TWI334040B - Exposure apparatus for manufacturing liquid crystal display device - Google Patents

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TWI334040B
TWI334040B TW094145273A TW94145273A TWI334040B TW I334040 B TWI334040 B TW I334040B TW 094145273 A TW094145273 A TW 094145273A TW 94145273 A TW94145273 A TW 94145273A TW I334040 B TWI334040 B TW I334040B
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Min Kwak Sang
Woo Seo Jin
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Lg Display Co Ltd
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Description

98. 7. 〇 1334040 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種用於製造液晶顯示器之曝光裝置，特別係關 於一種用於對液晶顯示器之液晶裝置的基板，進行曝光程序之 曝光佈局。 φ 【先前技術】 一般而言，用於製造液晶顯示器之曝光裝置的曝光單元，係提 供用於進行曝光程序，其中所述曝光程序係在提供具預定模型 之光罩之後’對塗佈光阻钱刻劑的玻璃基板照射紫外線。在進 行曝光程序之前，玻璃基板將塗佈單元卸除以便塗佈上光阻蝕 刻劑。此時，在塗佈單元祕料元之間具有複_機械手臂 與輸送帶，用以輸送基板。 • 帛1關齡f知技娜光佈錢圖。麵絲局說明將 玻璃基板輸送至曝光單元的連續程序。 如第1圖所不’習知技術曝光佈局係由穿越輸送帶u，u、溶 劑移除單元20、溫度降低單元3〇、進出控制單元4〇’、序號^ 50、緩衝β 60與複數個機械手臂71、乃、所組成。 同時，該穿越輸送帶11係用於裝載基板，而該穿越輸送帶12 係用於來卸除基板。 之後，由塗佈機2塗佈上光随刻劑的基板從穿越輸送帶U被 6 1334040 98. 7. 6 輸送至溶劑移除單元20。溶劑移除單元2〇將塗佈有光鋪刻 劑的基板移轉賴。溶歸除單元2()㈣具有鱗熱板(聊) 之爐子所製造而成。之後，溫度降低單元30係由冷板(〇>)所製 造而成，用於降低卸除自軟烤熱板卿⑽的基板的溫度。進 出控制單元40改變基板的進行方向，使其提供基板至下個程 序。 機械手臂、72及73放置於各個元件之間，枝舰及卸除 基板。同時，機械手臂係由第—機械手臂7卜第二機械手臂72 與第三機械手臂73所組成。 第機械手#71接收自塗佈機2其表面塗佈有光阻姓刻劑的基 板’再將基板輸送至穿越輸送帶u。第一機械手臂71係提供 ;丨於塗佈機2與穿越輸送帶11的基板卸除面之間。 第二機械手臂72接收卸除自穿越輸送帶11的基板，再將基板 輸送至軟烤_(SHP)20。此外’第二機械手臂72接收自軟烤 熱板(SHP)20的基板，再將基板輸送至溫度降低單元3〇。進一 步來說’第二機械手臂72接收自溫度降低單元3〇的基板，再 將基板輸送至進出控制單元4〇。 同時，軟烤熱板(SHP)20置於穿越輸送帶u的基板卸除面。第 二機械手臂72置於軟烤熱板(SHP)20、溫度降低單元30與進出 控制單元40之間，以便輸送基板至個別元件20、30、40。 第三機械手f 73接收自進出控鮮元40的基板，再將基板輸 7 98. 7. 6 送至*光單兀3。在完成曝光程序之後，基板由第三機械手臂 73輸送至進出控制單元40。 此日守’第二機械手臂73置於序號機％、緩衝器⑼、曝光單元 3魏出㈣單元4〇n便可選馳地將基板輸送至侧 元件 50、60、3 與 40。 在進行曝光程序前，基板被第三機械手臂73輸送至序號機5〇， 以便為各基板製造出辨識卡ID。 緩衝6G㈣卡if形成，可暫軸存要被輸送至下個程序的基 板。亦即，具備辨識卡的基板由第三機械手臂73輸送至缓衝器 60，以便暫時將基板儲存於曝光單元3前。 二門未°兄明的疋件符號4係—真空乾燥VCD，在低真空狀 〜π將卸除自塗佈機2的基板之塗佈層弄乾。此時，4與 軟烤熱板(SHP)2G置於鮮機送帶η平行之位置。 接下來，依據習知技術由曝光佈局對基板進行曝光程序之方法 將在以下進一步作說明。 首先，在基板藉由塗佈機2塗佈上光_刻劑之後，基板由第 機械手# 71輸送至VCD 4。在完成於VCD 4的基板的加工 知序之後，基板由第-機械手臂^輸送至穿越輸送帶叫叫。 第-機械手# 72接收自穿越輪送帶u的基板再將基板輸送 至軟烤,，，、板(SHP)(S2)。軟烤熱板(SHp)2〇將基板的溶劑移除。 在將基板的钟丨雜之後’基板錄烤熱邮間％卸除㈣， 1334040 98. 7. 6 再將基板由第二機械手臂72輸送至溫度降低單元3〇。藉由溫 度降低單元30降低基板溫度之後，基板從溫度降低單元％卸 除(S4) ’然後由第二機械手臂72輸送至進出控制單元仙⑻）。 此時，進出控制單元4〇改變經由全方位的第二機械手臂π所 輸送的基板之位置。接著，第三機械手臂73接絲板，使其由 進出控制單元4G來改置(S6)，絲再將紐輸送至序號機 50。
序號機5〇為個別的基板組成ID。之後，具有1〇的基板從序號 =〇卸除㈣’再由第三機械手臂73輸送至曝光單元3(s9)。 若是曝光單元3處於工作模式，第三機械手臂B輸送基板至緩 衝器60，以便讓基板能暫時儲存在緩衝㈣内(s8)。此時，因 為曝光程賴要姆讀長的_，基姉_存在緩衝器6〇。 在完成基板_絲序之後，姆光單元卸除縣板經由第三
機械手臂73輸送至糾控辦元4G_)，也觀至穿越輸送 帶 12(S11)。 在習知技娜讀射，即韻提_溫度降低單元在裝載其 板至曝光單元3前能·基板的溫度，要對每個基板維持最: 部分的溫度亦非常困難。 基板的溫度的調節對整個曝光佈局來進行，或對進出控制單元 的部分來進行，第三機械手臂73與緩衝⑽_額外的密 I間5其_果讓想對每個基板調節域確溫度成為不可能。 9 1334040 98. 7. 6 若是基板祕絲辆未Μ備射溫度，基板的尺寸大小將 因溫差而有所改變。其結果恐讓麟料的位置出現不正確， 因而造成瑕疵產品。 此外，第三機械手臂73每個週期情基板進行八次輪送。因 此，每個週期的製程時間提高了。 為了降低每個週期的製程時間，用於提供額外機械手臂之另— 柄被建議了。在_巾，為額外的機械手臂及整個佈局長度 提供空間係免不了，·具有“面積及整_局增加長度之 問題。進-步來說，為曝光佈局來增加廠房有其必要性。又 【發明内容】 因此’本發明係關於製造液晶顯示器之曝光裝置的曝光佈局， 大體上避免由習知技術限制與缺點所產生的—個或多個問題。 本發明的主要目的在於提供—種用於製造液晶顯示器之曝光裝 置的曝光佈局節基板在曝絲料的適當溫度，以減少 製程時間及縮小台面面積。 本發明另一優點、目標及特色將在以下作進一步描述，讓在該 項領域熟知-般技術之人可以從實行本發明中進行檢視或可從 中學到該項技術。本發明的多個目標及其他優點，可從下列描 述中特別提到之結構及其所附圖式與相關權利主張得到理解與 1334040 98. 7. β 為了達到這些目標與其他優點及其目的，如在此處所具體及概 . 括地描述’製造液晶顯示器之Φ光裝置包含：穿越輸送帶，用 . 於輸送基板；第一機械手臂，安置在穿越輸送帶的基板裝載面， 用於接收㈣有光阻__基板，並輸送基板至穿越輸送 帶；軟烤熱板(SHP) ’安置在穿越輸送帶的基板卸除面，用於將 基板的溶劑移除；冷板(CP)，用於降低已移除掉溶劑的基板的 、溫度’·緩衝H ’用於暫時儲存具低溫度的基板；第二機械手臂， •安置在穿越輸送帶 '軟烤熱板_)、冷板(CP)與緩衝器的基板 職面之間’聽賴與雜板；溫度_單元，用以調 節自緩衝器卸除的基板的溫度；曝光單元；第三機械手臂，安 置在緩衝器的基板卸除面、溫度控制單元與曝光單元之間，用 於裝載與/或卸除基板。 前面關於本發明—般性描述及下面較詳盡之描述，如所主張之 申請專利範圍作示範及解釋以提供進—步的說明。 【實施方式】 本發明之較佳實_將搭配圖式及例子输詳細之解釋。無論 ，何處’在各_式裡職可驗用相同代表符絲標示相同 或相似部分。接下來，依據本發明製造液晶顯示 將搭配所關式作贿。 4襄置 第2圖係顯示本發明第-實施例曝光佈局的方塊圖。 11 1334040 ★ / · 如第2圖所不，本發明第一實施例曝光佈局主要元件係提供： 牙越輸送帶100、第一機械手臂71〇、第二機械手臂72〇、第三 機械手臂730、軟烤熱板(SHP)(溶劑移除單元)2〇〇、冷板 (CP)300、緩衝器6〇〇、溫度控制單元8〇〇與曝光單元3。 穿越輸送帶100輸送塗佈有光阻姓刻劑的基板。此外，第一機 械手臂710、第二機械手臂72〇與第三機械手臂73〇裝載與/或 卸除基板。軟烤熱板(SHP)200將塗佈有光阻賴劑的基板移除 掉溶劑。之後，冷板(CP)300接收已移除掉溶劑的基板，再降低 基板的溫度。之後，緩衝器_在對基板進行曝光程序前，暫 時儲存具低溫度的基板。 在習知技術中，緩衝器使朗—面來錄與卸除基板。然而， 在本發明中’緩衝H 600分別具有一基板裳載面61〇與一基板 卸除面620。特別地，該緩衝器㈣的基板褒載面61〇係垂直 於緩衝器600的基板卸除面620。 溫度控制單it麵從緩衝器600接收基板，依曝光程序來調節 基板的溫度。溫度控制單元_在對基板進行曝光程序前，正 確地控制基板的溫度。因此，進行精確的曝光程序，並避免出 現由基板變形所造成的瑕疲曝光程序係可能的。 在提供具預定翻之光罩於塗佈有姐_歉後，曝光單元 3對基板照射紫外線。 在本發明第-實施例的上述曝光佈局，除了緩衝器咖外，宜 12 1334040 98. 7. β 餘元件或結構皆相似於習知技術曝光佈局。此外，在本發明第 一實施例曝光佈局具有額外的溫度控制單元8〇〇，而沒進出控 制單元。 特別地，在本發明第一實施例中，其曝光裝置内的元件安置不 同於習知技術在曝光裝置内的元件安置。 接下來，在本發明第一實施例中的曝光裝置内的元件安置將會 洋盡地作描述。 # 首先，在穿越輸送帶湖祕板裝載面提供第-機械手臂71〇。 在穿越輸送帶100的基板卸除面提供軟烤熱板(SHp)2〇〇。 從水平方向來看，軟烤熱板(SHP)綱與穿越輸送帶剛係排列 如兩平行列。意即，如第2圖所示，從水平方向來看，軟烤熱 板(SHP)2〇〇係位於穿越輸送帶1〇〇的基板卸除面。此外，真空 乾燥單元VCD(加工單元）4沿著程縣行方向，餘於軟烤熱 板(SHP)200前方。 _ 在塗佈機2的基板上形成一塗佈層之後，VCD4在低真空狀態 下將自塗佈層2所卸除的基板的塗佈層弄乾並進行加工。 第二機械手臂72G係位於穿越輸送帶1〇〇及軟烤熱板(SHP)200 之後面。此外，從水平方向來看，冷板(cp)3〇〇係位於第二機械 手臂的上方。 溫度控制單元_與冷板(〇>)係湖如兩平行列。 第三機械手臂730係位於緩衝器_的基板卸除面、溫度控制
單元800及曝光單元3之間。 特別地，從水平方向來看，第一機械手臂彻、穿越輸送帶⑽、 第二機械手臂720與緩衝器㈣係沿著一條線依序排列。此外， 溫度控制單元_、第三機械手臂73〇與曝光單元3係沿著一 條^直線依序排列。從水平方向來看，第三機械手臂係位於緩 衝益_的上方。此時，緩魅_的基板裝載面610係位於 第二機械手臂720的相對面，而緩衝器_的基板却除面62〇 係位於第三機械手臂730的相對面。 此外’從水平方向來看’序號機5〇〇係位於第三機械手臂 的上方。意即，序號機500、第三機械手臂730與緩衝器60〇 係沿著同一垂直線依序排列。 在本發明第一貫施例曝光佈局裡，在完成曝光程序之後於適當 位置提供序號機5〇〇將基板輸送至下一個程序。 種用於進行本發明第一實施例所提出之曝光佈局的方法將於 下面進行說明。 塗佈機2内的基板在塗佈上光阻餘刻劑之後，基板被輸送至第 一機械手臂710。第一機械手臂710將塗佈有光阻蝕刻劑的基 板輸送至VCD 4。在基板完成加工之後，基板由第一機械手臂 71〇輸送至穿越輸送帶l〇〇(S21)。 然後’從穿越輸送帶100所卸除的基板由第二機械手臂72〇輸 送至軟烤熱板(SHP)2〇〇(S22)。該軟烤熱板(SHP)200將基板的溶 1334040 9β. 7. 6 劑移除。接著’基板自軟烤熱板(SHP)2〇〇卸除(S23)，再由第二 機械手臂720輸送至冷板(cp)3〇〇。在冷板(CP)3〇〇的基板的溫 - 度降低之後，基板從冷板(CP)300卸除(S24)，再將基板由第二 機械手臂720輸送至緩衝器6〇〇(S25)。 之後，基板暫時儲存在緩衝器600内，且從緩衝器6〇〇卸除 (S26)，再由第三機械手臂73〇輸送至溫度控制單元8〇〇(S27)。 此時，溫度控制單元8〇〇依曝光程序適當調節基板的溫度。如 # 此，基板的溫度依曝光程序進行調節。 在調節溫度控制單元800的基板的溫度之後，基板由第三機械 手臂730從溫度控制單元800卸除，然後再將基板由第三機械 手臂730輸送至曝光單元3(S28)。在完成曝光程序之後，基板 裳載至序號機500。接著’在基板從序號機5〇〇卸除之後(S29), 將基板輸送至下個程序。 若是曝光程序處於工作狀態，第三機械手臂73〇停止基板卸 • 除。若是曝光程序停止，第三機械手臂730重新開始從緩衝器 6〇〇裝載基板。 在此期間，用於曝光佈局的元件也許可用不同方法來安置。 意即，另一具有不同安置之緩衝器6〇〇的曝光佈局、冷板(cp)3〇〇 與溫度控制單元800也可提供。 第3圖係顯示本發明第二實施例曝光佈局的方塊圖。 在本發明第二實施例曝光佈局裡，如第3圖所示，從水平方向 98. 7. β 來看，第-機械手臂爪、穿越輸送帶廳、第二機械手臂72〇 與冷板(CP)300係沿著一列依序排列。此外，溫度控制單元· 與冷板(CP)300係以拼列成兩平行列來提供 。此外，緩衝器600、 第機械手’ 730與曝光單元3係沿著一條線依序排列。從水 平方向來看〜皿度控制單元_與第三機械手臂别係排列在 同-垂直線上。意即，從水平方向來看，第三機械手臂别係 位於溫度㈣單元_ ±方。同時，緩衝器_與第二機械手 臂720係排列在同一垂直線上。意即，從平面的角度來看，緩 衝器600係位於第二機械手臂72〇上方。 在程序上’用於進行本發明第二實施姆光佈曝光程序之 方法係相同於用於進行本發明第一實施例曝光佈局的曝絲序 之方法。 如上所述，本發明較佳實施例的曝光佈局具有以下優點。 在本發8驗佳實施例曝光佈局巾，基板的溫度在賴基板前依 曝光單7〇進行調節。因此’縮小基板的瑕邮絲可能的。 特別地，第三機械手臂每個週期進行六次輸送。意即，減少每 個週期的製程時間，而無須額外的機械手臂係可能的。 此外’緩衝器在不同方向上具有基板裝載面與基板卸除面。結 果’縮小台面面積及整個佈局的長度係可能的。 明顯地’在不違背本發明創作精神及權利範圍下，任何對本發 明的修改與變化皆可被實行的。因此，本發明所涵蓋的範圍包 1334040 含權利範圍 化。 98. 7·技、 所主張的附屬項及其等效項所作的任何修改與變 【圖式簡單說明】 下面各附Β涵蓋在本申請射，亦包含本申請_部份用以提 供更進一步的解說’配合相關文字描述來對本發明之主要原理 作說明。 第1圖係顯示習知技術曝光佈局的方塊圖。 第2圖係顯示本發明第一實施例曝光佈局的方塊圖。 第3圖係顯示本發明第二實施例曝光佈局的方塊圖。 【主要元件符號說明】 2塗佈機 3曝光單元
4 VCD s密閉空間 11穿越輸送帶 1334040 98. 7. 8 12穿越輸送帶 20溶劑移除單元，軟烤熱板(SHP) 30溫度降低單元 40進出控制單元 50序號機 60緩衝器 71第一機械手臂 72第二機械手臂 73第三機械手臂 100穿越輸送帶 200軟烤熱板(SHP)(溶劑移除單元) 300 冷板(CP) 500序號機 600緩衝器 610基板裝載面 620基板卸除面 710第一機械手臂 720第二機械手臂 730第三機械手臂 800溫度控制單元 18

Claims (1)

1334040
申請專利範圍 •種製造液晶顯示器之曝光裝置，包含： 一穿越輸送帶’用於輸送基板； 一第一機械手臂，安置在該穿越輸送帶的基板裝載面，用於 接收塗佈具有光阻餘刻劑的基板，再將基板輸送該穿越輸送 帶；
-It烤熱_HP)’安置在該穿越輸送帶的基板絲卸除面， 用於將基板的溶劑移除； 冷板’用於降低瓣掉溶劑^^板的溫度； 一緩衝11，具有分概置的-絲顏面以及-基板卸除面 以暫時儲存已降低溫度的基板； 々機械手置在該穿越輸送帶、該軟烤熱板(S册）、 該冷板與魏衝H的職錄細U於錢與/或却除
啦，顺銳咖卸除縣板的溫度； 曝光早7G ;以及 -第三機械手臂，安置在該緩衝騎基板卸除面、該溫产控 =讀該縣單元之間，胁域與/麵除基板，U “中該第-顧手臂、該穿越輸 緩衝器從水平方向㈣H 糾―顧手臂與該 元、該第：舰^ 該溫度控制單 直線排H第二機^光單元從水平方_係沿著一 機械手#與該緩衝器係排列在同-垂直線 19 上；以及所述冷板與該第二機械手臂係排列在同一垂直線上。 2. 依據申請權利範圍第1項所述製造液晶顯示器之曝光裝置， 其申所述軟烤熱板(SHP)與該穿越輸送帶從水平方向來看係 排列如兩平行列。 3. 依據申請權利範圍第1項所述製造液晶顯示器之曝光裝置， 其中所述冷板與該第二機械手臂從水平方向來看係排列同一 垂直線上，而該溫度控制單元與該冷板係排列如兩平行列。 4. 依據申請權利範圍第丨項所述製造液晶顯示器之曝光裝置， 其中所述曝光裝置進一步還包括和該緩衝器處於相對立位置 且與§亥第二機械手臂處於同一垂直線上的序號機。 5· —種製造液晶顯示器之曝光裝置，包含： 一穿越輸送帶，用於輸送基板； -第-機械手臂’安置在該穿越輸送帶絲板絲面，用於 接收塗佈具有光阻蝕刻劑的基板，再將基板輸送該穿越輸送 帶； -軟烤熱板(SHP),置在該轴輸送帶絲板絲卸除面， 用於將基板的溶劑移除·， 一冷板，用於降低已移除掉溶劑的基板的溫度； 一缓衝斋’具有分別設置的一基板裝載面以及一基板卸除面 以暫時儲存已降低溫度的基板； 一第二機械手臂’安置在該穿越輸送帶、絲烤熱板(SHP)、 該冷板與該緩衝器的該基板裝載面之間，用於裝载與/或卸除 基板； 咖度控制單元，用於調節從該緩衝器卸除的基板的溫度； —曝光單元；以及 第二機械手臂，安置在該緩衝器的基板卸除面、該溫度控 制單70與該曝光單元之間，用於裴载與/或卸除基板， /、中所述第—機械手臂、該第二機械手臂與該冷板從水平方 向來看係/。著—條線排列，該溫度控制單元與該冷板係排列 、兩平行列，該緩衝器、該第三機械手臂與該曝光單元從水 平方向來看係沿著-條線依序排列；以及該溫度控制單元與 該第三機械手臂係排列在同一垂直線上。 6. 依财請侧翻第5項所職造液晶顯示器之曝光裝置， 其中所述緩衝器與該第二機械手臂係排列在同一垂直線上。 7. 依據申請_範圍第丨項或第5橋職造液晶顯示器之曝 光裝置’其中所述缓衝器的基板裝載面係垂直於該緩衝器的 基板卸除面。 8. 依據巾請糊範㈣5項所述製造液晶顯示器之曝光裝置， 其中所述軟烤熱板(SHP)與該穿越輸送帶從水平方向來看係 排列如兩平行列。 21
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