1304156 玖、發明說明： [發明所屬之技術領域] 本發明係關於反射型液晶顯示器用之擴散反射板及其 製造方法與鄰近曝光方法。 [先前技術] 對於2英吋至4英吋程度之小型個人數位助理用顯示 器，有薄型、輕量、以及低消耗電力之要求。反射型液晶顯 示器因不使用背光而利用周圍之背景光來實施顯示，故可實 現薄型化、輕量化、以及低消耗電力化。反射型液晶因背景 光愈強會顯得更爲鮮明，故適合戶外使用。 反射型液晶顯示器係利用··控制反射板、以及射入顯示 元件之光及反射板反射之光的光量之光控制手段（電極·液 晶層等）；以及偏光板；之組合，實施顯示。 寫至不會散射之鏡上的文字，會因背景光之映入而降低 其辨識性。爲了提高反射型液晶顯示器之顯示文字的辨識 性，必須使射入光散射。 然而，此時因散射所造成之單位立體角的反射光量會減 少。液晶顯示器採用濾色鏡時，相對於黑白顯示，反射光量 會更爲降低。因此，傳統上，無法製造高亮度之彩色反射型 液晶顯示器。因此，要求高散射強度之擴散反射板。 亦即，對於擴散反射板，爲了避免因背景光之映入而導 致辨識性降低，要求其具有適度之擴散反射功能，另一方 面’爲了實現較亮之顯示，則必須採取使背景光適度地反射 至觀察者，使其有效地應用於辨識性上的策略。 一 5- 1304156 下述專利文獻1之製造方法中，會形成小面積之貫通 孔，並利用熱處理之重熔來形成凹面。 下述專利文獻2之製造方法中，則會形成孤立之突起。 然而，形成貫通孔之方法及形成孤立突起之方法，因皆 需形成微細之貫通孔或孤立突起，必須以具優良解析度之昂 貴的步進曝光裝置或鏡射投影裝置取代高生產性之整體_ 光法。又，因貫通孔之底部及突起之間隙部會形成無法散射 之平坦部，故推測具有無法得到充分亮度之問題。 因此，下述專利文獻3及4之公報，則在形成孤立突起 後，以連續塗布平坦化之樹脂層來形成平滑之散射表面。 因爲這些方法十分複雜，故考慮以對光阻實施整體曝光 的方法來形成擴散反射板。將採用光阻之擴散反射板應用於 液晶顯示器時，配置著固定夾具等之裝設部必須位於擴散反 射板之外圍。亦即，應從擴散反射板之外圍部除去光阻。 專利文獻1 :日本特開2 0 0 1 - 2 9 6 4 1 1號公報 專利文獻2 :日本特開平04 _ 24 3 226號公報 專利文獻3 :日本特開昭59_71〇81號公報 專利文獻4 :日本特開平〇5_ 23 246 5號公報 [發明內容] 然而’若從基板外圍部除去光阻，重要之擴散反射區域 亦會形成部份貫通孔’而無法採用鄰近曝光法來製造高散射 強度之擴散反射板。 又’上述方法雖然可得到不含平坦部之平滑的散射表 -6- 1304156 面’然而，不但散射構造之控制十分複雜，尙有步驟及成本 皆增加的問題’故有無法以簡易方法製造高散射強度之擴散 反射板的問題。 有鑑於上述課題，本發明之目的即在提供高散射強度之 擴散反射板的簡易製造方法及鄰近曝光方法。 爲了解決上述課題，本發明之擴散反射板製造方法，係 具有：對使用於反射型液晶顯示器之擴散反射板上的光阻實 施鄰近曝光後，實施顯影並接著實施熱處理，然後，再在其 上形成反射膜；之步驟的擴散反射板製造方法，其特徵爲， 在實施顯影同時除去前述光阻之周邊部時，以不會在前述光 阻之中央部形成對應前述光遮罩之透射部的貫通孔之方式 來設定鄰近曝光條件。係鄰近曝光條件滿足下述第1及第2 鄰近曝光條件的製造方法。 詳細說明如下，滿足第1鄰近曝光條件之擴散反射板製 造方法，係使用於反射型液晶顯示器之擴散反射板的製造方 法，具有：（a)在基板表面上塗布光阻，利用光遮罩對前述 光阻實施鄰近曝光後，實施顯影處理，實施前述光阻之圖案 化，其後，再實施熱處理之步驟；及（b )在經過熱處理之前 述光阻上形成反射膜之步驟。 又，其特徵爲，鄰近曝光時之前述光遮罩及前述光阻之 距離爲L(//m)、前述鄰近曝光時之前述光遮罩的透射部之外 型尺寸爲D(/zm)時，前述鄰近曝光係在滿足下述不等式之條 件下實施。 1 . 3<L/D2<2.8 1304156 亦即，此鄰近曝光方法係在滿足上述不等式之條件下 實施。 此時，外型尺寸在透射部爲圓形或圓環形時係代表外 徑尺寸（直徑），透射部爲橢圓形或多角形時則係代表重心 位置至外圍之平均距離的2倍。
又，本發明之擴散反射板製造方法的特徵，係前述透 射部之外型尺寸爲3//m以上、15//m以下，最好爲6//m 以上、1 2 // m以下。 I 又，前述反射膜應含有金屬膜。 又，前述金屬膜應含有金屬鋁、鋁合金、或銀合金。 滿足第2鄰近曝光條件之擴·散反射板製造方法，係使 用於反射型液晶顯示器之擴散反射板的製造方法，其特徵 爲具有：形成在內側具有以形成擴散反射區域爲目的之圖 ^ 案、在外側具有透明圖案之光遮罩的步驟；在基板表面上 塗布混入對感光波長域具有吸光性之吸光性材料的正型光 阻，利用前述光遮罩對前述光阻實施曝光後，實施顯影處 φ 理，實施前述光阻之圖案化，其後，再實施熱處理之步驟； 以及在經過熱處理之前述光阻上形成反射膜之步驟。 利用此方法，光遮罩之內側會形成以形成擴散反射區 域爲目的之圖案，外側則會形成透明圖案，故可除去正型 光阻之周邊部，而在中心部形成擴散反射區域。此處，因 光阻內混入吸光性材料，故在除去周邊部之光阻時，中心 部之擴散反射區域亦不會形成貫通孔。因此，可形成具有 高散射強度之擴散反射區域。只要對L、D設定上述曝光條 ~ 8 - 1304156 件，光阻亦可不含有吸光性材料。 又，形成此散射構造上所使用之光阻的感光波長域平 均透射率應爲〇.01/// m以上，最好爲0.01/# m以上、0.3/ V m以下。透射率爲〇 . 〇 1 /// m以下時，因加工性不良且會 形成凹凸而需要較多之曝光能量，故應避免。另一方面， 透射率若超過0 · 3，則加工深度會因曝光或顯影條件而產 生劇烈變化，不易形成安定之凹凸構造，故應避免。 又，吸光性材料可使用如碳黑或紫外線吸收劑，該材 φ 料可充分吸收曝光光。 利用此方法製造之擴散反射板，係使使用於反射型液 晶顯示器之擴散反射板具有：塗布於基板表面上，且具有 在圖案化後以熱處理形成之凹凸表面的光阻；及含有形成 於前述光阻上之金屬膜的反射膜；且，以4xl03cd/m2之照 、 明環境下的散射強度超過3x1 03cd/m2之方式來設定標準白 色板之散射強度。 或者’以4xl〇3cd/m2之照明環境下的散射強度超過4 φ XI 03cd/m2之方式來設定標準白色板之散射強度。 或者’以4xl〇3cd/m2之照明環境下的散射強度超過5 xl 03cd/m2之方式來設定標準白色板之散射強度。 亦即’上述擴散反射板具有高散射強度。 [實施方式] 以下’係針對實施形態之反射型液晶顯示器用擴散反 射板的製造方法進行說明。又，相同要素會採用相同符號， 並省略其重複說明。 -9- 1304156 第1圖係實施形態之附擴散反射板之濾色鏡的剖面 圖。 透明基板1之表面上，設置著具有微細凹凸曲面之凹 凸層2。凹凸層2之表面上，以蒸鍍等方法形成含有鋁等 之高反射率金屬膜的反射膜3° 凹凸層2係由光阻（感光性樹脂）等有機材料所構成。 光阻具有可以曝光步驟、顯影步驟後之加熱步驟實施硬化 的性質。光阻具有會隨加熱步驟之硬化而熔融軟化，且膜 表面會平滑化之性質。亦即，加熱步驟具有將光阻加熱至 軟化溫度之軟化步驟、及使光阻硬化之烘焙步驟。 採用在濾色鏡基板上形成光散射層時，光散射層上設 置著著色樹脂區域4R、4G、4B。必要時，著色樹脂區域4R、 4G、4B上可設置透明保護膜6，形成以驅動液晶爲目的之 透明電極5。 又，著色樹脂區域4R、4G、4B只要液晶中不會熔出雜 質成爲顯示不良之原因，任何材質皆可。具體之材質如實 施只有特定光可透射之膜厚控制的無機膜、或經過染色、 分散著染料、及分散著顏料之樹脂等。 本樹脂之種類並無特別限制，可使用壓克力、聚乙嫌 醇、聚醯亞胺等。又’從製造過程之簡便性及耐候性等觀 點而言’著色樹脂區域4R、4G、4B應採用分散著顏料之樹 脂膜。 上述擴散反射板係以鄰近曝光法製造。此使用於反射 型液晶顯示器之擴散反射板具有：塗布於基板1之表面 -10- 1304156 上，且具有在圖案化後以熱處理形成之凹凸表面的光阻（凹 凸層2);及含有形成於凹凸層2上之金屬膜的反射膜3。 反射型液晶顯示器時，因係利用太陽光及螢光燈之 光，可得到散射強度之波長會大致一定。此擴散反射板係 以4xl03cd/m2之照明環境下的散射強度爲超過3xl03cd/m2 之方式來設定標準白色板之散射強度。 或者，以 4x1 03cd/ m2之照明環境下的散射強度爲超 過4xl03cd/ m2之方式來設定標準白色板之散射強度。 φ 或者，以4x 103cd/m2之照明環境下的散射強度爲超 過5x1 03cd/m2之方式來設定標準白色板之散射強度。 亦即，上述擴散反射板具有高散射強度。 第2A圖、第2B圖、第2C圖、第2D圖、以及第2E 圖係具有擴散反射板之濾色鏡的製造方法之說明圖。此濾 · 色鏡係依序執行以下之步驟（a )〜（e )來進行製造。 步驟（a ) 在透明基板1上塗布正型抗蝕劑，形成光阻層（凹凸層 φ 2之中間體）2 (第2 A圖）。光阻係採用正型。 步驟（b ) 利用光遮罩7實施整體曝光（鄰近曝光）（第2B圖）。光 遮罩7上以規則或隨機之方式配置著多角形、圓形、環狀 之透射部T。此實例中，係採用環（圓環）狀透射部T。透射 部T爲等間隔之複數配列，因此，利用曝光可在光阻內形 成潛影濃度分布2 a。 鄰近曝光時之光遮罩7及光阻2之距離爲L(//m)，鄰 -11- 1304156 近曝光時之光遮罩7之透射部T的外型尺寸爲此 時，外型尺寸在透射部爲圓形或圓環形時係代表外徑尺寸 (直徑），透射部爲橢圓形或多角形時則係代表重心位置至 外圍之平均距離的2倍。 光遮罩7上之透射部T的外徑D應爲20/zm以下，最 好爲15/zm以下，且應3/zm以上。 又，代表光遮罩7之透射部T及曝光間隙之關係的指 標L / D2之設定上，應大於1 . 2，最好大於1 · 3，且應爲小 於 2 · 8。 步驟（c ) 執行光阻2之顯影，實施圖案化（第2C圖）。顯影上’ 只要選擇適合光阻之條件即可，將鈉或鉀之氫氧化物、碳 酸鹽、碳酸氫鹽等無機鹼、及有機銨等之有機鹼之溶液當 做顯影液使用，實施顯影液之20 °C至40 °C的浸漬或射叢。 對顯影後之基板以純水充分洗淨後，實施熱處理。 熱處理步驟中，光阻之圖案在硬化前會先熔融軟化， 而在光阻之表面形成光滑之凹凸面。熱處理溫度應爲120 〜2 5 0 °C，最好爲1 5 0〜2 3 0 °C之範圍。又，熱處理時間以 10〜60分爲佳。 步驟（d ) 形成含金屬膜之反射膜3 (第2D圖）。形成上可採用蒸 鍍法或噴濺法。構成反射膜3之材料以純鋁、鋁合金（A 1 - Nd 合金等）、或銀合金（Ag-Pd-Cu合金）等爲佳。反射膜3之 厚度應爲0.1〜0.3/zm之範圔，0.15〜0.25//m之範圍更 -12- 1304156 佳。反射膜3亦可採用介電質多層膜。又，反射膜3含金 屬膜時，可實現高反射率。此金屬膜應含有金屬鋁、鋁合 金、或銀合金，當然，只要不會對特性造成不良影響，亦 可含有其他元素。 必要時，可以鈾刻等除去不必要部份之反射膜3，形 成光透射部及標誌類。 步驟（e ) 必要時，形成紅、綠、藍之著色層，接著，在形成物 上堆積保護層6及透明電極5，完成附擴散反射板之濾色 鏡基板（第2E圖）。 如以上說明所示，上述擴散反射板之製造方法係使用 於反射型液晶顯示器上之擴散反射板的製造方法，具有： 在基板1之表面上塗布光阻2，利用光遮罩7對光阻2實 施鄰近曝光後，實施顯影處理，執行光阻2之圖案化，其 後再實施熱處理之步驟；及在經過熱處理之光阻2上形成 反射膜3之步驟。 此鄰近曝光之實施上，滿足以下之不等式。 1 .3<L/D2<2.8 通過微細開口之光的舉動以菲龚耳（Fresnel)繞射及 夫琅和費（Fraunhofer)繞射來進行說明，通過開口之光的 像擴散，會對應開口及螢幕之距離（=L )、開口部尺寸（=D)、 以及光之波長λ所構成之指標（L / D2 X λ )而變化。 開口及螢幕之距離較短時，開口之形狀會轉印至螢幕 上，隨著開口及螢幕之距離的增遠，會成爲以光軸爲中心 -13- 1304156 之擴散光。
β日修(更)止蝥換頁 亦即’代表光遮罩7之透射部及曝光間隙之關係的指 標L / D2爲1 . 2以下時，形成於光阻2上之曝光像的能量分 布亦會對應光遮罩之透射部形狀而成急速變化，而在光阻 2上形成貫通孔並降低散射亮度，故不佳。 另一方面，L/D2爲2.8以上時，在光遮罩7繞射之光 會擴散，而不易在光阻2之表面形成圖案，故不佳。
又，透射部Τ之外徑大於20 // m時，因在光遮罩7之 光繞射較少，不易形成連續能量分布之曝光像。又，外徑 爲3 // m以下時，整體曝光法之最低必要曝光間隙會導致光 擴散，而無法在光阻膜表面形成安定之曝光像，故不佳。 因此，本擴散反射板之製造方法，透射部T之外型尺寸D 應設定爲3/ζπι以上、20//m以下，最好爲15//m以下。由 此觀點而言，透射部T之外型尺寸D以6 // m以上、1 2 // m 以下最佳。 上述擴散反射板設置於濾色鏡等之液晶構件上。因此 種濾色鏡相對較大型，故在上述擴散反射板之製造方法 中，係採用大型遮罩之鄰近曝光（整體曝光）法。因此，本 製造方法可提高生產性。 傳統之整體曝光法係使用昂貴之大型光遮罩，然而， 爲了防止遮罩破損、污損，光遮罩及抗蝕劑（光阻）表面會 保持數--數百// m之間隙（曝光間隙）。此時，會因光繞 射而產生圖案模糊，故解析度只爲l〇/zm前後。 又，傳統之整體曝光法中’光遮罩係由光完全透射之 一 1 4 - 1304156 開口部（透射部）、及光完全阻隔之遮光部的圖案所構成’ 因係以形成輪廓鮮明之曝光像爲前提，故不易在擴散反射 板上安定形成要求之平滑散射構造。 亦即，傳統之整體曝光法時’不易以整體曝光形成擴 散反射板要求之1 〇 # m以下的平滑凹凸形狀’然而’利用 上述方法，即使採用鄰近曝光，亦可在光阻2之表面上形 成1 0 // m以下之平滑凹凸形狀，且，可得到高反射強度之 特性。 該擴散反射板可將從正反射方向偏離1 〇〜16 °之射入 光擴散反射至正面（觀察者側）。可以將此擴散反射板貼合 於液晶面板之背面的方式來設置，然而，爲了避免視差所 造成之像模糊，本實例係將其設置於液晶面板之內部。 爲了將擴散反射板設置於液晶顯示器內部’液晶層之 厚度（所謂儲存盒間隙）必須保持均一 ’故濾色鏡容許之表 面落差最大爲〇.5//ra程度。又，爲了提高顯示之均一性， 成爲散射單位之構造必須爲顯示單位之數分之一’因此， 對擴散反射板之光阻2要求之表面形狀爲直徑1 0 // m以 下、落差l.〇#m以下之凹凸構造。 又，本實例中，擴散反射板之製造上，係在光阻2之 表面形成特定之凹凸構造後，再在該凹凸構造上形成鋁或 銀等之金屬反射膜3。在平坦面上形成之金屬反射膜部， 因背景光會進行鏡面反射，結果，因不會對觀察者方向進 行散射而不會對亮度有貢獻，故應形成連續之平滑凹凸構 造，本實例因實施熱處理，故可形成平滑之凹凸構造。 -1 5 - 1304156 此製造方法係利用鄰近曝光，在光阻2之表面形成10 # m以下之微小且平滑之凹面圖案，提供適合反射型液晶 絲頁不器之局性能擴散反射板。 傳統以來，擴散反射板之製造方法係採用：在玻璃等 基板上實施噴砂等粗面化處理的方法；在粗面化處理後進 一步實施以表面平滑化爲目的之蝕刻方法；以及形成光阻 後’實施曝光·顯影·熱處理之光刻法形成微細之凹凸構 造，再在此凹凸構造上形成A 1等之反射膜的方法。 φ 噴砂等之粗面化處理時，因係以隨機方式形成銳角之 凹面，結果，不但不易使射入之光朝特定方向散射，亦有 因此銳角凹面之光吸收而降低光之反射效率的問題。實施 蝕刻處理時，雖然可形成具有平滑散射構造之較亮擴散反 射板，然而，有不易控制散射角度、步驟較多、以及價格 ~ 昂貴之問題。 相對於此，亦可採用在光阻膜實施曝光、顯影、及熱 處理來形成凹凸構造之方法。採用光阻膜之擴散反射板的 φ 製造方法，因係採用液晶面板之形成過程核心之光刻步 驟，具有和既存過程有良好整合性、及良好再現性之優點。 亦即，因上述製造方法係採用鄰近曝光，故此方法比 噴砂法等更爲簡易，且，此時亦可得到高散射強度之擴散 反射板。 又，採用上述製造方法，利用光遮罩7之開口部的光 繞射，可使其最大強度小於對光遮罩7之射入光，且將能 量連續變化之曝光像投影於光阻2之表面，而形成橫向連 一 1 6 - 1304156 續之潛影濃度分布2 a °結果’可製成具有光散射性良好之 光擴散層的濾色鏡。 又，上述之製造方法中’在形成面板內部沒有貫通孔 之擴散反射板的步驟時’可同時除去面板周邊部上之不必 要的光阻膜。 又，上述之製造方法中’係在玻璃等平滑基板1之表 面塗布光阻2，並利用光遮罩7在該光阻膜之表面形成具 有平滑光量分布之曝光像後’實施顯影及熱處理，使表面 具有微細凹凸，製造可實現1 0〜1 6度之散射角的光擴散反 射板，然而，亦可爲1〇〜30度。 反射型液晶顯示器之擴散反射板，係對從觀察者之背 景方向射入反射板之背景光實施擴散反射，並以觀察者側 之散射光來顯示影像。因此，「較亮反射板」係指可將較 ~ 多散射光散射至觀察者側之反射板，反射板之散射亮度係 以和標準白色板相比之散射強度來評估。散射角係該散射 光相對於假設擴散反射板爲鏡面反射板時之反射光射出方 φ 向（正反射）的夾角。散射角爲3 0度時，以射入角3 0度射 入之光會朝擴散反射板之法線方向射出。 第3圖係採用設置著上述擴散反射板之濾色鏡的反射 型液晶顯示器之剖面圖。 該液晶顯示器係1片偏光板方式之反射型彩色液晶顯 示器。由玻璃所構成之基板1及相對基板1 0間設置著特定 間隙，該間隙內具有充塡著液晶之液晶層9、及圖素電極 1 1。又，相對基板1 0之外側則設置著偏光板1 2。 -1 7 -
μ 咖1 _» 丨丨 iM 1304156 月Ϊ曰修(吏证替換f 又，亦可在以相同方法形成之光散射層上形成配線及 驅動元件，並將其當做元件基板使用。 (實施例1 - 1 ) 利用上述之製造方法，製造設置著上述擴散反射板之 濾色鏡。 首先，在經過洗淨之 370x470x0.7mm的玻璃基板 (CORNING 1 7 3 7 )以1.1/zm之膜厚塗布正型感光性抗飩劑 (Shipley S1805) 0 在加熱板上對此抗蝕膜實施120 °C x60秒之預烘後，利 用隨機配置著外徑9 μ m、內徑3 // m及外徑1 1 // m、內徑5 // m之環狀透射部的光遮罩，曝光間隙在90 // m至260 // m 之範圍內變化且曝光量爲1 lOmJ / cm2之條件下實施曝光。 曝光光源採用波長λ爲3 0 0〜4 5 0 nm之高壓水銀燈。 曝光後之基板利用0 . 5%K0H溶液在23°C、70秒之條件 下顯影後，在無塵烘箱中實施200°C x20分鐘之熱處理。 所得到之基板表面會形成各種深度之凹面，同時，完 全除去周邊部上不必要之抗蝕膜，而處於可形成濾色鏡及 TFT、TFD等元件基板之狀態。 對製成之經過加熱處理的基板，利用直插噴濺裝置形 成厚度之鋁合金（Al-Nd合金）反射膜，而成爲擴散 反射板。 在所得到之擴散反射板上以甘油貼合玻璃基板做爲擴 散反射特性評估試料。 反射型液晶顯示器時，因係太陽光及螢光燈之光，散 -18- 1304156 射強度檢測上之波長大致一定。將該試料配置於環狀光源 (0 70mm)之正下方130mm，利用配置於環狀光源中央之亮 度計來檢測散射亮度（參照第4圖）。 相對於各種遮罩形狀之曝光間隙的效果指標，係採用 曝光間隙（L : β m )對光遮罩之透射部外徑（D : // m )平方的 比（L/D2)，檢驗對散射亮度之效果。可知L/D2爲120%〜280% 之範圍可得到筒売度’ 173%(9/30: //m)至少爲3xl03cd/m2 以上、1 1 6%( 1 1 / 50: // m )至少爲 4x1 03cd/m2 以上、2 1 0%( 1 1 / 5 0: //m)至少爲 5xl03cd/m2 以上、247%(9/30: //m)至少爲 6xl03cd/m2以上。又，9/3係代表透射部之外徑爲9 # m、 中央之遮光部的直徑爲11/5之標示亦係依據上述準 則。 可知，若L/D2超過280 % (9/30: //m )之臨界値，亦 即，284%時之散射強度會急速降低而成爲1319cd/m2。 又，將採用光阻之擴散反射板應用於液晶顯示器時， 擴散反射板之外圍需要配置著固定夾具等之裝設部。亦 即，從擴散反射板之外圍部除去光阻。 因此，上述之擴散反射板的製造方法，係具有：對使 用於反射型液晶顯示器之擴散反射板上的光阻實施鄰近曝 光後，實施顯影並接著實施熱處理，然後，再在其上形成 反射膜；之步驟的擴散反射板製造方法，在實施顯影同時 除去光阻之周邊部時，以不會在光阻之中央部形成對應光 遮罩之透射部的貫通孔之方式來設定鄰近曝光條件（L、 D )，係提供高散射強度之擴散反射板的簡易製造方法、鄰 -19- 1304156 近曝光方法。 此種鄰近曝光條件可以採用，除去光阻周邊部時在光 阻中混入碳黑等吸光性材料的方法。以下進行詳細說明。 第5圖係實施形態之附擴散反射板之濾色鏡的剖面 圖。 透明基板1之表面上，設置著具有微細凹凸曲面之凹 凸層2。凹凸層2之表面上則以蒸鍍等方法形成含有鋁等 高反射率之金屬膜的反射膜3。 凹凸層2係由光阻（感光性樹脂）等有機材料所構成。 光阻具有可以曝光步驟、顯影步驟後之加熱步驟實施硬化 的性質。光阻具有會隨加熱步驟之硬化而熔融軟化，且膜 表面會平滑化的性質。亦即，加熱步驟具有將光阻加熱至 軟化溫度之軟化步驟、及使光阻硬化之烘焙步驟。 採用在濾色鏡基板上形成光散射層時，光散射層上設 置著著色樹脂區域4R、4G、4B。必要時，著色樹脂區域4R、 4G、4B上可設置透明保護膜6，形成以驅動液晶爲目的之 透明電極5。 又，著色樹脂區域4R、4G、4B只要液晶中不會熔出雜 質成爲顯示不良之原因，任何材質皆可。具體之材質如實 施只有特定光可透射之膜厚控制的無機膜、或經過染色、 分散著染料、及分散著顏料之樹脂等。 本樹脂之種類並無特別限制，可使用壓克力、聚乙烯 醇、聚醯亞胺等。又，從製造過程之簡便性及耐候性等觀 點而言，著色樹脂區域4R、4G、4B應採用分散著顏料之樹 -2 0 - 1304156 脂膜。 上述擴散反射板係以鄰近曝光法製造。此使用於 型液晶顯示器之擴散反射板具有：塗布於基板1之 上，且具有在圖案化後以熱處理形成之凹凸表面的光P」 凸層2 );及含有形成於凹凸層2上之金屬膜的反射膜 又，因反射型液晶顯示器利用之光只限於太陽光 光燈之光，可得到散射強度之波長會大致一定。 弟6AH、弟6B圖、弟6C圖、第6D圖、以及） 圖係具有擴散反射板之濾色鏡的製造方法之說明圖。 色鏡係依序執行以下之步驟（a )〜（e )來進行製造。 步驟（a ) 在透明基板1上塗布正型抗蝕劑，形成光阻層（凹 2之中間體）2之（第6A圖）。光阻係採用正型。 步驟（b ) 利用光遮罩7實施整體曝光（鄰近曝光）（第6B圖 遮罩7上以規則或隨機之方式配置著多角形、圓形、 之透射部T。此實例中，係採用環（圓環）狀透射部T。 部T爲等間隔之複數配列，因此，利用曝光可在光阻 成潛影濃度分布2 a。 鄰近曝光時之光遮罩7及光阻2之距離爲L(/zm 近曝光時之光遮罩7之透射部T的外型尺寸爲D(//m 時，外型尺寸在透射部爲圓形或圓環形時係代表外徑 (直徑），透射部爲橢圓形或多角形時則代表重心位 圍之平均距離的2倍。 反射 表面 巨（凹 3 ° 及螢 第6E 此濾 凸層 )。光 環狀 透射 內形 )，鄰 )。此 尺寸 :至外 -21 - 1304156 光遮罩7上之透射部T的外徑D應爲20//m以下，最 好爲15//m以下，且應爲3//m以上。 又，代表光遮罩7之透射部T及曝光間隙之關係的指 標L/D2之設定上，應大於〇 . 8、小於5 · 0。 採用具有外徑丨5 # m以下之開口的光遮罩7實施鄰近 曝光時，以避免光阻2及光遮罩7之接觸爲目的之間隔’ 亦即曝光間隙，在對角爲500mm以上之大型時至少必須爲 5 0 // m 以上。 0 步驟（c ) 執行光阻2之顯影，實施圖案化（第6C圖）。顯影上， 只要選擇適合光阻之條件即可，將鈉或鉀之氫氧化物、碳 酸鹽、碳酸氫鹽等無機鹼、及有機銨等之有機鹼之溶液當 做顯影液使用，實施顯影液之2 0 °C至4 0 °C的浸漬或射叢。 ’ 對顯影後之基板以純水充分洗淨後，實施熱處理。 熱處理步驟中，光阻之圖案在硬化前會先熔融軟化， 而在光阻之表面形成光滑之凹凸面。熱處理溫度應爲120 φ 〜2 5 0 °C，最好爲1 5 0〜2 3 (TC之範圍。又，熱處理時間以 1 0〜6 0分爲佳。 步驟（d ) 形成含金屬膜之反射膜3 (第6D圖）。形成上可採用蒸 鍍法或噴濺法。構成反射膜3之材料以純鋁、鋁合金（A 1 - Nd 合金等）、或銀合金（Ag-Pd-Cu合金）等爲佳。反射膜3之 厚度應爲0.1〜〇.3//m之範圍，0.15〜0.25/zm之範圍更 佳。反射膜3亦可採用介電質多層膜。又.，反射膜3含金 - 22- 1304156 屬0吴時’可實現高反射率。此金屬膜應含有金屬鋁、鋁合 金、或銀合金，當然，只要不會對特性造成不良影響，亦 可含有其他元素。 必要時，可以蝕刻等除去不必要部份之反射膜3，形 成光透射部及標誌類。 步驟（e ) 必要時，形成紅、綠、藍之著色層，接著，在形成物 上堆積保護層6及透明電極5，完成附擴散反射板之濾色 φ 鏡基板（第6 E圖）。 此時，因上述之光阻係正型而具有吸光性（遮光性）。 光阻之感光波長域的平均透射率爲〇.〇l///m以上、0.3/ // m以下。此透射率爲0 · 〇 1 / // m以下時，加工性會較差， 形成較多凹凸上需要較多曝光能量，故不佳。另一方面， ‘ 透射率超過0 . 3時，加工深度會因曝光及顯影條件而產生 急速變化，而不易形成安定之凹凸構造，故不佳。 光阻2之感光域的透射率，可利用在感光域具有吸收 φ 性之微粒子或有機化合物來進行調整。在感光域具有吸收 性之微粒子（吸光性材料）可使用碳黑等顏料，另一方面， 有機化合物方面可對應感光域之波長，從一般被當做紫外 線吸收劑而可取得之二苯甲酮、三氮雜苯、水楊酸、芴酮 等芳香族化合物之衍生物當中選取。 尤其是，吸光性材料應採用碳黑，此材料可充分吸收 曝光光。 上述曝光時之曝光量係以實施不必要部份之光阻的曝 -23- 1304156 光顯影及除去爲目的之必要量，此曝光量爲曝光量閾値 E t h 〇 擴散反射板之擴散反射區域上，必須殘留實質上具有 凹凸面之光阻2，故此區域之平均曝光量應爲Eth以下， 且具有對應散射形狀之平滑分布。另一方面，擴散反射區 域以外之不需要光阻的區域上，曝光量必須大於閾値E t h。 具有如上所示之曝光量分布的光遮罩7，具有例如擴 散反射區域形成用圖案。此擴散反射區域形成用圖案，可 利用在配置著外徑爲1 5 // m以下之圓形、多角形、或環狀 之多數開口而未形成擴散反射板之區域上，以透過部份形 成不需要光阻2之部份的曝光區域來實現。此時， 擴散反射板之形成區域之開口部，亦可爲具有中間透 射率，所謂半色調者。 光遮罩之開口部外徑爲D(//m)時，可在L/D2爲0.8 至5 . 0程度之廣泛範圍內選擇曝光間隙：L ( // m )，然而， L / D2爲0 . 8以下時，形成於光阻上之曝光像的能量分布亦 會對應光遮罩之透射部形狀而急速變化，有時會在光阻上 形成貫通孔，且不易形成緩和之傾斜構造，而降低散射亮 度，故不佳。另一方面，L / D2爲5 . 0以上時，在光遮罩繞 射之光會擴散，不易在光阻表面形成圖案，故不佳。 上述之製造方法係使用於反射型液晶顯示器之擴散反 射板的製造方法’且具有：準備內側形成擴散反射區域形 成用圖案A、及外側形成透明圖案B之光遮罩的步驟；在 基板1之表面上塗布混入對感光波長域具有吸光性之吸光 -24- 13041^-- 3钵2月气日修(更)正替換頁 性材料的正型光阻2，利用光遮罩7對光阻2實施曝光後， 利用顯影處理實施光阻之圖案化（參照第6 B圖、第6 C圖） 後，再實施熱處理之步驟；以及在經過熱處理之光阻2上 形成反射膜3之步驟。 利用此方法，光遮罩7之內側會形成擴散反射區域形 成用圖案A，外側則會形成透明圖案B，故正型光阻2之周 邊部2 a會被除去，而其中心部則會形成含有複數潛影濃度 分布2 a之擴散反射區域（參照第6B圖）。 因光阻2內混入吸光性材料，即使周邊部2 a_之光阻2 被除去時，中心部之擴散反射區域亦不會形成貫通孔。又， 即使光阻2內未混入吸光性材料時，只要滿足L、D之曝光 條件，亦會因爲光遮罩之繞射而不會形成貫通孔。 在對應圖案A之光阻2的擴散反射區域上，在曝光時 會形成以形成具有適當加工深度之散射構造爲目的之繞射 光像。爲了使此區域不會形成不會對散射反射產生影響之 平坦部，故未完全除去光阻2，實質上，在全部擴散反射 區域上都殘留著光阻。亦即，在顯示體形成部周邊部及密 封部等不需要樹脂層之區域，可實施以完全除去感光性樹 脂層爲目的之充分曝光。 因此，即使除去周邊部之光阻時，亦可形成具有高散 射強度之擴散反射區域。 上述擴散反射板設置於濾色鏡等液晶構件上。因此種 濾色鏡相對較大型，上述擴散反射板之製造方法係採用大 型遮罩之鄰近曝光（整體曝光）法。因此，本製造方法可提 -25 - 1304156 高生產性。 傳統之整體曝光法係使用昂貴之大型光遮罩，然而， 爲了防止遮罩破損、污損，光遮罩及抗蝕膜（光阻）表面會 保持數i--數百# m之間隙（曝光間隙）。此時，會因光繞 射而產生圖案模糊，故解析度只爲1 〇 // m前後，因此，亦 可採用此方法。 又，傳統之整體曝光法中，光遮罩係由光完全透射之 開口部（透射部）、及光完全阻隔之遮光部的圖案所構成，φ 因係以形成輪廓鮮明之曝光像爲前提，故不易在擴散反射 板上安定形成要求之平滑散射構造。 亦即，傳統之整體曝光法時，不易以整體曝光形成擴 散反射板要求之1 0 // m以下的平滑凹凸形狀，然而，利用 上述方法，即使採用鄰近曝光，亦可在光阻2之表面上形 _ 成1 0 // m以下之平滑凹凸形狀，且，可得到高反射強度之 特性。 該擴散反射板可將從正反射方向偏離1 〇〜1 6度之射 馨 入光擴散反射至正面（觀察者側）。可以將此擴散反射板貼 合於液晶面板之背面的方式來設置，然而，爲了避免視差 所造成之像模糊，本實例係將其設置於液晶面板之內部。 爲了將擴散反射板設置於液晶顯示器內部’液晶層之 厚度（所謂儲存盒間隙）必須保持均一 ’故濾色鏡容許之表 面落差最大爲0.5//m程度。又，爲了提高顯示之均一性’ 成爲散射單位之構造必須爲顯示單位之數分之一’因此’ 對擴散反射板之光阻2要求之表面形狀爲直徑1 0 # m以 -26- 1304156 下、落差1.0//m以下之凹凸構造。 又，本實例中，擴散反射板之製造上，係在光阻2之 表面形成特定之凹凸構造後，再在該凹凸構造上形成鋁或 銀等之金屬反射膜3。在平坦面上形成之金屬反射膜部， 因背景光會進行鏡面反射，結果，因不會對觀察者方向進 行散射而不會對亮度有貢獻，故應形成連續之平滑凹凸構 造，本實例因實施熱處理，故可形成平滑之凹凸構造。 此製造方法係利用鄰近曝光，在光阻2之表面形成1 0 # m以下之微小且平滑之凹面圖案，提供適合反射型液晶 顯示器之高性能擴散反射板。 傳統以來，擴散反射板之製造方法係採用：在玻璃等 基板上實施噴砂等粗面化處理的方法；在粗面化處理後進 一步實施以表面平滑化爲目的之蝕刻方法；以及形成光阻 後，實施曝光、顯影、熱處理之光刻法形成微細之凹凸構 造，再在此凹凸構造上形成A 1等之反射膜的方法。 噴砂等之粗面化處理時，因係以隨機方式形成銳角之 凹面，結果，不但不易使射入之光朝特定方向散射，亦有 因此銳角凹面之光吸收而降低光之反射效率的問題。實施 蝕刻處理時，雖然可形成具有平滑散射構造之較亮擴散反 射板，然而，有不易控制散射角度、步驟較多、以及價格 昂貴之問題。 相對於此，亦可採用在光阻膜實施曝光、顯影、及熱 處理來形成凹凸構造之方法。採用光阻膜之擴散反射板的 製造方法，因係採用液晶面板之形成過程核心之光刻步 -27- 1304156 驟，具有和既存過程有良好整合性、及良好再現性之優點。 亦即，因上述製造方法係採用鄰近曝光，故此方法比 噴砂法等更爲簡易，且，此時亦可得到高散射強度之擴散 反射板。 又，採用上述製造方法，利用光遮罩7之開口部的光 繞射，可使其最大強度小於對光遮罩7之射入光，且將能 量連續變化之曝光像投影於光阻2之表面，而形成橫向連 續之潛影濃度分布2 a。結果，可製成具有光散射性良好之 0 光擴散層的濾色鏡。 又，上述之製造方法中，在形成面板（基板1)中央部 沒有貫通孔之擴散反射板的步驟時，可同時除去面板周邊 部上之不必要的光阻膜。 ' 又，上述之製造方法中，係在玻璃等平滑基板上之表 — 面塗布光阻2，並利用光遮罩7在該光阻膜之表面形成具 有平滑光量分布之曝光像後，實施顯影及熱處理，使表面 具有微細凹凸，製造可實現1 0〜1 6度之散射角的光擴散反 φ 射板。 第7圖係採用設置著上述擴散反射板之濾色鏡的反射 型液晶顯示器之剖面圖。 該液晶顯示器係1片偏光板方式之反射型彩色液晶顯 示器。由玻璃所構成之基板1及相對基板1 0間設置著特定 間隙，該間隙內具有充塡著液晶之液晶層9、及圖素電極 1 1。又，相對基板1 0之外側則設置著偏光板（偏光膜）1 2。 又，亦可在以相同方法形成之光散射層上形成配線及驅動 - 2 8 - 1304156 元件，並將其當做元件基板使用。透明電極5會在除去光 阻之基板1的周邊部（外露區域）上延伸，雙方之玻璃基板 1、1 0間之外露區域間則設置密封1 3。 (實施例2 - 1 ) 製造第5圖所示之擴散反射板時，會在正型光阻（東京 應化工業製PR - 1 3 )添加各種比率之碳黑，調整附與吸光性 之光阻。在玻璃基板上塗布1 . 1 // m膜厚之經過預烘的該吸 光性光阻，以加熱板實施100°C x90秒鐘之預烘，形成感光 性樹脂膜。此感光性樹脂膜之主感度波長（4 0 5 nm )的透射率 爲 0.015 〜0.12///m。 利用光遮罩，對該感光性樹脂膜之經過階段式透射率 變更之光阻（平均透射率爲0·12、0·07、0·015//ζιώ)，實 施最大60 0mJ /cm2之UV光的照射（曝光），並將其浸漬於 0 · 5%KOH溶液中實施70秒鐘之顯影。對顯影後之基板實施 洗淨、乾燥，其後，在保持2 0 0 °C之無塵烘箱中實施2 0分 鐘之熱處理。 熱處理後’以觸針式落差計檢測感光性樹脂膜之殘存 膜厚，求取被顯影除去之膜厚（加工深度），調查曝光能量 之關係（第8圖）。 可以連I賈加工從感光性樹脂膜之表面除去至和曝光能 量之對數成比之深度的膜，故可利用感光性樹脂膜之透射 率來調整加工深度。 (比較例1 ) 除了感光性樹脂膜之主感度波長的透射率爲〇 . 〇 〇 5 / - 29 - 1304156 // m以外，以和實施例2 _丨相同之方法製造感光性樹脂膜。 首先’塗布正型光阻，形成感光性樹脂膜。除了對感光性 樹脂膜實施400m】/cm2之曝光和實施例1相同以外，其餘 則和實施例相同，求取曝光能量及加工深度之關係。 和I實施例2 - 1相同，可相對於曝光能量之對數而以線 性方式實施膜之加工除去，然而，加工深度較淺，且加工 性不良。透射率應大於0 . 0 0 5 /// m爲佳。 (比較例2 ) 除了添加碳黑以外，其餘和實施例2 - 1相同，塗布正 型抗蝕劑，形成感光性樹脂膜。此感光性樹脂膜之主感度 波長的透射率爲 〇 . 3 4 /// m。除了對該感光性樹脂膜 200mJ / cm2之曝光和實施例2_ 1相同以外，其餘貝[J和實施例 相同，求取曝光能量及加工深度之關係（第8圖之稜形記 號）。 和實施例2 - 1相同，可相對於曝光能量之對數而以線 性方式實施膜之加工除去，然而，因加工深度會相對於曝 光量之變化而呈現急速變化，故不易實施中間加工，此時， 極難如上面所示之只除去周邊部之光阻。 (實施例2 - 2 ) 和實施例2 - 1相同，在玻璃基板上塗布1 . 1 // m膜厚之 經過預烘的該吸光性光阻，以加熱板實施100 °C x90秒鐘之 預烘，形成感光性樹脂膜。此感光性樹脂膜之主感度波長 (405nm)的透射率爲 〇.〇15///m。 除了利用光遮罩對該感光性樹脂膜實施150mJ / cm2之 -30- 1304156 曝光且將其浸漬於0 . 5%KOH溶液中實施40〜100秒鐘之顯 影以外，其餘則實施和實施例2 - 1相同之處理。熱處理後， 以觸針式落差計檢測感光性樹脂膜之殘存膜厚’求取相對 於顯影之時間變動的膜厚（加工深度）變化。（第9圖：黑色 四方形記號） 相對於顯影時間，本實施例之感光性樹脂膜的加工深 度呈現安定。 (比較例3 ) 除了未添加碳黑以外，以和實施例2 - 2相同之方法形 成感光性樹脂膜。該感光性樹脂膜之主感度波長的透射率 爲 0 . 3 4 / // m。 在對該感光性樹脂膜實施和實施例2 - 2相同之曝光及 熱處理後，檢測殘存膜厚（第9圖）。和實施例2 - 2不同者， 加工深度會隨顯影時間而產生變化，呈現不安定。 (實施例2 - 3 ) 在玻璃基板上塗布添加了碳黑之吸光性光阻（透射率 0 . 07/ // m)，實施100°C x90秒之預烘後，形成1 . 1从m之感 光性樹脂膜。對該感光性樹脂膜，利用配置著外徑1 1 // m / 內徑5 // m之透射部的光遮罩實施曝光間隙90〜315 // mx曝 光量400m】/ cm2之條件的曝光。曝光後之感光性樹脂膜在 0 · 5%KOH溶液中實施70秒鐘之顯影，洗淨後再實施200°C、 20分鐘之熱處理。 熱處理後之基板表面上會形成代表遮罩之繞射光之強 度分布的直徑約10# m之凹面。以Seiko Instruments(股） - 31- 1304156 製原子力顯微鏡Nan opi cs - 1 000觀察凹面之形狀，檢測凹 面之深度。 第1 0圖係曝光間隙及加工深度之關係。 (實施例2 - 4 ) 經過洗淨之 3 70 X 470 X 0 . 7mm 之玻璃基板 (CORNING 1 7 3 7 )，以1 . 1 // m之膜厚塗布實施例2-3使用之 吸光性光阻。在加熱板上對該抗蝕膜實施1 20°C X 1 1 0秒鐘 之預烘後，利用配置著外徑3至1 1 // m之環狀或多角形狀 透射部之曝光遮罩，在曝光間隙100〜200 // m、曝光量 40 0mJT / cm2之條件實施曝光。利用0 . 5%K0H溶液在23°C、 7 0秒之條件下實施經過曝光之基板的顯影，然後，在無塵 烘箱中實施2 0 (TC X 2 0分鐘之熱處理。 所得到之基板表面會形成各種深度之凹面，周邊部上 不必要之抗蝕膜已完全除去，而處於可形成濾色鏡或TFT、 TFD等元件基板之狀態。利用和實施例 2 - 3相同之 Nanopi cs - 1 000檢測凹面之形狀。 第1 1圖係曝光間隙、透射部T之外型、以及加工深度 (// m )之關係。 (實施例2-5) 在除了曝光量爲3 00〜5 00 mJ/m2、曝光間隙爲70〜250 从m以外以和實施例2 - 4相同之方法製作之附凹凸構造之 基板上’利用直插式噴濺裝置形成A 1膜當做擴散反射板。 切下擴散反射板當中以隨機方式配置外徑9 μ m /內徑3 /z m 之環狀開口部（亦即，寬度3 V m )之部份，利用甘油貼合蓋 -32- 1304156 「― ---·、 π年1月日修(更)正替換頁 玻片，當做擴散反射特性評估試料。 將該試料配置於環狀光源（07 0mm)之正 用配置於環狀光源中央之照度計檢測散射亮 第1 2圖係曝光量、曝光間隙、以及散: 度）之關係。 相對於各種遮罩形狀之曝光間隙的效果 曝光間隙（L : // m )對光遮罩之透射部外徑（] 比（L/D2)，檢驗對散射亮度之效果。可知l/D2 之範圍可得到標準白色板之75%以上的高亮 (比較例4 ) 除了曝光間隙爲70 // m以外，以和實施 條件形成擴散反射板。擴散反射板周邊雖 留，然而，擴散反射板上有很多不會影響散 散射亮度較低。 又，上述擴散反射板之構成上，從正反 〜30度之射入光會擴散反射至正面（觀察者 對此射入光角度進行實驗。 (實施例3 - 1 ) 製造上述第5圖所示之擴散反射板時， 友化學工業株式會社製PMHS- 900 )添加sum 化學工業株式會社製）當做UV吸收劑。添加 該光阻之i線波長（365nm)的透射率達到0. 以旋轉塗布器將該光阻塗布於透明基板（經 470mm的玻璃基板（CORNING 1 7 3 7 ))上，後哲 下方1 3 0 m m，利 度。 射亮度（散射強 :指標，係採用 ):V m )平方的 爲 1 0 0 % 〜2 5 0 % 度。 ϊ例2 - 5相同之 然沒有光阻殘 :射之平坦部， 射方向偏離1 0 側）。其次，針 在正型光阻（住 isorb310(住友 UV吸收劑直到 2 9 / // m 爲止。 過洗淨之 3 7 0 X 专焙後進行光阻 -33- 1304156 之塗布量的調整，使其厚度相當於1 . 1 // m。 針對該光阻膜，利用配列著複數外徑9 // m之圓形透明 開口部的光遮罩，對光阻照射曝光光，在光阻內形成潛影。 曝光時之條件方面，曝光間隙（光阻-光遮罩間之距離）設定 成135//m，曝光光係高壓水銀燈產生之800mJ/cm2的g線 UV光。實施此曝光時，會利用光學濾色鏡（駿河精機製銳 利濾波器（s h a r p c u t f i 1 t e r : S 7 6U - 3 6 0 )，阻隔曝光光之 波長成分中之3 9 0 nm以上的可見光，然後照射至光阻。 利用無機鹼液（KOHO. 07重量百分率水溶液）對曝光後 之光阻膜實施28 °C、80秒鐘之顯影，形成圖案，其次，照 射3 00m】 /cm2( i線）之UV光（高壓水銀燈），分解殘存之感 光劑，進行脫色。此脫色步驟使用未經過濾色器之光源光。 在無塵烘箱對脫色後之光阻膜實施2 20 °Cx20分鐘之 熱處理。經過熱處理後之基板表面，會形成具有直徑約1 〇 /z m之凹面的透明樹脂層，前述凹面係代表光遮罩之繞射 光的強度分布。 在以此方法製造之附凹凸構造之基板上，形成當做反 射膜之A 1膜，成爲擴散反射板。在擴散反射板上以甘油貼 合蓋玻片，當做擴散反射特性評價試料。將該試料配置於 環狀光源（0 5 7 )之正下方，利用配置於環狀光源中央之照度 計檢測散射強度。此時，在5 0 m m至1 6 0 m m之間調整試料及 環狀光源之距離，使散射角度成爲1 0度至3 0度。 第1 3圖係本實施例之散射角度、散射亮度（c d / m2)、 以及白色板売度（cd/m2)之關係表。由該表可知，散射角在 一 3 4 - 1304156 10度〜30度之範圍，可得到充分之反射光亮度（標準白色 板之7 5 % )。 (實施例3 - 2 ) 製造第5圖所示之擴散反射板時，以旋轉塗布器將添 加碳黑之吸光性光阻（透射率0 . 2 5 /// m )塗布於經過洗淨之 3 70x470_ 之玻璃基板（CORNING 1 7 3 7 )上，在 90°Cxll0 秒 之預烘後，形成1 . 1 // m之感光性樹脂膜。針對感光性樹脂 膜，利用具有複數外徑9 /z m之圓形透射部的光遮罩，在曝 光間隙爲 L/D2=160%(曝光量 2 5 0 mJ/cm2)、L/D2 = 210% (3 00m；i / cm2)之條件下實施曝光。在0 . 5%KOH溶液中對曝光 後之感光性樹脂膜實施70秒鐘之顯影，並在洗淨後，實施 20 °C、20分鐘之熱處理。 在製成之附有凹凸構造之基板上，形成A 1膜當做擴散 反射板。其次，切下5 cm四方之試料，將該試料配置於環 狀光源（057 )之正下方，利用配置於環狀光源中央之照度計 檢測散射強度。此時，在50mm至160mm間調整試料及環狀 光源之距離，使散射角度成爲1 0度至3 0度。 第14圖係本實施例之散射角度、散射亮度（cd/m2)、 以及白色板亮度（c d / m2)之關係表。由該表可知，散射色在 1 0度〜3 0度時，可得到充分之反射光亮度（標準白色板之 75%以上）。 又，如上面所述，形成於光遮罩上之透射部（透明開口 部）的形狀，亦可爲環形以外之圓形，又，將L、D値設定 成如上述不等式時，即使光阻之透射率上昇，亦可得到高 -35- 1304156 散射強度（反射光亮度）。 利用本發明之採用鄰近曝光方法之擴散反射板的製造 方法，即使從基板外圍部除去光阻時，亦可提供具備高散 射強度之擴散反射區域的擴散反射板，且以簡便步驟即可 製造高散射強度之擴散反射板。 本發明可應用於反射型液晶顯示器之擴散反射板及其 製造方法、及鄰近曝光方法。
[圖式簡單說明] 第1圖係實施形態之附擴散反射板之濾色鏡的剖面 圖。 第2A圖、第2B圖、第2C圖、第2D圖、以及第2E 圖係具有擴散反射板之濾色鏡的製造方法之說明圖。 第3圖係採用設置著擴散反射板之濾色鏡的反射型液 晶顯示器之剖面圖。 第4圖係指標値L / D2及散射強度（散射亮度）之關係 表。 第5圖係實施形態之附擴散反射板之濾色鏡的剖面 圖。 第6A圖、第6B圖、第6C圖、第6D圖、以及第6E 圖係具有擴散反射板之濾色鏡的製造方法之說明圖。 第7圖係採用設置著擴散反射板之濾色鏡的反射型液 晶顯示器之剖面圖。 第8圖係曝光量及加工深度之關係圖。 第9圖係顯影時間及加工深度之關係圖。 1304156 第1 0圖係曝光間隙及加工深度之關係表。 第1 1圖係曝光間隙及遮罩形狀不同時之加工深度（// m )的關係圖。 第1 2圖係曝光量、曝光間隙、以及散射亮度之關係表。 第1 3圖係散射角、反射光亮度、以及白色反射板亮度 之關係圖。 第1 4圖係散射角、反射光亮度、以及白色反射板亮度 之關係圖。 [元件符號之說明] 1 基板 2 光阻 3 反射膜 4R，4G，4B 著色樹脂區或 5 透明電極 6 透明保護膜 7 光遮罩