TWI245118B - Method and apparatus for measuring the concentration of hydrogen peroxide in a fluid - Google Patents

Method and apparatus for measuring the concentration of hydrogen peroxide in a fluid Download PDF

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Description

1245118 玖、發明說明: 相關申請案 本發明為綱3年3月14日巾請之美國專利申請㈣㈣ 1〇/389,036號’標題為「測定流體中化學濃度之方法及事置 之部分接續案(CIP),其係合併於本案以供參考。、」 【發明所屬之技術領域】 本發明大體上關於化學澧声夕、、五〜 予/辰度之决疋,且更特別地關於一 種測定液態或氣態流體中過氧化氫之濃度之方法及裝置。 【先前技術】 有許多對於獲致流體中化學成分(例如過氧化幻之灌产 :定為合宜或必要之應用,但不限於液體或蒸汽殺心 : 二於先前技藝中已發展出若干技術,以測定流體中過氧 = (Η2〇2)之濃度。此等技術包含使用電化學傳感 =親水性或疏水性薄膜之安培電極)、紅外線傳感 色才日不劑、無線頻率系統、教髅八 蜗 光度法)。 &體刀析儀及光譜儀(例如紅外 介電材料.的介電常數(K)與介電材料之 Κ=ε/ε〇之關係式發生關聯’其中ε。為自由空間之電容率:乂 =此關係式,介電材料的電容率⑷之改變造成:二 電常數(Κ)之改變。 才枓的 本發明提供—種使用介電材料的電容率及介 化以決定化學濃度之方法及裝置。 书 之變 【發明内容】 根據本發明第一態樣係提供一 種化學浪度測定系統 92312.doc 1245118 以決定由至少一化學成分組成之流體中過氧化氫之濃度, 其包含:(1)一電容分壓電路,其包含:(a)具有第一及第二 導體暴露於該流體之第一電容器,該流體係於其間具有一 電介質,及(b)第二電容器;(2)—交流(AC)電壓產生器,用 以施加AC電壓於該電容分壓電路;以及(3)處理裝置,用以 測定跨越該第二電容器之電壓,俾決定該第一電容器之第 一電容,且根據該第一電容決定該流體中過氧化氫之濃度。 根據本發明另一態樣係提供一種化學濃度測定系統,用 以決定由至少一化學成分組成之流體中過氧化氫之濃度, 其包含:(1)一電阻分壓電路,其包含:(a)具有第一及第二 導體暴露於該流體之第一電阻器,該流體具有該第一電阻 器之電阻元件,及(b)第二電阻器;(2)—交流(AC)電壓產生 器,用以施加AC電壓於該電阻分壓電路;以及(3)處理裝 置,用以測定跨越該第二電阻器之電壓,俾決定該第一電 阻器之第一電阻,且根據該第一電容器決定該流體中過氧 化氫之濃度。 根據本發叼又另一態樣係提供一種決定流體中過氧化氫 之濃度之方法,該流體具有至少一化學成分,該方法包含: (a)將具有第一及第二導體之電容器暴露於該流體,該流體 係於其間具有一電介質;及(b)決定與該電容器有關之電容 器中之電氣性質變化,該電氣性質變化係根據流體中過氧 化氫之濃度而改變。 根據本發明又另一態樣係提供一種決定流體中過氧化氳 之濃度之方法,該流體具有至少一化學成分,該方法包含: 92312.doc -7- 1245118 (a)將具有第一及篦-^ ^ 及弟一、子之電阻器暴露於該流體,該流體 :有β包阻$之電阻凡件;及⑻決定該電阻器中之電氣性 貝欠化’ 5亥電氣性質變化係根據流體中過氧化氫之濃度而 改變。 本毛月之優點在於提供_種測定流體中過氧化氫之濃度 方去及衣置’其中流體可為液體或氣體(例如蒸汽)。 本1χ明之另一優點在於提供一種使用流體作為電容器之 電介質,來測定流體中過氧化氫之濃度之方法及裝置。 ^之又另優點在於提供一種使用流體之電阻性質 形成流體中之電阻器,來測定流體中過氧化氫之濃度之方 法及裝置。 本么明之另一優點是提供一種可簡易且平價地製造之化 學濃度測定系統。 本發明之再一優點在於提供一種化學濃度測定系統,其 可適用於測定進入汽化器(於生物污染去活化裝置中進 料流中過氧化氫之濃度。 此等及其他優點由參照以下較佳具體例說明及隨附之圖 式及如附申請專利範圍,當可明白。 【實施方式】 此刻請看圖式,其中所顯示者僅為說明本發明較佳具體 例之目的,而非用以限制之。圖丨顯示根據本發明一較佳具 體例之化學濃度測定系統10之示意圖。根據本發明一較佳 具體例,化學濃度測定系統10決定流體中過氧化氫之濃 度’其中流體可為液態流體或氣態流體形式。 92312.doc 1245118 應瞭解「氣態」流體一詞代包含蒸汽流體(即蒸汽態中之 液體)。根據一較佳具體例,液態流體係由液態過氧化氫合 併稀釋或液態氧化劑所組成。於此中所述之具體例中,液 態流體係由液態過氧化氳及水所組成。根據一較佳具體 例,氣態流體係由汽化的過氧化氫合併空氣、水蒸汽、臭 氧或其他氣態氧化劑中至少之一所組成。另外,氣態流體 可簡單地由真空中之汽化的過氧化氫組成。 化學濃度測定系統10通常包含一輸入電壓產生器20、一 電容器C1、一電容器C2及一處理單元30。根據一較佳具體 例,電容器C 1、C2經配置以形成「電容」分壓電路,此將 進一步地詳細說明如下。可採不同方式建構電容器C1、 C2,包含但不限於平行板電容器、圓柱形電容器及球形電 容器。倘若使用球形電容器作為感測電容器,則必須將孔 洞放置於電容器之外殼中,以致於流體可進入或離開電容 器。圖6A顯示由一對固態平行板所形成之習用的平行板電 容器202 ;而圖6B則顯示由一對金屬網板所形成之習用的平 行板電容器204。圖7顯示具尺度a、b及L之習用的圓柱形板 電容器206。 輸入電壓產生器20產生交流電(AC)輸入電壓信號,較佳 呈雙極脈衝或無線電頻率(RF)正旋震盪形式。輸入電壓係 施於電容器C1及C2。於一較佳具體例中,電容器C1充當感 測元件,且直接地暴露於液態或氣態流體,例如由二或多 種化學成分組成之除污溶液。電容器C1係位於導管、容器、 塔槽或室50中,其中流體充滿電容器C1之導體間之間隙, 92312.doc 1245118 藉以充當絕緣體或電容器c 1之「電介質」。 處理單元30測定跨越電容器C2之電壓V2。於所示具體例 中,電容器C2係在流體外部,且具有空氣充當介電材料。 於一較佳具體例中,處理單元30可採用微電腦或微控制器 形式,含供資料儲存用之記憶體。處理單元30亦可用來控 制其他系統元件之操作,例如流體控制,以供控制化學成 分流入導管、容器、塔槽或室50中。 化學濃度測定系統10使用與流體有關之電容率及介電常 數,以決定流體中化學成分之濃度。流體充滿電容器C1之 導體間之間隙,藉以充當絕緣體或電容器C1之電介質。藉 安排電容器C1及C2以形成「電容」分壓電路,可使用跨越 電容器C2之電壓V2測定,來決定電容C1。電容C1代表流體 中化學成分之相對濃度,因為流體之電容率及介電常數受 到流體中化學成分之相對濃度影響。應理解本發明之較佳 具體例係說明如下,其中電容器C1為平行板電容器。 熟習本技藝之人士,當可容易地明白:
VtsVl+VSC克希何夫定律(Kirchoff’s Law)) C1=Q/V1,C2 = Q/V2,且 Ct=Q/Vt, 其中Cl為電容器Cl之電容,C2為電容器C2之電容,且Ct 為串聯電容器Cl及C2之總等效電容。 由於 V=Q/C,且 Vt=Vl+V2,故 Q/Ct=Q/Cl + Q/C2 1/Ct=l/Cl + 1/C2 Ct=(ClC2)/(Cl+C2) 92312.doc -10- 1245118 由於 V1=Q/C1,且 Q=CtVt,故
Vl=(CtVt)/Cl = [[ClC2]/[(Cl)(Cl + C2)]][Vt] -Vt[C2/(Cl+C2)] =Vt[(Cl/C2)+l] 同樣地,由於V2 = Q/C2,且Q=CtVt,故 V2-(CtVt)/C2-[[ClC2]/[(C2)(Cl+C2)]][Vt] =Vt[Cl/(Cl+C2)] =Vt[l+(Cl/C2)] 因此,Cl可根據以下關係式,自C2、V2及Vt而決定:
Cl = [(V2)(C2)]/[Vt-V2] 再者,就電容器Cl而言,k=C2/(Cl+C2),因此,Vl = (Vt)/(k),其中k於此中稱為「電容器分配因子」。就具有平 行板導體之電容器而言, 0(ε)(ΑΜ) 其中, ε為電容器電介質之電容率(法拉第/公尺), Α為平行板之表面積(平方公尺)’且 d為電容器板間之間距(以公尺計)。 隨著ε提高,電容將提高。鑒於以上,就電容器C 1而言, 因子k可表示如下: k-[82(A2/d2)]/[81(Al/dl) + 82(A2/d2)] 由於電容器Cl之電容器板面積(A1)等於電容器C2之電容器 板面積(A2),且電容器C1板之間距(dl)等於電容器C2板之 間距(d2),故 92312.doc -11 - 1245118 k = (c2)/(8i + 82) 由於電容器02係位於空氣中,4〜^〜8.85\1〇'1217公尺(於自 由空間中之電容率),故 ^ = (ε〇)/(8ι + 8〇) 鑒於以上,因子k將隨著除污溶液之電容率提高而降低。 參照圖7,將可瞭解於圓柱形電容器用於電容器〇之情形 下’電容器C1之電容可表示為:
Cl = [27iKs0L]/[ln(a/b)], 中乙為黾谷器之長度,κ為介電常數,且為自由空間之 電容率。 參照圖2,可觀察到電容器之回應將受到施於其上之ac 波形的特徵(例如頻率)影響。就此方面而論,電容電抗(Xc) 為頻率之函數。電容電抗係為提供交流電流受到純電容作 用而流動之對抗,且以歐姆表示(Xc=1/(27rfc))。於圖2中, 電容器C1為暴露於100%去離子水溶液之平行板電容器。針 對頻率範圍(40 kHz至4000 kHz),測定電容器分配因子 k(k=(C2)/(Cl+C2))。 此刻將詳細地說明圖3、4及5A_5D。就此等圖式中所示之 數據而論,應瞭解此中之「過氧化氫水溶液」—詞代表由 35%過氧化氫與65%水組成之溶液。 ^此刻請參照圖3 ’電容器C1為暴露於由⑷過氧化氯之水 溶液與(b)去離子水組成之溶液之平行板電容器。電壓產生 器20係於頻率_ kHz下產生雙極脈衝。針對四⑷種不同相 對遭度之過氧化氫與去離子水之水溶液,測定電容器分配 92312.doc -12- 1245118 因子k。自圖3可觀察到,隨著 v I虱化虱之濃度提高,電容 态为配因子k降低。就此方面而論 ^ ^者過氧化氫之濃度提 向,ει提高。 此刻請參照圖4,電容器C1為暴露於由⑷過氧化氨之水 溶液與附離子水組成之溶液之平行板電容器。㈣產生 心係於頻率6.5 MHz下產生正旋波形。針對三⑺種不同 相對濃度之過氧化氨與去離子水之水溶液,測定電容器分 ^因子k。自圖3可注意到,隨著過氧化氫之濃度提高,電 谷态分配因子k降低。 、於圖A50中’電容器C1為暴露於由⑷過氧化氫之水溶 = (b)去離子水組成之溶液之平行板電容H。電容器口之 每板具半從為約1英对及間距d為約0.5英对。電壓產生器 2〇產生具頻率範圍(即5〇册、i⑼册、15〇咖及細_ 之矩形脈衝。針對-相對濃度範圍之過氧化氫與鋒子水 之水溶液,測定電容器C1之電容。於圖5A_5d中可發現, 隨!液中之過氧化氫水溶液之濃度提高,電^器C1 之包谷提回。以頻率100 kHz,可觀察到介於電容器a之電 谷/、過氧化氫和去離子水之水溶液之相對濃度間之相 性關係(圖5B)。 :羊、、、田地說明根據本發明一較佳具體例之化學濃声 =疋=統1〇之操作。依照預備步驟,針對流體中複數種化 子成刀之相對濃度,處理單元30係於記憶體中儲存包含電 合W°C1之電容數值之數據表。藉著將電容器C1暴露於具有 • 车成77相對濃度之流體’且紀錄對應測定的電容 92312.doc -13 - 1245118 C1可决疋此數據表。舉例來說,如圖π所示,處理單元 3〇可儲存針料有π相對濃度之過氧化氫_2)和去離 子水(Η2〇)之水洛液所決定之電容器的電容數值。 於、、工由處理單S3G儲存數據表後,可開始針對導管、容 二° "^或至5G中之流體進行化學濃度測定。化學濃度測 疋=、充10之⑨c}係暴露於正被監測的流體中。例如, 二為C1可位於充滿液態或氣態流體之導管、容器、塔槽 或至〇中使用電壓V2之測定,以決定電容器c工之電容數 值針對電谷為C1之電容數值搜尋儲存表,以便得到對應 勺相對化子,辰度。偽若於表中未發現電容器以之電容為預 存值,則使用儲存數據内插或外.插流體中化學成分之對應 的相對化學濃度。參照_將可注意到,於卜_他下: 介於電容HC1之電容與過氧化氫和去離子水之水溶液間之 關係Μ是線性的。線性關係使得得以常態化任-所進行 之測定,俾提供去離子水中之氧化劑或殺菌劑之絕對濃度。 :所決定之流體中化學成分之相對化學濃度為基礎,處 單元30可纟單耘式化,以便控制流體中化學成分之一或二 2例如,處理單元30可調整流體控制間,進而根據所測 定之:對濃度而修飾相對濃度。因此,處理單元%可調整 相對/辰度,以便符合可提供最佳除污作用之所需相對濃 處理單it30亦可提供可聽及/或可視指示器,以便指^ J否所決定的相對濃度係在所需範圍内。#包含顯示經由 :理:元30所決定及顯示之氧化劑或殺菌劑之相對濃度或 絕對濃度,可視指示器可協助操作者。 92312.doc 14- 1245118 於本發明另一具體例中,使用電阻測定,以決定流體中 化學成分之相對濃度。就此方面而論,本發明較佳具體例 之電容分壓電路可由如圖8所示之電阻分壓電路取代。
化學濃度測定系統110通常包含一輸入電壓產生器120、 一電阻器R1、一電阻器R2及一處理單元130。應暸解電阻 器R1代表與位於端子(或電極)a及b間之流體有關之電阻。 電壓VI為跨越端子a及b之電壓。電阻器R2為習用的電阻器 元件。電壓V2為跨越電阻器R2之電壓。電阻器Rl、R2經配 置以形成「電阻」分壓電路,此將進一步地詳細說明如下。 輸入電壓產生器120產生交流電(AC)輸入電壓信號,較佳 呈雙極脈衝或無線電頻率(RF)正旋震盪形式。輸入電壓係 施於電阻器R1及R2。如以上所示,電阻器R1代表與位於端 子(或電極)a及b間之流體有關之電阻。因此,電阻器R1係 依類似以上所討論之電容器C1,充當感測元件。電阻器R1 可位於充滿液態或氣態流體之導管、容器、塔槽或室50中。 處理單元130測定跨越電阻器R2之電壓V2。於所示具體 例中,電阻莽R2係在流體外部。於一較佳具體例中,處理 單元130可採用微電腦或微控制器形式,含供資料儲存用之 記憶體。處理單元130亦可用來控制其他系統元件之操作, 例如流體控制,以供控制化學成分流入導管、容器、塔槽 或室50中。 化學濃度測定系統11 〇使用與流體有關之電阻,以決定流 體中化學成分之濃度。流體充滿端子a與b間之間隙,藉以 充當電阻器R1之電阻元件。藉安排電容器電阻器R1及R2以 92312.doc -15- 1245118 定,…二…,可使用跨越電阻器R2之電壓V2測 Vl/V2 :广舆電阻器R1有關之電阻。就此方面而論, 之電阻代^T]/R2’其中R1=[(V1R2)/V2]_R2。電阻器 之體中化學成分之相對濃纟,因為與流體有關 刀“路有關之方式,收集電阻數值及錯存於 ^:就此方面而論,電阻器R1之電阻係針對具有不同相 女/辰又之化學成分而決定。接著可依與針對供電容分壓電 用之數據表相同方式,使用數據表,俾提供流體中過氧 化氫之濃度測定。 圖9為顯示針對由水(η2〇)組成之流體介於電阻器七之電 阻與頻率間關係之圖式。端子(或電極)a及b間之間隙為 米,且D’毫米’其中D為電極aAb之直徑。圖1〇為顯示 在頻率30 kHz下,介於:⑴電阻器⑼之電阻與⑺由包含⑷ 過乳化SL水溶液和⑻水的流體中之相對濃度間關係之圖 式。過氧化氫水溶液係由35%過氧化氫與65%水(重量計)所 、、、成θ 10中所示之濃度係自12.5。/。過氧化氫水溶液提高至 過100%氧化氫水溶液。 如上述,本發明係於液體或蒸汽殺菌系統中發現有利應 用之棱”:占。經由貫施例(非限制的),化學濃度測定系統⑺ 之感測凡件(即電容器C1或電阻器R1)可位於導管中,其中 液態過氧化氫之進料流係流入蒸汽殺菌系統中供製造汽化 的過氧化氫之汽化室。依此方式,可查驗供製造汽化的過 氧化氫之進料流中之液態過氧化氫。化學濃度測定系統10 92312.doc -16- 1245118 =測,件(即電容器C1或電阻器叫可另外地位於含有汽 乳化風或液態過氧化氫之處理室中。依此方式,可 ==程期間監測過氧化氯之濃度。再者,控制系統可 统 以便口應所測定之過氧化氫濃度(伴隨著修改系 :二。翏數),俾提兩或降低處理室中之過氧化氫濃度,或 警不操作者不適合的殺菌條件。 又— :研讀及瞭解說明書時,其他人將可進行本發明之其他 :::改變。就此方面而論’雖然本發明已參照液體及基 心固錢說明’但·本發明可有利地用於其他庫用, 包含(但不限於)半導體製造之餘刻系統。再者,應理解可採 用其他測定與電容器及電阻器感測元件有關之電容及電阻 之電路,來取代此中所述之電容及電阻分塵電路。所有此 ==變意欲包含於本發明如申請專利範圍 或其相當者。 【圖式簡單說明】 中可採用實體形式,其中 中說明,且於形成其一部 本發明於某些部件及部件安排 較佳具體句係詳細地於說明書 分之附圖中闡明,並且其中: 圖1為顯示根據本發明較佳 化學濃度測定系統的示意圖; 具體例具有電容分壓電路之 圖 率間 2為顯不針對去離子水之介於 關係之圖式; 黾谷器分配因子(k)與頻 器 圖3為顯示在頻率600 kHz下(雙極脈衝),介於:(丨)*☆ 分配因子(k)與⑺H2〇2(毫升)和h2〇(毫升)之水溶液= 92312.doc -17- !245118 對濃度間關係之圖式; 圖4為顯示在頻率6.5 MHz下(正旋波形),介於:(1)電容 為分配因子(k)與(2)H2〇2(毫升)和H20(毫升)之水溶液的相 對濃度間關係之圖式; 圖5 A為顯示在頻率5〇 kHz下,介於:(1)電容器C1之電容 (nF)與(2)H2〇2(毫升)和h2〇(毫升)之水溶液的相對濃度間關 係之圖式; 圖5B為顯示在頻率1〇〇 kHzT,介於:(丨)電容器C1之電 4(nF)與(2)H2〇2(毫升)和H2〇(毫升)之水溶液的相對濃度間 關係之圖式; 圖5C為顯示在頻率150 kHz下,介於:(1)電容器ci之電 谷(nF)與(2)H2〇2(毫升)和H2〇(毫升)之水溶液的相對濃度間 關係之圖式; 圖5D為顯示在頻率2〇〇 kHz下,介於:(1)電容器ci之電 容(nF)與(2)H2〇2(毫升)和而0(毫升)之水溶液的相對濃度間 關係之圖式; 圖6A顯示由一對固態平行板所形成之習用的平行板電容 器; 圖6B顯示由一對金屬網板所形成之習用的平行板電容 器; 圖7顯示習用的圓柱形電容器; 圖8為顯示根據本發明另一具體例具有電阻分壓電路之 化學濃度測定系統的示意圖; 圖9為顯示針對由水組成之流體介於電阻器R1之電阻與 92312.doc -18 - 1245118 頻率間關係之圖式;及 圖10為顯示在頻率30 kHz下,介於:(1)電阻器R1之電阻 與(a)過氧化氫水溶液和(b)水之相對濃度間關係之圖式。 【圖式代表符號說明】 10、110 化學濃度測定系統 20、120 輸入電壓產生器 30、130 處理單元 202 、 204 習用的平行板電容器 206 習用的圓柱形板電容器 50 導管、容器、塔槽或室 a、C2 電容器 R1 > R2 電阻器 VI > V2 電壓 92312.doc -19-

Claims (1)

1245118 拾、申請專利範圍: 1 · 一種化學濃度測定系統,用以決定由至少一化學成分組 成之流體中過氧化氫之濃度,其包含: 一電容分壓電路,其包含: (a) 具有第一及第二導體暴露於該流體之第一電容 器,該流體係於其間具有一電介質,及 (b) 第二電容器; 一交流(AC)電壓產生器,用以施加AC電壓於該電容分 壓電路;以及 處理裝置,用以測定跨越該第二電容器之電壓,俾決 定該第一電容器之第一電容,且根據該第一電容決定該 流體中過氧化氫之濃度。 2. 如申請專利範圍第1項之化學濃度測定系統,其中該第一 電容器係選自由平行板電容器、圓柱形電容器及球形電 容器所組成之群。 3. 如申請專利範圍第2項之化學濃度測定系統,其中該第一 電容器為平行板電容器,該第一及第二導體為金屬網板。 4. 如申請專利範圍第1項之化學濃度測定系統,其中該處理 裝置包含一記憶體,用以儲存包含電容數值及代表流體 中過氧化氳相對濃度之對應的濃度數值之數據表。 5·如申請專利範圍第4項之化學濃度測定系統,其中該處理 裝置係根據該第一電容,自該表得到相對濃度。 6 ·如申請專利範圍第4項之化學濃度測定糸統,其中該處理 裝置係使用該數據表,内插或外插一對應於該第一電容 92312.doc 1245118 之相對濃度。 7. 如申請專利範圍第4項之化學濃度測定系統,其中該處理 裝置係常態化該相對濃度,以提供流體中之過氧化氳之 絕對濃度。 8. 如申請專利範圍第1項之化學濃度測定系統,其中該流體 為液態溶液。 9. 如申請專利範圍第8項之化學濃度測定系統,其中該液態 溶液包含以下至少之一 ··液態過氧化氫及水中。 10. 如申請專利範圍第1項之化學濃度測定系統,其中該流體 為氣體。 11. 如申請專利範圍第10項之化學濃度測定系統,其中該氣 體包含以下之一:汽化的過氧化氫、水蒸汽、空氣及臭 氧。 12. —種化學濃度測定系統,用以決定由至少一化學成分組 成之流體中過氧化氩之濃度,其包含: 一電阻分壓電路,其包含: (a) 具有第一及第二導體暴露於該流體之第一電阻 器,該流體具有該第一電阻器之電阻元件,及 (b) 第二電阻器; 一交流(AC)電壓產生器,用以施加AC電壓於該電阻分 壓電路;以及 處理裝置,用以測定跨越該第二電阻器之電壓,俾決 定該第一電阻器之第一電阻,且根據該第一電容器決定 該流體中過氧化氮之濃度。 92312.doc 1245118 i3.2料利_第丨項之化學濃度敎“,其中該處理 二匕含:記憶體,用以儲存包含電阻數值及代表流體 之氧化氫相對濃度之對應的濃度數值 14·如φ咬击^ 〈數據表。 4利範圍第13項之化學濃度測定“,其中該處 15衣置係根據該第一電阻,自該表得到相對濃度。 ·=請專利範圍第13項之化學濃度測定系統,又其中該處 衣置係使用該數據表,内插或外插_對應於該第一電 阻之相對濃度。 16·= 申請專利範圍第13項之化學濃度測定系統,其中該處 衣置係常態化該相對濃度,以提供流體中之過氧化氫 之絕對濃度。 17.=申請專利範圍第12項之化學濃度測定系統,其中該流 體為液態溶液。 1 8·如申請專利範圍第丨7項之化 辰! /則定系統,其中該液 態溶液包含以下至少之一:液態過氧化氫及水中。 19·如申請專·圍第12項之化學濃度測定系統,其中該流 體為氣體。 2〇.=中請專利範圍第19項之化學濃度測定系統,其中該氣 體包含以下之―:汽化的過氧化氫、水蒸汽、线及臭 氧。 21, 之方法,該流體具有至 器暴露於該流體,該流 一種決定流體中過氧化氫之濃度 少一化學成分,該方法包含: 將具有第一及第二導體之電容 體係於其間具有一電介質;及 92312.doc 1245118 決定與該電容器有關之電容器中之電氣性質變化,該 電氣性質變化係根據流體中過氧化氫之濃度而改變。 22. 如申請專利範圍第21項之方法,其中決定該電容器中之 電氣性質變化之步驟包含: 存取一數據表,該數據表係包含電容數值及代表流體 中過氧化氫相對濃度之對應的濃度數值。 23. 如申請專利範圍第21項之方法,其中決定該電容器中之 電氣性質變化之步驟包含: 對應於該電容器中之電氣性質變化,自該數據表内插 或外插流體中過氧化氫之相對濃度。 24. 如申請專利範圍第21項之方法,其中該處理裝置係常態 化該相對濃度,以提供流體中之過氧化氫之絕對濃度。 25. 如申請專利範圍第21項之方法,其中該流體為液態溶液。 26. 如申請專利範圍第25項之方法,其中該液態溶液包含以 下至少之一:液態過氧化氳及水中。 27. 如申請專利範圍第21項之方法,其中該流體為氣體。 28. 如申請專利範圍第26項之方法,其中該氣體包含以下之 一:汽化的過氧化氩、水蒸汽、空氣及臭氧。 29. —種決定流體中過氧化氳之濃度之方法,該流體具有至 少一化學成分,該方法包含: 將具有第一及第二端子之電阻器暴露於該流體5該流 體具有該電阻器之電阻元件;及 決定該電阻器中之電氣性質變化,該電氣性質變化係 根據流體中過氧化氳之濃度而改變。 92312.doc 1245118 如申請專利範圍第29項之 電氣性質變化之步驟包含:J决定該電阻器中之 存取一數據表,該數 中過氧化礼峨产二 電阻數值及代表流體 ^ 辽相對/辰度之對應的濃度數值。 申凊專利範圍第29項之方&,f ^ ^ 万法其中決定該電阻器中之 包氣性質變化之步驟包含: ::應於該電阻器中之電氣性質變化,自該數據表内插 或外插流體中過氧化氫之相對濃度。 申明專利範圍第29項之方法,其中該處理裝置係常態 化該相對濃度,以提供流體中之過氧化氫之絕對濃度。〜 ★申w專利範圍第29項之方法,其中該流體為液態溶液。 34·如申睛專利範圍第33項之方法,其中該液態溶液包含以 下至少之一:液態過氧化氫及水中。 35·如申請專利範圍第29項之方法,其中該流體為氣體。 36·如申凊專利範圍第35項之方法,其中該氣體包含以下之 一 ·汽化的過氧化氫、水蒸汽、空氣及臭氧。 92312.doc
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