TW580565B - Purge type vortex flowmeter - Google Patents

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Minoru Oomura
Jun Tanimoto
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Description

580565 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係相關於一種用於偵測一個渦流訊號之淨化型 的渦流流量計,該渦流訊號是藉著一個在一個流動導管中 之渦流產生器而產生的。 【先前技術】 在大多數根據每單位時間由一個渦流產生器所產生之 卡曼(karma n’ s vortex number )渦流數在實質上係與流體流動速率成比例之理論的渦流 流量計中(且其中該渦流產生器係被安裝在一個流動導管 中流動之流體的通路中),對熱敏感的元件係被用來偵側 一個卡曼渦流薄片,此係因爲該對熱敏感的元件很精巧並 且很便宜。一般對熱敏感元件可以是例如一個熱線、金屬 箔片、或電熱調節器。該對熱敏感的元件係被連接到一個 電壓固定或是電流固定的電源並且被該電源加熱。其中產 生了一個渦流街之流體流動的波動會導致被加熱之對熱敏 感的元件發散出熱並且改變其電阻。該對熱敏感元件之電 阻的變化係經由一個跨橋電路而被轉換成一個電流或是電 壓訊號。如果以相同的流體在相同的溫度與相同的流動速 率進行量測的話,被量測到的訊號可以具有一個指定的電 壓數値或是電流數値。然而,如果流體改變其溫度以及/ 或包括有骯髒顆粒而導致感測的元件改變其熱傳係數的話 ,相同流體的量測可能會有差異。以一個直接與流體接觸 而運作之對熱敏感的元件來說,包括有骯髒顆粒的情況是 7 580565 無法挽救的。以上所提及的問題可以藉著一個已知的方法 而獲致解決,該方法係偵測在一個乾淨之淨化氣體(像是 空氣與氮氣)的氣流中之變化,該淨化氣體可以藉著所要 量測之流體的一種波動渦流壓力之變化來改變其電阻。也 就是說,感測元件可以量測一種乾淨之淨化氣體的氣流來 代替要被量測的流體。這樣係使得該感測元件可以間接地 量測無法藉著傳統方法來量測之骯髒的、或是高溫或低溫 的流體。 然而,一個具有高信號噪音比(S /N ratio )的渦流訊號是無法僅藉著導入一種淨化氣流將一個渦流 訊號轉換成一個淨化訊號而獲得。一種用以解決上述問題 的傳統方法係被描述於日本特許公開第6 2 - 1 3 6 0 6 號之中,該方法係藉著一個代換方法來偵測一個具有高信 號噪音比的渦流訊號,該代換方法係從一個被配置在流量 計外部的一個淨化氣體供應源饋入一種淨化氣體(像是氮 氣、或空氣)的固定淨化氣流。然而,這個方法必須使用 一種能夠量測並且監測一種淨化氣流流動的昂貴流量計, 用以獲得具有寬廣範圍之流動速率量測的高信號噪音比之 渦流訊號。此外,以上描述的方法具有一個缺點,其係使 得淨化氣體的流動速率必須是藉由一個控制閥而準確地被 調整到一個特定的數値,該數値係在即使是流體之流體壓 力改變的情況下容許該流量計可以可靠地測量該淨化氣體 的流動。 爲了要解決上文所提及之傳統方法的缺失,本申請案 8 580565 係提出了一種在日本特許新型第5 - 4 7 3 8 0號中的渦 流流量計,該流量計是要用來在不需要實施該淨化氣體流 動的調整以及不需要使用一種昂貴裝置的情況下運作者。 這種情況係藉著使用一個由節流機構產生的臨界淨化氣流 而達成,其中,該節流機構係在一種淨化氣體壓力對於在 每個導管之開放端部處的壓力之比値的狀態下運作。換句 話說,該淨化氣體的流動可以一直被保持在一個與要被量 測之流體壓力的變化無關的固定數値。因此該流量計可以 被建構成以使用一種便宜的孔口平板以及一種臨界噴嘴來 當作該節流機構:該節流機構係被安裝在一個具有一個渦 流感測元件之導管管件的中間位置中,其中一種固定流動 的淨化氣體係被饋入該導管管件之中。 圖1 A與圖1 B爲一個傳統式淨化型渦流流量計的示 範構造,該流量計係對應描述於日本特許新型第5 - 4 7 3 8 0號中的渦流流量計。圖1 A所示的淨化型渦流流量 計係包括有一個被安裝在一個流動管件1中的渦流產生器 2以及導管4 a與4 b (—般係以導管4表示),該等導 管係經由該流動管件1的壁部穿入該流動管件內部並且具 有在該渦流產生器2之二個對應側邊附近的壓力埠口 3 a 與3 b。淨化氣流係交替性地波動並且藉著波動之渦流壓 力的作用而經由導管4的壓力埠口 3 a與3 b流出。在該 等導管4 a與4 b中之淨化氣流流動的波動係以感測元件 7 a與7 b偵測。 該等感測元件7 a與7 b可以是對熱敏感的元件,舉 9 580565 例來說,像是熱線以及電熱調節器。要被用來與一種淨化 氣流接觸之該等對熱敏感的元件7 a與7 b係被配置在該 導管4上(在介於導管4 a與4 b之間的邊界部位中)成 對的節流元件6 a與6 b之間。這些對熱敏感的兀件7 a 與7 b係分別形成一個跨橋電路(未顯示於圖中)的臂部 。該等成對的節流元件係稍微彼此分開來形成一種位於該 導管4之中間部位中的層流,用以去除一個干擾成份。一 種來自於高壓淨化氣體供應源的淨化氣體氣流(空氣或是 氮氣)係被供應至該導管4的中間部位,並且會被配置於 其中之對熱敏感的元件7 a與7 b偵測到。來自於該等對 熱敏感元件7 a與7 b的訊號經由引線而被傳送到一個放 大器9,藉以放大該等訊號。被放大的偵測訊號係藉著一 個過濾器電路而淸除干擾成份,並且接著被當作個別的渦 流訊號輸出。 爲了要保持淨化氣流的固定供應,一個節流元件2 0 係被安裝在一個被連接到該導管4之中間部位處的上游淨 化氣體管5 (小直徑的管件)中,其中,該等對熱敏感的 元件7 a與7 b被配置於該導管4中。一個當做該節流元 件2 0之孔口平板2 0 i的例子係被顯示於圖1 B中。這個 節流元件2 0具有一個小直徑(d 1 )入口 2 1與一個大 直徑(d 2 )出口 2 2,並且一個淨化氣流係在以箭頭表 示的方向中流動。假定一個淨化氣流在節流元件2 0之出 口處的壓力是P 2並且在節流元件2 0之入口處的壓力是 P 1。當出口壓力P 2對於入口壓力P 1的比値被增加到 10 等於或大於臨界壓力的比値時,來自於該出口 2 2處的淨 化氣流係會獲得等於音速的速度,並且會變成一種熟知之 固定大量流動而不會受到下游側淨化氣流壓力變化的影響 。更加精確地來說,出口之淨化流動的流動速率可以藉著 入口側之淨化氣流之壓力、溫度、或濕度的變化來改變, 但是出口氣流的變化是可以忽略的並且不會造成任何關於 淨化氣流流動速率之精確性的問題。該淨化氣流的流動速 率可以藉著改變入口 2 1 (直徑d 1 )的面積而被改變。 因爲淨化空氣之臨界壓力的比値P 2/P 1等於0 · 5 2 8,可以調整一個壓力降低閥1 1而使得被指示在一個壓 力計1 2上之供應淨化空氣的壓力P 1可以達到夠高,用 以容許該節流元件2 0可以獲得供應氣體壓力P 1對於要 被量測之淨化空氣壓力P 2的臨界比値。即使發生了要被 量測之氣體壓力P 1的變化,可以盡可能地維持以上所提 及的情況而將一個固定的淨化氣流供應到該系統之中。 如上文所述,揭示於日本新型公告第5 - 4 7 3 8 0 號之中的渦流流量計可以僅藉著使用一種像例如是一個孔 口平板之簡單又便宜的節流元件來導入一種精確的淨化氣 流(而不必應用任何昂貴的流量計以及像是閥的流動控制 元件)’並且即使在要被量測的氣體壓力改變的情況下消 除調整閥件的需要(不需要使用壓力控制機構)。 圖2 A與圖2 B說明了另一個傳統式淨化型之渦流流 量計的示例性構造,該構造與圖1 A與圖1 B所示之構造 的不同處係在於淨化氣體導管4的配置以及當作壓力埠口 11 之排出埠口的位置。在這個淨化型的渦流流量計中,一個 渦流產生器2係被安裝在一個流體通道中,該通道中的流 體係一個在流動管件1以及導管4 a與4 b之中流動,該 管件以及該等導管係延伸通過該渦流產生器2而到達各自 的外部側邊表面,且在該外側表面處,該管件與該等導管 係在導管的壓力埠口 3 a與3 b處與在該流動管件1中的 流體通道相連通。以相同於圖1 A與圖1 B之流量計所描 述的方式,這個渦流流量計可以從外部淨化氣體源經由各 個導管將乾淨的淨化流體(像是氮氣)沿著渦流產生器2 的二側供應到該通道之中,並且使用像是電熱調節器的流 動速度感測器藉著以該渦流產生器所製造之卡曼渦流的效 果偵測出淨化氣流的交替變化。由於該偵測感測器可以在 不與要被量測之流體直接接觸的情況下運作,這個流量計 可以量測出無法以傳統式流量計量測之骯髒流體或是高溫 或低溫流體的流動速率。 然而,藉由該感測器所獲得之偵測訊號的品質係與沿 著該感測器工作表面流動的淨化氣體之流動速率有關。易 言之,在該流動管件中流動之流體的流量越大(交替差動 之卡曼渦流壓力越大),感測部位所需要的淨化氣體流量 就越大。相反地,在該流動管件中流動之流體的流量越小 (交替差動之卡曼渦流壓力越小),感測部位所需要的淨 化氣體流量就越小。爲了要一直獲得高品質的感測器訊號 ,係需要根據在該流動管件中流動之要被量測流體的流動 速率來控制淨化氣體的流動速率。如上文所述,該渦流流 12 量計的特徵係在於供應一種固定流動之淨化氣體到該感測 器。然而,在實際上是無法反應在該流動管件中流體之流 動速率的改變來控制淨化氣體的流動。因此,是無法獲得 穩定而高品値的偵測訊號的,因而每單位時間所產生的渦 流數是無法被精確地量測出來。 【發明內容】 本發明的一個主要目的是要提供一種淨化型的渦流流 量計,該流量計即使是在要被量測之流體速度所改變之範 圍很大的情況下,亦能夠準確地量測每單位時間所產生之 渦流數,藉以獲得在流動管件中流動之流體流動速率的精 確量測値。 本發明另一個目的是要提供一種淨化型的渦流流量計 ,該流量計包含有一個渦流產生器、二個側邊導管、一個 前方導管、以及一個淨化氣體注入機構;並且,該渦流產 生器係被安裝在於一個流動管件中流動之一個要被量測的 流體之通道中;每個側邊導管分別具有一個對該渦流產生 器之側邊表面開放並且與流動管件中的流體相連通的端部 ;該前方導管具有一個對該渦流產生器之一個前方表面開 放並且與流動管件相連通的端部;以及,該淨化氣體注入 機構係用於從一個淨化氣體供應源處將一種固定流動的淨 化流體供應至該等導管的另外一個端部中,並且經由該等 導管將淨化氣流排放到一個在該流動管件中流動的流體氣 流之中;其中,該渦流產生器所產生的每個渦流係反應在 該流動管件中流動的流體所產生之渦流的波動壓力,而如 13 同在側邊導管中流動之淨化流體的流動速率或是流動速度 的波動訊號而被偵測。 本發明另一個目的是要提供一種淨化型的渦流流量計 ,該流量計包含有一個渦流產生器、二個側邊導管、一個 前方導管、以及一個淨化氣體注入機構;並且,該渦流產 生器係被安裝在於一個流動管件中流動之一個要被量測的 流體之通道中;每個側邊導管分別具有一個被配置在鄰近 該渦流產生器之側邊表面處並且與該流動管件的外部相連 通的端部;該前方導管具有一個對該渦流產生器之一個前 方表面開放並且與流動管件相連通的端部;以及,該淨化 氣體注入機構係用於從一個淨化氣體供應源處將一種固定 流動的淨化流體供應至該等導管的另外一個端部中,並且 經由該等導管將淨化氣流排放到一個在該流動管件中流動 的流體氣流之中;其中,該渦流產生器所產生的每個渦流 係反應在該流動管件中流動的流體所產生之渦流的波動壓 力,而如同在側邊導管中流動之淨化流體的流動速率或是 流動速度的波動訊號而被偵測。 【實施方式】 圖3 A與圖3 B說明了使用於本發明中之一個淨化型 渦流流量計的示範性結構。根據本發明這個實施例的淨化 型渦流流量計係包含有一個渦流產生器2,其係被安裝在 於一個流動管件中流動之一個要被量測的流體之通道中; 導管4 a與4 b,其具有位於該渦流產生器2之二個側邊 表面中的開放端部3 a與3 b (或如同壓力埠口終結), 14 用於與要被量測之流體的通道相連通;一個前方導管4 c ,其具有一個在該渦流產生器2之前方表面中的開放端部 3 c (壓力埠口)。該前方導管4 c在其開放端部處係與 該渦流產生器2外部的流體通道相連通,並且在其另一個 端部處與側邊導管4 a與4 b相連通。 淨化氣流引入機構係從一個淨化氣體供應源(一種能 夠供應一種固定流動之像是空氣與氮氣之淨化氣體的高壓 氣體供應源)處,經由一個淨化氣體管5 (在下文稱做管 子)、導管4a與4b、以及該前方導管4c將一種固定 流動的淨化氣體供應到在流動管件1中流動之要被量測的 流體中。該淨化氣流係被強制經由該等壓力埠口 3 a與3 b進入一種要被量測的流體之中,藉著從渦流產生器2交 替地離開之渦流的波動差動壓力之作用來交替地改變該流 體的流動速率。在該二個導管中交替波動地流動之淨化氣 體係藉著各自的感測元件而被偵測,其中,感測元件係被 安裝在每個導管4 a與4 b之中。來自於淨化氣體供應源 的淨化氣流係經由管子5被分佈到三向的分支(導管4 a 、4 b、以及4 c ),從該等分支處,這些淨化流體的氣 流會經由各自的壓力埠口 3 a、3 b、以及3 c而被排放 至在該流動管件1中流動之要被量測的流體中。來自於前 方導管4 c而通過在該渦流產生器2前方表面中之埠口 3 c的淨化氣流可以根據在該流動管件1之中流動要被量測 流體的流動速率變化而改變,從而實行自動調整在每個導 管4 a與4 b中之淨化氣體的流動速率。要從該淨化氣體 15 供應源處被供應之淨化氣體的壓力可以藉著使用一個閥( 壓力降低閥)11以及一個壓力計12而預先被調整到一 個適合於所選擇之淨化氣體種類的數値,其中,該壓力降 低閥係用於調整來自於淨化氣體源之淨化氣體的供應並且 該壓力計係用於量測在淨化氣體供應管線中流動之淨化氣 體的壓力。 偵測元件是用來偵測渦流產生器2所產生之渦流的訊 號,該訊號是一種在該等導管4 a與4 b中流動之淨化氣 體流動速率或是速度的波動訊號,亦即,淨化氣體流率或 是速度的差別訊號(differential singals)。一般來說,像 是例如熱線或是電熱調節器之對熱敏感的元件係被使用並 且係被安裝在每個導管4 a與4b之中。圖3A與圖3 B 所示之對熱敏感的元件7 a與7 b係運作來與淨化氣流相 接觸,該等對熱敏感的元件7 a與7 b是被配置在成對的 節流元件6 a與6 b之間,且該等節流元件係被配置在從 該淨化氣體供應管子5分支出來而進入該等導管4 a與4 b之中的一個下游部位中。這些對熱敏感的元件係形成了 一個跨橋電路(未顯示於圖中)的各個臂部。從該淨化氣 體供應源被饋入的淨化氣流係在該管子5之中流動並且被 分成三個分別在導管4 c、4 a、以及4 b之中流動的氣 流。在導管4 a與4 b之中,淨化氣流會沿著各自的感測 元件7 a與7 b流動,用於偵測各個淨化氣流的波動。該 等成對的節流元件6 a與6 b係被配置成彼此稍微地分隔 ,用以將波動的流動轉換成一種在導管4之分支部位中流 16 動的層流,從而消除雜音干擾的成份。該節流元件的使用 可以在許多情況中實施。來自於對熱敏感元件7 a與7 b 的偵測訊號係經由引線而被傳送到一個放大器9 ’藉以該 等偵測訊號係被放大。被放大的偵測訊號係被一個過爐器 電路去除掉干擾的成份並且接著以渦流偵測訊號被輸出。 在這種渦流流量計之中,來自於外部淨化氣體供應源之像 是氮氣的乾淨淨化流體係從被配置在渦流產生器2之二個 側邊處的導管被排放出去’並且藉著該渦流產生器而產生 之卡曼渦流效應的淨化流體流動之交替變化係藉著使用像 是電熱調節器的流動速度感測器而被偵測。由於該等感測 器並非直接與要被量測之流體直接接觸地運作,這種流量 計可以被用來量測一種通常是不能被量測之骯髒或是高溫 或低溫流體的流動。該等導管4 a、4 b、以及4 c可以 分別具有針狀閥1 3 a、1 3 b、以及1 3 c。藉著關掉 這些閥1 3 a、1 3 b、與1 3 c以及閥1 1,係有可能 進行該等對熱敏感元件7 a與7 b的維修而不用停止在主 要流動管件1中的流動。 圖4說明了一個渦流流量計的例子,該渦流流量計與 圖3 A以及圖3 B所示之流量計的不同之處在於導管與壓 力埠口的配置,而且這個渦流流量計包含有一個渦流產生 器2、二個具有開放端部(壓力埠口)3 a與3 b的導管 4 a與4 b、一個具有開放端部(壓力埠口)3 c的前方 導管4 c ’其中,該渦流產生器2係被安裝成以其前方表 面指向在一個流動管件1中要被量測之流體通道中的上游 17 側邊,該等開放端部3 a與3 b係被配置在鄰接在流動管 件1中之渦流產生器2的二個側邊表面並且從該流動管件 1的內側向外延伸而通過該流動管件的二個側邊壁部,該 開放端部3 c係被配置在該渦流產生器2的上游側邊上並 且與該流動管件1的外側以及該等導管4 a與4 b相連通 。該前方導管4 c可以被配置在其開放端部的上游處並且 靠近該渦流產生器2的前方表面或是與該渦流產生器2的 前方表面相隔。在圖4所示的實施例之中,該等側邊導管 4 a與4 b以及該前方導管4 c係分別插入該流動管件1 的內側而穿過該流動管件的壁部,並且該等側邊導管以及 該前方導管係被配置在其分別位於該渦流產生器之右方、 左方、以及前方表面附近中的開放端部處。 除此之外,壓力埠口 3 a、3 b、以及3 c的配置可 以是圖3 A、圖3 B、以及圖4所示之配置組合的修改。 易言之,二種壓力埠口之配置的變化係爲可能的:其中一 種變化是壓力埠口 3 a與3 b係如同圖3 A與圖3 B所示 地配置並且壓力埠口 3 c係如同圖4所示地配置,另外一 種變化是壓力埠口 3 a與3 b係如同圖4所示地配置並且 壓力埠口 3 c係如同圖3 A與圖3 B所示地配置。前一種 配置係藉著圖5中之範例的方式來說明。因爲這個實施例 的說明可以從圖3 A、圖3 B以及圖4的描述而被了解, 這個實施例的說明是係被省略。 以本發明之實施例描述於上文中的淨化型渦流流量計 可以被設計成容許要被量測的流體可以流過量測用的流動 18 管件,或是可以被設計成是適用於在一個大直徑流動管件 中使用的插入型式,其中,該流量計係量測相同流體的部 份流動速度。在後者的情況之中,流體的流動係從被量測 的部份流動速度而被決定。在圖3 A、圖3 B、圖4、以 及圖5之中,所顯市之渦流產生益的形狀係如同一^個矩形 的角柱,該渦流產生器可以具有任何其他的形式,以容許 流體氣流可以交替地在其二個側邊處產生卡曼渦流。 位於該渦流產生器前方表面之前方以及該渦流產生器 之二個側邊上的淨化氣流排放埠口之配置係可以根據在流 動管件中要被量測之流體的流動而自動地控制淨化流體到 達感測器部位的流動。這種自動控制將於下文中更進一步 地描述。 圖6說明了在一個渦流流量計之一個渦流產生器附近 的流體之壓力分佈情形。在一個流動管件1中之渦流產生 器2周圍的流體壓力係在以下的條件下量測: 該渦流流量計具有一個0 · 2 8的限定比値d/D ( d爲渦流產生器2之前方表面的寬度,D爲流動管件1的 內徑)。在該流動管件1中2 2 · 4 °C之流體的流動速率 爲400、600、以及800m3/h (流動速度分別是 6 · 2、9 · 3、以及1 2 · 4 m/ s )的條件下,所獲 得之在該渦流流量計周圍之流體壓力分佈的檢查係表示下 列的情況:
在每種情況中,當在距離該渦流產生器2 —個足夠遠 處,在上游側邊上所量測的絕對壓力P是1 0 1 · 0 k P 19 a、491 · 3到 490 · 3kPa、以及863·0 到 8 5 7 · 1 k P a的時候,與在該渦流產生器2之右側A 、左側B、以及前側C上的流體壓力相比較(該等壓力係 對應於分別在圖3A、圖3B、圖4、以及圖5之中壓力 埠口 3 a、3 b、以及3 c處的壓力),當在該流動管件 1中流動的流體增加時,在前側C上的流體壓力係會增加 。這種情形可以藉著對於該渦流產生器2的流體阻力(壓 力降)來解釋。如果從外部淨化流體供應源供應固定的淨 化氣流,流體流動的增加會控制(降低)從前方壓力埠口 3 c排放出去的淨化流體。因爲這樣的結果,淨化氣流會 流動通過感測器而進入壓力埠口 3 a與3 b。結果,在該 渦流產生器的前方表面上提供壓力埠口 3 c可以達成淨化 流體分流到各自之感測器的自動控制。這樣係可能獲得穩 定化的高品質偵測訊號,且不需要使用另外的控制機構來 另外地調整淨化流體。 圖7說明了要被量測之流體R的流動、淨化流體R’ 的流動、以及根據本發明淨化型渦流流量計之感測器偵測 訊號的波形之間的關係。數據是藉著操作流量計而獲得的 ,且如圖3 A與圖3 B所示之導管4 c的閥1 3 c爲開啓 者。 圖8說明了要被量測之流體R的流動、淨化流體R ’ 的流動、以及根據習知技術淨化型渦流流量計之感測器偵 測訊號的波形之間的關係,在實際上,該等偵測訊號係可 以是相應於當導管4 c的閥1 3 c是關掉時圖7之流量計 20 的狀態。在圖7與圖8所示之偵測訊號的波形是在一個一 般是很小的流動速率1 5 m 3/h ( 2 m/ s,3 3 Η z ) 以及一個一般是很大的流動速率1 8 5m3/h ( 2 4m/ s,4 Ο 8 Η z ),藉著從淨化流體供應源以流動速率Ο • 0 (無淨化流體),〇· 2,0 · 4,1 · 0 ( 1 /m i η )供應淨化流體R’而獲得的。所使用的淨化流體是 空氣(9 · 8 k P a )。在圖8之中該淨化流體R ’是0 的情況中,閥1 3 c是被釋放的並且要被量測的流體係被 強制流過感測器的部位。 如圖8所示,藉著習知技術之裝置所獲得的波形(偵 測訊號)所代表的事實爲在流動管件1中要被量測流體之 流動很小的情況之下,藉著以渦流產生器產生之卡曼渦流 效應的淨化流體之交替變化在淨化流體R’增加時會變得 難以偵測,並且在流動管件1中要被量測流體之流動很大 的情況之下,在當淨化流體R’減少時則變得不可能偵測 淨化流體的交替變化。易言之,如上文所描述的,感測器 所產生之偵測訊號的品質係與沿著淨化氣體之作用表面流 動的淨化氣體之流動有關。 換句話說,在流動管件中的流體流動越大(由卡漫渦 流街之效應所造成的交替差動壓力就越大),所需要之流 到感測器的淨化流體就越多。相反地,在流動管件中的流 體流動越小(由卡漫渦流街之效應所造成的交替差動壓力 就越小),所需要之流到感測器的淨化流體就越少。 在另一方面,根據本發明之淨化型渦流流量計的偵測 21 訊號之波形(參見圖7 )很明白地表示淨化流體之流動的 交替變化可以在很小以及很大流動速率R (= 1 5 m 3/h ,1 8 5 m 3/h )之任何的淨化流體R’均勻地被偵測到 。這種結果證明了從前方導管4 c的埠口 3 c處排出淨化 氣體可以實現從導管4 a與4 b之埠口 3 a與3 b處排放 淨化氣體的自動控制。換句話說,即使在流動管件1中流 動之流體所改變的範圍很廣,只要一種淨化流體是盡可能 地以一個固定的流動速率從淨化氣體供應源被供應,根據 本發明的淨化型流量計可以準確地量測渦流流量計在每單 位時間所產生的卡曼渦流數。 本發明的優點係如下所述。 藉著實施從一個外部淨化氣體供應源處供應一種固定 流動的淨化氣體,而不需要額外地控制淨化氣體的流動, 根據本發明的淨化型渦流流量計在主要管件中流動之廣大 範圍中的流體總是可以獲得感測器的穩定高品質偵測訊號 ,並且可以精確地量測渦流產生器每單位時間所產生的渦 流數,並且因此,可以精確地決定在主要管件中之流體的 流動速率。 【圖式簡單說明】 (一)圖式部分 圖1 A與圖1 B爲根據習知技術之淨化型渦流流量計 的示範性結構視圖; 圖2 A與圖2 B爲另一種淨化型渦流流量計的示範性 結構視圖,其中,該等導管以及壓力埠口的配置係爲不同 22 者; 圖3 A與圖3 B爲另一種淨化型渦流流量計的示範性 結構視圖,其中,該等導管以及壓力埠口的配置係爲不同 者, 圖4爲根據本發明另外一個實施例之淨化型渦流流量 計的另外一個不範性結構視圖; 圖5爲根據本發明另外一個實施例之淨化型渦流流量 計的另外一個示範性結構視圖; 圖6說明了淨化型渦流流量計之渦流產生器附近的流 體之壓力分佈情形; 圖7爲用於說明要被量測之流體的流動速率、淨化流 體的流動速率與一個根據本發明之淨化型渦流流量計的感 測器偵測訊號之波形間的關係視圖;以及 圖8爲用於說明要被量測之流體的流動速率、淨化流 體的流動速率與一個根據習知技術之淨化型渦流流量計的 感測器偵測訊號之波形間的關係視圖。 (二)元件代表符號 1 流動管件 2 渦流產生器 3 a 壓力埠口/開放端部 3 b 壓力埠口/開放端部 3 c 壓力埠口/開放端部 4 導官 4 a 導管 23 580565 4 b 導管 4 c 前方導管 5 淨化氣體管 6 a 節流元件 6 b 節流元件 7 a 感測元件/對熱敏感的元件 7 b 感測元件/對熱敏感的元件 9 放大器 11 壓力降低閥 12 壓力計 13a 針狀閥 13b 針狀閥 13c 針狀閥 2 0 節流元件 2 0 ! 孔口平板 2 1 入口 2 2 出口 24

Claims (1)

  1. 拾、申請專利範圍 1 · 一種淨化型的渦流流量計,其包含有: 一個渦流產生器,其係被安裝在於一個流動管件中流 動之一個要被量測的流體之通道中; 二個側邊導管,每個側邊導管分別具有一個對該渦流 產生器之側邊表面開放並且與流動管件中的流體相連通的 端部; 一個前方導管,其具有一個對該渦流產生器之一個前 方表面開放並且與流該動管件相連通的端部;以及 一個淨化氣體注入機構,用於從一個淨化氣體供應源 處將一種固定流動的淨化流體供應至該等導管的另外一個 端部中,並且經由該等導管將淨化氣流排放到一個在該流 動管件中流動的流體氣流之中; 其中,該渦流產生器所產生的每個渦流係反應在該流 動管件中流動的流體所產生之渦流的波動壓力,而如同在 側邊導管中流動之淨化流體的流動速率或是流動速度的波 動訊號而被偵測。 2 · —種淨化型的渦流流量計,其包含有: 一個渦流產生器,其係被安裝在於一個流動管件中流 動之一個要被量測的流體之通道中; 二個側邊導管,每個側邊導管分別具有一個被配置在 鄰近該渦流產生器之側邊表面處並且與該流動管件的外部 相連通的端部; 一個前方導管,其具有一個對該渦流產生器之一個前 25 580565 方表面開放並且與流該動管件相連通的端部;以及 一個淨化氣體注入機構,用於從一個淨化氣體供應源 處將一種固定流動的淨化流體供應至該等導管的另外一個 端部中,並且經由該等導管將淨化氣流排放到一個在該流 動管件中流動的流體氣流之中; 其中,該渦流產生器所產生的每個渦流係反應在該流 動管件中流動的流體所產生之渦流的波動壓力,而如同在 側邊導管中流動之淨化流體的流動速率或是流動速度的波 動訊號而被偵測。 拾壹、圖式 如次頁
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