TWI327113B - Nozzle cleaning apparatus - Google Patents

Description

1327113. 九、發明說明： • 【發明所屬之技術領域】 本發明之主要目的在於提供一種喷嘴清潔裝置，特別是 一種液晶顯示器電路陣列光阻塗佈製程使用之脊型喷嘴 之喷嘴清潔裝置。 φ 【先前技術】 液晶顯示器（Liquid Crystal Display，LCD)廣泛應 用在電腦、電視、以及行動電話等各種電子產品上。液晶 顯示器之電路陣列（aiTay) 顯示$重要組成元件 之。液晶顯示器之電路陣列之生產良率直接影響液晶顯 示器之效能與製造成本。 在製造液晶顯示器之電路陣列的過程當中常見的光阻 、塗佈方式之-，包含以脊型喷嘴將光阻喷出，並塗佈於基 板上。由於在喷出過程中會有部分光阻殘留於脊型噴嘴的 表面，當殘留之光阻累積至一定程度後會滴落而形成基板 上之膠狀物（Gel)，使得生產良率下降。因此，會使用嘴 嘴/猶裝置清潔脊型噴嘴之表面，以避免光阻於脊型喷嘴 之表面累積而低落形成膠狀物。 如圖1及圖2所示之習知技術，使習知技術之喷嘴清 潔裝置10對脊型喷嘴90進行清潔時，清潔件51係上^ 至與脊形喷嘴90表面接觸。當承載裝置53隨著座體3〇 6 1327113. /

&脊線方向2GG移動時，承餘置53上之清潔件5ι亦隨 ^動。由於清潔件51係與脊形喷嘴9〇表面接觸，因此， 清潔件51在移動的同時可將脊形噴嘴90表面之光阻刮 除’以達到清潔脊型喷嘴90之目的。然而，清潔件51在 脊形喷嘴9G表面移動的過程中，會與脊形喷嘴如表面摩 擦而產生雜震動。因此，承载清餅5丨的轉裝置Μ 曰相對於座體30產生橫移方向400之震動偏移，使清潔 件51與脊树嘴9G表面之接觸不完全，造成清潔效果下 降以上所述噴嘴清潔襄置之設計有改進的空間。 【發明内容】 本毛明之主要目的在於提供—種喷嘴清潔裝置，供與一 脊形喷嘴配合制，可提升脊対叙清潔度。 本發明之另-目的在於提供—種噴嘴清潔裝置，供與一 脊形喷嘴配合使用，可提高生產良率。 以可嘴清雜置包含座伽騎雜置。座體係 於脊5噴嘴之=動之方式設置。其中’脊線方向係平行 以 潔裂置包含承餘置、清潔件、 位 移之方式設置。。錢裝置細可姆麵有橫移方向 清潔件係以可與脊形喷嘴表 裝置相對於座體之另m、^<方以置於承载 ^ ，、中〉月泳件係可相對座體有上 頂方向之位移。清潔件較佳你 佳係使用發膠，亦可使用橡膠。 7 —彈性裝置’細可提供沿橫移方向之彈力之方 承载裝置設置於承餘置與越之間。第—彈㈣置去 係為彈簧，亦可使用彈性橡膠、彈性片材等可於^ 生形變之物件。 蚪產 —横移方向魅直於上頂方向。橫移方向係與脊線方向夹 -夾角。夾角之角度係為45、135。，且較佳係為9(Γ。 【實施方式】 本發明係提供-種喷嘴裝置及其喷嘴清潔裝置。以較佳 實施例而言，树°牒置及㈣清潔裝置健用於製造液 晶顯示ϋ電路陣列之光阻塗佈製程中所使用之脊型喷嘴 及其喷嘴清裝置。然*在不同實施例巾，此噴嘴清潔裝 置亦用以清潔在製造不同電子產品電路陣列之不同製程 中所使用之脊型噴嘴。 <如圖3及圖4a所示之實施例，喷嘴清潔裝置1〇〇係與 脊形噴嘴900配合使用。喷嘴清潔裝置100包含座體30〇 以及清潔裝置5〇〇。脊型喷嘴900具有脊線91〇，座體3〇〇 係以可沿脊線方向200移動之方式設置。其中，脊線方向 200係平行於脊形噴嘴900之脊線910。在較佳實施例中， 座體300可藉由連接件330與導軌310連接，並由一驅動 裝置驅動而沿導轨310移動。導軌310係以平行於脊線910 之方式設置。 如圖3及圖4a所示之實施例，清潔裝置5〇〇包含承載 裝置530、清潔件51〇以及第一彈性裝置71〇。承載裝置 530係以可相對座體咖有橫移方向·位移之方^設 置。在較佳實施射，承載裝置53〇係為中空且具有開: 之矩形物件，並套設於座體·上。承載裝置53〇清潔件 510係以可與脊形喷嘴_絲接觸之方式設置於承載裝 置530相對於座體3〇〇之另侧。其中，清潔件51〇係可相 對座體300在上頂方向6〇〇產生往復之位移。第—彈性裝 置710係以可提供沿橫移方⑽〇之彈力，並相對承載裝 置530設置於承餘置53〇與座體3〇〇之間。在較佳實施 例中，清潔件51〇係為石夕膠。然而在不同實施例中，清潔 件510亦可為橡膠、海綿等具有彈性之材質。 在如圖4b所示之不同實施例中，可進 置咖於承餘細與細⑽之間設置嶋置1 戶 == 咸承载裝置53〇因為第一彈性裝置71〇提供之彈力 生相對座體300在橫移方向4〇〇之往復位移。 =:圖4a所示之實施例，橫移方向棚係垂直於 頂方向_，橫移方向働係與脊線方向細夹一夹角 ^夾角τ之角度係為45。_135。，且較佳 係與行清跡清潔件510 、儿太Μ 接觸备承载裝置530隨著座體300 =向：，承载裝置咖上之清潔㈣亦 件510係與脊形喷嘴_表面接觸， 在移動的同時可將脊形喷嘴_表面包 t:在内之噴出殘留物刮除’以達到清潔脊型嘴嘴麵 清潔件510歸形喷嘴_表面移動的過程中合 形噴嘴_表面摩擦而產生摩擦震動。因此，承載产 51〇的承載裝置530會相對於座體產生橫移方向牙棚 之震動偏移。由於設置於承載裝置53〇與座體卿 第彈性裝置710可提供沿橫移方向棚及轉動方向^之 ^ „故可藉由第—彈性裝置71G之設置減少或減緩承載 裝置530相對於越3〇〇產生橫移方向棚及轉動方向θ 2震動偏移，使清潔件51〇在脊形喷嘴咖表面移動時與 4形喷嘴9GG |面之接觸更為完全，以提升清潔脊形嘴嘴 900表面的效果，進一步提高生產良率。 在較佳實施例中，第一彈性裝置710係為彈簧。然而在 不同實施例中，第-彈性裝置71〇亦可使用其他可於受力 時產生形變之物件’包含彈性橡勝及彈性>{材等。此處所 言之形變係包含壓縮、拉伸、以及料等方式的形變。 第彈I·生裝置71〇之數量及設置位置可依需求而不同。 在如圖3所示之實施例中，第―彈性裝置别係相對於座 體300以‘移方向4〇〇分別設置一組於承載裝置$別與座 體300之間。在如圖5a所示之較佳實施例中，第一彈性 裝置710係相對於座體3〇〇以橫移方向4q〇分別設置二組 =承载裝置530與座體3〇〇之間。在如圖北所示之不同 實施例中，第一彈性裝置71 〇係相對於座體300以脊線方 向200 6又置—組於承載裳置530與座體300之間。 本發明已由上述相㈣實施例加以描述，㉟而上述實施例 僅為實施本發明之範例。必需·的是，已揭露之實施例 並未限制本發明之範圍。相反地，包含於申請專利範圍之 精神及範圍之修改及鱗設置均包含於本發明之範圍内。 【圖式簡單說明】 圖1為習知技術立體示意圖； 圖2為習知技正視示意圖； 圖3為本發明實施例立體示意圖； 圖4a為本發明實施例正視示意圖； 圖4b為本發明包含阻尼裝置實施例正視示意圖； 圖5a為本發明較佳實施例示意圖； 圖5b為本發明另一實施例示意圖； 【主要元件符號說明】 10習知噴嘴清潔裝置 1〇〇噴嘴清潔裝置 200脊線方向 30習知座體 300座體 400橫移方向 習知清潔裝置

Claims (1)

1. 十、申請專利範園： 1. 一種喷嘴清潔裝置， 一座體，係啊Γ細倾配合使用，包含： 該脊線方向係平行線方向移動之方式設置，其中 一清潔裝置，包含细喷嘴之脊線；以及 移之係以可相對該座體有一橫移方向位 言"·詈二件 '係以可與該脊形喷嘴表面接觸之方式 潔件係裝置相對於該座體之另侧，其中該清 一黛二Μ該座體有—上頂方向之位移；以及 力之料系以可提供沿該橫移方向之彈 座體之間； 装置設置於該承裁裝置與該 係與:脊直於該上前向’該橫移方向 2.:=^項所述，娜置，其中該清潔 3·如申請專利範圍第i項所述 詈 件包含-橡膠。 H冰裝置’其中該清潔 4.=:專利範圍第!項所述之嘴嘴清潔裝 彈性裝置包含一彈簧。 、甲这第 5·如申請專利細第丨項所狀 彈性襄置包含-彈性橡膠。、〆月/ “〜中該第一 其中該第〜 其中該失角 6. 如申凊專利範圍第i項所述之噴嘴清潔裝置， 彈性裝置包含一彈性片材。 7. 如申明專利範圍第1項所述之嘴嘴清潔裳置， 之角度係為45。-135。。 & ， 8. —種喷嘴裝置，包含： 一脊形噴嘴； 喷嘴清潔裝置，包含： 以及 二座體，係以可沿-脊線方向移動之方式 其線方向係平行於該脊 清潔裂置，包含： —承餘置，細可相對該座體有-橫移方 向位移之方式設置； 一清潔件’係以可與形喷嘴表面接觸之 方式設置於該承㈣置相對於該座體之另 側’其中該清潔件射相對該細有一上頂方 向之位移；以及 一第-彈性裝置，細可提供沿該橫移方向 之彈力之方式相對該承载裝置設置於該承載 裝置與該座體之間， · 其中，該橫移方向係垂直於該上頂方向，該橫移方向 係與該脊線方向夾一央角。 如申請專利範圍第8項所述之喷嘴裝置，其中該清潔件包 含一矽膠。 1327113

   10. 如申請專利範圍第8項所述之喷嘴裝置， 件包含一橡膠。 11. 如申請專利範圍第8項所述之喷嘴裝置， 彈性裝置包含一彈簀。 12. 如申請專利範圍第8項所述之喷嘴裝置， 彈性裝置包含一彈性橡膠。 13. 如申請專利範圍第8項所述之喷嘴裝置， 彈性裝置包含一彈性片材。 14. 如申請專利範圍第8項所述之喷嘴裝置， 之角度係為45°-135°。 其中該清潔 其中該第一 其中該第一 其中該第一 其中該夾角

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