TWI321202B - Apparatus for conveying gases to and from a chamber - Google Patents

Description

1321202 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發㈣關於傳送氣體至—處理室及自該處理室傳送氣 體之裝置通風運轉，例如通風運轉氣切換系統，該通風運 轉氣切換系統通常用於原子層沈積（ALD)或化學汽相沈積 (CVD)技術。特定言之，本發明係關於對該等系統的一改 善’該改善減小該系統中之氣體間交叉反應之機會。 【先前技術】 通風運轉氣切換系統通常用於生長多層薄膜。兩常見的 示範性應用係Al2〇3與TiN薄膜之製造。在該等應用中，提 供要沈積之兩或更多種氣態物種之來源。可能還提供一沖 洗氣體源。藉由該等氣體源與一處理室之間的一切換系 統，依次將該等氣體輸送至該處理室。藉由一幫浦將處理 至中之任何殘留物種、沖洗氣體或副產品排出。 —通常，在要沈積之物種之供應之間使沖洗氣體通過反應 室。使用沖洗氣體之目的係移除處理室中之任何殘留（未尤 積）物種，以防止與供應至該室之下—物種反應。如果允許 物種交又反應’則可能在多層臈中形成雜質與缺陷。 在現有通風運轉氣切換系統中’離開處理室 連通至-真空幫浦的-共用前級管道（We-)。在該前級 管道中可能發生任何殘留物種之交又反應，此會在該前級 官道中導致累積微粒，進而導致減弱繁浦性能。幫浦性能 減弱可能危害在該處理室中所製造之產品品質。另外，涉 及受影響之幫浦的修理與維護之程序中斷時間會増加製= 96394.doc 1321202 成本。 【發明内容】 本發明之目的係提供一種裝置，在該裝置中，顯著減少 自處理室排出之物種之交又反應。 依據本發明的一方面，提供一種裝置，其包括： 至’其具有一室入口與一室出口； 用於接收一第一氣流的一第一入口； 用於接收一第二氣流的一第二入口； 用於排出S亥第一氣流至一第一真空幫浦的—第一出口； 用於排出該第二氣流至一第二真空幫浦的—第二出口； 一管道網路，其用於連接該第一入口至該第一出口及用 於連接該第二入口至該第二出口，以便對於每—氣流，於 其各自之入口與出口之間定義第一與第二流動路徑，該第

一机動路控穿過該室入口與該室出口，而該第二流動路徑 繞過該室；及 I 傳达構件’其用於傳送該等氣流穿過該網路，使得當一 氣流沿其第-流動路徑流動時，另―氣流沿其第二流:路 徑流動。 /第A流之該第二流動路徑的一部分與該第二氣流之 該第二流動路徑的一部 J此係共用的。可能使任何氣體 之第-流動路徑與該同一氣體之第二流動路徑隔離。 該傳运構件可能包括位於該管道網路 統，以及用於押制兮笛„ βΗ ^ 弟間門系 一… 間門系統之構件，以便允許自第 入口傳达第一氣流至該第一 風机之第一與第二流動路徑 96394.doc 1321202 中被選定的一流動路徑。也可能將該控制器配置為自第二 入口傳送第二氣流至該第二氣流之第一與第二流動路徑中 被選定的一流動路徑。該傳送構件可能進一步包括也位於 该管道網路中的一第二間門系統，以及用於控制該第 門系統之構件’以便允許自第一氣流之被選定的流動路徑 傳送第-氣流至第-出口。也可能將該控制器配置為自第 二氣流之被選定的流動路徑傳送第二氣流至第二出口。在 所建議之具體實施例中，提供一單一控制器來控制第—與 第二閥門系統兩者。在替代具體實施例中，可能提供單獨 的控制器來控制相應之閥門系統。 可配置該控制器，使其控制該等閥門系統之每一閥門之 開啟程度，及/或開啟該等間門系統之每一閥門之持續時 間。另外，可配置該控制器，使在該等不同間門系統之間 門開啟之間存在預定延遲，以確保在向管道之任何共用區 段引入新氣體前’排出該等共用區段中之全部氣體。 可能提供-第三入口，以接收第三氣流，在此情況下， 該管道網路可能連接該第三人口至該第_^口，以便針對 該第三氣流’纟第三入口與第一出口之間定義第一流動路 徑，該第-流動路徑穿過室入口與室出口。可配置該傳送 構件，以傳送該等氣流之每一氣流穿過該網路，使得當第 三氣流沿其第-流動路徑流動時，該等第一與第二氣流沿 其第二流動路徑流動。 另外，該管道網路可連接該第三入口至該第一出口，以 便針對第一既",L ’在第三入口與第一出口之間定義繞過該 96394.doc 1321202 室：-第二流動路徑，並配置傳送構件，以傳送該等氣流 之每-氣流穿過該網路’以使當該等氣流的—氣流沿其第 -流動路徑流動時，其他氣流沿其第二流動路徑流動。 該傳送構件可能包括位於該f道網路中的—第三闕門系 統’以及用於控制該第三閥門系統之構件，以便允許自第 三入口傳送第三氣流至該第三氣流之第一與第二流動路徑 中被選定的一流動路徑。 可配置室入口盥宮屮，，、, *外6 ” 一至出口以在该至的一工作區段上提供 均勻的流動分佈。 依據本發明之第三方面，提供_種傳送氣體至—室及自 該至傳送氣體之裝置，該裝置包括： 用於接收一第一氣流的一第一入口； 用於接收一第二氣流的一第二入口 用於排出該第一氣流的一第一出口 用於排出該第二氣流的—第二出口 可連接至該室的一入口的一第一室埠口； 可連接至該室的一出口的一第二室埠口； 管道.用路，其用於連接該第一入口至該第一出口及用 於連接6玄第二入口至該第二出口，以便對於每一氣流，於 其各自之入口與出口之間定義第一與第二流動路徑，該第 一流動路”過該等室埠口，而該第二流動路徑繞過 室埠口；及 傳送構件，其用於傳送該等氣流穿過該網路，使得當一 氣流沿其第-流動路徑流動時，其他氣流沿其第二流：路 96394.doc -9. 1321202 徑流動。 康本發月之第二方面，提供—種傳送氣體至一室及 該室傳送氣體之方法，該方法包括以下步驟： 連接一管道網路至該室，該管道網路具有： 用於接收一第一氣流的一第一入口； 用於接收一第二氣流的一第二入口； 用於排出該第-氣流的一第_出口； 用於排出該第二氣流的一第二出口； 及 可連接至該室的一入口的一第一室埠口 可連接至該室的一出口的一第二室埠口 -管道網路’其用於連接該第一入口至該第一出口及用 於連接該第二入口至該第二出口，以便對於每一氣流，於 其各自之入口與出口之間定義第一與第二流動路徑，該第 抓動路！穿過該等室蟀口 ’而該第二流動路徑繞過該等 室埠口；及 傳送該等氣流穿㈣網路，使得#__氣流沿其第一流動 路徑流動時’其他氣流沿其第二流動路徑流動。 【實施方式】 圖所示’一先則技術通風運轉氣體切換系統包括兩個 氣體供應A與B’藉由—系列裝有閥門之管道13至18將八與8 中的每-個都連接至處理室u與幫浦…管道13至16包括 閥門13至16’，可操作該等閥門以控制氣體a與b向幫浦12 之抓動其中氣體入與B可經由處理室11或經由繞過處理室 11之s道17流至幫浦12。因此，在任一時刻，僅向該室供 96394.doc 1321202 應氣體A與B中的一種氣體。 為了供應第一氣體A至室11 ’開啟閥門14,，第一氣體A 直接經由管道14進入室11 ’並經由管道18排出至幫浦12。 輸送第一氣體A期間，閥門15V與161保持關閉，同時閥門13 · 開啟。因此，第二氣體B經由管道13、17及18繞過室11流至 幫浦12。為了供應第二氣體B至室11，開啟閥門ι5，和16,， 並關閉閥門13·和14'。在此配置中，經由管道15供應第二氣 體B至室11，並經由管道18將第二氣體B排出至幫浦12。同 時，經由管道16、17及18將第一氣體A完全繞過室u直接供 應至幫浦12。 應瞭解’由於氣體A與B兩者都經過與幫浦相鄰之管道“ 並排出至單一幫浦12，所以實施氣體供應之切換後，殘留 在該區域中之任何氣體殘留物之間可能交又反應。 圖2顯示一替代的、經改善之用於供應氣體至處理室之裝 置。 如圖2所示，其中顯示該裝置可供應三種不同氣體丨、2 及3至處_4。通常，該等氣體中的—氣體3係沖洗氣體， 而其他兩種氣體_係要在處理室4中反應之處理氣體，例 如氣體_可用來形成多層半導體產品或多層絕緣體。藉 由位於處理室4與兩幫浦7與8中的一幫浦之間的管道網路 '，將每-氣體供應連接至處理室4與兩幫浦7與8中的一幫 浦。藉由相應之入口營揸9 S遑21、22及23，將管道網路6之上游 料接至料所㈣體卜2及3之每—氣體之來源，其中入 s道21 22及23係用於向管道網路6輸送氣體卜2及3。 96394.doc •II - 1321202 藉由出口管道26與27,將管道網路6之下游端連接至真空幫 浦7與8，以便可以排出氣體至真空幫浦7與8。 在此範例中，藉由入口21、22及23與出口 26與27之間之 網路6’提供三個主要流動路徑。配置第一路徑，使其穿過 處理室4。在處理室4之上游提供一管道24，該管道以之末 端形成埠口 24，，該槔口 24，連接至該室之入口心。在處理室 4之下游提供第二個管道25,管道25之末端形成另一璋口 25’’該埠口25’連接至該室之出以卜藉由兩旁通管道μ與 29提供本範例之第二與第三路徑。該等管道為任何時刻正 在該室t進行之程序所不需要之氣體提供一替代路徑。通 常，藉由網路6提供之不同流動路徑之數目與供應至該網路 之氣體之數目匹配（此處存在三個路徑）。 網路6包括兩組切換閥門，該等切換間門組&與讣 係配置為沿三個單獨之流動路徑傳送該等氣體卜2及3中的 每一氣體’其中如上所述藉由網路6提供該等單獨之流動路 二：專閥門較佳係快速驅動閥’例如電磁閥，以快速地 將T同氣體1、…自-流動路徑切換至另一流動路 供：與該等切換間門組5咖之每-切換閥門組通 。之工制S9’以允許依據處理室4中所進行之特定程 動切換該等個別閥門。控制器9可以按照任何特 該等不同間門之驅動，但也可能管理該驅動之 2動 特定間門之開啟持續時間及任何特定間巧之開何 配置該定時，以允許在驅動-切換間門組 又。可 換閥門組5"確保在將後續氣體引入-流動==切 96394.doc • 12- 1321202 先排出網路的該部分中目前存在之氣體。 圖3顯不中顯示構成網路6之閥門與管道的一特定配置， 並將在下面參考該配置之操作說明該配置。 如圖2中所示，每一入口管道2卜22及23定義進入該網路 的-入口蟑口 2Γ、22,及23,，類似地，每一出口管道2_7 定義離開該網路的一出口埠口26，及27，。在圖3中，為清晰 起見’僅顯示該等管道。 最初，供應每一氣體1、2及3至相應之入口管道21、

及23。 其中，提供第-處理氣體i至室4(依據圖2)，開啟闕 1 32 33、41及42，關閉剩餘的閥門。此使得第一氣葡 自入口21 ’通過閥門32,然後通過管道24，經由室入口 ，入處理室4。在處理步驟t未消耗之任何殘留氣體心 室出口仆排出處理室4，並進入管道^，然後自管道⑸里 閥門41與出口管道26進入幫浦7。

同時’第二處理氣體2自入口 22經由閥門33、管道28與丨 ^42直接到達出⑼，在出心處將第二處理氣體2排出、」 ^工幫雇8。因此’第二處理氣體2完全繞過處理室4,並」 『，與第-處理氣體〗混合。第三處理氣體’此處係沖㈣ /、相應入口 23經由閥門31、管道29直接到達出口 ％ 其中第三處理氣體與第-處理氣體1共用出口26,第三處理 出26排出至真空幫浦7。只要氣體間不相互作用而 形成上述沈積物或具有對真空㈣7與8之性能或 之特定腐凝#暂夕^ ^ ° 生貝之刻產品，就可以使用上述共用。 96394.doc •13· 1321202 通常，接下來要人室4之氣體係沖洗氣體3，所以藉由 控制器9_第—切換組5a之閥門3_2，並同時開啟切換 組53之閥門34與35 °因此’第二處理氣體2保持不受影響， 並如先前一樣直接自其入口 22到達其出口 27,但第一處理 氣體1與沖洗氣體3交換流動路徑。即，現在自入口^經由 閥門35與旁通管道29傳送第一處理氣體i至出w，在出口 26處將第-處理氣體！排出至真空幫浦7。同時，自入口23, 經由闕門34與管道24,並經由室入口心將沖洗氣體3傳送進 入處理室4。然後’經由室出叫自處理室4傳送沖洗氣體3 至管道25’並經由閥門41傳送至出口 ％，沖洗氣體3經由出 口 26進入真空幫浦7。 力 後續步驟可能涉及輸送第二處理氣體2至處理室。在此产 況下’需要移動該等氣體卜2及3之每一氣體至一新的心 路徑’所以幾乎必須同時驅動切換組5a與5b兩者上之所有 闕門。藉由控制器9_間門34、35、33、41及4 開啟閥⑽、及44,於是Μ 了 —組新的 路孤（共二個流.動路裡）。主要流動路徑提供第二處理氣體2 2至處rr自第：處理氣—㈣咖二 4並’&由至入口 4a將第二處理氣體2傳送至處理室4，在卢 ^室4中第二處理氣體2執行與處理室中正在產生之晶圓^ 關之功能。然後，經由室出 日日W有 將任何殘留之氣體2自處二:送;:=與閥門43 吁疋主出口 27，然後硷毡少 氣體2經由出口 27進入真空幫浦8。本配置中 = 送之第-個旁通傳送將第 "4旁、傳 挺虱體1自入口 21經由閥門 96394.doc -14- χ32ΐ2〇2 36、管道28及閥門44傳送至其相應出口 26。第二個旁通傳 送將第三氣體（此處係沖洗氣體3)自入口 23經由閥門3 1和管 道29傳送至出口 26，在出口 26處，第三氣體排出至真空幫 浦7時與第一氣體1混合》 因此’可以瞭解’藉由適當地操作切換閥門3 1至3 7與41 至44(由控制器9進行控制操作），該等三種氣體卜2及3之每 一種氣體具有兩個相應之流動路徑，即穿過室4之第一流動 路徑與繞過室4之第二流動路徑。如此可以依次單獨供應該 等氣體至處理室4’並同時允許傳送該等反應處理氣體1與2 之每一反應處理氣體至相應幫浦7與8。由於在該等處理氣 體1與2到達幫浦前級管道（其位於相關出口26與27之下游） 則先將該等處理氣體1與2轉移至給定幫浦7與8，所以不存 在交叉反應與交叉反應所產生之微粒污染幫浦7與8之機 會。 應瞭解，藉由增加更多旁通管道，並在適當之切換組化 與5b處增加相關閥門，可以容易地延伸所述配置，使其具 有多於兩種之反應氣體。還可以增加幫浦之數目，以便當 氣體混合會產生腐蝕性副產品或形成會危害該等幫浦之運 轉與性能之微粒沈積物時，允許隔離氣體。應進一步理解， 僅在給出之任何兩種或更多種氣體會彼此交叉反應時才需 要單獨之幫浦。可以使用上述配置類型將任何兩種或更多 種不會交又反應之氣體安全地引導至單一幫浦。 藉由將該等氣體自一個流動路徑轉送或轉移至另一流動 路杈，該等氣體之每一氣體之輸送可以保持一恆定、穩定 96394.doc 15 1321202 狀態之氣流，而不是必須連續地以脈衝方式開與關。此可 以減小流動氣流之瞬變特十生。另夕卜藉自向處理室4提供單 -入口 4a與出D4b，可以看到，系統自身係配置為最小化 該室之工作區段上之氣流之瞬變特性。 可以藉由提供經平衡之流動路徑來進^叫少軋流 特性’即不同流動路徑之長度與斷面面積彼此相者 告厶卜―，上，n m 變 盡可能減小該瞬變特性係有益的，此可以允許^ 理氣體中曝露最小時間詈 才间里，因而可增加工具之通量並 化所需之消耗品。 【圖式簡單說明】 上文已參考附圖進一步說明本發 基於舉例說明之目的， 明的一具體實施例，其中 圖1顯示一傳統通風運轉氣體切換系統； 圖2顯示供應處理與沖洗氣體至一室之裝置；及 圖3詳細顯示圖2之裝置之傳送機制。 【主要元件符號說明】 A 氣體供應 B 氣體供應 1 氣體 2 氣體 3 氣體 4 處理室 4a 入口 4b 出〇 96394.doc -16- 1321202 5a 切換閥門組 5b 切換閥門組 6 管道網路 7 真空幫浦 8 真空幫浦 9 控制器 11 處理室 12 幫浦 13 管道 14 管道 15 管道 16 管道 17 管道 18 管道 21 入口管道 22 入口管道 23 入口管道 24 管道 25 管道 26 出口管道 27 出口管道 28 旁通管道 29 旁通管道 31 閥門 96394.doc 1321202 32 33 34 35 36 37 41 42 43 44 13' 14, 15' 16' 21， 22’ 23, 24' 25' 26, 27, 閥門 閥門 閥門 閥門 閥門 閥門 閥門 閥門 閥門 閥門 閥門 閥門 閥門 閥門 入口埠口 入口槔口 入口槔口 璋口 琿口 出口埠口 出口埠口

96394.doc •18·

Claims (1)

1321202 十、申請專利範圍： 1 · 一種裝置，其包括： 一室，其具有一室入口與—室出口； 用於接收一第一氣流的一第_入口； 用於接收一第二氣流的一第二入口； 用於排出該第一氣流至一第一真空幫浦的一第—出口 用於排出該第二氣流至一第二真空幫浦的一第二出口 一管道網路，其用於連接該第一入口至該第一出口及 用於連接該第二入口至該第二出口，以便對於每—氣流 於其各自之入口與出口之間定義第一與第二流動路徑， "玄第流動路徑穿過該室入口與該室出口，而該第二流 動路徑繞過該室；及 傳送構件，其用於傳送該等氣流穿過該網路，使得當 一氣流沿其第—流動路徑流動時，另-氣流沿其第二、流遍 動路徑流動。 響 如請求項1之裝置，发击 _ v x v、中該第一氣流之該第二流動路徑之 二係與6亥第一氣流之該第二流動路徑共用。 如請求項1或2之裝置，苴 路徑係切f & 母1流，該第一流動 、.、該第—奴動路徑隔離。 如請求項1之裝置，苴中 中的—第— :Μ傳3^構件包括位於該管道網路 件，以"第與用於控制該第-間門系統之構 該弟—入口傳送該第'氣流至該第-氣流之第 2. 3. 4. 96394.doc 1321202 一與第二流動路徑中被選定的一流動路禋，及自該第二 入口傳送該第二氣流至該第二氣流之第—與第二流動路 徑中被選定的一流動路徑。 如π求項4之裝置，其中該傳送構件包括位於該管道網路 中的—第二閥門系統及用於控制該第二閱門系統之構 件’以自該第一氣流之被選定之流動路徑傳送該第一氡 流至該第-出口，及自該第二氣流之被選定之流動路徑 傳送該第二氣流至該第二出口。 6.如請求項4或5之裝置，其中該等控制構件或每一控制構 件係配置成用以控制該等閥門系統之閥門之開啟程度。 月求項4之裝置’其中該等控制構件或每一控制構件係 配置成用以控制開啟該等閥門系統之間門之持續時間。’、 8. 如請求項4之裝置，其中該等控制構件或每一控制構件係 配置成用以允許該等閥門系統之閥門之開啟之間存在―、 預定延遲，以料在5丨人_新4㈣， 共用區段中之全部氣體。 逼之任何 9. 如請求項1之裝置，其包括-用以接收-第三氣流之第三 入口’且其中該管道網路連接該第三入口至該第 ur:對:f三氣流，在該第三入口與該第-出σ :第抓動路徑’該第-流動路徑穿過該室 口興該室出口。 ίο·==項9之裝置’其中該傳送構件係配置成 :!流穿過該網路，使得當該第三氣流沿其第-流= “I動時’該等第-與第二氣流沿其第二流動路徑流動。 96394.doc 如明求項9或i〇之裝置’其中該管道網路連接該第三入口 至該第一出口，以便針對第三氣流，在該第三入口與該 第一出口之間定義繞過該室的一第二流動路徑，且該傳 送構件係配置成用以傳送該等氣流穿過該網路，使得當 X等氣流的一氣流沿其第一流動路徑流動時，該等其他 氣流沿其第二流動路徑流動。 12·如凊求項11之裝置，其中該傳送構件包括位於該管道網 路中的一第三閥門系統，以及用於控制該第三閥門系統 之構件，以自該第三入口傳送該第三氣流至該第三氣流 之第一與第二流動路徑中被選定的一流動路徑。 13. 如凊求項1之裝置’其中該室人口與該室出口係配置成用 以在該至的一工作區段上提供一均勻的流動分佈。 14. 種傳送氣體至一室及自該室傳送氣體之裝置，該裝置 包括： 用於接收-第二氣流的-第二入口； 用於排出該第一氣流的 用於排出該第二氣流的口： 可連接至該室的-入口的-第一室埠口； 可：接至該室的—出口的一第二室埠口； f道’用路’其用於連接該第-人口至該第-出口义 用於連接該第二人σ至該第二出σ，以便對於每一氣〉〕 於'、各自之入口與出口之間定義第-與第二流動路名 “第&動路徑穿過該等室埠口，而該第二流動路老 96394.doc 1321202 繞過該等室埠口；及 ^送構件，其用於傳送該等氣流穿過該網路，使得當 一=沿其卜流動路徑流動時，該等其他氣流沿其第 一流動路徑流動。 15.如請求項14之裝置，豆 ''^第氣/瓜之該第二流動路徑 。刀係與該第二氣流之該第二流動路徑共用。 161請求項14或15之裝置，其中對於每一氣流，使該第-/;丨L動路徑與該第二流動路徑隔離。 K如請求項14之裝置’其中該傳送構件包括位於該管道網 路中的系統與用於控制該第—閱門系統之構 =以：該第一入口傳送該第—氣流至該第一氣流之第 一與第二流動路徑中被選^的—流動路徑，並自該第二 :口傳送該第二氣流至該第二氣流之第一與第二流動： 徑中被選定的一流動路徑。 1 8.如睛求項i7n其巾該料構件包括位於該管道網 路中的-第二閥門系統及用於控制該第二閥門系統之構 件’以自該第-氣流之被選定之流動路徑傳送該第一氣 流至該第-出σ，及自該第二氣流之被敎之流動路徑 傳送該第二氣流至該第二出口。 19_如明求項17或18之裝置，其中該等控制構件或每一控制 構件係配置成用以控制該等閥門系統之閥門之開啟程 度。 2〇.如請求項17之裝置，其中該等控制構件或每一控制構件 係配置成用以控制開啟該等閥門系統之閥門之持續時 96394.doc 1321202 間0 21·如凊求項I?之I 甘占二 、，八中该等控制構件或每一控制槿杜 係配置成用以允 件 -預定㈣錢啟之間存在 ^延遲，以確保在以—新氣體前，排出管道之任 何/、用區段中之全部氣體。 22.=項“之裳置’其包括，接收一第三氣流之第 - 且其中該管道網路連接該第三入口至該第一出 口’以便針對該第三氣流，在該第三入口與該第一出口 之間定義-第-流動路徑，該第一流動路徑穿過該等第 一與第二室埠口。 23.如:求項22之裝置，其中該傳送構件係配置成用以傳送 該等氣流穿過該網路，使得當該第三氣流沿其第一流動 路徑流動時’該等第一與第二氣流沿其第二流動路徑流 動。 24. 如請求項22或23之裝置，其中該管道網路連接該第三入 口至該第一出口，以便針對該第三氣流，在該第三入口 與該第-出口之間定義繞過該等室埠σ的—第二流動路 徑，且該傳送構件係配置成用以傳送該等氣流穿過該網 路，使得當該等氣流的一氣流沿其第一流動路徑流動 時’該等其他氣流沿其第二流動路徑流動。 25. 如請求項24之裝置，其中該傳送構件包括位於該管道網 路中的一第三闊門系統，以及用於控制該第三閥門系統 之構件，以自該第二入口傳送該第三氣流至該第三氣流 之第一與第二流動路徑中被選定的一流動路徑。 96394.doc 1321202 其包括 26. —種傳送氣體至一室及自該室傳送氣體之方法 下列步驟： 連接一管道網路至該室，該管道網路具有： 用於接收一第一氣流的一第一入口； 用於接收一第二氣流的一第二入口 用於排出該第一氣流的一第一出口 用於排出該第二氣流的一第二出口 可連接至該室的一入口的一第一室埠口； 可連接至該室的—出口的一第二室埠口；及 入口至該第一出口及 ’以便對於每一氣流 第一與第二流動路徑 ’而該第二流動路徑 一管道網路，其用於連接該第一 用於連接該第二入口至該第二出口 ’於其各自之入口與出口之間定義 ，該第一流動路徑穿過該等室埠口 繞過έ亥專室蜂口；及 傳送該等氣流穿 動路徑流動時，該 過該網路， 等其他氣流 使得當一氣流沿其第一流 沿其第二流動路徑流動。 96394.doc