圖式詳細說明本發明之實施形態例^本發明 係適合PWR(加壓水冷反應器)式之核反應器’不過本發明 之適用對象並非限定於此者,亦可適用本發明於BWR(沸 水式反應器)式之核反應器。 <第1種實施形態例>圖1係顯示具備本發明第丨種實施形 態例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的PWR核反應器 容器之内部構造的概要剖面圖,圖2係從圖丨抽出前述量測 129381.doc •36- 1354299 裝置導管之流動振動抑制構造而顯示之放大剖面圖。此 外,圖3(a)係圖2之Α1·Α1線箭頭觀察剖面放大圖,圖3(b) 係圖2之A2-A2線箭頭觀察剖面放大圖,圖3(c)係圖2之 A3線箭頭觀察剖面放大圖,圖3(d)係圖2之八4_八4線箭頭觀 察剖面放大圖,圖3(e)係圖2之A5-A5線箭頭觀察剖面放大 圖,圖3(f)係圖2之A6-A6線箭頭觀察剖面放大圖,圖3(g) 係圖2之A7-A7線箭頭觀察剖面放大圖,圖3(h)係從圖之抽 出導管而顯示之圖2之A8方向箭頭觀察放大圖。 如圖1所示,核反應器容器1丨之上部藉由核反應器容器 蓋12堵塞,在内部包含核芯槽13。核芯槽13之上部藉由上 部核芯支撐板14堵塞,下部藉由下部核芯支撐板%堵塞。 在核芯槽13之内部包含:上部核芯板15 '下部核芯板16、 及設於此等核芯板15、26間之核芯17。核芯17係由許多燃 料集合體18構成者。此外,核反應器容器丨丨中連接有核反 應器合器入口喷嘴19,核芯槽π中連接有核反應器容器出 口喷嘴20 ^核反應器容器出口喷嘴2〇貫穿核反應器容器 Π ’而突出於核反應器容器丨丨之外側。 而後,在上部核芯支撐板1 4與上部核芯板丨5之間,介有 中空之上部核芯支撐柱21,在上部核芯支撐柱21内設導管 27,在上部核芯支撐板21之下端設頂端喷嘴28,不過詳細 内容於後述。量測裝置導管之套管22從上方向下方依序插 通於導s 27、頂端喷嘴28及上部核芯板丨5之開口部丨5a, 而下端部22a插入核芯1 7内。中子檢測器23以及與其連接 之電纜24—起藉由套管22,從上方向下方導引而插入核芯 129381.doc •37· 1354299 17内。 此外,在上部核芯支撐板14上部空間之頂部32設套管支 撐板33,導管34貫穿於核反應器容器蓋12。因此,套管22 導引於導管34而插入頂部32内後’經過套管支撐板”而插 入導管27内。 另外,圖1係以實線僅顯示丨支上部核芯支撐柱2丨,不 過,如圖1中之一點鏈線所示,在上部核芯支撐板14與上 部核芯板15間之上部空腔25中設有複數上部核芯支撐柱 21,亦設有複數套管22。另外,在下部核芯板16之下的下 部空腔29等中設有複數下部核芯支撐柱3〇等。另外,控制 棒驅動裝置及控制棒束導管等省略圖示。 如箭頭Y3所示,冷卻材料(輕水)從核反應器容器入口噴 嘴1 9流入核反應器容器11内,通過核反應器容器丨丨與核芯 槽13之間而向下方流動後,向上方流經核芯丨7,在其中冷 卻核芯1 7 ’本身被加熱而形成高溫。再者,冷卻材料從核 芯1 7流出後,通過上部核芯板1 5之開口部1 5a及上部核芯 支撐柱21之腳部31之間’流入上部空腔25内,並從核反應 器容器出口噴嘴20流出至核反應器容器丨丨外。此外,此時 如箭頭Y4所示,從核反應器容器入口噴嘴19流入核反應器 谷盗11内之冷卻材料的極少一部分,通過無圖示之旁通流 路而流入頂部32内。 其次,依據圖2及圖3 ’說明本第1種實施形態例之量測 裝置導管之流動振動抑制構造。 如圖2及圖3所示,上部核芯支撐柱2 1係圓筒狀之構件, 129381.doc -38- 且經由設於下端部之複數腳部21支撐於上部核芯板15,而 垂直地豎立於上部核芯板15之開口部l5a的正上方。上部 核芯支撑柱21之上端部貫穿上部核芯支撐板14,螺合螺帽 3 5而固定於上部核芯支撐板丨4。 頂端喷嘴28係隨著向下方而寬度變窄之倒截錐狀的構 件,且固定於上部核芯支撐柱21之下端。頂端噴嘴28包含 插通套管22用之插通孔28a。導管27係圓筒狀之構件,且 插入上部核芯支撐柱21之内部21a,其下端部嵌合於頂端 喷嘴28之上端部。另外,導管27僅係嵌入頂端噴嘴28,而 未固定於頂端喷嘴28。此因抑制在導管27與頂端喷嘴28之 間發生熱應力。 導官21之内部與頂端噴嘴28之内部(插通孔28a)連通,且 為相同直徑。此外,在導管27之上端部設有寬度隨著向上 方而變寬的倒戴錐狀的斜面36。因此,套管22藉由斜面36 而順利地插入導管27内,且導引於導管27而順利地插入頂 端喷嘴28的插通孔28a。 此外,在導管27之外周面的上部與下部分別設有上部定 位态38A與下部定位器38B,藉由此等定位器38A、38]3防 止導管27在上部核芯支樓柱21内振動。 而後,本第1種實施形態例係在導管27之側面的上部與 下部的2處分別形成有上部孔37八與下部孔37B。此等上部 孔3 7A與下部孔37B均形成在導管27之轴方向長的細縫 狀。另外,上部孔37A ' 37B之形狀並非限定於細縫狀 者,如亦可為橢圓形狀及圓形狀等。 129381 .doc •39· 1354299 套管22藉由在導管27之側面設了上部孔37A及下部孔 37B,而藉由此等上部孔37A及下部孔37B之内側(亦即導 管27之内侧)與外側(亦即導管27之外側)的冷卻材料之壓力 差’而擠壓於導管27之内周面。 亦即’因為在導管27内,從核芯17流出之冷卻材料可經 由頂端噴嘴28,而從導管27之下端流入,且頂部32内之冷 卻材料可從導管27之上端流入,所以,圖3(a)及圖3(e)所 示之導管27内側的冷卻材料之壓力P1成為與從核芯丨7流出 之冷卻材料的壓力及頂部32内之冷卻材料的壓力概等之壓 力。另外,導管27外側之冷卻材料的壓力P2比導管27内側 之壓力P1小。因而,上部孔37八及下部孔37B係藉由此等 冷卻材料壓力P1、p2之壓差(Δρ=ρι_ρ2),而將套管22擠壓 於導管27之内周面。 如以上所述,採用本第1種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,可將套管22藉由導管27向頂端噴 嘴28導引,而順利地插入頂端喷嘴28,且可藉由頂端喷嘴 28順利地插入核芯内.而後,因為其特徵為:構成在導管 27側面之上部與下部的2處設上部孔37八與下部孔37Β,藉 由此等上部孔37Α及下部孔37Β之内側與外側的冷卻材料 之壓力差,而將套管22擠壓於導管27之内周面,所以可藉 由上部孔3 7 Α及下部孔3 7 β内側與外側之冷卻材料的壓力 差形成之擠壓力’抑制藉由從核⑴7流出之冷卻材料的流 動而產生之套管22的流動振動。 <第2種實施形態例 >圖4係顯示本發明第2種實施形態例 129381.doc -40- 1354299 之里測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖,圖 5⑷係圖4之BNB1線箭頭觀察剖面放大圖,圖5⑻係圖4之 則2線箭頭觀察剖面放大圖,圖5⑷係圓4之咖3線箭 頭親察剖面放大圖,圖5⑷係圖4之則4線箭頭觀察剖面 放大圖,圖5⑷係從圖4抽出導管而顯示之圖4之以方向箭 頭觀察放大圖,圖5⑴係圖4之如方向箭頭觀察放大圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第丨種實 施形態例(參照圖”相同’所以省略此處之圖示及說明。此 外’關於圖4、圖5之量測裝置導管之流動振動抑制構造, 就與上述第1種實施形態例(參照圖2、圖3)相同之部分註記 同一符號,而省略重複之詳細說明。 如圖4及圖5所示,本第2種實施形態例係在導管27側面 之上。卩與下σ卩的2處分別形成有上部孔4丨a與下部孔4b。 此等上部孔41A及下部孔41B均係在導管27之軸方向長的 細縫狀,且該細縫形狀之中央部成為膨脹成橢圓形狀之擴 寬部41A-1、41B-1。亦即,本第2種實施形態例之孔41八、 41B比上述第2種實施形態例之孔37A、37B(參照圖3),導 吕’ 7門方向之寬度在上下部分雖相同,而在中央部擴大。 因而’上述第1種實施形態例(參照圖3),藉由孔37A、 37B(導管27)之内側與外側的冷卻材料之壓力差,而將套 管22擠壓於導管27之内周面時,孔37A、37B全體係藉由 套管22堵塞,另外,本第2種實施形態例(參照圖5),藉由 孔41A、4 1B(導管27)之内側與外側的冷卻材料之壓力差, 而將套管22擠麼於導管27之内周面時,孔“A、41B之擴 12938I.doc •41 · 1354299 寬部41A-1、41B-1在孔41A、41B與套管22之間具有間隙 S。 ’、 此外,在上部核芯支撐柱21之上部與下部的2處分別形 成有上部壓力調整孔42A與下部壓力調整孔42B。上部壓 力調整孔42A設於對應於上部孔41A之位置(上部孔41八之 刖)’下部壓力調整孔42B設於對應於下部孔41B之位置(下 部孔41B之前)。 因此,圖4中如箭頭Y5所示,從導管27之上端流入導管 27内的冷卻材料(頂部32内之冷卻材料)通過上部孔41八與 套管22之間隙S’而從導管27之内側向外側流出,且通過 上部壓力調整孔42A,而從上部核芯支撐柱21之内側向外 侧流出。另外,圖4中如箭頭γ6所示,從導管27之下端流 入導27内的冷卻材料(從核芯丨7流出之冷卻材料)通過下 部孔41B與套管22之間隙S,而從導管27之内側向外側流 出’且通過下部壓力調整孔42B,而從上部核芯支擒柱2ι 之内側向外側流出。 另外,圖4、圖5之其他結構與上述第丨種實施形態例(參 照圖2、圖3)相同。 如以上所述,採用本第2種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,其特徵為:構成在上部核芯支撐 柱2 1側面之上部與下部的2處設上部壓力調整孔42 A與下部 壓力調整孔42B,從導管27之上端流入導管27内的冷卻材 料通過套管22與上部孔41八間之間隙s,而從導管”之内側 向外側流出,且通過上部壓力調整孔42A,而從上部核芯 I29381.doc -42· 1354299 支撐柱21之内側向外側流出,從導管27之下端流入導管” 内的冷卻材料通過套管22與下部孔41B間之間隙8,而:導 管27之内側向外側流出,且通過下部壓力調整孔,而 從上部核芯支撐柱21之内側向外側流出,因為上部核芯支 撐柱21外側(上部空腔25内)之冷卻材料的壓力p3比導管u 與上部核芯支撐柱21間之冷卻材料壓力p2小,所以藉由在 上部核芯支撐柱2 1中設上部壓力調整孔42A與下部壓力調 整孔42B,可使上部核芯支撐柱21内之冷卻材料壓力“更 降低。因此,因為可使冷卻材料之壓力差(Δρ=ρι_ρ2)形成 之擠壓力增大,所以可更確實地抑制套管22之流動振動。 另外,上部孔41Α及下部孔41Β之形狀並非限定於圖示 例之形狀者,只要套管22擠壓於導管27之内周面時,在套 管22與孔41A、41B之間具有間隙即可,如亦可為單純之 橢圓形狀及圓形狀等。 <第3種實施形態例 >圖6係顯示本發明第3種實施形態例 之量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖,圖 7(a)係圖6之C1-C1線箭頭觀察剖面放大圖,圖7(b)係圖6之 C2_C2線箭頭觀察剖面放大圖,圖7(c)係圖6之C3*向箭頭 觀察放大圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第1種實 施形態例(參照圖1)相同’所以省略此處之圖示及說明。此 外’關於圖6、圖7之量測裝置導管之流動振動抑制構造, 亦就與上述第2種實施形態例(參照圖4、圖5)相同之部分註 記同一符號,而省略重複之詳細說明。 129381.doc -43- 1354299 如圖6及圖7所示,本第3種實施形態例係在導管2 7側面 之上部與下部的2處分別可裝卸地設有上部插塞5丨a與丁部 插塞51B。而上部插塞51A之孔51A-1係上部壓力調整孔, 下。卩插塞5 1B之孔51B-1係下部壓力調整孔。上部壓力調整 孔51Α-1設於對應於上部礼41Α之位置,下部壓力調整孔 51Β-1設於對應於下部孔41Β之位置。插塞51Α、51β在外 周面形成有螺絲,而與形成於上部核芯支撐柱2丨側面之螺 絲孔21b、21c螺合。插塞51Α、51Β備有複數孔徑不同 者’可任意選擇具有希望之孔徑的插塞51a、51B,而安 裝於上部核芯支撐柱2 1之側面。 冷卻材料之流動與上述第2種實施形態例之情況相同, 圖6中如箭頭Y7所示,從導管27之上端流入導管27内的冷 卻材料(頂部32内之冷卻材料)通過上部孔41 a與套管22之 間隙S,而從導管27内側向外側流出,且通過上部插塞5 1 a 之上部壓力調整孔5丨A_丨而從上部核芯支撐柱2〖内側向外 側流出。另外,圖6中如箭頭γ8所示,從導管27之下端流 入導官27内的冷卻材料(從核芯丨7流出之冷卻材料)通過下 邛孔4 1B與套管22之間隙S,而從導管27内側向外側流出, 且通過下部插塞51B之下部壓力調整孔51B-1,而從上部核 怒支撐柱21内側向外側流出。 圖6、圖7之其他結構與上述第2種實施形態例(參照圖 4、圖5)相同。 如以上所述,採用本第3種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時’與上述第2種實施形態例之情況 129381.doc •44- 1354299 相同,因為藉由設插塞51A、51B(壓力調整孔51八_丨、5ΐΒ· υ,使上部核芯支撐柱21内之冷卻材料壓力Ρ2更降低,所 以可使冷卻材料之壓力差形成的擠壓力增大,可更確實地 抑制套管22之流動振動。 且採用本第3種實施形態例之量測裝置導管之流動振動 抑制構造時’因為可從孔之大小不同的複數插塞51八、 51Β選擇任意之插塞51八、51Β而安裝於上部核芯支撐枉 的側面,所以,可任意地調整上部壓力調整孔51A-i及下 4壓力調整孔51B-1之大小,而可任意地調節上部核芯支 撐柱21内(導官27與上部核芯支撐柱2丨之間)的冷卻材料壓 力因而,可任意地調整冷卻材料之壓力差形成的擠壓 力,且可任意地調整冷卻材料從頂部32向導管27内之流入 里,與從核芯17流出之冷卻材料向導管27内之流入量。 第4種實知形態例 > 圖8(a)係顯示本發明第*種實施形態 例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖,圖 籲 8(b)係圖8(a)之m_D1線箭頭觀察剖面放大圖,圖8(c)係從 圖8(3)抽丨導管而顯示之圖8(>)的D2方向箭頭觀察放大 圖。 另卜因為核反應器容器内之全體結構與上述第1種實 施形態例(參照圖”相同’所以省略此處之圖示及說明。此 外,關於圖8之量測裝置導管之流動振動抑制構造,就斑 ^述第2種實施形態例(參照圖4、圖5)相同之部分註記同一 符號’而省略重複之詳細說明。 如圖8所示,本第4種實施形態例係在導管以之侧面形成 J29381.doc •45· 有壓力導入孔61。該壓力導入孔61位於上部孔41 a與下部 孔41B之間。亦即,在比下部孔4ia上方之位置設有壓力導 入孔61。 因此’與上述第2種實施形態例同樣地’圖8中如箭頭γ9 所示,從導管27之上端流入導管27内的冷卻材料(頂部32 内之冷卻材料)通過上部孔41A與套管22之間隙s,而從導 g 27之内側向外側流出,且通過上部壓力調整孔a,而 從上部核芯支撐柱21之内側向外側流出。另外,圖8中如 箭頭γιο所不,從導管27之下端流入導管27内的冷卻材料 (從核芯17流出之冷卻材料)通過下部孔41B與套管22之間 隙S,而從導管27之内側向外側流出,且通過下部壓力調 整孔42B,而從上部核芯支撐柱21之内側向外側流出。 而後’進一步’圖8中如箭頭丨丨所示,從導管27之下端 流入導管27内的冷卻材料之一部分通過壓力導入孔61,而 從導官27之内側向外側流出,且通過下部定位器38B之流 通孔38B-1而向下方流動後,通過下部壓力調整孔42B而從 上部核芯支撐柱21之内側向外側流出。 圖8之其他結構與上述第2種實施形態例(參照圖4,圖5) 相同。 如以上所述,採用本第4種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,因為其特徵為:構成在比下部孔 41B上方之位置,且在導管27之側面設壓力導入孔61,從 導管27之下端流入導管27内的冷卻材料之一部分通過壓力 導入孔61,而從導管27内側向外側流出,且通過下部壓力 I29381.doc -46· 1354299 調整孔42B而從上部核芯支撐柱2丨内側向外側流出,所以 從導官27之下端流入導管27的冷卻材料(從核芯流出之冷 部材料)之壓力導入至壓力導入孔61之位置。結果,因為 可提尚在下部孔42之位置的導管27内之冷卻材料壓力,所 以使冷卻材料之壓力差形成的擠壓力增大,可更確實地抑 制套管22之流動振動。 <第5種實施形態例 > 圖9(a)係顯示本發明第5種實施形態 例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖,圖 9(b)係圖9(a)之E1-E1線箭頭觀察剖面放大圖,圖9(c)係圖 9(a)之E2-E2線箭頭觀察剖面放大圖,圖9(d)係從圖9(a)抽 出導管而顯示之圖9(a)的E3方向箭頭觀察放大圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第1種實 施形態例(參照圖1)相同’所以省略此處之圖示及說明。此 外’關於圖9之量測裝置導管之流動振動抑制構造,就與 上述第2種實施形態例(參照圖4、圖5)相同之部分註記同一 符號,而省略重複之詳細說明。 如圖9所示,本第5種實施形態例係在導管22之側面形成 有上側之第1壓力導入孔7 1A與下側之第2壓力導入孔 71B。此等壓力導入孔71A、71B位於上部孔41A與下部孔 4 1B之間。 因此,與上述第3種實施形態例同樣地,圖9中如箭頭 Y12所示,從導管27之上端流入導管27内的冷卻材料(頂部 32内之冷卻材料)通過上部孔41A與套管22之間隙S,而從 導管27之内側向外側流出,且通過上部壓力調整孔42八, 129381.doc •47- 1354299 而從上部核芯支撐柱21之内側向外側流出。另外,圖9中 如箭頭Y13所示,⑼導管27之下端流人導㈣内的冷卻材 料(從核芯17流出之冷卻材料)通過下部孔4ίΒ與套管22之 間隙S,而從導管27之内側向外側流出,且通過下部壓力 調整孔42Β,而從上部核芯支樓柱21之内側向外側流出。 而後,進一步,圖9中如箭頭Υ14所示,從導管”之下端 流入導管27内的冷卻材料之一部分通過第2壓力導入孔 71Β,而從導管27之内側向外側流出,且通過下部定位器 38Β之流通礼38B_m向下方流動後,通過下㈣力調整孔 42B而從上部核芯支撐柱21之内側向外側流出。此外,圖9 中如箭頭川所* ’從導管27之上端流入導管⑽的冷卻 材料之-部分通過第1壓力導人孔71A,而從導管27之内側 向外側流出,且通過上部定位器38A之流通孔”參丨而向上 方流動後,通過下部壓力調整孔42B而從上部核芯支撐柱 2 1之内側向外側流出。 圖9之其他結構與上述第2種實施形態例(參照圖4、圖5) 相同。 如以上所述,抓用本第5種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,因為其特徵為··構成在上部孔 41A與下部孔41B之間的位^ ,且在導f 27之側面設上側 之第丨壓力導入孔71A與下側之第2壓力導入孔7ib,從導 管27之上端流人導管27内的冷卻材料之—部分通過第】壓 力導入孔71A,而從導管27内側向外側流出,且通過上部 塵力調整孔42A而從上部核芯切柱21内側向外側流出, 129381.doc -48. 1354299 從導管27之下端流入導管27内的冷卻材料之一部分通過第 2壓力導入孔71B ’而從導管27内側向外側流出,且通過下 部壓力調整孔42B而從上部核芯支撐柱21内側向外側流 出’所以從導管27之上端流入導管27的冷卻材料(頂部32 之冷卻材料)之壓力導入至第1壓力導入孔71A之位置,從 導官27之下端流入導管27的冷卻材料(從核芯17流出之冷 卻材料)之壓力導入至第2壓力導入孔71B之位置。結果, 因為可提高在上部孔41A及下部孔41B之位置的導管27内 之冷卻材料壓力,所以使冷卻材料之壓力差形成的擠壓力 增大’可更確實地抑制套管22之流動振動。 此外’因為從導管27之上端流入導管27的低溫冷卻材料 (頂部32之冷卻材料)與從導管27之下端流入導管27的高溫 冷卻材料(從核芯17流出之冷卻材料),分別從第1壓力導入 孔7 1A與第2壓力導入孔71B個別地流出,所以可抑制因此 等低溫冷卻材料與高溫冷卻材料之界面移動而發生熱應 力。 <第6種實施形態例 > 圖1 〇(a)係顯示本發明第6種實施形 態例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖, 圖10(b)係圖i〇(a)之f部剖面放大圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第1種實 施形態例(參照圖1)相同,所以省略此處之圖示及說明。此 外’關於圖1 0之量測裝置導管之流動振動抑制構造,就與 上述第5種實施形態例(參照圖9)相同之部分註記同一符 號’而省略重複之詳細說明。 12938 丨.doc -49- 1354299 如圖ίο所不,本第6種實施形態例係在第1壓力導入孔 71A與第2壓力導入孔71B之間的位置,於導管”之内周面 27a設節流部81。圖示例係藉由使導管27之一部分彎曲於 内側而形成節流部8 1。 就圖10之其他結構,與上述第5種實施形態例(參照圖9) 相同。 如以上所述,採用本第6種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,因為其特徵為:在第i壓力導入 鲁 孔71A與第2壓力導入孔71B之間的位置,於導管27之内周 面設了節流部81 ’所以,可藉由該節流部81更確實地抑制 從導官27之上端流入導管27的低溫冷卻材料(頂部32之冷 卻材料)與從導管27之下端流入導管27的高溫冷卻材料(從 核芯17流出之冷卻材料)混合,結果,可更確實抑制因此 等低溫冷卻材料與高溫冷卻材料之界面移動而發生熱應 力。 <第7種實施形態例 > 圖丨丨(a)係顯示本發明第7種實施形 態例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖, 圖11(b)係圖ll(a)之G方向箭頭觀察圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第丨種實 施形態例(參照圖i)相同,所以省略此處之圖示及說明。此 外,關於圖丨丨之量測裝置導管之流動振動抑制構造,就與 上述第5種實施形態例(參照圖9)相同之部分註記同一符 號’而省略重複之詳細說明。 如圖U所示’本第7種實施形態例係在上部核芯支撑柱 12938I.doc -50· 1354299 21之側面設有護蓋91。護蓋91以覆蓋下部壓力調整孔42B 之方式而安裝於上部核芯支樓柱21之外周面的下部,下端 開口。因而’從下部壓力調整孔42B流出之冷卻材料藉由 護蓋91向下方引導至腳部31近旁後,從護蓋91之下端向上 部空腔25内流出。 圖11之其他結構與上述第5種實施形態例(參照圖9)相 同。 如以上所述,採用本第7種實施形態例之量測裝置導管 • 之流動振動抑制構造時,因為其特徵為:將從下部壓力調 整孔42B流出之冷卻材料導向下方的護蓋91設於上部核芯 支撐柱2 1之側面,所以,即使因來自鄰接之上部核芯支撐 柱21(參照圖1)的冷卻材料之橫向流動的影響,而在下部壓 力調整孔42B之設置位置的上部核芯支撐柱21之外側的壓 力提尚,仍可藉由護蓋91將從下部壓力調整孔42β流出之 冷卻材料導向壓力低的下方。因巾,可確保冷卻材料之麼 _ 力ϋ:形成之擠麼力’而確實抑制套管η之流動振動。 <第8種實施形態例>圖12係顯示本發明第8種實施形態例 之里測裝置導官之流動振動抑制構造的重要部分結構剖面 圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第1種實 施开/癌例(參照圖〇相同,所以省略此處之圖示及說明。此 卜關於圖1 2之量測裝置導管之流動振動抑制構造,就與 上述第5種實施形態例(參照圖9)相同之部分註記同一符 號,而省略重複之詳細說明。 129381.doc 1354299 上述第5種實施形態例(參照圖9)等,頂端喷㈣之内周 面(插通孔2叫的形狀係圓筒狀(寬度-定卜另外,如圖12 所不’本第8種實施形態例,頂端喷嘴以之内周面2啊插 通孔叫的形狀成為隨著向τ方而寬度變窄的倒截雜狀。 圖12之其他結構與上述第5種實施形態例(參照圖9)相 同0 如以上所述,採用本 之流動振動抑制構造時
第8種實施形態例之量測裝置導管 ,因為其特徵為:插通套管22之頂 端喷嘴28的内周面28b之形狀係倒截錐狀,所以可藉由該 頂端喷嘴28更順利地將套管22插入核芯 端⑽之下端,頂端喷嘴28之内周面28b與套管因= 隙小’所以可抑制冷卻材料被頂端喷嘴28下端奮亂而產生 的冷部材料之紊亂成分流人頂端噴嘴28 ^因為前述冷卻 材料之紊亂成分成為套管22之流動振動的原因(激振力), 所以藉由抑制前述冷卻材料之紊亂成分流入頂端噴嘴Μ
内’可抑制套管22之流動振動。 <第9種實施形態例>圖13係顯示本發明第9種實施形態例 之1測裝置導管之流動振動抑制構造的重要部分結構剖面 圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第1種實 施形態例(參照圖1)相同,所以省略此處之圖示及說明。此 外,關於圖13之量測裝置導管之流動振動抑制構造,就與 上述第5種實施形態例(參照圖9)相同之部分註記同一符 號’而省略重複之詳細說明。 129381.doc •52· 1354299 上述第5種實施形態例(參照圖”等 二周與内周面之下端不連續,而在外周面之下端
:端之間具有下端面(水平面)。另外,如圖U rL /9種實施形態例之頂端噴嘴28,其外周面28c之 為隨著向下方而寬度變窄的倒截錐狀,且外周面 =之下端28c_m内周面28b之下端孤!連續。亦即,本
第9種實施形態例之頂端喷嘴以的外形成為流線形狀。 另外,圖示例之頂端喷嘴28的内周面28b,其上部成為 與上述第8種實施形態例之頂端噴嘴28相同的倒截錐狀, 下^為與前述上部(倒截錐)之下端相同直徑的圓筒狀。 但是’並非限定於此者,頂端噴嘴28之内周面遍的形 狀’如亦可為全體係倒截錐狀,亦可為全體係圓筒狀。 圖3之,、他,.·β構與上述第$種實施形態例(參照圖9)相 同。 如以上所述,採用本第9種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,因為插通套管22之頂端噴嘴28, 其外周面28c之形狀係倒截錐狀,且藉由外周面28c之下端 28〇1與内周面28b之下端28b_i連續,而外形成為流線形 狀,所以冷卻材料不易被頂端喷嘴28之下端紊亂。因此, 因為不易產生成為套管22之流動振動原因的冷卻材料之紊 亂成分(激振力)’所以可抑制套管22發生流動振動。 〈第10種實施形態例 > 圖14(a)係顯示本發明第丨〇種實施 形態例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的重要部分結 129381.doc -53· 1354299 14(a)的Η方向箭頭觀察圖。此外,圖15係顯示頂端喷嘴其 他結構例之剖面圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第丨種實 施形態例(參照圖1)相同,所以省略此處之圖示及說明。此 外,關於圖丨4之量測裝置導管之流動振動抑制構造,就與 上述第5種實施形態例(參照圖9)相同之部分註記同一符 號,而省略重複之詳細說明。
如圖14所示,本第1 〇種實施形態例之頂端喷嘴2 8係與上 述第2種實施形態例(參照圖4)之頂端喷嘴28等相同的倒截 錐狀,且延伸至上部核芯板15之開口部153内。而後,在 該頂端噴嘴28之側面形成有下側之第i孔丨〇丨a與上側之第2 孔101B。另外,因為在形成有第2孔1〇丨b之位置,於頂端 噴嘴28之内侧存在導管27之下端部,所以該導管27之下端 部的側面亦形成有孔102。此等孔1〇1 A、101B、102係圓 形者。
構剖面ffl,圖Μ⑻係從圖14⑷抽出頂端嗔嘴而顯示之圖 藉由在頂端喷嘴28之側面設了第1孔ιοίΑ及第2孔 1028,套管22藉由第1孔1〇1入及第2孔1018内側(亦即,頂 端噴嘴28之内側)之冷卻材料的壓力P4,與外側(亦即頂端 喷嘴28之外側)之冷卻材料的壓力p5之壓力差而擠壓於導 管27的内周面。 圖14之其他結構與上述第5種實施形態例(參照圖9)相 同0 如以上所述’採用本第1 〇種實施形態例之量測裝置導管 129381.doc -54- 1354299 之流動振動抑制構造時,因為其特徵為:構成在頂端噴嘴 28之側面設孔1〇1A、1〇1B,藉由此等孔1〇ιΑ、i〇ib之内 侧與外側的冷卻材料之壓力差,而將套管22擠壓於頂端噴 嘴28之内周面,所以可藉由孔1〇1A、1〇1B之内側與外側 的冷卻材料之壓力差形成的擠壓力,抑制套管22之流動振 動。 另外’圖示例係藉由擠壓於頂端噴嘴28内周面之導管27 堵塞第1孔101A及第2孔101B,不過並非限定於此者,冷 卻材料亦可通過套管22與第1孔1〇1 A及第2孔101B間的間 隙’而從頂端喷嘴28之内側向外側流動。 此外,圖示例係將2個第1孔1〇1 A及第2孔101B設於頂端 喷嘴28,不過並非限定於此者,如亦可僅設1個第1孔 101A。再者,圖示例之第!孔101A及第2孔1〇1^系形成圓 形,不過並非限定於此者’如亦可將如圖丨5所示之細縫狀 的孔103設於頂端喷嘴28。 〈第11種實施形態例 > 圖16(a)係顯示本發明第11種實施 形態例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的重要部分結 構剖面圖,圖16(b)係圖16(a)之I-Ι線箭頭觀察剖面圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第1種實 施形態例(參照圖1)相同’所以省略此處之圖示及說明。此 外’關於圖16之量測裝置導管之流動振動抑制構造,就與 上述第5種實施形態例(參照圖9)相同之部分註記同一符 號,而省略重複之詳細說明。 如圖16所示’本第11種實施形態例係在上部核芯板丨5之 129381.doc -55- 1354299 下端部15a設有整流板m。整流板lu係圓環狀者,且位 於頂端噴嘴28之下方,並經由連接於外周面之複數支撐構 件而支撐於上部核芯板15。因為從核芯17流出而通過 上部核芯板15之開口部15的冷卻材料之一部分,藉由以整 流板111整流,而如箭頭Y13所示成為朝向上方之流動,= 以筆直地朝向上方而流入頂端喷嘴28之插通孔283。 圖16之其他結構與上述第5種實施形態例(參照圖9)相 同0
如以
厅述,採用本第1 1種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,因為其特徵為:構成在上部核忠 板15之開口部15a設整流板m,藉由該整流板1U對通過 上部核芯板15之開口部15a的冷卻材料之一部分加以整 流,前述冷卻水之一部分朝向上方而流入頂端噴嘴Μ,所 以可抑制在頂端喷嘴28下端紊亂冷卻材料之橫向流動。因 此’因為不易產生成為套管22之流動振動原因的冷卻材料 之紊亂成分(激振力),所以可抑制套管22發生流動振動。 <第12種實施形態例 > 圖17(a)係顯示本發明第12種實施 形態例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的重要部分結 構剖面圖,圖17(b)係圖17⑷之η_η線箭頭觀察剖面放大 圖,圖叫)係從圖17⑷抽出延長管而顯示之圖”⑷的j2 方向箭頭觀察放大圖。 另外,目為核反應器容器内之全體結構與上述第丄種實 施形態例(參照圖_同’所以省略此處之圖示及說明。此 外’關於圖之量測裝置導管之流動振動抑制構造,就與 129381.doc -56- 1354299 上述第5種實施形態例(參照圖9)相同之部分註記同一符 號’而省略重複之詳細說明。 如圖17所示,本第12種實施形態例係在頂端喷嘴28之下 端設有延長管121。而後在延長管丨21之側面形成有上下方 向長之細縫狀的孔丨2 1 a。延長管12丨外側之冷卻材料的流 動係咼速’且壓力比延長管121之内部低。因而,套管121 藉由孔1 21 a内側(亦即延長管! 2 1之内側)與外側(亦即延長 管12 1之外側)之冷卻材料的壓力差(内側之冷卻材料壓力 P6與外側之冷卻材料壓力p7之差),而擠壓於延長管^ 21之 内周面。 另外’圖示例係藉由套管22堵塞孔121a,不過並不限於 此,亦可冷卻材料通過套管22與孔l21a之間隙而從延長管 121的内側流動至外側。此外,孔12U之形狀並非限定於 細縫狀者,如亦可為橢圓形狀及圓形狀等。 圖17之其他結構與上述第5種實施形態例(參照圖9)相 同。 如以上所述,採用本第12種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,因為其特徵為:構成在頂端喷嘴 28之下端設延長管121,且在該延長管η〗之側面設孔 121a,藉由該孔丨21a内側與外側之冷卻材料的壓力差而 將套管22擠壓於延長管121之内周面,所以可藉由L2ia 之内側與外側的冷卻材料之壓力差形成的擠壓力抑制套管 22之流動振動。 〈第13種實施形態例 >圖18係顯示本發明第13種實施形態 12938l.doc -57· 1354299 例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第1種實 施形態例(參照圖1)相同’所以省略此處之圖示及說明。此 外’關於圖18之量測裝置導管之流動振動抑制構造,就與 上述第5種實施形態例(參照圖9)相同之部分註記同一符 號,而省略重複之詳細說明。 如圖1 8所示,本第13種實施形態例係在第1壓力導入孔 71A與第2壓力導入孔71B之間的位置,將導管27加以2分 割成上側之第1導管部27A與第2導管部27B,且第1導管部 27A之下端與第2導管部27B之上端之間分離。此外,在第 1導管部27A之下端部及第2導管部27]B之上端部的外周面 刀別》又有疋位器38C、38D,藉由此等中央部之定位器 38C、38D與上下之定位器38A、38B,而防止上下之導管 部27A、27B在上部核芯支撐柱2 1内振動。 圖1 8之其他結構與上述第5種實施形態例(參照圖9)相 同。 如以上所述,採用本第13種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,因為其特徵為:在第丨壓力導入 孔71A與第2壓力導入孔71B之間的位置,將導管27加以2 分割成上側之第1導管部27A與下側之第2導管部27B,且 第1導管部27A之下端與第2導管部27B之上端之間分離, 所以可抑制因導管27之熱伸展而發生熱應力。 &此外,可藉由中央部之定位器38c、38d防止上下之導 管部27A、27B的搖動’並且亦可防止在導㈣外側,低 129381.doc •58· 1354299 /廉冷卻材料與向溫冷卻材料混合。另外,中央部之定位器 如圖9之結構等中,亦可設於第1壓力導入孔71A與第2壓力 導入孔7 1B之間的位置。 <第14種實施形態例 > 圖丨9係顯示本發明第丨4種實施形態 例之置測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第1種實 施形態例(參照圖1)相同,所以省略此處之圖示及說明。此 外,關於圖19之量測裝置導管之流動振動抑制構造,就與 上述第1種實施形態例(參照圖2、圖3)相同之部分註記同一 符號’而省略重複之詳細說明。 如圖19所示,本第14種實施形態例係套管22形成波形 狀,且該波形狀之套管22的各彎曲部22b抵接於導管以之 内周面27a。 圖19之其他結構與上述第丨種實施形態例(參照圖2、圖 3)相同。另外’圖19係導管27中未設孔37A、37B。 如以上所述,採用本第14種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,因為其特徵為:套管22之形狀係 波形狀,且该波形狀之套管22的各彎曲部22b抵接於導管 27之内周面27a ’所以可藉由套管Μ之各彎曲部22b抵接的 導管27之内周面27a抑制套管22之流動振動。 另外,為了更確實防止套管22之流動振動,除了將套管 22之彎曲部22b僅抵接於導管27之内周面之外,須對導管 27之内周面27a作用擠壓力,而從前述内周面27&接受其反 作用力。但是,因為前述反作用力過大時,造成套管22對 129381.doc -59- 1354299 導管27之插通性惡化’所以需要獲得考慮兼顧前述流動振 動之防止與前述插通性之確保的適切之反作用力。此時, 因為前述反作用力之大小與導管27之波形振幅的大小成正 比,所以只須藉由如有限要素法之應力分析(FEM)等求出 獲得適切反作用力的振幅值即可。 <第1 5種實施形態例 > 圖2 0係顯示本發明第1 5種實施形態 例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖,圖 21 (a)係圖20之ici-Kl線箭頭觀察剖面放大圖,圖2i(b)係圖 • 20之K2-K2線箭頭觀察剖面放大圖,圖21(c)係從圖2〇抽出 導管而顯示之圖20的K3方向箭頭觀察放大圖,圖21(d)係 從圖20抽出導管而顯示之圖2〇的K4方向箭頭觀察放大圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第丨種實 施形態例(參照圖1)相同,所以省略此處之圖示及說明。此 外,關於圖20、圖21之量測裝置導管之流動振動抑制構 造,就與上述第5種實施形態例(參照圖9)相同之部分註記 同一符號’而省略重複之詳細說明。 如圖20及圖21所示,本第15種實施形態例係在導管”之 側面上部的周方向之2處形成有第i上部孔U1A,丨與第2上 部孔131A-2。圖示例係第!上部孔131八_丨與第^上
孔131B-1與第2上部孔13lB2均 且彼此在導管27之軸周圍設於 129381.doc -60 - 1354299 180度旋轉對稱之位置。 套管22藉由複數上部孔i31A_i、131A-2及下部孔131B-1、131B-2中任何1個上部孔及下部孔(圖示例係第1上部孔 131A-1及第1下部孔131B-1)之内側(亦即導管27之内侧)與 外側(亦即導管27之外側)的冷卻材料之壓力差(内側之冷卻 材料壓力P1與外側之冷卻材料壓力P2之壓差ΔΡ)而擠壓於 導管27之内周面。
另外,如箭頭Y1 6所示,從導管27之上端流入導管27内 的冷卻材料通過前述複數上部孔1 3 1 A-1、1 3 1A-2中之前述 1個上部孔(圖示例係第i上部孔i 3丨A)以外之上部孔(圖示 例係第2上部孔13 1A-2),從導管27之内側向外侧流出,且 通過上部壓力調整孔42 A而從上部核芯支撐柱2 I之内側向 外側流出。此外’如箭頭γ 1 7所示,從導管27之下端流入 導管27内之冷卻材料通過前述複數下部孔mB — 丨、131B2 中之刖述1個下部孔(圖示例係1 3 1 b -1)以外的下部孔(圖示 例係第2下部孔13 1B-2),而從導管27之内側向外側流出, 且通過下部壓力調整孔42B而從上部核芯支撐柱2丨之内側 向外側流出。 另外,圖20、圖21之其他結構與上述第5種實施形態例 (參照圖9)相同。 如以上所述,採用本第1 5種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,因為其特徵為:構成在導管27側 面之上部與不部的周方向設複數上部孔i3iA_i、i3iA 2盘 下部孔131Β-1、131Β·2,且在上部核芯支撲柱21側面之上 129381.doc * 61 - 1354299 部與下部的2處設上部壓力調整孔42A與下部壓力調整孔 42B,藉由複數上部孔131A-1、131A-2及下部孔131B-1、 1 3 1B-2中之任何1個的上部孔及下部孔之内側與外側的冷 卻材料之壓力差,將套管22擠壓於導管27之内周面,從導 管27之上端流入導管27内之冷卻材料通過複數上部孔 13 1 A-1 ' 1 3 1A-2中之前述1個上部孔以外之上部孔,從導 管27之内侧向外側流出,且通過上部壓力調整孔42A而從 上部核芯支撐柱2 1之内側向外側流出,從導管27之下端流 入導管27内之冷卻材料通過複數下部孔13 1B-1、13 1B-2中 之刖述1個下部孔以外的下部孔’而從導管2 7之内側向外 侧流出’且通過下部壓力調整孔42B而從上部核芯支樓柱 21之内側向外側流出’所以,即使如套管22常常彎曲,在 導管27内套管22之位置變動,仍可在複數上部孔mAd、 131A-2及下部孔131B-1、131B-2之任何一個中,將套管22 擠壓於導管27之内周面。 另外,本第1 5種實施形態例之上部孔丨3丨A_丨、13丨八_2及 下部孔131B-1、131B-2均為了不致因冷卻材料從導管27内 侧向外側之流出流量過多,造成導管27内之壓力過度降 低,所以比上述第1種實施形態例之上部孔3 7A、3 7 A等細 (流路面積小)。另外,具體地形成何種程度之細度(流路面 積)’只須藉由分析及實驗等適宜設定即可。 此外,上部孔131八_2及下部孔niBl、i3iB2 之形狀並非限定於細縫狀者,如亦可為橢圓形狀及圓形狀 等。 129381.doc • 62 - 1354299 <第16種實施形態例 >圖22係顯示本發明第i6種實施形態 例之里測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖。 另外因為核反應器容器内之全體結構與上述第丨種實 施形態例(參照圖!)相同,所以省略此處之圖示及說明。此 卜關於圖22之篁測裝置導管之流動振動抑制構造,就與 上述第5種實施形態例(參照圖9)相同之部分註記同一符 號’而省略重複之詳細說明。 如圖22所示,本第16種實施形態例係將冷卻材料之流動 方向如箭頭Yi3地朝向上部孔41A及下部孔41B的方向用之 凸PM1A 141B、141C,設於在頂端喷嘴28之下端設置 的圓筒狀之延長管142的内周面1423及導管27之内周面 27a。圖示例係藉由使延長管142之一部分彎曲於内側而形 成第1凸部141A。同樣地,第2凸部U1B在比上部孔42A上 側之位置,藉由使導管27之一部分彎曲於内側而形成,第 3凸部i41C在比下部孔42B下側之位置’藉由使導管”之 一部分彎曲於内側而形成。 另外,圖22之其他結構與上述第5種實施形態例(參照圖 9)相同。 如以上所述,採用本第丨6種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,因為其特徵為·係將冷卻材料之 流動方向朝向上部孔41A及下部孔41B之方向的凸部 141A、U1B、141C設於延長管142之内周面14以及導管27 之内周面27a,所以藉由朝向上部孔41八及下部孔4ib之流 動(橫方向之流動),將套管22向上部孔41A及下部孔4ib之 129381.doc •63· 1354299 方向播壓之力作用於套官22。因而,即使如套管22常常彎 曲’而在導管27内之套管22的位置有變動,仍可確實地在 上部孔41A及下部孔41B+,將套管22擠壓於導管27之内 周面。
<第17種實把形態例 > 圖23係顯示本發明第i 7種實施形態 例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖圖 24⑷係圖23之L1_Lw箭頭觀察剖面放大圖,圖24⑻係圖 23之叫2線箭頭觀察剖面放大圖,圖24(e)_23m L3線箭頭觀察剖面放大圖,圖24(d)係從圖23抽出導管而 顯示之放大立體圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述糾種實 施形態例(參照圖1)相同’所以省略此處之圖示及說明。此 外’關於圖23、圖24之量測裝置導管之流動振動抑制構 造,就與上述第5種實施形態例(參照圖9)相同之部分註記 同一符號,而省略重複之詳細說明。
如圖23及@24所示,本第17種實施形態例係在導管27中 設有壓力導入管151。壓力導入管151設於上部孔41八及下 部孔41B之相反側的位置(圖示例係料管27之轴周圍旋轉 ㈣度之位置),並沿著導管27之長度方向(轴方向)設置。 因為Μ力導人管151内與導管27内連通,所以流出核芯 Π之冷卻材料㈣力及頂部32内之冷卻材料㈣力經由壓 力導入管151 ’而導入麼力導入管27内之上部孔μ及下部 孔41Β的相反側區域。另外,圖示例中壓力導入管Μ〗之橫 剖面係矩形狀者,不過並非限定於此者,如亦可為圓形: 129381 doc -64 - 1354299 等。 另外,圖23、圖24之其他結構與上述第5種實施形態例 (參照圖9)相同。 如以上所述,採用本苐1 7種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,因為其特徵為:係在上部孔41A 及下部孔41B之相反側的位置’沿著導管2 7之長度方向設 壓力導入管151 ’並使該壓力導入管ι51内與導管27内連 通,所以,藉由壓力導入管151將冷卻材料之壓力導入上 • 部孔W A及下部孔41B的相反側,上部孔4〗八及下部孔4 iB 之相反側的壓力提高。因而,於導管27内插通套管22時, 即使套管22從上部孔41Α及下部孔41Β分離,仍藉由上部 孔41A及下部孔41B之相反側的壓力將套管22擠壓於上部 孔41A及下部孔41B的方向,所以可確實地在上部孔41八及 下部孔41B尹’將套管22擠壓於導管27之内周面。 <第1 8種實施形態例 > 圖25 (a)係顯示本發明第1 8種實施 _ 形態例之里測裝置導管之流動振動抑制構造的重要部分結 構剖面圖,圖25(b)係圖25(a)之Ml-Ml線箭頭觀察剖面 圖,圖25(b)係圖25(a)之M2-M2線箭頭觀察剖面圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第】種實 施形態例(參照圖1)相同,所以省略此處之圖示及說明。此 外,關於圖25之量測裝置導管之流動振動抑制構造,就與 上述第1 7種實施形態例(參照圖23 '圖24)相同之部分註記 同一符號,而省略重複之詳細說明。 如圖25所示,本第〗8種實施形態例係在頂端喷嘴28之内 129381.doc -65- 1354299 周面28a形成有凹部161。亦卽,馆以a 1 少即,頂端噴嘴28之插通孔28a 的開口面積變大。凹部161位於設於壓力導入管27之壓力 導入官151的正下方,並連通於壓力導入管Η〗内。 另外,圖2 5之其他結構與上诂笛 傅興上述第丨7種實施形態例(參照 圖23、圖24)相同。 如以上所述’採用本第18種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時,因為其特徵為:係將連通於壓力 導入管151内之凹部161形成於頂端喷嘴μ之内周面285, 並可經由該凹部丨61將冷卻材料之上昇流導引於壓力導入 管151内,所以可更確實地藉由壓力導入管i5i導入冷卻材 料壓力。因而,可更加提高上部孔41A及下部孔41B之相 反側的壓力。 〈第19種實施形態例〉圖26係顯示本發明第丨9種實施形態 例之1測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖,圖 27(a)係圖26之N1-N1線箭頭觀察剖面放大圖,圖27(b)係圖 26之N2-N2線箭頭觀察剖面放大圖,圖27(c)係圖262N3_ N3線箭頭觀察剖面放大圖,圖27(d)係從圖26抽出導管而 顯示之放大立體圖。 另外’因為核反應器容器内之全體結構與上述第1種實 施形態例(參照圖1)相同,所以省略此處之圖示及說明。此 外,關於圖26、圖27之量測裝置導管之流動振動抑制構 造,就與上述第1 7、1 8種實施形態例(參照圖23〜圖25)相 同之部分註記同一符號,而省略重複之詳細說明。 上述第17種實施形態例係在壓力導入管ι51内與導管27 129381.doc •66· 内,包括此等全長連通,而如圖25所示,本第19種實施形 態例係在導管27與壓力導入管151間之邊界壁172,設有使 壓力導入官151内與導管27内連通的連通孔171A,mB。 此等連通孔171A與連通孔171B係細縫狀者,且設於分別 對應於上部孔4 1 A與下部孔4 1 B之位置。 另外,圖26、圖27之其他結構與上述第17、18種實施形 態例(參照圖23〜圖25)相同。 如以上所述’採用本第19種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時’因為其特徵為:係將使壓力導入 管151内與導管27内連通之連通孔171A、171B設於對應於 上部孔4 1 A與下部孔41B的位置,所以,與壓力導入管J 5 J 内與導管27内全體性連通時比較,可更加確實地藉由壓力 導入管151 ’而在對應於上部孔41A及下部孔41B的位置, 在上部孔41A及下部孔41B之相反側導入冷卻材料壓力。 因而,與壓力導入管151内與導管27内全體性連通時比 較,可更確實地藉由導入上部孔41A及下部孔41B相反側 之冷卻材料壓力’將套管22擠壓於上部孔41A及下部孔 41B的方向。 另外’連通孔171 A、171B之形狀並非限定於細縫狀 者,如亦可為橢圓形狀及圓形狀等。 〈第20種實施形態例>圖28係顯示本發明第20種實施形態 例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖,圖 29(a)係圖28之01-01線箭頭觀察剖面放大圖,圖29(b)係圖 28之0-02線箭頭觀察剖面放大圖,圖29(c)係圖28之〇3-〇3 129381.doc •67· 1354299 線箭頭觀察剖面放大圖,圖29(d)係從圖28抽出導管而顯示 之圖28的〇4方向箭頭觀察放大圖。 另外,因為核反應器容器内之全體結構與上述第丨種實 施形態例(參照圖1)相同,所以省略此處之圖示及說明。此 外,關於圖28、圖29之量測裝置導管之流動振動抑制構 泣,就與上述第1 9種實施形態例(參照圖26、圖27)相同之 部分註記同一符號,而省略重複之詳細說明。 如圖25所示,本第20種實施形態例係在導管27側面上部 之周方向的2處形成第1上部孔181Α-1與第2上部孔181A_ 2,在導管27側面下部之周方向的2處形成有第i下部孔 181B-1與第2下部孔181B-2。另外,上部孔以以」、181八_ 2及下部孔181B-1、181B-2之形狀並非限定於細縫狀者, 如亦可為橢圓形狀及圓形狀等。 套管22藉由複數上部孔181A_i、181A_2及下部孔181Β· 1、181B-2_任何1個上部孔及下部孔(圖示例係第t上部孔 181A-1及第1下部孔181B-1)之内側(亦即導管27之内側)與 外側(亦即導管27之外側)的冷卻材料之壓力差(内側之冷卻 材料壓力P1與外側之冷卻材料壓々P2之壓差Δρ)而擠壓於 導管27之内周面。 另外,如箭頭Υ12所示,從導管27之上端流入導管27内 的冷卻材料通過前述複數上部孔丨8丨Α_丨、! 8丨Α_2中之前述 1個上部孔(圖示例係第!上部孔181Α)以外之上部孔(圖示 例係第2上部孔1 8 ια_2),從導管27之内側向外側流出且 通過上部壓力調整孔42Α而從上部核芯支撐柱21之内側向 12938].doc -68- 1354299 外側流出。此外,如箭頭Υ17所示,從導管27之下端流入 導S 27内之冷卻材料通過前述複數下部孔181Β-1、181Β-2 申之則述1個下部孔(圖示例係i 8〖B_丨)以外的下部孔(圖示 例係第2下部孔181Β·2),而從導管”之内側向外側流出, 且通過下部壓力調整孔42Β而從上部核芯支撐柱21之内側 向外側流出。 另外,圖28、圖29之其他結構與上述第19種實施形態例 (參照圖26、圖27)相同。 如以上所述,採用本第2〇種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造時’因為其特徵為:構成在導管27側 面之上部與下部的周方向設複數上部孔、18】α_2與 下部孔1 8 1Β-1、1 8 1Β-2 ’藉由此等複數上部孔丨8丨Α_!、 181Α·2及下部孔181B-1、181B-2申之任何1個的上部孔及 下部孔之内侧與外側的冷卻材料之壓力差,將套管22擠壓 於導管27之内周面,從導管27之上端流入導管27内之冷卻 材料通過複數上部孔1 8 1 A-1、1 8 1 Α-2中之前述1個上部孔 以外之上部孔’從導管2 7之内側向外側流出,且通過上部 壓力調整孔42Α而從上部核芯支撐柱2 1之内側向外側流 出’從導管27之下端流入導管27内之冷卻材料通過複數下 部孔1 81Β-1、1 8 1Β-2中之前述1個下部孔以外的下部孔, 而從導管27之内側向外側流出,且通過下部壓力調整孔 42Β而從上部核芯支撐柱21之内侧向外側流出,所以,套 管22在導管27内之偏向一方的位置時,仍可在複數上部孔 181Α-1、181 Α-2及下部孔 181Β-1、181Β-2之任何一個中, 129381.doc •69· 1354299 將套管22擠壓於導管27之内周面。 〈第2!種實施形態例 >圓3〇係顯示本發明㈣種實施形態 例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖。圖 31係圖3G料之頂端喷嘴的放大圓。圖32_1係圖3rq1· Q!箭頭觀察圖,圓32_2係圓31之_箭頭觀察圖圖a 3係圖3kQ3.Q3箭頭觀察圖。另外,因為核反應器容器内 之全體結構與上述第!種實施形態例(參照圖”相同,所以 省略此處之圖示及說明。 ,本實施开:態例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的特 徵處為.If由安裝於核芯17側之端部的頂端喷嘴“A之開 口部中的冷卻材料,與設於上部核芯支撐柱21之側部的側 部孔210a、210b外側的冷卻材料之壓力差,而在頂端喷嘴 28A之内周擠壓套管22。 如圖30所示,本實施形態例之量測裝置導管之流動振動 抑制構造中,上部核芯支撐柱21具備支撐柱貫穿孔21&, 其係貫穿於上部核芯支撐柱21之軸Zs方向,亦即貫穿於上 部核芯支撐柱21之長度方向,並與設於上部核芯板"之開 β 1 5 a連通此外,在上部核芯支撐枉21之側部設側部 孔210a、210b,以連通支撐柱貫穿孔2U與上部核芯支撐 柱21之外部。本實施形態例係將2個側部孔以“、21仳設 於上部核芯支撐柱21之側部,不過,側部孔之數量並非限 定於此者。 上部核芯支撐柱21之下端,亦即在核芯17侧之上部核芯 支撐柱21的端部安裝於腳部31。此外,在上部核芯支撐柱 129381.doc -70- 1354299 21之下端設頂端噴嘴28a。頂端噴嘴28A中設置貫穿於頂 端噴嘴28A之軸zn方向而與支撐柱貫穿孔2U連通的頂端喷 嘴貝穿孔280(參照圖32-1〜圖32-3)。頂端噴嘴貫穿孔280插 通其插通於支撐柱貫穿孔21a的套管22,將套管22導向核 芯17之内部。藉此,套管22之一端部插入核芯17之内部。 如圖31、圖32-1〜圖32-3所示,在頂端喷嘴28a之核芯17 側設冷卻材料入口 281,將冷卻材料導入頂端噴嘴貫穿孔 280。頂端喷嘴28A之冷卻材料入口 281與上部核芯板丨5之 開口部15a連通。此外,頂端喷嘴28A中,在頂端喷嘴28a 之上部核芯支撐柱2 1側,且對頂端喷嘴28A之軸Zn相反側 (亦即軸對象之位置)設冷卻材料出口 284,使導入頂端噴嘴 貫穿孔280之冷卻材料向支撐柱貫穿孔2U流出。冷卻材料 出口 284開口於支撐柱貫穿孔21 a。 在頂端噴嘴28 A之内部形成連通於頂端噴嘴貫穿孔28〇之 入口側冷卻材料通路282,及連通於頂端噴嘴貫穿孔28〇之 出口側冷卻材料通路283。冷卻材料入口 281係在頂端噴嘴 28A之核芯17側的入口側冷卻材料通路282之開口部。此 外,冷卻材料出口 284係在上部核芯支撐柱21側之出口側 冷卻材料通路283的開口部。在入口側冷卻材料通路282之 上部核芯支撐柱21側設出口側密封部286。此外,在出口 側冷卻材料通路283之核芯i 7側設入口側密封部285。 在核芯17側之冷卻材料的壓力P1比在隔著上部核芯板15 之上部核芯支撐柱2丨外側的冷卻材料之壓力“高。因此, 藉由頂端噴嘴28A之開口部,亦即在冷卻材料入口 281之冷 12938 丨.doc U54299 卻材料(比頂端噴嘴28A之開口部靠近核芯17側之冷卻材 料)與側部孔2 1 Oa、2 1 Ob外側之冷卻材料的壓力差,核芯 17之冷卻材料從冷卻材料入口 28丨通過入口側冷卻材料通 路282而流入頂端噴嘴貫穿孔28〇,並向出口側冷卻材料通 路283流出。而後,冷卻材料從出口側冷卻材料通路283之 冷卻材料出口 284向支撐柱貫穿孔2丨a内流出後,從側部孔 210a、210b向上部核芯支撐柱21之外側流出。 核芯17側之冷卻材料藉由出口側密封部286阻止向出口 侧冷邠材料通路283流入。藉此,可將冷卻材料有效導入 入口側冷卻材料通路282内。此外,入口側冷卻材料通路 282内之冷卻材料藉由出口側密封部286阻止向支撐柱貫穿 孔2 1 a流出。藉此,可將入口側冷卻材料通路282内之冷卻 材料有效導入頂端喷嘴貫穿孔28〇内。 藉由冷卻材料通過入口側冷卻材料通路282而流入頂端 喷嘴貝穿孔280,並向出口側冷卻材料通路283流出之過 私’套管22接觉朝向出口側冷卻材料通路283側之擠壓力 (圖31、圖32-1〜圖32-3之箭頭K方向)。藉此,套管22擠壓 於在出口側冷卻材料通路283側之頂端喷嘴28八的内周,亦 即擠壓於頂端噴嘴貫穿孔28〇之内周。如此,由於本實施 形態例係藉由在頂端噴嘴28A之開口部側的冷卻材料與側 部孔210a、210b外側之冷卻材料的壓力差,將套管22擠壓 於在出口側冷卻材料通路283側之頂端噴嘴28A的内周,因 此抑制套官22之流動振動,結果抑制套管22之磨損。 如圖32-1〜圖32·3所示,本實施形態例中,冷卻材料入 129381.doc •72- 1354299 口 281與冷卻材料出口 284分別對頂端喷嘴28A之軸Zn設於 相反側(軸對象之位置藉此,入口側冷卻材料通路282與 出口側冷卻材料通路283分別對頂端喷嘴28A之軸Zn設於 相反側(軸對象之位置)。藉由如此構成,由於入口側冷卻 材料通路282與出口側冷卻材料通路283配置於概略同一直 線上,因此,向頂端喷嘴貫穿孔28〇内之套管22有效地作 用冷卻材料之壓力,可將套管22擠壓於在出口側冷卻材料 通路283側之頂端喷嘴28A的内周。結果,可更確實地抑制 套管22之流動振動’並抑制套管22之磨損。 如圖31所示,藉由變更從冷卻材料入口 281至出口側密 封部286的距離H,可變更套管22接受冷卻材料之壓力的面 積(受壓面積)。藉此,可變更套管22從冷卻材料接受之力 的絕對值。如此,本實施形態例可簡易地變更對套管22之 擠壓力。 〈第1種變形例>圖33-1〜圖33-3係顯示第21種實施形態例 之第1種變形例的量測裝置導管之流動振動抑制構造的說 明圖。本變形例與第21種實施形態例之量測裝置導管之流 動振動抑制構造概略相同,不過其不同之處為:在頂端噴 嘴28A分別設複數冷卻材料入口 28 1及入口側冷卻材料通路 282 ’與冷卻材料出口 284及出口側冷卻材料通路283。由 於其他結構與第2 1種實施形態例相同,因此就相同之部分 註記同一符號,而省略重複之詳細說明。 如圖33-1所示,入口側冷卻材料通路282及在核芯側之 入口側冷卻材料通路282的開口部之冷卻材料入口 281 (參 129381.doc •73-
照圖31)在頂端喷嘴28A設2個。此外,如圖33-3所示,出 σ側冷卻材料通路283及在支撐柱貫穿孔21a之出口側冷卻 材料通路283的開口部之冷卻材料出口 284(參照圖31)在頂 端噴嘴28A設2個。在各個入口側冷卻材料通路282之上部 核芯支撐柱2 1側分別設出口侧密封部286。此外,在各個 出口側冷卻材料通路283之核芯17側分別設入口側密封部 285 °如此’本變形例中,頂端喷嘴28A具備2對入口側冷 卻材料通路282、出口侧冷卻材料通路283。 —對入口側冷卻材料通路282、出口側冷卻材料通路283 分別對頂端噴嘴28A之軸Zn設於相反側(軸對象之位置)。 匕外 2個入口側冷卻材料通路282對通過頂端噴嘴28A之 軸Zn之平面設於相同側,2個出口側冷卻材料通路283對前 述平面设於相反側。藉此,藉由從入口側冷卻材料通路 282向頂端喷嘴貫穿孔28〇内導入之冷卻材料,可使從入口 側冷卻材料通路282朝向出口側冷卻材料通路283之擠壓力
(圖33]〜圖33_3所示之箭頭κ方向之力)向套管22作用。而 後,可將頂端喷嘴貫穿孔280内之套管22向出口側冷卻材 料通路2 8 3側擠壓。 本變形例之量測裝置導管之流動振動抑制構造具備:複 數冷卻材料人口 281及人口側冷卻材料通路加,與複數冷 卻材料出口 284及出口側冷卻材料通路如。藉此,由於可 增加套管22之受壓面積,因此可進—步增大套管22從冷卻 材料接受之擠壓力H由於可以更大之力將套管22向 頂端喷嘴28A之内冑,亦即頂端喷嘴貫穿孔之内周擠 129381.doc -74- 1354299 壓’因此可更加確實地抑制套管22之流動振動,並抑制套 管22之磨損。 <第2種變形例>圖34係顯示第21種實施形態例之第1種變 形例的$測裝置導管之流動振動抑制構造具備的頂端喷嘴 之結構剖面圖。圖35-1係圖34之R1-R1箭頭觀察圖,圖35_ 2係圖34之R2_R2箭頭觀察圖,圖35-3係圖34之R3-R3箭頭 觀察圖。 本變形例與第21種實施形態例之量測裝置導管之流動振 動抑制構造概略相同,不過不同之處為:在頂端喷嘴貫穿 孔280與出口側冷卻材料通路283之間設隔開構件287。由 於其他結構與第2 1種實施形態例相同,因此就相同之部分 註記同一符號,而省略重複之詳細說明。 如圖34、圖35-2、圖35-3所示,在設於頂端喷嘴2扣之 頂知噴觜貫穿孔280與出口側冷卻材料通路283之間設劃分 兩者之隔開構件287。隔開構件287中設複數隔開構件開口 部287η,供冷卻材料從頂端噴嘴貫穿孔28〇向出口側冷卻 材料通路283流動。藉此,從入口側冷卻材料通路282向頂 端噴嘴貫穿孔280流入之冷卻材料通過隔開構件開口部 287η,向出口側冷卻材料通路283流出’並從冷卻材料^ 口 284向支撐柱貫穿孔21a流出。 藉由此種結構,藉由從入口側冷卻材料通路282向頂端 喷嘴貫穿孔280内導入之冷卻材料,使從入口側冷卻材料 通路282朝向出口側冷卻材料通路283之擠壓力作用於套管 22。而後’將頂端噴嘴貫穿孔28〇内之套管22向頂端嘴嘴 J29381.doc •75· 1354299 28B之内周’更具體而言係向隔開構件287擠壓,可抑制套 官22之流動振動’並抑制套管22之磨損。此外,本變形例 由於在隔開構件287之表面接受套管22,因此可抑制套管 22之局部性應力集中。 〈第3種變形例 > 圖36係顯示第2丨種實施形態例之第3種變 形例的量測裝置導管之流動振動抑制構造之結構剖面圖。 本變形例與第21種實施形態例之量測裝置導管之流動振動 抑制構造概略相同,不過不同之處為:構成頂端喷嘴28c 具備之入口側冷卻材料通路282c從上部核芯支撐柱2 1側朝 向在核芯側之頂端喷嘴28C的端部,與頂端喷嘴28C之轴 Zn正交的剖面之開口面積逐漸變大。由於其他結構與第21 種實施形態例相同,因此就相同之部分註記同一符號,而 省略重複之詳細說明。 如顯示於第2 1種實施形態例之入口側冷卻材料通路 282(參照圖3 1) ’與頂端喷嘴28C之軸Zn正交之剖面的開口 面積一定時’入口側冷卻材料通路282内之冷卻材料的壓 力朝向圖3 1所示之出口側密封部286側提高。藉此,對套 管22之擠壓力從冷卻材料入口 281側朝向出口側密封部286 側變大’可能發生前述擠壓力之不平衡。 本變形例係構成將與頂端喷嘴28C之軸Zn正交之入口側 冷卻材料通路282c的剖面之開口面積從上部核芯支樓柱21 之支#柱貫穿孔21a朝向冷卻材料入口 281側而逐漸變大。 藉此,由於可將對套管22之擠壓力從冷卻材料入口 28丨側 朝向出口侧密封部286側形成相同程度之大小,因此可抑 12938l.doc • 76- 制引述擠壓力之不平衡 '结果,可更穩定地抑制套管22之 流動振動’並抑制套管22之磨損。 <第4種變形例>圖37係顯示第以種實施形態例之第4種變 形例的里測裝置導管之流動振動抑制構造具備的頂端噴嘴 之結構剖面圖。本變形例與第21種實施形態例之量測裝置 導管之流動振動抑制構造概略相同,不過不同之處為:構 成將頂端噴嘴28D之核芯側(核芯側頂端喷嘴)29〇之内面從 上邛核心支撐柱21側朝向在核芯丨7側之頂端噴嘴28D的端 邛,與頂端噴嘴28D之軸Zn正交的剖面之開口面積逐漸變 大。由於其他結構與第21種實施形態例相同,因此就相同 之部分註記同一符號,而省略重複之詳細說明p 藉由將核芯側頂端喷嘴290如上述地構成,而將來自核 心17之冷卻材料有效地向頂端噴嘴28d之入口側冷卻材料 通路282取入。藉此’由於可藉由冷卻材料將套管22更確 實地向頂端喷嘴28D之内周擠壓’因此可更確實地抑制套 ε 2 2之流動振動’並抑制套管2 2之磨損。 <第22種實施形態例〉圖38係顯示本發明第22種實施形態 例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖。圖 39-1係圖38之S1-S1箭頭觀察圖,圖39-2係圖38之S2-S2箭 頭觀察圖,圖39-3係圖38之S3-S3箭頭觀察圖。圖40係顯 示本發明第22種實施形態例之量測裝置導管之流動振動抑 制構造具備的套管之支撐構造立體圖。 第22種實施形態例與第21種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造概略相同,不過不同之處為:構成包 •77- 12938 丨.doc 、置導管保持體300,其係配置於形成於頂端喷 嘴28E内部$疮趣 货嘴内二間;及隔壁301,其係設於喷嘴内空 面與畺測裝置導管保持體3 〇 〇之間,而將喷嘴内空 2剎刀成冷卻材料入口 281側與冷卻材料出口 284側。由於 構㈣21種實施形態例㈣’因此就相同之部分註 ί"! 一符號’而省略重複之詳細說明。另夕卜,就核反應器 今裔内之全體結構與上述第1種實施形態例(參照圖1)相 同,所以省略此處之圖示及說明。 圖3 8所示,構成本實施形態例之量測裝置導管之流動 振動抑制構造的頂端噴嘴28Ε,將保持量測裝置導管之套 s 22的1測裝置導管保持體3〇〇設於内部。而後,在量測 裝置導管保持體3〇〇之外侧且在頂端喷嘴28£之内部設喷嘴 内空間。本實施形態例中,入口側冷卻材料通路282£及出 口側冷卻材料通路28托相當於前述噴嘴内空間。入口側冷 卻材料通路282Ε與冷卻材料入口 281連通,此外,出口側 冷卻材料通路283Ε與冷卻材料出口 284連通。 如圖39-卜圖39·3、圖40所示,量測裝置導管保持體則 由第1保持體300Α與第2保持體3_構成。第i保持體3〇〇α 及第2保持體廳係在長度方向正交之剖面的形狀係圓孤 狀的曲板。量測裝置導管保持體扇使第⑽持體舰及第 2保持體3麵之長度方向側的各端部相對,且設特定之間 隔’而向頂端噴嘴28E之喷嘴内空間配置。 在前述頂端噴嘴内空間之内面與 300之間設置將前述喷嘴内 量測裝置導管保持體 二間劃分成冷卻材料入口 28 1側 129381.doc •78· 1354299
與冷卻材料出口 284側的隔壁301。隔壁301由板狀構件之 第1隔壁3〇1A與第2隔壁3〇1B構成。第i隔壁3〇iA及第2隔 壁3〇1B分別安裝於第1保持體3〇〇A及第2保持體300B,且 安裝於前述噴嘴内空間之内面。藉此,第t隔壁3〇1八及第2 隔壁3〇1B亦即隔壁3〇1將第丨保持體3〇〇a及第2保持體3〇〇b 亦即將置測裝置導管保持體3〇〇保持於頂端噴嘴28e的喷嘴 内二間。如圖39-1〜圖39-3、圖40所示,以第丨保持體3〇〇A
與第2保持體300B包圍之空間成為頂端噴嘴貫穿孔28〇e, 套管2 2插通於此。 本實施形態例中,量測裝置導管保持體3〇〇與隔壁3〇1藉 由焊接等之接合手段接合成一體化。此外,隔壁30丨在^ 端噴嘴28E之噴嘴内空間的内面藉由焊接等之接合手段接 合成一體化。如此,本實施形態例中,量測裝置導管保持 體300及隔壁301與頂端噴嘴28E接合成一體化,而構成頂 端噴嘴28E之一部分。 、
P保持體300A及第2保持體職之_方長度方向側的 各端部以特定之間隔而相對的部分成為冷卻材料導入口 303。此外,第!保持體300A及第2保持體3〇〇b之另一方長 度方向側的各端部以特定之間隔而相對的部分成為冷卻材 料流出口 304。#此,冷卻材料導入口 3〇3及冷卻材料流出 口 304設於量測裝置導管保持體300之外周部。 机 冷卻材料導入口 303與藉由隔壁3〇1而劃分之冷卻材料入 口 281側的喷嘴内空間,亦即與入口側冷卻材料通路職 連通。此外,冷卻材料流出口 304與藉由隔壁3〇〗而劃分之 129381.doc •79- 冷卻材料出口 284側的噴嘴内空ΓβΙ,亦即與出口側冷卻姑 料通路283Ε連通。 7 如圖38、圖39-1〜圖39_3所示,在入口側冷卻材料通路 282Ε之上部核芯支撐杈21(參照圖30)側設出口側密封部 286。此外,在出口側冷卻材料通路283之核芯17側設入口 側狁封部285。核芯側之冷卻材料藉由出口側密封部而 阻止向出口侧冷卻材料通路283流入,並通過冷卻材料入 口 28 1而向入口側冷卻材料通路282£流入。此時,由於藉 由隔壁301隔開入口側冷卻材料通路282Ε與出口側冷卻材 料通路283Ε,因此向入口側冷卻材料通路282Ε流入之冷卻 材料避開向出口側冷卻材料通路283Ε流出。向入口側冷卻 材料通路282Ε流入之冷卻材料冷卻材料從冷卻材料導入口 303向量測裝置導管保持體3〇〇之内部,亦即向頂端噴嘴貫 穿孔280Ε内流入。 向頂端喷嘴貫穿孔280内流入之冷卻材料從冷卻材料流 出口 304向出口侧冷卻材料通路283Ε流出。此時,冷卻材 料對插通於頂端噴嘴貫穿孔28〇Ε内之套管22賦予朝向冷卻 材料流出口 304之擠壓力。藉此,套管22擠壓於冷卻材料 流出口 304,亦即擠壓於第!保持體3〇〇Α及第2保持體3〇〇β 的長邊側端部。由於第i保持體3〇〇Α及第2保持體3〇仙構 成頂知噴嘴2 8Ε之一部分,因此套管22向頂端喷嘴2 8Ε之内 周擠壓。藉此,本實施形態例可抑制套管22之流動振動, 並抑制套管22之磨損。 <第23種實施形態例 > 圖4〗係顯禾本發明第23種實施形態 12938l.doc 80· 1354299 例之量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖。圖 42係圖4kT1_T1箭頭觀察圖。圖43係顯示本發明第23種 實施形態例之量測裝置導管之流動振動抑制構造具備的套 管之支撐構造立體圖。 第23種實施形態例與第21種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造概略相同,不過特徵點為·配置在机 於上部核芯支#柱21内部之切柱貫穿孔…内插通套; 22的量測裝置導管保持體3〇g ’利用流經支稽柱貫穿孔& 内之冷卻材料的壓力差,而將套管22擠壓於量測裝置導管 保持體300。由於其他結構與第21種實施形態例相同,因 此就相同之部分註記同一符號,而省略重複之詳細說明。 另外,就核反應器容器内之全體結構與上述第丨種實施形 態例(參照圖1)相同,所以省略此處之圖示及說明。 如圖4 1所示,構成本實施形態例之量測裝置導管之流動 振動抑制構造的上部核芯支撐柱21,將保持量測裝置導管 之套管22的量測裝置導管保持體3〇〇設於支撐柱貫穿孔2ia 内。在支撐柱貫穿孔21a内設冷卻材料堵住構件215,其係 配置於比側部孔21〇3、210b靠近上部核芯支撐板14側;'而 堵住流經支撐柱貫穿孔21a内的冷卻材料。冷卻材料堵住 構件215中形成有供套管22插通之插通孔215H,插通於支 撐柱貫穿孔21a之套管22插通於插通孔2i5j^^,一端部向 控芯〗7插入。 如圖42、圖43所示,量測裝置導管保持體3〇〇由第丨保持 體300A與第2保持體3〇〇B構成。第丨保持體3〇〇A及第2保持 129381.doc •81· 1354299 體3 00B係在長度方向正夺 门正人之剖面的形狀係圓弧狀的曲板。 量測裝置導管保持體3 〇 〇 # @ , 瓶U〇使第1保持體300A及第2保持體 300Β之長度方向側的各端部相對,且設特定之間隔,而向 支撐柱貫穿孔21 a内配置。
在支撐柱貝穿孔21a之内面與量測裝置導管保持體则之 間,設置將支撐柱貫穿孔21a之内部劃分成設有側部孔 2H)a、2H)b之側的空間(第2切柱内空間)2ia2與不設側部 孔21〇a、21〇b之側的空間(第i支樓柱内空間)2ui的隔壁 301。隔壁301由板狀構件之第1隔壁3〇1A與第2隔壁 構成。 量測裝置導管保持體300及隔壁3〇1設於比冷卻材料堵住 構件215靠近核芯17側。如此,在比冷卻材料堵住構件215 靠近核芯17側,支撐柱貫穿孔21a由第丨支撐柱内空間2iai 及第2支撐柱内空間21a2構成。 第1隔壁301八及第2隔壁3018分別安裝於第1保持體3〇〇八 及第2保持體300B,且安裝於支撐柱貫穿孔2U之内面。藉 此,第1隔壁301A及第2隔壁301B亦即隔壁3〇1將第}保持 體300A及第2保持體300B亦即將量測裝置導管保持體3〇〇 保持於支撐柱貫穿孔2 1 a内。如圖42、圖43所示,以第1保 持體300A與第2保持體300B包圍之空間(保持體内空間)21 2 插通套管22。 本實施形態例中,量測裝置導管保持體3〇〇與隔壁3〇丨藉 由焊接等之接合手段接合成一體化。此外,隔壁3〇1在支 撐柱貫穿孔21a之内面藉由焊接等之接合手段接合成—體 129381.doc • 82 · 1354299 化。如此,本實施形態例中 隔壁301與上部核芯支撐柱21接合成—體化 核芯支撐柱2 1之一部分。 第1保持體300A及第2保持體3〇〇B之—古i由 < 方長度方向側的
各端部以特定之間隔而相對的部分成為冷卻材料導入口 303。此外,第i保持體300A及第2保持體3〇〇b之另一方長 度方向側的各端部以特定之間隔而相對的部分成為冷卻材 料流出口 304。如此’冷卻材料導人n3G3及冷卻材料流出 口 304設於量測裝置導管保持體3〇〇之外周部。 冷卻材料導入口 303與藉由隔壁301而劃分之第i支撐柱 内空間21al連通。此外,冷卻材料流出口 3〇4與藉由隔壁 301而劃分之第2支撐柱内空間21a2連通。圖41所示之核芯 17側的冷卻材料從在核芯17側之上部核芯支撐柱21的端部 之開口部,向構成支撐柱貫穿孔21a之第1支撐柱内空間 2 1 a 1及第2支撐柱内空間2 1 a2流入》
量測裝置導管保持體300及 而構成上部 由於第2支撐柱内空間2 1 a2係設側部孔21 〇a、2 1 〇b之側 的工間,因此内部之冷卻材料從側部孔21 〇a、21 〇b向第2 支撐柱内空間2 1 a2之外部流出。藉此,第2支樓柱内空間 2 1 a2内之冷卻材料的壓力比在上部核芯板丨5之開口部1 5 a 的冷卻材料之壓力小。另外,由於第1支撐柱内空間2 1 a j 係不設側部孔2 10a、2 1 Ob之側的空間,因此内部之冷卻材 料的壓力比第2支撐柱内空間21 a2内之冷卻材料的壓力 大0 藉此,第1支撐柱内空間2 1 al内之冷卻材料通過冷卻材 I2938I.doc -83- 1354299 料導入口 303,向量測裝置導管保持體3〇〇之保持體内空間 2 1 2流入後’從冷卻材料流出口 3〇4向第2支撐柱内空間 21 a2流出。而後,冷卻材料從側部孔2 i 〇a、2丨〇b向第2支 撐柱内空間21 a2之外部流出。藉由該過程,冷卻材料對插 通於量測裝置導管保持體3 〇〇之保持體内空間21 2内的套管 22,賦予朝向冷卻材料流出口 3〇4之擠壓力。藉此,套管 22擠壓於冷卻材料流出口 3〇4,亦即量測裝置導管保持體 300之内周,更具體而言,擠壓於第i保持體3〇〇A及第2保 持體300B之長邊側端部且内周侧。結果,本實施形態例可 抑制套官22之流動振動,並抑制套管22之磨損。此外,由 於不而要在第21種實施形態例等使用之頂端噴嘴2 8等,因 此可簡化量測裝置導管之流動振動抑制構造。 此處,藉由變更從核芯17側之上部核芯支撐柱21的端部 至冷卻材料堵住構件215之距離H1 ,可變更套管22接受冷 卻材料之壓力的受壓面積。藉此,可變更套管22從冷卻材 料接文之力的絕對值。如此,本實施形態例可簡易地變更 對套管22之擠壓力。 此外,因為以冷卻材料堵住構件2 1 5堵住冷卻材料,所 以在支撐柱貫穿孔21&内,冷卻材料堵住構件215之部分其 v ''卩材料之壓力上昇,而在核芯丨7側亦即在冷卻材科之入 U 〃冷卻材料之壓力降低。因此,藉由調整冷卻材料堵 ^構件2 1 5之位置’使在冷卻材料之入口側的冷卻材料之 魘力上昇。藉此,可縮小從冷卻材料堵住構件21 5至冷卻 材料入口的距離。 12938I.doc -84 - 1354299 〈第1種變形例 > 圖44-1、圖44-2係顯示第23種實施形態 例之第1種變形例的量測裝置導管之流動振動抑制構造的 說明圖》本變形例與第23種實施形態例之量測裝置導管之 流動振動抑制構造概略相同,不過不同之處為:在核芯 側’亦即在冷卻材料向上部核芯支撐枉2丨之支撐柱貫穿孔 2 1 a内流入之側的隔壁3 〇 1之端部3 〇 1 Atr、3 01 Btr與量測裝 置導管保持體300之端部3〇〇Atr、300Btr之至少一方以曲面 構成。由於其他結構與第23種實施形態例相同,因此就相 同之部分註記同一符號’而省略重複之詳細說明。 如圖44-1所示,在核芯17(參照圖41)側之隔壁3〇1的端部 301Atr、301Btr(圖43、圖44-1)由曲面構成。更宜為端部 301Atr、301Btr形成流線形。此外,如圖44-2所示,在核 芯17(參照圖41)側之量測裝置導管保持體3〇〇的端部 300Atr、300Btr(圖43、圖44-2)由曲面構成。更宜為端部 300Atr、3 00Btr形成流線形。 如此’可抑制向支撐柱貫穿孔2丨a(第1支撐柱内空間 21al及第2支撐柱内空間21 a2)内流入之冷卻材料,被隔壁 301之端部301Atr、301Btr及量測裝置導管保持體3〇〇之端 部3〇〇Atr、300Btr剝離。藉此,可更有效地抑制套管”之 流動振動。
<第2種變形例〉圖45係顯示第23種實施形態例之第2種變 形例的量測裝置導管之流動振動抑制構造的說明圖。本變 形例與第23種實施形態例之量測農置導管之流動振動抑制 構造概略相同,不過不同之處為:在上部核芯支撐柱ΜA 12938 丨.doc •85- 1354299 之核芯側的支撐柱貫穿孔2丨a之内面2丨AI係形成漏斗口 狀。由於其他結構與第23種實施形態例相同,因此就相同 之部分註記同一符號,而省略重複之詳細說明。本變形例 中’在核芯側之支撐柱貫穿孔21a由第1支撐柱内空間21al 及第2支撐柱内空間2U2構成。 如圖45所示,在上部核芯支撐柱21 a之核芯側的支撐柱 貝穿扎21a之内面21AI形成漏斗口狀。亦即,支樓柱貫穿 孔21a之内面21AI隨著朝向核芯,與上部核芯支撐柱21之 轴Zs正交的剖面之開口面積變大。藉此,由於可在上部核 芯支樓柱21之核芯側的端部剝離向支撐柱貫穿孔2U内流 入之冷卻材料,因此可更有效地抑制套管22之流動振動。 〈第3種變形例 >圖46係顯示第23種實施形態例之第3種變 形例的量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖47係圖46之U1-U1箭頭觀察圖》本變形例與第23種實施 升> 態例之量測裝置導管之流動振動抑制構造概略相同,不 過不同之處為:在構成上部核芯支撐柱21之支撐柱貫穿孔 21 a的第2支撐柱内空間21 a2之核芯側設置堵塞第2支撐柱 内空間2 1 a2的關閉構件2 1 3。由於其他結構與第2 3種實施 形態例相同’因此就相同之部分註記同一符號,而省略重 複之詳細說明。 上部核心支樓柱21在藉由以第1隔壁3 〇 1 a及第2隔壁 3 0 1 B構成之隔壁3 01而劃分的設有側部孔2 1 〇a、2 1 〇b之側 的空間’亦即在第2支撐柱内空間21a2之核芯側,具備堵 塞該第2支撐柱内空間21a2的關閉構件213 ^藉由該關閉構 129381 .doc -86 - 件2 13 ’由於可抑制冷卻材料向第2支撐柱内空間21 a2流 入’因此可使第2支撐柱内空間2〖a2中之冷卻材料壓力更 加降低。結果’套管22以更大之擠壓力擠壓於量測裝置導 保持體300之内周’更具體而言係擠壓於第1保持體3〇〇a 及第2保持體300B之長邊側端部且内周側。結果,本變形 例可更有效地抑制套管22之流動振動,並抑制套管22之磨 損。 〈第4種變形例〉圖48係顯示第23種實施形態例之第4種變 形例的量測裝置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖49-1、圖49-2係從核芯側觀察第23種實施形態例之第4種 變形例的量測裝置導管之流動振動抑制構造的狀態平面 圖。本變形例與第23種實施形態例之第3種變形例的量測 裝置導管之流動振動抑制構造概略相同,不過不同之處 為:在支#柱貫穿孔21a之核芯側設冷卻材料整流機構, 其係對向支撐柱貫穿孔2 1 a流入之冷卻材料加以整流。由 於其他結構與第23種實施形態例之第3種變形例相同,因 此就相同之部分註記同一符號,而省略重複之詳細說明。 本變形例在構成支撐柱貫穿孔2〗a之第2支撐柱内空間 21 a2的核芯側設置堵塞第2支撐柱内空間21a2之關閉構件 2 1 3 °此外’在構成支撐柱貫穿孔2丨a之第1支撐柱内空間 21al的核芯側設多孔板216,作為整流向第1支撐柱内空間 2 1 a 1流入之冷卻材料的冷卻材料整流機構。此外,如圖 49-2所不’冷卻材料整流機構亦可使用穿孔了複數冷卻材 料通過孔2 1 7的多孔板21 6A。冷卻材料以多孔板216及多孔 129381.doc • 87 - 1354299 板216A整流後向第丨支撐柱内空間2U1流入,因此抑制在 第1支#柱内空間21al發生渴流。結果可更有效地抑制套 管22之流動振動。另夕卜,冷卻材料整流機構除了多孔板 216等之外,亦可使用金屬篩網及蜂巢狀材料等。 〈第5種變开> 例 > 圖5〇係顯示第23種實施形態例之第5種變 形例的量測裝f導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖。 本變形例與第23種實施形態例之量測裝置導管之流動振動 抑制構造概略相同,不過不同之處為:構成支❹貫穿孔 21a之内面朝向在核芯側之上部核芯支撐柱2ι的端部與 上邛核心支標柱21之轴Zs正交的剖面之開口面積逐漸變 大。由於其他結構與第23種實施形態例相同,因此就相同 之部分註記同一符號,而省略重複之詳細說明。 本變形例中,在核芯側之支撐柱貫穿孔21a由第丨支撐柱 内空間21al及第2支撐柱内空間21a2構成。本變形例中, 在未設側部孔210a、210b之側的空間之第丨支撐柱内空間 2 1 al中叹置通過上部核芯支撐柱21之軸Zs之剖面形狀為 概略三角形狀的間隔片214。藉此第丨支撐柱内空間HU構 成朝向在核芯側之上部核芯支撐柱2丨的端部,與上部核芯 支撐柱21之軸Zs正交之剖面的開口面積逐漸變大。 藉此,由於可將對套管22之擠壓力形成從第1支撐柱内 空間21al之核芯側的開口部2113朝向冷卻材料堵住構件 21 5相同程度之大小,因此可抑制前述擠壓力之不平衡。 …果可更穩定地抑制套管22之流動振動,並抑制套管22之 磨損。 129381.doc -88- 1354299 另外,上述各種實施形態例之結構亦可任意地組合。如 亦可將第3種實施形態例之插塞…、51Β與其他實施形態 例之結構組合^ “ 此外,上述各種實施形態例係將擠壓套管用之孔(上邛 孔、下部孔)設於導管之上部與下部,不過並非限定於: f ’只要至少在導管之下部設下部孔,亦可有效抑制在導 官之下端側產生的套管之流動振動。 產業上之可利用性
本發明係關於插入核芯内之量測裝置導管之流動振動抑 制構造者,且係有效適用於抑制上部插入方式中之量測裝 置導管之流動振動的情況者。 【圖式簡單說明】 圖1係顯示具備本發明第丨種實施形態例之量測裝置導管 之流動振動抑制構造的PWR核反應器容器之内部構造的概 要剖面圖。
圖2係從圖1柚出前述量測裝置導管之流動振動抑制構造 而顯示之放大剖面圖。 圖3(a)〜(h)係圖2之A1-A1線箭頭觀察剖面放大圖、圖2之 A2-A2線箭頭觀察剖面放大圖、圖2之a3_A3線箭頭觀察剖 面放大圖、圖2之八4_八4線箭頭觀察剖面放大圖、圖2之 A5-A5線箭頭觀察剖面放大圖、圖2之A6-A6線箭頭觀察剖 面放大圖、圖2iA7_A7線箭頭觀察剖面放大圖及從圖2抽 出導管而顯示之圖2之A8方向箭頭觀察放大圖。 圖4係顯禾本發明第2種實施形態例之量測裝置導管之流 I29381.doc •S9· 1354299 動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖5(a)〜(f)係圖4之Β1-Β1線箭頭觀察剖 面放大圖、圖4之 B2-B2線箭頭觀察剖面放大圖、圖42B3_B3線箭頭觀察剖 面放大圖、圖4之B4-B4線箭頭觀察剖面放大圖、從圖4抽 出導官而顯示之圖4之B5方向箭頭觀察放大圖及圖4之B6 方向箭頭觀察放大圖。 圖6係顯示本發明第3種實施形態例之量測裝置導管之流 動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖7(a)〜(c)係圖6之cl_Ci線箭頭觀察剖面放大圖、圖6之 C 2 C2線箭頭觀察剖面放大圖及圖&之〇方向箭頭觀察放 大圖。 圖8(a)〜(c)係顯示本發明第4種實施形態例之量測裝置導 言之流動振動抑制構造的結構剖面圖、D1-D1線箭頭觀察 剖面放大圖及抽出導管而顯示之D2方向箭頭觀察放大圖。 圖9(a)〜(d)係顯示本發明第5種實施形態例之量測裝置導 管之流動振動抑制構造的結構剖面圖、E1_E1線箭頭觀察 aJ面放大圖、E2-E2線箭頭觀察剖面放大圖及抽出導管而 顯示之Ε3方向箭頭觀察放大圖。 圖1 0(a)、(b)係顯示本發明第6種實施形態例之量測裝置 導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖及F部剖面放大 圖。 圖11 (a)、(b)係顯示本發明第7種實施形態例之量測裝置 導官之流動振動抑制構造的結構剖面圖及G方向箭頭觀察 圖。 129381.doc •90- 圖12係顯示本發明第8種實施 流動振動抑制構造的重要部分結構剖面圖 ^之 係顯示本發明第9種實施形態 流動振動抑制構造的重要部分結構剖面圖。置“之 圖14(a)、(b)係顯示本發明笛p 置導管之汽動… 施形態例之量測裝 導…動振動抑制構造的重要部分結構剖面圖及抽出 頂端噴嘴而顯示之Η方向箭頭觀察圖。 圖15係顯示頂端噴嘴之其他結構例的剖面圖。 圖^6(a)、(b)係顯示本發明第u種實施升)態例之量測裝 置導管之流動振動抑制構造的重要部分結構剖面圖及Η線 箭頭觀察剖面圖。 圖17(a)〜(c)係顯示本發明第12種實施形態例之量測裝置 導管之流動振動抑制構造的重要部分結構剖面圖、ji—n線 箭頭觀察剖面放大圖及抽出延長管而顯示之】2方向箭頭觀 察放大圖。 圖18係顯示本發明第13種實施形態例之量測裝置導管之 流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖19係顯示本發明第14種實施形態例之量測裝置導管之 流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖20係顯示本發明第1 5種實施形態例之量測裝置導管之 流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖2〗(a)〜(d)係圖20之K】-K】線箭頭觀察剖面放大圖、圖 20之Κ2-Κ2線箭頭觀察剖面放大圖、從圖2〇抽出導管而顯 示之圖20的Κ3方向箭頭觀察放大圖及從圖20抽出導管而顯 l2938J.doc 9! 1354299 示之圖20的K4方向箭頭觀察放大圖。 圖22係顯示本發明第1 6種實施形態例之量測裝置導管之 流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖23係顯示本發明第17種實施形態例之量測裝置導管之 流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖24(a)〜(d)係圖23之L1-L1線箭頭觀察剖面放大圖、圖 23之L2-L2線箭頭觀察剖面放大圖、圖23之L3-L3線箭頭觀 察剖面放大圖及從圖23抽出導管而顯示之放大立體圖。 圖25(a)〜(c)係顯示本發明第丨8種實施形態例之量測裝置 導管之流動振動抑制構造的重要部分結構剖面圖、Μ1 -Μ 1 線箭頭觀察剖面圖及Μ2_Μ2線箭頭觀察剖面圖。 圖26係顯示本發明第丨9種實施形態例之量測裝置導管之 流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖27(a)〜(d)係圖26之Ν1-Ν1線箭頭觀察剖面放大圖、圖 26之Ν2·Ν2線箭頭觀察剖面放大圖、圖26之N3-N3線箭頭 觀察剖面放大圖及從圖26抽出導管而顯示之放大立體圖。 圖28係顯示本發明第2〇種實施形態例之量測裝置導管之 流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖29(a)〜(d)係圖28之〇1_〇1線箭頭觀察剖面放大圖、圖 28之0-02線箭頭觀察剖面放大圖、圖28之03-03線箭頭觀 察剖面放大圖及從圖28抽出導管而顯示之圖28的〇4方向箭 頭觀察放大圖。 圖30係顯示本發明第21種實施形態例之量測裝置導管之 流動振動抑制構造的結構剖面圖。 129381.doc -92- 1354299 圖31係圖30所示之頂端噴嘴的放大圖。 圖32-1係圖31之Q1-Q1箭頭觀察圖。 圖32-2係圖31之Q2-Q2箭頭觀察圖。 圖32·3係圖31之Q3-Q3箭頭觀察圖。 圖33· 1係顯示第21種實施形態例之第1種變形例的量測 裝置導管之流動振動抑制構造的說明圖。 圖33-2係顯示第21種實施形態例之第1種變形例的量測 裝置導管之流動振動抑制構造的說明圖。 圖3 3 -3係顯示第2 1種實施形態例之第1種變形例的量測 裝置導管之流動振動抑制構造的說明圖。 圖3 4係顯示第2 1種實施形態例之第1種變形例的量測裝 置導管之流動振動抑制構造具備的頂端噴嘴之結構剖面 圖。 圖35-1係圖34之R1-R1箭頭觀察圖。 圖35-2係圖34之R2-R2箭頭觀察圖。 圖35-3係圖34之R3-R3箭頭觀察圖。 圖36係顯示第21種實施形態例之第3種變形例的量測裝 置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖37係顯示第21種實施形態例之第4種變形例的量測裝 置導管之流動振動抑制構造具備的頂端嘴嘴之結構剖面 圖。 圖3 8係顯示本發明第22種實施形態例之量測裝置導管之 流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖39-1係圖38之S1-S1箭頭觀察圖。 12938I.doc •93- 1354299 圖39-2係圖38之S2-S2箭頭觀察圖。 圖39-3係圖π之S3-S3箭頭觀察圖。 圖40係顯示本發明第22種實施形態例之量測裝置導管之 流動振動抑制構造具備的套管之支撐構造立體圖。 圖4 1係顯示本發明第23種實施形態例之量測裝置導管之 流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖42係圖41之T1-T1箭頭觀察圖。 圖43係顯示本發明第23種實施形態例之量測裝置導管之 流動振動抑制構造具備的套管之支撐構造立體圖。 圖44-1係顯示第23種實施形態例之第1種變形例的量測 裝置導管之流動振動抑制構造的說明圖。 圖44-2係顯示第23種實施形態例之第1種變形例的量測 裝置導管之流動振動抑制構造的說明圖。 圖45係顯示第23種實施形態例之第2種變形例的量測裝 置導管之流動振動抑制構造的說明圖。 圖46係顯示第23種實施形態例之第3種變形例的量測裝 置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖47係圖46之U1-U1箭頭觀察圖。 圖48係顯示第23種實施形態例之第4種變形例的量測裝 置導管之流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖49-1係從核芯侧觀察第23種實施形態例之第4種變形 例的量測裝置導管之流動振動抑制構造的狀態平面圖。 圖49-2係從核芯側觀察第23種實施形態例之第4種變形 例的量測裝置導管之流動振動抑制構造的狀態平面圖。 129381 d〇c •94- 1354299 的量 S 0係顯示第23種實施形態例之第5種蠻 罟邋其〜 定升> 例 直守s之流動振動抑制構造的結構剖面圖。 圖5 1係顯不採用上部插入方式時之量測货班 狀態之概略圖。 置導管的 測裝 插入
129381.doc 【主要元件符號說明】 11 核反應器容器 12 核反應器容器蓋 13 核芯槽 14 上部核芯支撐板 15 上部核芯板 15a 開口部 16 下部核芯板 17 核芯 18 燃料集合體 19 核反應器容器入口喷嘴 20 核反應器容器出口喷嘴 21, 21A 上部核芯支稽'柱 21a 内部(支撐柱貫穿孔) 21al 第1支撐柱内空間 21a2 第2支撐柱内空間 21b, 21c 螺絲子L 22 套管 22a 下端部 22b 彎曲部 C -95- 1354299
23 24 25 26 27 27A 27B 27a 28, 28A, 28B, 28C,
28D, 28E 28a 28b 28b-l 28c 28c-l 29 30 31 32 33 34 35 36 37A 中子檢測器 電纜 上部空腔 下部核芯支撐板 導管 第1導管部 第2導管部 内周面 頂端噴嘴 插通孔 内周面 内周面之下端 外周面 外周面之下端 下部空腔 下部核芯支撐柱 腳部 頂部 套管支撐板 導管 螺帽 斜面 上部孔 129381.doc -96- 1354299
37B 下部孔 38A 上部定位器 38A-1 流通子L 38B 下部定位器 38B-1 流通孔 38C 定位器 38D 定位器 41 A 上部孔 41 A-l 擴寬部 41B 下部孔 41B-1 擴寬部 42A 上部壓力調整孔 42B 下部壓力調整孔 51 A 上部插塞 51A-1 上部壓力調整孔 51B 下部插塞 51B-1 下部壓力調整孔 61 壓力導入孔 71A 第1壓力導入孔 71B 第2壓力導入孔 81 節流部 91 護蓋 101 A 第1扎 101B 第2孔 129381.doc -97- 1354299 102, 103 子L 111 整流板 112 支撐構件 121 延長管 121a 子L 13 1 A-l 第1上部孔 13 1 A-2 第2上部孔 131B-1 第1下部孔 13 IB-2 第2下部孔 141 A 第1凸部 141B 第2凸部 141C 第3凸部 142 延長管 151 壓力導入管 161 凹部 171A,171B 連通孑L 172 邊界壁 181 A-l 第1上部孔 181A-2 第2上部孔 181B-1 第1下部孔 181B-2 第2下部孔 210a, 210b 側部孔 212 保持體内空間 213 關閉構件 12938 丨.doc ·98· 1354299
214 間隔片 215 冷卻材料堵住構件 215H 插通子L
216, 216A 多孔板 217 冷卻材料通過孔 280, 280E 頂端噴嘴貫穿孔 281 冷卻材料入口 282, 282c, 282E 入口側冷卻材料通路 283, 283E 出口側冷卻材料通路 284 冷卻材料出口 285 入口側密封部 286 出口側密封部 287 隔開構件 287η 隔開構件開口部 290 核芯側頂端噴嘴 300 量測裝置導管保持體 300Α 第1保持體 300Β 第2保持體 301 隔壁 301Α 第1隔壁 301Β 第2隔壁 303 冷卻材料導入口 304 冷卻材料流出口 S 間隙 129381.doc •99-
Claims (1)
- 十、申請專利範圍: 畺則裝置導管之流動振動抑制構造,其特徵為包 含:導官’其係設於介設於核反應器容器内之上部核芯 支撐板與上部核8板間的中空上部核芯支樓柱的内部了 及頂縞噴嘴’其係設於前述上部核芯支撐柱之下端;下 :部從上方向下方依序插通前述導管、前述頂端噴嘴及 前述上部核芯板之開口部,而插入核芯内,且形成下述 結構: 在則述導管侧面之至少下部設下部孔; 藉由該下部孔内側與外側之冷卻材料的壓力差,將前 述罝測裝置導管擠壓於前述導管的内周面。 2.如咕求項1之置測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 形成下述結構: 在前述上部核芯支撐柱之側面設壓力調整孔; 從别述導管之下端流入前述導管内之冷卻材料通過前 述量測裝置導管與前述下部孔之間的間隙’而從前述導 管之内側向外側流出後,通過前述壓力調整孔而從前 述上部核芯支撐柱之内側向外側流出。 3.種量測裝置導管之流動振動抑制構造,其特徵為包 3 .導g,其係设於介設於核反應器容器内之上部核芯 支撐板與上部核芯板間的中空上部核芯支撐柱的内部; 及頂端噴嘴,其係設於前述上部核芯支撐柱之下端;下 端部從上方向下方依序插通前述導管、前述頂端喷嘴及 則述上部核芯板之開口部,而插入核芯内,且形成下述 I29381.doc 1354299 結構: 在前述導管側面之上部與下部的2處設上部孔與下部 孔; 藉由此等上孔與下部孔内側與外側之冷卻材料的廢 力差,將則述置測裝置導管擠壓於前述導管的内周面。 如。月求項3之里測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 形成下述結構: 〃在岫述上u卩核芯支撐柱側面之上部與下部的2處設上 部壓力調整孔與下部壓力調整孔; 從則述導e之上端流入前述導管内之冷卻材料通過前 述量測裝置導管與前述上部孔之間的間隙,而從前述導 管之内側向外側流出’且通過前述上部壓力調整孔而 從則述上部核芯支撐柱之内側向外側流出; 從别述導官之下端流入前述導管内之冷卻材料通過前 述量測裝置導管與前述下部孔之間的間隙,而從前述導 管之内側向外側流出,且通過前述下部壓力調整孔,而 從則述上部核芯支撐柱之内側向外側流出。 如請求項2之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 刚述壓力調整孔係可裝卸地設於前述上部核芯支撐柱側 面的插塞孔。 6,如請求項4之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 前述上部壓力調整孔及前述下部壓力調整孔係可裝卸地 設於前述上部核芯支撐柱側面的插塞孔。 7.如請求項2之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 129381.doc 1354299 形成下述結構: 在比前述下部孔上方之位置,且前述導管之側面設壓 力導入孔; 從前述導管下端流入前述導管内之冷卻材料的一部分 通過前述壓力導入孔,而從前述導管之内側向外側流 出’且通過前述壓力調整孔,而從前述上部核芯支樓柱 之内側向外側流出。 8. 如請求項4之量測裝置導管之流動振動抑制構造其中 形成下述結構: 在前述上部孔與前述下部孔之間的位置,且前述導管 之側面設上側之第丨壓力導入孔與下側之第2壓力導入 孔; 從前述導管上端流入前述導管内之冷卻材料的—部分 通過前述第1壓力導入孔,而從前述導管之内側向外側 流出,且通過前述上部壓力調整孔,而從前述上部核芯 支撐柱之内側向外側流出; 從則述導管之下端流入前述導管内之冷卻材料的一部 分通過前述第2壓力導入孔,而從前述導管之内側向^ 側流出,且通過前述下部壓力調整孔,而從前述上部核 芯支撐柱之内側向外側流出。 Λ 9. 如凊求項8之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其 在前述第1壓力導入孔與前述第2壓力導人孔之Μ 置’且前述導管之内周面設有節流部。 10. 如請求項2之量測裝置導管之流動振動抑制構造其中 129381.doc 將從前述壓为##π _ 正孔奴出之冷卻材料導向下方的護蓋設 於:述上部核芯支撐柱之側面。 如請求項4之量測# 裝置導管之流動振動抑制構造,其中 “月】述下部屋力調整孔流出之冷卻材料導向下方的護 12 盍設於前述上部核芯支#柱之側面。 一種量測裝晋道^ $ > + 4 人. 導S之>/,L動振動抑制構造,其特徵為包 二管,其係設於介設於核反應器容器内之上部核芯 #板與上部核芯板間的中空上部核芯支樓柱的内部; "頁端噴嘴,其係設於前述上部核芯支撐柱之下端;下 :部從上方向下方依序插通前述導管、前述頂端喷嘴及 刖述上部核芯板之開口部,而插入核芯内,且 ^前述量測裝置導管之前述頂端喷嘴的内周面形狀 係倒载錐狀。 人里'則裝4導官之流動振動抑制構造,其特徵為包 導s,其係設於介設於核反應器容器内之上部核芯 支樓板與上部核芯板間的中空上部核芯支#柱的内部; 及頂端噴嘴’其係設於前述上部核芯支撐柱之下端. 端部攸%,下 _ 方向下方依序插通前述導管、前述頂端噴嘴及 月|J述上部核芯板之開口部,而插入核芯内,且 插通前述量測裝置導管之前述頂端噴嘴的外 係倒戴錐狀,且外周面之下端與内周面之下端連續。 人里'則裝置導管之流動振動抑制構造,其特徵為包 3 。導官,其係設於介設於核反應器容器内之上部核— 支撐板與上部核芯板間的中空上部核芯支撐杈的内部. '29381.doc 1354299 嘴’其係設於前述上部核 端部從上方向下枝序插通^ ^端,下 前述上部核芯板之開口部,而括導…述項端噴嘴及 結構: ^而插入核芯内’且形成下述 在前述頂端喷嘴之側面設孔; 藉由該孔内側與外側之冷卻材料的麼 測裝置導管㈣於前述頂端嘴嘴之内周面。將别迷置 K-種量測裝置導管之流動振動 二Π,其係設於介設於核反應器容…= =1、上部核芯板間的中空上部核芯 : 及頂端嘴嘴’其係設於前述上部核芯支揮柱之下:二 =:方向下方依序插通前述導管、前 嘴 :述上部核芯板之開口部,而插入核芯内,且構成: 在刖述上部核芯板之開口部設整流板; =由該整流板對通過前述上部核芯板之開口部的冷卻 部分加以整流,前述冷卻水之一部分朝向上方 /瓜入則述頂端噴嘴。 16 Α種::裝置導管之流動振動抑制構造,其特徵為包 5 S,其係設於介設於核反應器容器内之上部核芯 支樓板與上部核芯板間的中空上部核忠支標柱的内部P ::頁端噴嘴,其係設於前述上部核芯支撐柱之下端;下 2部從上方向下方依序插通前述導管、&述頂端喷嘴及 月.J述上部核芯板之開口部,而插入核芯内,且形成下述 129381.doc 1354299 結構: 在前述頂端噴嘴之下端設延長管, 且在該延長管之側面設孔; 藉由該孔内側與外側之冷卻材料的壓力差,將前述量 測裝置導管擠壓於前述延長管之内周面。 17.如請求項8之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其十 在前述第1壓力導入孔與前述第2壓力導入孔之間的位 置,將前述導管2分割成上側之第丨導管部與下側之第2 導管部,且前述第丨導管部之下端與前述第2導管部之上 端之間分離。 18.一種量測裝置導管之流動振動抑制構造,其特徵為包 含γ導其係設於介設於核反應器容器内之上部核芯 支撐板與上部核芯板間的中空上部核芯支撐柱的内部; 及頂端噴嘴,其係設於前述上部核芯支撐柱之下端;下 :P從上方向下方依序插通前述導管、前述頂端喷嘴及 前述上部核芯板之開口部,而插入核芯内,且 19. 前述量測裝置導管之形狀係波形狀,該波形狀之量測 裝置導管的各-曲部抵接於前述導管之内周面。 如咕求項1之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 形成下述結構·· ,μ〜丨〜。又做双刖遮下部孔, =在前述上部核芯支#柱之側面設壓力調整孔; 前述複數下部孔中任何〗個下部孔内側與外側 "料的壓力差’將前述量測裝置導管擠塵於前述 129381.doc 1354299 管之内周面; 從則述導官之下端流入導管内的冷卻材料通過前述複 數下部孔中夕A、χ. <别述1個下部孔以外的下部孔,而從前述 導e之内側向外側流出’且通過前述壓力調整孔,而從 ⑴述上。P核芯支撐柱之内側向外側流出。 20.如清求項3之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 形成下述結構: 在引述導官之側面的周方向設複數前述上部孔及下部 孔, 且在則述上部核芯支撐柱側面之上部與下部的2處設 上部壓力調整孔與下部壓力調整孔; 藉由則述複數上部孔及下部孔中任何1個上部孔及下 4孔内側與外側之冷卻材料的壓力差,將前述量測裝置 導管擠壓於前述導管之内周面; 從引述導管之上端流入導管内的冷卻材料通過前述複 數f部孔中之前述1個上部孔以外的上部孔,而從前述 導s之内側向外側流出,且通過前述上部壓力調整孔, 而從刖述上部核芯' 1樓柱之内側向外側流出; 從刚述導f之下端流入導管内的冷卻材料通過前述複 數:部孔中之前述丨個下部孔以外的下部孔,而從前述 導s之内側向外側流出,且通過前述下部壓力調整孔, 而從前述上部核芯支樓柱之内側向外側流出。 如《月求項2之里測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 於設於前述頂輯嘴下端之延長管之内周面或設於前述 12938l.doc 1354299 導管之内周面’或是設於前述延長管 管之内周面,設置使冷卻# 周面及則述導 孔之方向的凸部。 万向朝向月述下部 22. 如請求項4之量測裝置導管之流動振動 :!於前述頂端喷嘴下端之延長管之内周面或設於前: :管之内周面’或是設於前述延長管之内周面及前述i 官之=面,設置使冷卻材料之流動方向朝向前述上部 孔及剛述下部孔之方向的凸部。23. 如請求項2之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 在前述下部孔之相反側的位置,沿著前述導管之長度方 向設壓力導入管; ^ 使該壓力導入管内與前述導管内連通。 24. 如吻求項4之1測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 在刖述上部孔及前述下部孔之相反側的位置,沿著前述 導管之長度方向設壓力導入管; 使該壓力導入管内與前述導管内連通。 25. 如請求項23或24之量測裝置導管之流動振動抑制構造, 其中於前述頂端噴嘴之内周面形成連通於前述壓力導入 管内之凹部。 26. 如清求項23之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 將使前述壓力導入管内與前述導管内連通之連通孔設於 對應於前述下部孔的位置。 27. 如請求項24之量測裝置導管之流動振動抑制構造其中 將使前述壓力導入管内與前述導管内連通之連通孔設於 129381.doc 對應於前述上部孔與前述下部孔的位置。 28.如請求項23之量測裝置導管之流動振動抑制構造,立中 形成下述結構: 在前述導管之側面的周方向設複數前述下部孔; 藉由則述複數下部孔中任何1個下部孔内側與外側之 冷卻材料的壓力差,將前述量測裝置導管擠壓於前述導 管之内周面; "j述導S之下%流人導管内的冷卻材料通過前述複 數y部孔中之前述H@下部孔以外的下部孔,而從前述 導管之内側向外側浠屮,B、s、a Ae L出且通過刖述壓力調整孔,而從 前述上部核芯支撐柱之内側向外側流出。 29.如請求項24之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 形成下述結構: 在前述導管之側面的周方向設複數前述上部孔及前述 下部孔; 藉由别述複數上部孔及下部孔中任何丨個上部孔及下 P孔内側與外侧之冷卻材料的壓力差,將前述量測裝置 導管擠壓於前述導管之内周面; 從前述導管之上端流入導管内的冷卻材料通過前述複 數上„卩孔中之前述丨個上部孔以外的上部孔,而從前述 導官之内側向外側流出,且通過前述上部壓力調整孔, 而從别述上部核芯支撑柱之内側向外側流出; 從刖述導管之下端流入導管内的冷卻材料通過前述複 數下。卩孔中之前述1個下部孔以外的下部孔,而從前述 129381.doc 導g之内側向外側流出,且通過前述下部壓力調整孔, 而從則述上部核芯支撐柱之内側向外側流出。 種里測裝置導管之流動振動抑制構造,其特徵為包 含: ’ +上部核芯支撐柱,其係介設於核反應器容器内之上部 核芯支撐板與上部核芯板之間; 支撐柱貫穿孔,其係貫穿於前述上部核芯支揮柱之韩 方向,而與設於前述上部核芯板的開口部連通; 頂端喷嘴,其係設於位於核芯侧之前述上部核芯支樓 柱的端部; 頂端噴嘴貫穿孔’其係貫穿於前述頂端噴嘴之軸方 向,而與前述支撐柱貫穿孔連通; 量測裝置導管,其係插通於前述支樓柱貫穿孔虫前述 頂端喷嘴貫穿孔,並將—端部插人核芯内;及側部孔,其係設於前述上部核芯支_之側部,連通 前述支撐柱貫穿孔與前述上部核芯支樓柱之外部· =由前述頂端喷嘴之開口部中的冷卻材料與前述側部 孔1 卜側之冷卻材料的壓力差,將前述量測裝置導管擠壓 於前述頂端噴嘴的内周。 儿如請求項30之量測裝置導管之流動振動 包含: 故八T 冷卻材料入口,其係設於前述 .,、 只味育嘴之核芯側,蔣 前述冷卻材料導入前述頂端噴嘴貫穿扎及 冷卻材料出口,其係設於前述 貝鲕噴嘴之前述上部核 129381.doc -10- 芯支標柱側, ’且相對於前述頂端喷嘴之軸相反之側,使 导入月y述頂端啥I 4 戈嘴貫穿孔之前述冷卻材料向前述支撐柱 貝穿孔流出。 32.如請求項3〇夕旦、 八別訝 里剩裝置導管之流動振動抑制構造,其中 ^ 複數則述冷卻材料入口及前述冷卻材料出口。 3 3 .如清求項3 〇 旦 A 里硎裝置導管之流動振動抑制構造,其中 一:述頂端噴嘴之内部設入口側冷卻材料通路,其係與 ::述冷部材料入口連通,且從前述支撐柱貫穿孔側向核 與前述頂端嘴嘴之軸正交的剖面之開口面積 變大。 34.:請求項30之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 引述頂端喷嘴之核芯側的内面係從前述上部核芯支撐柱 側向核芯側之前述頂端喷嘴的端部,與前述頂端喷嘴之 轴正交的剖面之開口面積變大。 嘴 3 5.如清求項3 〇之量測|菩道成>、士 ^ 、 〜裒置導管之流動振動抑制構造,其中 前述頂端嗔嘴包含: 〃 量測裝置導管保持體,其係配置於前述量測裝置導管 之外周部; 喷嘴内空間,其係今A义、+•曰 货”又於削述量測裝置導管保持體之 側; 隔壁「其係設於前述頂端嗜峻& & μ β ^ 螨噴嘴内空間之内面與前述量 測裝置導管保持體之間,骑^ 間將則述噴嘴内空間劃分成前述 冷卻材料入口側與前述冷卻材料出口側; 冷卻材料導入口,其係μ ^ 係叹於别述量測裝置導管保持體 129381.doc -11 . 1354299 之外周部,與劃分之 空間連通;及 冷卻材料流出口, 之外周部,與劃分之 空間連通; 月’j述冷卻材料入口側之前述喷嘴内 #係設於前述量測裝置導管保持體 月'J述·冷卻材料出口側的前述喷嘴内 劃分之前述冷卻姑祖 何料入口側的前述喷嘴内空間與前述 冷卻材料入口連诵, 里J刀之前述冷卻材料出口侧的前述 喷嘴内空間與前述冷卻材料出口連通。 3 6.種量測裝置導管之流動振動抑制構造,其特徵為包 含: 上部核忠支撐柱,其係介設於核反應器容器内之上部 核芯支撐板與上部核芯板之間; 支樓柱貝穿孔,其係貫穿於前述上部核芯支撐柱之轴 方向,而與設於前述上部核芯板的開口部連通; 里測裝置導管,其係插通於前述支撐柱貫穿孔,並將 一端部插入核芯内; 側部孔,其係設於前述上部核芯支撐柱之側面,連通 刖述支撐柱貫穿孔與前述上部核芯支撐柱之外部; 冷卻材料堵住構件,其係形成使前述量測裝置導管插 通之插通扎,並且設於比前述支撐柱貫穿孔内之前述側 部孔更上部核芯支撲板側,堵住流經前述支樓柱貫穿孔 内之冷卻材料; 量測裝置導管保持體,其係配置於前述量測裝置導管 與前述支撐柱貫穿孔之間,且比前述冷卻材料堵住構件 129381.doc -12- 1354299 更核芯侧; 隔壁’其係設於前述支撐柱貫穿孔與 管保持體之間’且比前述冷卻材料堵住 將前述支撐柱貫穿孔之内部劃分成設有 的空間與不設有前述側部孔之側的空間 冷卻材料導入口’其係遠通治·、+.y , 連通不6又刖述側部孔之側的空 間與前述量測裝置導管保持體之内部;及冷卻材料流出Π ’其係連通設有前述側部孔之側的空 間與前述量測裝置導管保持體之内部; 藉由存在於設有前述側部孔之側的空間之冷卻材料與 存在於不設有前述側部孔之側的冷卻材料之壓力差,將 前述量測裝置導管擠壓於前述量測裝置導f保持體的内 周。 37·如請求項36之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 在核芯側之前述隔壁的端部包含曲面。w述量測裝置導 構件更核芯側, 前述側部孔之側 38. 如請求項36之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 在核芯側之前述量測裝置導管保持體的端部包含曲面。 39. 如請求項36之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其令 在核芯側之前述支撐柱貫穿孔的内面形成漏斗口狀。 40. 如請求項36之量測裝置導管之流動振動抑制構造其中 在核心側之前述上部核芯支撐柱的端部設有關閉構件, 其係堵塞設有由前述隔壁所劃分之前述側部孔之側的空 間。 4 1.如咕求項36之量測裝置導管之流動振動抑制構造,其中 129381.doc 1354299 在前述支壯貫穿孔之核芯側設有冷卻材料整流機構, 其係對向前述支#柱貫穿孔流人之前述冷卻材料整流。 42·如請求項36之量測裝 前述―一係朝::=!構造’其中 支㈣的端部,與前述上部二=之:述亡部核芯 開口面積逐漸變大。 牙之軸正父的剖面12938 丨.doc -Η·
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