TWI280751B - Phased array source of electromagnetic radiation - Google Patents

Description

1280751 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明大體上相關於電磁輻射源，並且更特別相關於 一種電磁輻射之移相陣列源。 【先前技術】 磁電管在習知技藝中係爲人所熟知，磁電管長久以來 已經作爲微波能量之高效率來源，例如，磁電管通常利用 在微波爐中以產生充足的微波能量，作爲加熱以及烹調食 物之用，需要使用磁電管係因爲其以高效率運作，因此可 避免關於額外功率之消耗，熱散逸等等。 微波磁電管利用一常態磁場以產生轉動電子空間電荷 。該空間電荷與多個微波共振腔室互相作用，以產生微波 輻射，迄今爲止，通常將磁電管的最大運作頻率限制在約 少於100百萬赫茲（Ghz)。先前對於高頻率運作通 常不被考慮爲實際可行的原因也許有下列幾種，例如，非 常高的磁場需要將磁電管劃分爲非常小的尺寸，另外，製 造非常小的微波共振器是非常困難的，此種問題使得高頻 磁電管變成不太可能以及不太實際。 最近，申請人發展出一種磁電管，其以習知磁電管不 可能運作的頻率運作，此種高頻磁電管能夠以紅外線以及 可見光帶之內的頻率產生高效率以及高功率的電磁能量， 並且其頻率可以延伸至更高的頻帶，例如紫外光，X射線 等等。結果，磁電管可以作爲各種不同應用的光源，例如 長距離的光學通訊，商業以及工業照明，製造業等等，此 1280751 種磁電管係詳細描述於一般申請之美國專利申請案序號第 09/584887號，其於2000年六月一日申請， 並且描述於2 0 〇 1年三月一日申請之申請序號第0 9/ 7 9 8 6 2 3號，該兩者之整體揭示皆已經合倂於此案中 作爲參考。 此種高頻磁電管之優點在於其不需要非常高的磁場。 甚至該磁電管較佳係使用更合理的強度，更好的是從永久 磁鐵獲得磁場，磁場強度決定在陰極和陽極之間的互動區 域（通常稱作陽極一陰極空間）內電子空間電荷之轉動半 徑以及角速度，該陽極包含多個小型共振腔室，其係根據 欲求之運作波長測量製作，提供一種機制作爲限制多個共 振腔室以習知的P i模式運作。特別的是，每個共振腔室 係限制較對於立刻鄰近的共振腔室爲異相的相位振動p i 半徑，輸出耦合器或是耦合器陣列提供作爲與共振腔室遠 離之耦合光學輻射，以傳送有用的輸出功率。 然而，技術上非常需要發展高頻電磁輻射源之優點， 例如非常的需要較低漏損的機制，以及進一步的改良效率 ’更特別的是，需要一種裝置，其並不是利用多個小型共 振腔室，而是提供更大的設計彈性，更有甚者，此種裝置 特別適用於以非常短的波長產生電磁輻射。 【發明內容】 根據本發明，提供一種電磁輻射之移相陣列源（在此 稱作爲移相器），該移相器將直流（d c )電力轉換爲單 一頻率電磁輻射，其運作波長可以是微波頻帶，或是紅外 1280751 線光，或是可見光帶，或甚至是更短的波長。 在作爲闡述的實施例中，該移相器包含移相線路的陣 列以及/或者指狀組合型的電極，其位置於沿著電子互動 空間的外部周圍，在運作過程中，電場在鄰近移相線路/ 陣列中的相連電極之間的間隙振動，電場被限制於指向鄰 近間隙中的相對方向中，因此提供一種稱爲“ P i模式” 的場，其對於有效率的磁電管操作上是必要的。 電子雲繞著在互動空間中的對稱軸轉動，當電子雲轉 動時，電子分布變成在其外部表面上隆起，該外部表面上 形成類似齒輪上的齒的電荷舵輪把柄。移相器的操作頻率 由舵輪把柄在振盪週期的半個週期之間從一個間隙至下一 個間隙的速度決定，該電子轉動速度主要由永久磁場的強 度決定，而該電場提供至互動區域，對於非常高的頻率操 作，移相線路/指狀組合型電極間隔的非常緊密，以允許 一秒內通過大量的間隙。 根據本發明之一特定方面係提供電磁輻射源，該源包 含一個由陽極一陰極空間所分隔之陰極以及陽極，電氣接 觸點在陽極和陰極之間供應直流電壓，並在陽極一陰極之 間建立電場，安置至少一種磁鐵以在陽極一陰極空間內提 供直流磁場，該磁場通常垂直於該電場，沿著陽極之表面 形成多個開口，其定義陽極一陰極空間，其中從陰極射出 之電子由電場以及磁場所影響，而循著陽極一陰極空間的 路徑緊鄰近於該開口通過，該源進一步包含一共同共振器 ，其接收在該開口所感應之電磁輻射作爲通過緊靠近於該 1280751 開口之電子，並且其將電磁輻射反射回朝向該開口，並且 橫跨每個開口以所欲之運作頻率產生振盪電場。 根據本發明之另一個觀點，提供一電磁輻射源，其包 含一陽極以及陰極，其以陽極一陰極空間相分隔開。該電 磁輻射源進一步包含電接觸點，用以提供在陽極以及陰極 之間的直流電壓，並且建立穿過陽極一陰極空間的電場。 另外，該電磁輻射源包含至少一個磁鐵，其安置以提供一 在陰極一陽極空間內部之直流（d c )磁場，該磁場係垂 直於該電場，並且該源包含一陣列，該陣列包含N個類似 接腳電極，該電極形成至少一部份的陽極並且以定義該陽 極一陰極空間的形式而安置。另外，該電磁輻射源包含至 少一種共同共振腔室，該共振腔室係靠近於該電極。該電 極係以在其中的開口相間隔，並且從陰極發射的電子係被 電場以及磁場所影響，而循著穿過該陽極一陰極空間之路 徑並且緊靠近於該開口而通過，以在該共同共振腔室內部 建立一共振電磁場。 爲了完成以上所述以及相關的目標，本發明包含在以 下完整敘述的特徵，以及特別在申請專利範圍中指出的特 徵。下列敘述以及附加的圖示在本發明的相關說明性實施 例中提出。然而該些實施例僅指示利用本發明之原則所顯 示的少數多樣性，本發明之其他目標，優點以及顯著特徵 將從下列本發明之詳細敘述結合參考圖式而更加彰顯。 【實施方式】 一開始請參照第1圖，顯示一高頻率通訊系統2 0 ° 1280751 根據本發明，通訊系統2 0包含一電磁輻射之相位式陣列 源（移相器）2 2。該移相器2 2係作爲一種高頻率的電 磁輻射之高效率源。此種輻射可以是，例如在微波帶或是 紅外線光或是可見光帶，或甚至是更短的波長。移相器2 2的輸出可以是作爲從點對點以光學方式通訊資訊，雖然 該移相器在此描述的係作爲光學頻帶通訊系統2 0之用， 値得注意的是，該移相器2 2具有其他應用上的多樣利用 性。本發明考慮此種應用中任一項以及所有應用。 如同第1圖中所示，該移相器2 2作爲輸出光學輻射 2 4的用途，該光學輻射係例如在紅外線的相干光線，紫 外光或是可見光區域。該光學輻射係較佳的是具有對應於 1 0 0 G h ζ或是更高的頻率之波長，在更特別的實施例 中，該移相器2 2輸出的光學輻射之波長範圍在約1 0微 米到0 .5微米之間，根據本發明之另一實施例，該移相器 2 2輸出的光學輻射之波長範圍在約3 .5微米到1 .5微米 之間，然而値得注意的是該移相器2 2在低於1 0 0 G h ζ的頻率時仍然具有應用性。 由該移相器2 2產生的光學輻射2 4通過一調變器2 6，該調變器係用於將輻射2 4利用已知技術調變。例如 該調變器2 6可以是光學快門，其係由電腦根據傳輸的資 料控制。該輻射2 4由調變器2 6選擇性的傳輸，成爲經 過調變後的輻射2 8。接收裝置3 0接收調變後輻射2 8 並且隨後將其解調變，以獲得傳輸資料。 該傳輸系統2 0進一步包含一電源供應器3 2，以提 1280751 供一運作直流電壓至移相器2 2。以下將更詳細的解釋’ 該移相器2 2運作在陰極以及陽極之間提供的直流電壓。 在一說明實施例中，該運作電壓係在1仟伏特（k V )至 4仟伏特的範圍。然而，將了解的是其他運作電壓同樣係 可行的。 現在將參照第2圖以及第3圖，其顯示移相器2 2的 第一實施例，該移相器2 2包含一圓柱形的陰極4 0，其 具有半徑r c。包含在陰極4 0的個別終端上的係終端蓋 4 1，該陰極4 0係包含在空心圓柱形狀的陽極4 2之內 ，其係相較於軸A而同軸的對準於陰極4 0。該陽極4 2 具有內部半徑r a，其係大於r c，以定義一電子互動區 域或是陽極一陰極空間4 4，該陽極一陰極空間4 4係位 於陰極4 0的外部表面4 8以及陽極4 2內部表面5 0之 間。 終端5 2和5 4個別通過絕緣體5 5並且電連接至陰 極4 0，以提供電源以加熱陰極4 0，並且提供負端（一 )的高態電壓到陰極4 0，陽極4 2係經由終端5 6電連 接到正端（+ )或是高電壓供應器的地端，在運作期間， 電源供應器3 2 (如第1圖）經由終端5 2和5 4供應加 熱電流至陰極4 0，或是從陰極4 0處提供加熱電源，同 時，該電源供應器3 2經由終端5 4和5 6提供直流電壓 至陰極4 0和陽極4 2。直流電壓產生一直流電場E，其 通過陽極一陰極空間4 4徑向的延伸在陰極4 0以及陽極 4 2之間。 11 1280751 移相器2 2進一步包含一對磁鐵5 8和6 0，其位於 陽極4 2的個別終端上。磁鐵5 8和6 0係構成以在軸方 向上提供直流磁場Β，該軸方向在一陰極空間4 4中係垂 直於電場Ε。如同第3圖所顯示，該磁場Β在陽極一陰極 空間4 4中係進入頁面的方向。該磁鐵5 8和6 0在說明 實施例中係永久磁鐵，其產生一磁場Β，該磁場係在2千 高斯（kilogauss)的範圍。其他用以產生磁場的工具（例如 電磁鐵）可以用來替代之，然而，一或多個永久磁鐵2 8 和6 0較佳係特別使用在此範例中，其中具有所欲求的特 性，例如該移相器2 2提供一些程度的攜帶性。 該進入頁面的磁場B以及電場E影響從陰極4 0發射 出的電子，使其在陽極一陰極空間4 4彎曲的通道中移動 。當具有一充足直流磁場B時，該電子將不會到達陽極4 2，而是會回到陰極4 0。 該陽極4 2在該處形成一直線單一模式波導5 9 a和 59b的偶數陣列（在第3圖中以虛線表示），該波導5 9 a和5 9 b作用爲個別移相線路（phasing line )，並且 具有選擇使用習知技術，使得該波導以欲求的操作波長λ 操作在單一模式，該波導5 9 a和5 9 b從陽極一陰極空 間4 4徑向的延伸，經過陽極4 2的主體，到達共同共振 腔室6 6。特別是，該波導5 9 a和5 9 b之每一者具有 在陽極4 2之內部表面5 0進入該陽極一陰極空間的開口 ，在陽極4 2之外部表面6 8，該波導5 9 a和5 9 b開 口朝向該共同共振腔室6 6而開放。該波導5 9 a和5 9 12 1280751 b的開口係均勻的並且可選擇的沿著陽極4 2的內部表面 以及外部表面周圍間隔開。在沿著內部表面5 0的開口之 間的間隙室以G p表示。 在第2圖以及第3圖中，該波導5 9 a (名詞上在此 參照爲偶數波導）與波導5 9 b (名詞上在此參照爲奇數 波導）相較之下係相對的狹窄，波導的寬度係選擇以使得 奇數波導5 9 b具有寬度Wb，其大於偶數波導5 9 a的 寬度W a，以提供與在運作波長λ之偶數波導5 9 a相比 較之下，一種額外的相位延遲，在示範實施例中，四個 偶數波導5 9 a係安排在沿著軸A的軸方向上並排，而較 寬的奇數波導5 9 b之其中三個係相似的排列。然而値得 注意的是，安排在軸方向上的波導特定數目係以選擇性的 方式，並且可能會依照所欲求的輸出功率或其他等等而有 所不同。 該共同共振腔室6 6係形成在陽極4 2的外部周圍， 並且係由陽極4 2的外表面6 8以及形成在共振腔室結構 7 2之內部的腔室定義牆7 0。該牆7 0係彎曲的並且形 成一超環面形狀的共振腔室6 6。該牆7 0的曲度半徑係 2公分至2公尺的範圍內，係依照運作頻率而定。 如同第2圖以及第3圖所示，該共振腔室結構7 2形 成一圓柱形套管，其係適合於陽極4 2之周圍，該共振腔 室6 6係以對準於該個別波導5 9 a以及5 9 b之外部開 口的位置放置。該共振腔室6 6係作用於限制通過該個別 波導5 9 a以及5 9 b之振動，以使得運作於在p i模式 13 1280751 ，如同以下將更詳細的討論之。 此外，該腔室結構7 2可能作用爲提供結構性支撐並 且/或是作用爲裝置2 2的主要外殼。若是在高溫度運作 下，該腔室結構7 2也可以作爲冷卻陽極4 2。 該共振腔室6 6包含至少一個或是更多個輸出璋7 4 ，其作用於將來自共振腔室6 6之能量穿過一透明輸出視 窗76作爲輸出光學輻射24。該輸出埠74係經由提供 在共振腔室鲒構7 2之牆的洞或是狹槽所形成。 顯示於第2圖以及第3圖之結構，結合其他在此敘述 之實施例，較佳的是使得陽極一陰極空間4 4以及共振腔 室6 6保持在真空的狀態下構成。其預防了灰塵或是碎片 進入該設備而干擾了其中的運作。 該共振腔室6 6係使用習知技術設計，設計成具有在 欲求之操作頻率下之可允許模式（例如在所求之運作波長 入）。此種技術係已知，例如和一般習知上與雷射裝置共 同使用的光學共振器結合。在一示範實施例中，該波導5 9 a和5 9 b係錐形的波導。該波導5 9 a以及5 9 b係 設計爲切斷對應於所有共振腔室6 6可能的共振模式之截 止頻率，該頻率係低於欲求之運作頻率。另外，該波導5 9 a以及5 9 b係限定尺寸，以提供前述在操作頻率以及 只有在該操作頻率上相關之1/2波長相位差。 在該內部陽極表面5 0之鄰近波導開口之間的間隔G p 係經選擇，以將操作波長再次最佳化至所欲求之操作波長 λ，並且抑制在較高頻率之振盪。該結果是，一個旋轉電 1280751 子雲形成於陰極一陽極空間4 4之內，其與在內部陽極表 面5 0之P i模式的電場互動，並且發生P i模式之振盪 〇 更特別的是，在操作期間，電源供應至該陰極4 0以 及陽極4 2，從該陰極4 0發射之電子循著前述通過陽極 一陰極空間4 4之彎曲路徑，幾近於該波導5 9 a以及5 9 b之開口而通過，結果，在波導5 9 a以及5 9 b之間 感應一電磁場，接著電磁輻射通過波導5 9 a以及5 9 b ，並且進入共同共振腔室6 6，在該腔室6 6內部之電磁 輻射開始共振，並且朝向陽極一陰極空間4 4連接回該波 導59a以及59b。 結果，從該陰極4 0發射出之電子容易形成在陽極一 陰極空間4 4內部之一旋轉電子雲，一振盪電場出現在波 導5 9 a和5 9 b開口之間的空隙，陽極4 2之內部表面 50。因爲該波導59a和59b係移相了 1/2入，在 該空隙之間的電場係被限制於指向相對於該鄰近空隙之相 反方向，因此對於充足之類似磁電管操作所必須的稱之爲 p i模式的場係被提供。 該電子雲繞著軸A在該陽極一陰極空間4 4內部旋轉 ，當電子雲旋轉時，該電子分佈變成在其外部表面上提起 ，形成電子電荷之輪舵，其類似於‘齒輪的齒，該移相器2 2之操作波長（相等於λ )係由該輪舵在半個振盪週期內 以多快速的速度從一空隙通過至下一個空隙。該電子旋轉 速度係主要由永久磁場的強度，以及提供至該陽極一陰極 15 1280751 區域4 4之該電場強度所決定。對於非長高的頻率而言， 由該波導5 9 a和5 9 b形成之移相線路係以非常緊密的 間隔相隔開，以允許每秒通過之大量空隙。 波導5 9 a和591)在陽極42處的總數目1^係選擇 以使得該些電子經由陽極一陰極空間4 4移動，較佳的係 移動速度實質上小於光速c (例如幾近於在〇.1 c到〇.3 c的範圍），較佳的是，陽極之內部表面50之圓周長2 7Γ r a係大於λ，其中λ代表操作頻率之波長。如同先前 所敘述者，該波導5 9 a和5 9 b係在該陽極4 2之內部 圓周附近均勻的分開，該總數目N係選擇以使得其爲偶數 以允許P i模式操作。 在上述第2圖以及第3圖所討論的實施例中，該波導 5 9 a以及5 9 b係朝向其個別的E平面，其與軸A垂直 ，該波導5 9 a以及5 9 b係朝向直線錐形波導，然而其 將了解的是，該波導也可以是非錐形的，另外，在個別波 導之間的相位長度之差異可以經由其他技術實現之，例如 在陽極4 2內部相對於形成該較寬的波導提供彎曲的波導 5 9 b 〇 在具有非錐形波導5 9 a和5 9 b之實施例中，陽極 4 2之說明性尺寸如下所顯示： 操作頻率：36. 4Ghz (A = 8.24mm=〇.3 2 4 “） 內部半徑 r a : 4.5mm=〇.177 “ 外部半徑：24.04mm=0.9465 “ 16 1280751 波導 59a : 〇.254mmx5.32mm (0.01 0 “ x 0 · 2 0 9，，） 波導 59b : 〇.254mmx7.67mm (0.01 0 “ x 0 · 3 0 2，，) 沿著給定圓周長之波導數目：1 4 8 就製造而言，該移相器2 2之陰極4 0可以形成爲任 何一種不同的導電金屬，該陰極4 0可以是固體的，或是 單純與導電材料及放射性材料電鍍，例如鎳，鋇氧化物或 者是緦氧化物，或者是例如可以從一螺旋狀纏繞的鎢絲燈 線製造。或者是，係從例如碳奈米管之微機構所製造的冷 場發射陰極4 0也可以使用之。 該陽極4 2係由一導電金屬所製造，並且/或是由非導 電材料電鍍一層導電層例如銅，金，鋁或是銀。該共振腔 室結構7 2可以是導電的或是非導電的，而共振腔室6 6 之牆以及外部埠7 4不是由電鍍形成就是由例如銅，金或 是銀等導電材料所形成。該陽極4 2以及共振腔室結構7 2可以單獨的形成或是作爲單一整體元件。 第4 a以及第4 b圖說明本發明之一實施例中用以形 成陽極4 2之楔型結構。在前述美國專利申請案號第〇 9 / 7 9 8 6 2 3號所說明者，類似於該陽極4 2之陽極由 多個類似派形狀之楔型結構所形成。同樣的，該陽極4 2 可以由楔型結構8 0 a以及8 0 b之組合而形成，如同於 第4 a以及4 b圖中所個別顯示者。 例如，陽極4 2之內部表面可包含多個波導開口，其 17 1280751 係沿著軸A上一給定軸點之周圍間隔開，該數目N以及該 開口之大小係依照該所欲求之操作波長λ而決定之，如同 以上所敘述者。該陽極4 2係由Ν個類似派形狀之楔型元 件8 0 a以及8 0 b所形成，在此通常參照爲楔型結構8 0。當一個接著一個堆疊時，該楔型結構8 0形成該陽極 4 2之結構。 第4 a圖以及第4 b圖代表楔型單元8 0 a以及8 0 b之立體圖示。每個楔型結構8 0具有一角寬度4其等於 2 Π/N弧度，並且該r a之內部半徑等於陽極4 2之內 部半徑r a。楔型結構8 0之外部半徑r 〇對應於該陽極 4 2之外部半徑（亦即該外部表面6 8之半徑距離）。每 個楔型結構8 0 a之前端面形成偶數個波導5 9 a之側邊 表面以及底部表面。同樣的，該每個楔型結構8 0 b之前 端面形成奇數波導5 9 b之底部表面以及側邊表面。 總數爲N/ 2的楔型結構8 0 a以及N/ 2的楔型結 構8 0 b係一1起組件成爲肩並肩成爲選擇的方式，以形成 一完整陽極4 2，如同第3圖所表示者。每個楔型結構8 0的背面作爲形成在鄰近楔型結構8 0中之波導頂端表面 〇 該楔型結構可以以不同種類的導電材料作成，例如視 需要以銅，鋁，黃銅等等電鍍。或者是，該楔型結構8 〇 可以由一些非導電材料製成，其至少在形成波導5 9 a以 及5 9 b的部分可以電鍍一層導電.材料。 該楔型結構8 0可以使用任何一種已知的製造技術形 18 1280751 成，例如，該楔型結構8 0可以利用一些精準的銑機器而 製成。或者是，雷射切割以及/或是銑設備可以用以形成 該楔型結構。另一種替代方法是，平版印刷技術可以用於 形成該想要的楔型結構。 在該楔型結構8 0形成之後，其可以以適當的順序安 排以形成該陽極42(例如按照偶數一奇數一偶數一奇數 的方式排列等等），該楔型結構8 0可以是以一對應夾具 所舉起，然後該楔型結構以銅鋅合金焊接，或是其他方式 結合在一起以形成一整體的單元。 弟5圖以及第6圖顯不該移相器2 2之另一種實施例 ，其具有一不同之陽極結構，更特別的是指，在先前實施 例中由波導5 9 a和5 9 b形成的移相線路係以指狀組合 型的電極所替代，該指狀組合型電極允許非常細微的電極 間隔，獨立於該操作波長λ，若是在如前所述之個別實施 例之間具有許多相似點，爲了簡潔的緣故只有比較重要的 差異會在下面討論。 如第5圖以及第6圖所顯示，該移相器2 2包含永久 磁鐵5 8以及6 0，用以提供進入頁面的磁場Β。在磁鐵 5 8和6 0之每一者的軸a中心點裝設有一對應的圓柱形 極片9 0 ’其係以鐵或是其他類似者所製成。每個極片9 0包含一平滑’高度導電的鍍層9 2，其以銀或是其他類 似者所製成。該極片9 〇係通常對稱且面向彼此，如第5 圖以及第6圖所顯示者。極片9 〇之寬度w以及對應的鍍 層9 2定義一種非常寬的陽極一陰極空間4 4。 19 1280751 在示範實施例中，每個極片9 0包含多個電極9 6 ’ 其係沿著從軸Α之半徑r c b畫圓的圓周範圍等距離的分 佈。電極9 6在示範實施例中，係以銀，銅或是其他類似 者之導電接腳，電極9 6可具有一圓形或是方形的截面’ 具有1/4 λ之長度，其中；I係所欲求之操作波長。該電 極9 6係可機械的連接到對應之極片9 0或從其延伸，該 極片9 0平行於軸Α。另外，在此實施例中從每個極片9 0之該電極9 6係電連接至極片9 0，以在對應極片9 0 之相同電位上保持電氣。更有甚者，從上端極片9 0之該 電極9 6係與下端極片9 0之電極9 6指狀組合型，如同 第5圖所顯示者。結果，在陽極一陰極空間4 4內的陰極 40係形成一圓柱狀之「籠」，該陽極一陰極空間44係 定義於個別極片9 0之間。從不同極片之鄰近的電極9 6 係與如第7圖所顯示之G P代表之空隙所彼此間隔，將了解 的是，顯示於圖中的電極9 6之數目爲簡易說明之故而減 少。 根據第5圖至第7圖之實施例中，從電極9 6至極片 9 0之外部邊緣之半徑距離係以λ/2做示範（第7圖） 。在極片9 0之相對面9 8之間的間隔S係稍微大於；ι / 4 (以避免電極與相對面極片9 0電接觸）。結果，該極 片9 0之相對面9 8形成一波導或是平行板傳輸線路，其 具有沿著λ/2之半徑方向的長度，該長度起始於電極9 6所形成之圓柱狀籠之邊緣，並且在共同共振腔室6 6中 開展。 20 1280751 陰極4 0沿著軸A延伸（例如穿過該下部磁鐵6 0以 及極片90)，以集中在由指狀組合型電極96形成之籠 內，在先前所敘述之實施例中，終端5 2以及5 4個別通 過絕緣體5 5，並且電連接至陰極4 0以供應電源作爲加 熱陰極4 0之用，並且用作提供負的高態電壓至陰極4 0 。在本實施例中之該個別極片9 0係經由中端5 6電連接 至正端（+ )或是高電壓供應器之地端。在操作期間，電 源供應器3 2 (第1圖）經由終端5 2以及5 4提供加熱 器電流至陰極4 0或是從陰極4 0供應加熱器電流。直流 電壓產生一直流電場Ε，其在陽極一陰極空間4 4之中， 在陰極4 0和電極9 6之間徑向的延伸。 從該陰極4 0處發射的電子再次追隨前述之彎曲路徑 穿過在陽極一陰極空間4 4中之正交電場Ε和磁場Β，電 子依序的緊密靠近電極9 6而通過，並且感應在鄰近電極 9 6之相對電荷，如同第7圖所示。該感應電荷進一步感 應一電磁信號，其在極片9 0之相對面9 8之間朝外輻射 ，並進入共振腔室6 6。該輻射電磁信號係由共振腔室6 6所反射，朝向回到該陽極一陰極空間4 4，於是加強在 鄰近電極9 6上感應之交替電荷。 以此種方式，在移相器2 2內部的能量開始以所欲求 之頻率振盪，並結合在陽極一陰極空間4 4內部形成並在 其中旋轉之電子雲，駐波電磁場係在螺旋共振腔室6 6之 直線表面和彎曲表面之間建立，該些場之一部份係導向極 片9 0之相對面9 8之間，朝向指狀組合型電極9 6。在 21 1280751 振盪周期中特定時間的瞬間，該駐波場將引起上部極片9 0之面9 8以及電極9 6負向的充電，而下部極片9 0之 面9 8以及電極9 6係被正向的充電。 該結果合成之正向及負向充電之指狀組合型電極9 6 ，引起水平電場E h存在於電極9 6之間的間隙，其表示 於第7圖。當該駐波場在振盪週期期間即時的反轉，在上 極片9 0之該面9 8以及電極9 6變成正向充電，而下極 片9 0之面9 8以及電極9 6變成負向充電。在電極9 6 之間的該水平電場E h在每個週期期間反轉方向，該水平 電場E h因此變成p i模式場，其與陽極一陰極空間內部 之旋轉電子雲互動，以產生在移相器2 2內部之振盪。 在根據第5圖以及第7圖之實施例中，移相器2 2之 示範尺寸以及特徵係如下所示： 所欲求之操作頻率：1 0 G h z 極片9 0之直徑（包含鍍層9 2 )·· 3 ·9公分 共振腔室66之長度Lc : 8.86公分 共振腔室6 6之寬度Wc : 10.6公分 電極9 6 (接腳）之長度·· 1 / 4又 電極96之數目：40 (上部極片爲20，下部極片 爲2 0 ) 電極9 6之直徑：0 .〇 2 0英吋 電極96之間的間距（空隙GP) :0.010英吋 第8圖至第1 0圖顯示移相器2 2之另一個實施例， 該實施例係相似於第5圖至第7圖之實施例，不同的是該 22 1280751 寬陽極結構4 2係被窄陽極結構4 2所替代，特別是，該 極片9 0之直徑（包含鍍層9 2 )係僅只有稍微大於電極 9 6形成之圓圏半徑（2义1*(：13)，操作係相似於第5 圖至第7圖之實施例所顯示者，然而在此實施例中在該共 振腔室6 6之駐波場係應用在指狀組合型電極9 6，並沒 有有效的1 /2 λ波導或是形成在籠之間的平行板傳輸線 路，該籠係由電極9 6以及共振腔室6 6之開口所形成。 第8圖以及第1 0圖之實施例中的窄陽極對於將移相 器2 2設計爲在非常短之波長上操作係特別實用。該窄陽 極設計成爲形成多個指狀組合型電極9 6之籠，其沿著軸 Α依序的堆疊，因此即使當該籠接腳電極9 6之長度變爲 在紅外線以及光學波長上而言是非常短，該所堆疊的籠提 供一較大的互動表面區域於該陽極一陰極空間4 4之內部 0 簡要的參考第1 1圖，陽極4 2之另一替代實施例係 根據本發明所顯示，該陽極4 2包含一中空的圓柱形管1 1 0，其由玻璃或是其他絕緣材料所製成，該指狀組合型 電極9 6係製造成在管1 10內部表面上之金屬圖樣，因 此通常用於製造半導體設備之簡單的平版印刷技術即可用 來形成細緻的、精確的指狀組合型電極9 6，該管1 1 0 係沿著移相器2 2之軸A分佈，而環繞著該陰極4 0，並 且坐落於該磁鐵5 8和6 0之間，如同其他實施例所表示 者。該指狀組合型電極9 6每一者係經由個別上部以及下 部導電環1 1 2和1 1 4連接到地或者是一正向直流電壓 23 1280751 ，其同樣沿著指狀組合型電極9 6形成圖樣於管1 1 0之 表面上。該管1 1 0係作爲該電極9 6之支撐基板，特別 在當該電極9 6變成相當小，而操作波長較短的時候。 另外，該管1 1 0可作爲外部真空殼層，在管1 1 〇 之外部，該移相器2 2 (例如共振腔室6 6 )可充滿空氣 ，而行程在該管1 1 0之內部表面上的址間相連電極9 6 係暴露於真空中，且暴露於從陰極4 0發射出之旋轉電子 ，用於冷卻該管1 1 0之外部牆之空氣可用作爲冷卻在該 內部表面之該指狀組合型電極9 6。 該管1 1 0係恰巧圍繞在陰極4 0之周圍，並且是該 設備2 2中唯一保持真空的部分，管1 1 〇中不包含指狀 組合型電極9 6之部分包含一金屬化薄膜於內部表面上， 因此可視需要作爲電磁性反射之用，具有電極9 6和陽極 4 0之管1 1 0可形成一合成結構，其在兩端以及內部真 空之電連結以相同的方式作爲線性光阻物。 第1 2圖顯示根據本發明之移相器2 2之另一實施例 。該實施例係相似於第5圖至第7圖之實施例，然而具有 一些下述之小變化，在此實施例中，該指狀組合型電極9 6係舉行在疋端高態直流電壓所保持，並且與極片9 0絕 緣。如同第1 2圖所顯示，與每個極片9 0相關之該指狀 組合型電極9 6係個別形成在導電環1 2 0上並且從其延 伸，每一導電環1 2 0係藉由一絕緣間隔器1 2 2與其對 應極片9 0電絕緣。 該指狀組合型電極9 6係相對於該極片9 0而電浮動 24 1280751 ，在操作上，電極9 6係經由端5 6以及該導電環1 2 0 電連接至一正端高態電壓供應器，該極片9 0係經由端5 4連接到該陰極地端。陰極4 0與指狀組合型電極9 6之 間的電壓差造成一電場Ε，其從該處徑向的延伸，而其操 作係相似於前述之實施例。 雖然第1 2圖之浮動指狀組合型電極9 6係根據一寬 陽極實施例所顯示，應了解的是，該浮動指狀組合型電極 9 6係相似於供應至第8圖至第1 0圖之該窄陽極實施例 ，而不會背離本發明之範疇，更甚者，該移相器2 2之另 一實施例可利用該指狀組合型電極9 6以及極片9 0，使 得其表面9 8在該徑向方向由指狀組合型電極9 6所形成 而從該籠處逐漸變尖。 另外，利用指狀組合型電極9 6之陽極4 2之不同實 施例可包含一些電極9 6，其在個別極片9 0之間完整的 延伸，以使得其與極片以及/或者導電環兩者電接觸。若 有需要，此種連接提供增強的直流連續性。 將可了解的是，在此處所敘述之移相器2 2係在一環 繞陰極之陽極結構中，在另一實施例中，其結構可以相反 方式組成，即陽極可由圓柱形陰極所環繞。本發明包含反 相以及非反相兩種形式。 雖然本發明已經相對於較佳實施例所顯示及描述，明 顯的是在習知技術者閱讀並且了解本發明之後會產生等效 體以及修改體，本發明包含所有此種等效體以及修改體， 並且僅由下述之申請專利範圍的範疇所限定之。 25 1280751 【圖式簡單說明】 (一）圖式部分 第1圖係根據本發明電磁輻射之相位陣列式源（移相 器）的运境不圖’其作爲光學通訊系統之一^部分； 第2圖說明根據本發明之一實施例的移相器的剖面圖 示，該移相器係包含移相線路； 第3圖係根據本發明之第2圖的移相器剖面俯視圖， 其剖面圖係沿著線3 — 3剖面之； 第4 a以及4 b圖係個別顯示偶數的楔形物以及奇數 的楔形物，其係適合作爲形成根據本發明之第2圖中的移 相器之陽極結構； 第5圖係根據本發明之另一實施例的一移相器之剖面 圖，其具有形成類似指狀姐合型的電極，以及寬電極結構 第6圖係爲根據本發明第5圖之移相器的互動區域剖 面俯視圖，其係沿著線6 — 6剖面之； 第7圖顯示根據本發明第5圖之移相器互動區域的槪 要不圖； 第8圖係根據本發明之另一實施例的移相器之剖面示 圖，該移相器具有指狀組合型狀的電極以及一窄的陽極結 構； 第9圖係根據本發明第8圖之移相器的互動區域剖面 俯視圖，其係沿著線9 一 9剖面； 第1 0圖係根據本發明第8圖之移相器互動區域的槪 26 1280751 要前視圖； 第1 1圖係根據本發明之陽極結構的另一替代實施例 之前視圖； 第1 2圖係根據本發明之另一實施例的移相器的剖面 示圖’其具有浮動（f i 0 a t i n g )的指狀組合型電 極。 (二）元件代表符號 2 0高頻率通訊系統 2 2電磁輸射之相位式陣列源（移相器） 2 4光學輻射 2 6調變器 2 8調變後的輻射 3 0接收裝置 3 2電源供應器 4 0圓柱形陰極 4 1終端蓋 4 2空心圓柱形狀陽極 4 4陽極一陰極空間 4 8陰極4 0之外部表面 5 0陽極4 2之內部表面 5 2、5 4、5 6 終端 _ 5 5絕緣體 5 8磁鐵 6 0磁鐵 1280751 5 9 a、5 9 b直線單一模式波導 6 8陽極4 2之外部表面 6 6共同共振腔室 7 0腔室定義牆 7 2共振腔室結構 7 4輸出埠 7 6透明輸出視窗 8 0楔型結構8 0 8 0 a、8 0 b楔型元件 9 0圓柱形極片 9 2鍍層 9 6電極 9 8上、下極片9 0之面 1 1 0中空圓柱形管 1 1 2上部導電環 1 1 4下部導電環 1 2 0導電環 1 2 2絕緣間隔器 28

Claims (1)

1280751 拾、申請專利範圍:： 1 · 一種電磁輻射源，其包含： 一陽極和一陰極，其由一陽極一陰極空間所分隔開； 電接觸點，其用以提供在陽極以及陰極之間的直流電 壓，並且建立一電場，其穿過該陽極一陰極空間； 安置至少一個磁鐵，以提供在陽極一陰極空間之內部 的一直流磁場，其通常垂直於該電場； 多個開口，其形成於沿著陽極之表面，該陽極表面定 義一陽極一陰極空間，其中從陰極發射之電子係由該電場 以及磁場所感應，以循著穿過該陽極一陰極空間之路徑， 並且緊靠近於該開口而通過； 一共同共振器，其接收在該開口處所感應之電磁輻射 ，該電磁輻射係由緊靠近該開口而通過之電子所造成，共 同共振器將該電磁輻射反射回朝向該開口，並且以欲求之 振盪頻率產生通過每一開口之振盪電場。 2 ·如申請專利範圍第1項之電磁輻射源，其中該振 盪電場係相對於鄰近的開口呈現1 8 0度異相。 3 ·如申請專利範圍第1項之電磁輻射源，其中該陽 極包含多個波導，並且每個波導之一端作爲其中之一的開 口，並且每個波導之另一端係在共同共振器中呈現開口。 4 ·如申請專利範圍第3項之電磁輻射源，其中沿著 陽極一陰極空間之表面的鄰近開口係由波導所形成，該波 導在操作頻率上具有不同之電長度。 5 ·如申請專利範圍第4項之電磁輻射源，其中具有 29 1280751 不同之電長度的波導係由具有不同尺寸之波導所構成。 6 ·如申請專利範圍第5項之電磁輻射源，其中該不 同尺寸係位於Η平面。 7 ·如申請專利範圍第5項之電磁輻射源，其中該不 同尺寸係由具有不同長度之波導所造成。 8 ·如申請專利範圍第4項之電磁輻射源，其中在電 長度之差異係相等於約爲1 /2 λ，其中λ代表在操作頻 率之波長。 9 ·如申請專利範圍第1項之電磁輻射源，其中： 該陰極係具有半徑r c之圓柱形； 該陽極係具有半徑r a之圓環狀，並且係與該陰極同 軸對準，以定義該陽極一陰極空間爲具有寬度w a = r a —r c ； 陽極之表面的圓周2 7Γ r a係大於λ，其中λ代表操 作頻率之波長。 1 〇 ·如申請專利範圍第1項之電磁輻射源，其中該 陽極包含多個楔型結構，係以側邊對側邊方式安置，以形 成具有位於其中之陽極一陰極空間的中空形狀的圓柱體， 並且每個楔型結構包含一第一凹口，其定義至少一部份之 波導，其具有暴露於該陽極一陰極空間之開口。 1 1 ·如申請專利範圍第1項之電磁輻射源，其中該 陽極包含多個電極，該電極位於一圖樣以及形成該開口之 電極之間。 1 2 ·如申請專利範圍第1 1項之電磁輻射源，其中 1280751 該圖樣係一圓圈。 1 3 ·如申請專利範圍第1 2項之電磁輻射源’其中 該電極係位於在沿著該陰極之圓周。 1 4 ·如申請專利範圍第1 1項之電磁輻射源’其中 該電極係指狀組合型的。 1 5 ·如申請專利範圍第1 1項之電磁輻射源’其中 該電極包含多個接腳。 1 6 ·如申請專利範圍第1 5項之電磁輻射源，其中 該接角係安置於沿著陰極周圍之圓圈上。 1 7 ·如申請專利範圍第1 6項之電磁輻射源，其中 接角係連接至一固定直流電位。 1 8 · —種電磁輻射源，其包含： 由陽極一陰極空間所分隔之一陽極和一陰極； 用以供應一直流電壓於陽極和陰極之間的電接觸點， 並且建立穿過一陽極一陰極空間之電場； 至少一磁鐵，其安置以提供在陽極一陰極空間內部之 一直流磁場，其通常垂直於該電場； 包含N個類似接腳電極之陣列，其安置於一圖樣中以 定義該陽極一陰極空間，該電極形成該陽極之至少一部分 9 至少一共同共振腔室，其緊靠近於該電極， 其中該電極係由其中之開口所分隔開，從該陰極所發 射之電子係由該電場和磁場所感應，以循著穿過該陽極一 陰極空間之路徑，並且緊靠近該開口處通過，以在該共同 31 1280751 2 7 ·如申請專利範圍第2 3項之電磁輻射源，其中 該陽極一陰極空間之較高以及較低之部分係個別由較高之 磁極片以及較低之磁極片所定義。 2 8 ·如申請專利範圍第2 7項之電磁輻射源，其中 該電極係電氣的以及機械的連接至一對應極片。 2 9 ·如申請專利範圍第2 7項之電磁輻射源，其中 該電極係與一對應極片電氣的絕緣。 3 0 ·如申請專利範圍第2 7項之電磁輻射源，其中 該極片定義一在電極與共同共振腔室之間的波導。 3 1 ·如申請專利範圍第3 0項之電磁輻射源，其中 該波導在長度上係接近於λ/2之整數倍，其中λ係共振 磁場之頻率上的波長。 拾壹、圖式/ 如次頁 33