TW526356B - Liquid-crystal display with inter-line short-circuit preventive function - Google Patents

Liquid-crystal display with inter-line short-circuit preventive function Download PDF

Info

Publication number
TW526356B
TW526356B TW89113867A TW89113867A TW526356B TW 526356 B TW526356 B TW 526356B TW 89113867 A TW89113867 A TW 89113867A TW 89113867 A TW89113867 A TW 89113867A TW 526356 B TW526356 B TW 526356B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
gate
line
electrode
drain
pole
Prior art date
Application number
TW89113867A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryuji Nishikawa
Yoshikazu Hirose
Original Assignee
Sanyo Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co filed Critical Sanyo Electric Co
Application granted granted Critical
Publication of TW526356B publication Critical patent/TW526356B/zh

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)

Description

526356 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 f公 I ” ./fv /_B7_ 〜、、〜· / 五、發明說明(Ί 發明背暑 發明範疇 本發明係有關藉由可Μ減少使用光罩數目之方法而實 現之液晶顯示器,尤其關於一種液晶顯示器,而其產量乃 藉防止由於鋁質閘極上之橫向隆起部(lateral hillocks) 而在閘極與源極K及在閘極與汲極間發生短路而得Μ改進 Ο 習用抟銜夕描沭 液晶顯示器具有諸如體積小,輕薄及耗電量低之優點 ,且其在辦公室自動化設備及視聽設備之類領域中已達商 業普及之階段。特別是運用薄膜場效電晶體(而後記為 τ F Τ (薄膜電晶體))之主動矩陣液晶顯示器理論上可在時間 掃描驅動蓮用線條而在百分之百作用比(d u t y r a t i 〇 )下實 行靜態多工驅動,使得動態影像可在高解晰度與高對比率 下顯示。 該主動矩陣液晶顯示器具有其TFTs連接至形成於基質 之複數個液晶驅動像素(P i X e 1 )電極之結構,而像素電容 係形成於每一像素電極與形成於另一在該像素電極對面之 基質且在該二基質間具有液晶層之共同電極一部份之間, 並且不同電壓乃豳加至每個像素電容Μ維持像素電荷。液 晶之取向係回應形成於每一像素電容之電場而改變以調變 透射之光束,並且顯示影像則藉巨觀組成每一像素之亮度 而形成。 TFT為施加電壓至像素電極之開關元件,其乃由閘電 A7 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝--------訂---------
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1 3 7 7 6 2 D 1 526356 A7 B7 五、發明說明(2) 極、汲電極、源電極K及非犟晶半導體層所組成。每一電 極連接至閘線、汲線Μ及該像素電極,並且該非單晶半導 體層係由非晶形矽(a - S i )或聚矽(ρ - S i )所製成並作用為通 道層。一群閘線為在時間掃描K選為在一條掃描線(一條 閘線)而啟動所有TFTs之線,並且與其同步之數據信號乃 經每一汲線而傳送至各別像素電極。該共同電極具有其決 定於與掃描信號同步之電壓Μ利用界於該共同電極與其對 面之每一像素電極間之電壓而在該空間驅動液晶。每一顯 示像素之光透射率(transmittance)則被加Μ調整,並且 每顯示像素之成份階度顯示係視覺上得Μ辨視為顯示影像 。从T F T s於斷路之液晶驅動狀態係藉由包含該二電極之顯 示像素維持之電壓而得Μ持續一場之周期,並且加入與其 並聯之儲存電容可增加保持比(h ο 1 d ί n g r a t i 〇 )。 使用在較上位置具有閘之交錯式TFT之傳統液晶顯示 器將予以描述。第1及第2圖顯示傳統TFT基質之構造。第 1圖為平面圖,而第2圖為沿第1圖1X-1X’之剖視圖。在此 等圖式Μ及K下說明之其它圖式中,該等疊層等等並未按 相同比例繪製。防止光進入該T F Τ通道之遮掩層(5 1 )為由 鉻之類等所製成,並且二氧化砂之類的層際絕緣體(5 2 )乃 形成於基質(5 0 ) Μ蓋住該遮掩層(5 1 )。具有源電極(5 5 )之 像素電極(5 3 ) Μ及具有汲電極(5 6 )之汲線(5 4 )係由位在該 層際絕緣體(5 2 )上之透明導電材料I Τ 0 (絪鍚氧化物)所製 成。形成於由a - S i及絕緣層所組成之雙層結搆上之鋁質閘 線(6 0 )係設置使其與汲線(5 4 )交叉。由閘線(6 0 )延續之閘 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 2 3 7 7 6 2 D1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
^Γ ϋ Λ—m ϋ ϋ ϋ -1 ϋ - ^ 11 ·1· ϋ ϋ ϋ ϋ «1 I
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 526356 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(3) 電極(5 9 )乃設置於靠近閘線(6 0 )與汲線(5 4 )交叉處。於此 區域中,源電極(55)、汲電極(56)、置於其上之a-Si層ί 5 7 )、由S ί Ν X之類製成之閘絕緣層(5 8 ) Κ及閘電極(5 9 )係 堆疊形成TFT。雖未圖示5然摻有許多雜質(如磷)Κ降低 電阻之a - S i層係大致位於a - S丨層(5 7 )與源電極(5 5 )間Μ及 位於a - S i層(5 7 )與汲電極(5 6 )間Μ改善歐姆特性。 於完成上述圖樣後,聚醯亞胺之類的取向薄膜則形成 於該TFT基質之整個表面上以在施行預定搓磨處理之前得 Μ控制液晶之取向。此TFT基質而後則銲接至具有共同電 極之計數器基質,其中該共同電極係形成於該表面上而其 間並有充電之液晶存在,再者該等基質之邊緣則加Μ密封 Μ製成液晶顯示器。 上述TFT基質製造方法包含三種光學石版印刷步驟: 第一步驟為蝕刻形成遮掩層(5 1 )之鉻Σ第二步驟為蝕刻形 成像素電極(5 3 )、汲線(5 4 )、Μ及源電極(5 5 )與汲電極( 5 6 )之I Τ 0 s第3步驟為蝕刻形成閘線(6 0 )及閘電極(5 9 )之 鋁。a - S i層(5 7 ')與閘絕緣層(5 8 )係使用與用於蝕刻閘線( 6 0 )及閛電極(5 9 )相同之光罩而在第3光學石版印刷步驟中 加Μ蝕刻。 因之,該交錯式TFT可藉該等三個光學石版印刷步驟 而形成於該TFT基質上K使其製造成本低廉。然而,既閘 絕緣層(5 8 )係蝕刻而具有如同閘線(6 0 )及閘電極(5 9 )之相 同圖樣,則其具有K下之問題產生。 既諸如汲線(5 4 )、漉電極(5 5 )及汲電極(5 6 )之較低層 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂---------
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 37762D1 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 526356 A7 B7 五、發明說明(4) 係為暴露,則其係藉在該基質厚度方向而累積至閘絕緣層 (58)厚度之距離而與諸如閘線(60)及閘電極(59)之上層加 Μ隔離。又,該等上層係藉閘絕緣層(5 8 )之厚度而與該等 下層隔離。另一方面,眾知具有低電阻之鋁適合作為閘線 材料,惟鋁之抗熱性差而形成柱狀突出之所謂的隆起部或 (腫塊)。該等隆起部在熱處理過程中更形增長且可長成一 微米之高。 閘絕緣層(5 8 )具有約為0 . 3至0 . 5微米之厚度,並且當 該等隆起部(橫向隆起部)由閘電極(5 9 )之鋁質側壁而沿橫 向方向形成時,閘絕緣層(5 8 )之厚度距雛並不足Μ防止該 等横向隆起部琨象5而可能達到諸如該等源電極(5 5 )與汲 電極(5 6 )之下層。 填充物係特定置於該TFT陣列基質與該計數基質間以 在此等基質間保持固定空間。當此填充物位於諸横向隆起 部中之横向隆起部,則該等橫向隆起部乃被向下推壓而在 諸如源電極(5 5 )與汲電極(5 6 )之下層上,而導致閘極與源 極間以及閘極與汲極間之短路現象。此閘極與源極間之短 路造成點狀瑕疵,並且該閘極與汲極間之短路則造成線狀 瑕疵,而使顯像品質惡化。 第3圖顯示隆起部密度與烘烤溫度間之關係。其顯示 者為該等隆起部係於〗5 0 t或更高之溫度烘烤而形成於鋁 上。然而,琨有之製造方法包含形成聚醯亞胺薄膜之步驟 ,其中該聚醯亞胺薄瞑為在形成閘電極(5 9 )後控制液晶取 向之取向薄膜f Μ及包含在約2 0 0 °C下製造純化薄膜之步 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 3 7 7 6 2 D 1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝-------訂·--------
526356 A7 __B7___ 五、發明說明(5 ) 驟。因之,隆起部之產生乃無法避免。 另一方面s為防止隆起部產生,鋁係製成非常薄,亦 即s形成閘電極(5 9 )之鋁薄膜及閘線(6 0 )可製成為具有 5 〇 〇埃或以下之厚度以防止任何隆起部產生。於此情況下, 具有3000埃厚度鉬質之堆疊構造可避兔開放線,惟鉬有大 於鋁約5倍之電阻,且對線電阻而言並不適於製造大面積 之該物。 髒明溉要 本發明目的係為提供一種液晶顯示器,其係設計Μ防 止由於在閘金屬上產生隆起部而在閘極與源極間Μ及閘極 與汲極間產生短路現象。 為達成上述目的,根據本發明之液晶顯示器包含有複 數個用Μ驅動在基質上之矩陣陣列中液晶套件之像素電極 ,Κ及複數個形成於該等像素電極行間之汲線,Μ及複數 個形成於該等像素電極列間之閘線,並擁有諸如絕緣層與 半導體層之下層,以及複數個薄膜電晶體(TFT),每一薄 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
向極 ,具 緣 極 之 各電極 及絕電 層 並素電以該閘。緣 ,像汲 ,在及者絕 成該 之層成線窄該 形成份體形 閘為較 處構 部導有 等寬成 點有 一半具該線形 叉具 線之及 ,之係 交 體汲極以又層度 線 晶該電 : 。緣寬 閘 電成汲 層極絕 之 與 _ 構與緣 電該極 線薄 有極絕 閘之電 汲一 具電之 之較閘 等每及源上份,w.a 該 o K 該層部成線 近壓 :於體一形閘 靠電極伸導線係該 在 Μ 電延半,閘其當 係½源Μ該該在 , 體極之成在成乃之 晶電份形成構徵因 電素部及形並特 膜 像 一Κ有罾之 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 37762D1 526356 A7 ____Β7五、發明說明(6 ) 線寬為窄時,則由該閘線與閜電極至配置於其下之下層的 該源電極(像素電極)與汲電極(汲線)之距離乃成為等於該 絕緣層之厚度加上該閘線(及電極)之線寬與該絕緣層之線 寬之差。因之:當鋁被使用為該閘線及閘電極之材料f gp 使隆起部在鋁上形成s則該等隆起部之突出端並未觸及該 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
阻在該由該線產 對 線汲之隆 質層在 熱含當則如閘所 於 汲與層是 基電 j 善包然,諸與部 成 該線緣使 該導驟 改驟縱度與極起 形 與閘絕即 於明步 可 步 ,寬 極電隆 層 而 該該, :S0之 乃溫此同閜閜於 掩 層於上低 驟該極 料高因相等該由。遮 緣介加降步^ 電 材是。之此當則生之。絕 £ 差為 下触汲 。 之便此層在。 * 發细置及處寬乃W罩及 象線即如緣免生者其漸位層叉線會 有光以 現閘 ,為絕遊發寬止體之體交之機 具 y 極 路與制亦下以間線防大區導之間之。法1電 短極抑驟同得層之地有道半線層路此方 f 源 成電被步如乃下窄定為通該 _ 緣短如之ji>、 造閑係之有象之為確徵之經與絕生為器驟線 M為成後具琨i)靨加特體線線與發亦示步汲 } 作形成以路線緣更項晶閘汲線間上顯之、 (^鋁之形成短(^.絕可一電該該閘線線晶層極 極之部之形之極該即有膜,在該二剛液電電 電鈸起線線成電較象亦薄外 f為該該逑導素 汲含隆剛閘形汲有現明上之之係致於上明像 與用 $及與部及具路發質此因雛以成造透該 極使之極極起極K短本基除。距 $ 形製成成 電 因 電電隆 電成之 該 會 之度部 形形 源 。閘閘於源形生 應 交線厚起 上M (請先閱讀背面之注音3事項再填寫本頁) I I I I 訂111111
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 37762D1 526356 A7 ___B7 ___五、發明說明(8 )狀之部份。因此,經由絕緣層之類而在該遮掩層上形成之 薄膜電晶體及多種之線可在該遮掩層邊緣之階部避免破裂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第第第 第第第 圖 視 剖 份 部 ;之 圖 ί , 線 面 f - X 平 1 之 X 1 器 示 顯 晶 液 統第 傳沿 為 為 圖圖 器 示 顯 画 度器 密示 部 顯 起晶 隆 液 之例 器施 示實 顯 一 晶 第 液明 統發 傳 本 示據 顯根 為為 圖圖 3 4 圖 意 示 的 圖 面 平 之 圖 5 ; 器 圖 |不 視顯 S晶 份液 部造 之製 線之 ;<例 T 施 4X實 器 一 示 第 顯明 晶發 液本 圖據 根 為 圖 11 1 4 第 沿 為 第 第 明 明 發 發 本 本 據 ; 據 ♦,根 圖根 圖為係 為 視 圖關圖 剖12之13 之 第間第 程 率 過 生 發 路 短 與 量 蝕 側 閘 之 例 豳 實 圖 面 平 之 器 示 顯 晶 液 例 施 實 器 示 顯 晶 液 圖 3 1—f 第 沿 為 圖 4 ii 第 視 剖 份 部 之 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝---- 訂---------
圖 度 密 部 起 隆 例 實 二 第 明 發 本 據 根 為 圖 5 1 第 5 較 a 明 說 Μ 加 下 於 式 圖 附 所 合 配 將 例 胞 實 諸 之 明 發 本 圖 面 平 之 器 示 顯 晶 液 例 胞 實一 第 明 發 本 據 艮 tf 為 圖 4 第 視 剖 之 線 靨 緣 絕. X 際 I 層 4 之 圖1) 4 1 yi\ 第 0 沿 I 奄 為销 J 遮 _ · 5 之 第 成 而 製 金 質 類基 之 明 鉻透 由 於 蓋成 覆 形 〇 係 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 8 37762D1 526356 A7 B7 五、發明說明(9 ) 1 0 )上,而由I T 0製成之儳素電極(]3 )、汲線(1 4 )、與該像 素電極(1 3 )整合之源電極(1 5 ) : Μ及與該汲線(1 4 )整合之 汲電極(1 6 )係形成於層際絕緣層(]2 )上。a + S丨曆(1 7 )及閘 絕緣層(1 8 ) K及閘電極(〗9 )乃在該源電極(]5 )與汲電極( 1 6 )上K此順序堆疊Μ形成T F T。形成於閘絕緣層(1 8 )之閘 線(2 0 )係由鋁製成且形成以具有如同a - S i ( 1 7 )與閘絕緣層 (1 8 )般與汲線(1 4 )交叉之相同圖樣。 本實施例中s閜電極U 9)及閘線(2 0 )係形成而較閘絕 緣層(1 8 )為窄。縱然横向隆起部在構成閘電極(1 9 )及閘線 ί 2 0 )之鋁上,其仍避免觸及在閘絕緣層(]8 )之較低位置處 的汲線(1. 4 )與源、汲電極(1 5、1 6 )。亦即,其下有閘絕緣 層(1 8 )之位於上位的閘電極(]9 )與閘線(2 0 )係與汲線(1 4 ) 、下位之源電極(1 5 )與汲電極(1 6 )藉由閘絕緣層(1 8 )之總 厚度及介於閘絕緣層(1 8 )圖樣邊緣與閘電極(1 9 )画樣邊緣 或閘線(2 0 )間之距離而加Μ隔離。因之,於閘電極U 9 )上 之横向隆起部及Μ鋁製成之閘線ί 2 0 )並未觸及汲線(1 4 )、 源電極(1 5 )與汲電極(1 6 )。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
以下將敘述製造上逑液晶顯示器之方法。第6圖中, 鉻係噴鍍至从玻璃之類製成之基質Π 0 )上並予以蝕刻Μ遮 掩層(Ί 1 )。遮掩層(1 1 )係形成Μ具有約1 0 0 0 - 2 0 0 ()埃之總 厚度。該遮掩層之上層為由C r Ν X ( U Ν )所製,其係藉在噴 鍍步驟最後而在氮氣環境下噴鍍而具有1 0 0 - 3 0 ()埃厚度。 既C r N X可蝕刻得較鉻為快,則遮掩層(U )使其邊緣藉使用 如上所逑之C r N X m N )上層而形成以具有漸細之交叉部份^ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 9 37 7 6 21)1 526356 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(l〇) 而去除階梯狀部份。於形成遮掩層(Π )後:該基質全然覆 Μ如氮化矽之化學蒸氣沉積(C V D )膜以形成層際絕緣層( 12) 〇 I Τ 0係噴鍍至層際絕緣層(1 2 )上至約1 0 0 0埃之厚度, 並蝕刻預定之圖樣以形成如第7圖所示之像素電極(1 3 )、 汲線(Ί 4 )、源電極Π 5 :)及汲電極Π 6)。如而後將述及者s 為改善T F T之歐姆特性,如磷之Η型雜質乃事先植人該標的 I Τ 0 Μ使用I Τ 0噴鍍方法將磷摻人像素電極(]3 )、汲線Π 4 ) 、源電極(1 5 )及汲電極(1 6 )。 如第8圖所示,a _ S丨層ί ] 7 )乃藉在像素電極Π 3 )與汲 線(1 4 )與源電極(1 5 ) Μ及汲電極U 6 )所形成之基質上施Κ 電漿C V D而造成5 0 0 - ] 0 0 0埃之厚度。此時s於該I Τ 0中之磷 質乃隨該a-S丨層之成長而向該a-Si散開Μ於該ΙΤ0與a-Si 間之介面形成N +型接觸層(1 7 N ),提供了歐姆接觸層。於 形成a - S Γ層(1 7 )後,氮化矽則覆蓋Μ利用電漿C V D形成具 有2 0 0 0 _ 4 0 0 0埃厚度之閘絕緣層(1 8 )。而後,噴鍍鋁至約 4 0 0 0埃之厚度Μ形成閘電極Π 9 )與閘線(2 0 )。 具有閘線圖樣之光阻劑(2 Π如第9圖所示之形成於閘 電極(1 9 )與閘線(2 0 )之鋁層上。使用光阻劑(2 1 )作為光罩 ,該鋁層乃Μ醋酸及磷酸與硝酸之混合物為蝕刻劑而加以 蝕刻从形成如第1 0圖所示之閘電極(1 9 )及閘線(2 0 )。或者 ,該閘電極與閘線係藉使用電漿蝕刻方法之側蝕刻而形成 狹窄圖樣。此時t該蝕刻時間加K調整K使該鋁層被側蝕 刻約大於該光罩大小1微米之譜f Μ致閘電極(1 9)與閘線( 10 (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) --------訂---------
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 3 7 7 6 2 D 1 526356 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(n) 2 0 )之圖樣較窄於光阻劑(2〗)。 如第1〗_所示,諸如活性離子蝕刻(R.I E )之各向異性 蝕刻係與四氟化碳之蝕刻氣體而使用該相同光阻劑(2 ])為 光罩Μ將閘絕緣層(〗8 )與a - S丨層Π 7 )移除。因之,閘絕緣 層(1 8 )與a - S i層(1 7 )則遺留在沿著閜電極(1 9 )及閘線(2 0 ) 之區域。a - S i層(1 7 )及閘絕緣層(]8 ) K及閘電極(]9 )乃以 此順序覆在源電極(1 5 )及汲電極(1 6 )上Μ構成該T F T。 光阻劑(2 1 )則最後予Μ移除Μ完成第4圖之構造。 因之,在此實施例中,閘電極(1 9 )及閘線(2 0 )係藉如 溼性蝕刻或電漿蝕刻之各向同性蝕刻而予Μ側蝕刻Μ具有 較該光阻劑(2 1 )為窄之_樣 > 且閘絕緣層(1 8 )及a - S丨層( 1 7 )係藉各向異性蝕刻而具有如該光阻劑(2 ])般之相同圖 樣,如此則閘電極(1 9 )及閘線(2 0 )使其圖樣形成較閘絕緣 層(〗8 )者為窄。又,於上位之閘電極(]9 )與閘線f K及位 於下位之汲線U 4 )與源電極(1 5 ) Μ及汲電極(1 6 )係藉由a -S i層(1 7 )厚度與閘絕緣層(Ί 8 )與鋁側蝕刻量之總距離而加 Μ隔離,因此,縱當該等横向隆起部形成於鋁質閘線上且 該等橫向隆起部被填充物壓下,但該等横向隆起部並未觸 及汲線(1 4 )、源電極(1 5 ) Κ及汲電極U β ),而防止於閘極 與源極間Μ及閘極與汲極間發生短路現象。 第1 2圖為根據本實胸例之液晶顯示器測試結果,其顯 示由於隆起部所生之短路發生率與側蝕刻量間之闢係。由 第1 2圖可見當該閘電極與閘線之側蝕刻量小於約0 8微米 時s該短路發生率乃主要視該側蝕刻量而定/但當該側蝕 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
a^i ϋ tmmt a^i 1 tat ϋ I
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1 1 3 7 7 6 2 D 1 526356 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(! 2) 刻量大於上值時,則短路發生率係相當低。因此,該側蝕 刻量s亦即基於該閘絕緣膜之類之側邊的閘電極與閘線之 超側蝕刻量乃宜設定於約1微米之譜。 如上述而顯而易見者5由於鋁閘線上之隆起部導致之 閘極與源極間K及剛極與汲極間之短路琨象係利用交錯式 T P T s而於液晶顯示器中各予以遊免之,並且此顯示器之產 量亦為之改善。 再者,此型液晶顯示器可藉調整蝕刻量而完成^並且 可在未增加光罩數量情況下加Μ製造以降低製造成本。 第二富_例 本實腌例將參照第1 3及1 4圖而加Μ描述。 在諸如玻璃之透明基質(3 0)上,鉻係加以噴鍍及光蝕 刻Μ形成具有約3 0 0 0埃厚度之遮掩層(3 1 ), Μ及有5 0 0 0埃 厚度之二氧化矽膜係使用化學蒸氣沉積法(C V D )以完全覆 蓋遮掩曆(3 1 ) Κ形成層際絕緣層(3 2 )。遮掩層(3 1 )乃覆蓋 形成TFT之區域。 ITO係噴鍍至在層際絕緣靨(:32)上之具有1 5 0 0埃厚度 之薄膜上。驅動液晶之像素電極(3 3 P )和環_像素電極( 3 3 P )之汲線(3 :U ),與和該像素電極(3 3 P )整合之源電極( 3 3 S ) , K及與汲線(3 3 L )整合之汲電極(3 3 D )則藉由光蝕刻 而形成。 形成通道區及閘絕緣_( 3 5 )之a - S i曆(3 4 )乃形成於源 電極ί 3 3 S )上W及形成於源電極(3 3 S :)與汲電極ί 3 3 D )間之 區域。由閘線(3 6 L )延續之閘電極(3 6 G )係形成於閘絕緣_ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
裝--------訂---------
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 3 7 7 6 2 D 1 526356 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(ϊ3) (3 5 )上。T F Τ則由閘電極(3 6 G )、閘絕緣層(3 5 )、a - S丨層( 3 4 )、源電極(3 3 S ) Μ及汲電極ί 3 3 D )所組成。 剛電極(3 6 G )與閘線(3 6 L )係由含重量百分之二之钕的 鋁之鋁-钕合金所製成。非晶矽(a - S i )及S IN X係相繼各別 利用未間斷真空之電漿C V D法而形成具有3 0 0 0埃及5 0 0 0埃 之薄膜。而後上述之鋁-钕乃被噴鍍至具有3 0 0 0埃厚度之 薄_上。此三層乃藉該枏同之光罩而加Μ蝕刻。 Ν+ a-Si層(34Ν)係保持於a-Si層(34)及源電極(33S) 間K及於a - S i層(3 4 )與汲電極(3 3 D )間> K獲致該T F T之歐 姆特性。N + a - S i層(3 4 N )為如同第一實施例中介於該I T 0 與3 - S ί層間之N +型薄膜一般所形成之疊層,其中在第一實 施例中於當噴鍍該Τ Τ 0時而植人I Τ 0之磷乃向該a - S i層加Κ 噴散从於當a - S丨層藉電漿C V D法而形成薄膜時而與其反應 之。 因之;此實胞例形成藉使用含鈸重量百分之二之鋁的 鋁-钕合金而形成閘電極與閘線(3 6 )。該鋁-钕合金具有高 熱阻性且於高溫處理中幾乎不產生隆起部。於藉三光罩處 理(3階L C D )而製造之L C D中:並無短路現象會由於形成於 閘電極與閘線(:3 6 )上之隆起部而於汲電極及汲線(:3 3 )與閘 電極及閘線(3 6 )間發生,其中該三光罩處理成本係藉形成 i S ί ( 3 4 )與閘絕緣薄膜(3 5 ) Μ具有如同閘電極與閘線(3 6 ) 之相同圖樣,縱然是在閘電極與閘線(3 ίΠ Μ及和有介於其 間之閘絕緣層(3 5 )之汲電極與汲線(3 3 )之交叉處亦無短路 發生。 (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁)
I I I I I 訂111!11
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1 3 3 7 7 6 2 D 1 526356 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(u) 1 4 第1 5圖顯示當TFT陣列基質係由不同金屬所製及烘烤 時之有關隆起部發生之測試結果。當測試藉使用本實施例 之3 0 0 0埃厚之該鋁-钕合金(百分之二重量)以作為閘極金 屬而測試時,形成於一條閘線上之隆起部數目係K三角形 (Δ )表示之。當比較例藉著將純鋁(P - A 1 )形成為薄膜並立 刻退火Μ使用為閘電極與閘線而施行時5則形成於一條閘 線上之隆起部數目係Μ黑圈(參)表示之。再者,當測試藉 著將薄鋁(t - A ])膜製成5 0 0 / 3 0 0 0埃厚A ]/ Μ ο Μ用為閘電極 及閘線而施行時,則形成於一條閘線上之隆起部數目係Μ 圓圈(Ο)表示之。圖中之曲線U)、(b)及U)乃表示藉製 造P - A I膜及決定其各別為1 8 0 °C、1 9 0 t及2 0 0 °C之退火溫 度所獲致之结果。由該圖可知該鋁-鈸於3 0 0 υ Μ下並未形 成隆起部,且由於隆起部之幾可藉在上述範圍W下之溫度 所行之過程中使用鋁-鈸為該閘電極與閘線(3 6 )而避免因 隆起部之短路現象於閘極與源極間,Κ及在閘極與汲極間 發生。隆起部之形成亦在當該t - A ]使用時而被抑制$惟既 然其有如上所述有關之線阻缺點,則其並不適用於大型之 顯示器。同時s當使用該p - A]時,則隆起部形成,且隆起 部之數目係在薄_形成後視退火溫度而改變。亦即,晶粒 之形成係在當以較高溫度退火時而有所提升,而薄膜品質 則有所改善;且形成之隆起部數目乃減少。然而,隆起部 之成長反而提升,且觸及該源和汲電極與線(3 3 :)之可能性 係增加,而伴隨之结果為短路之減少並未達成。特別是鋁 之退火溫度則需增加以藉全面減少所產生之隆起部數目而 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1 4 3 7 7 6 2 D 1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
526356 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明() 減少短路發生之可能性。然而;根據本發明之構想,該a -S i係在當該閘極鋁膜形成時而已形成;因此該增加之退火 溫度立即使該3-S丨品質降低或改變該TPT特性:而導致缺 乏實用性。 藉使用含鈸百分之二重量之鋁的鋁-鈸合金Μ為製造 閜電極與閑線(3 6 )以及形成a - S i ( 3 4 )及閘極絕緣層(3 5 ) W 及閘電極與閘線(:3 6 )成為相同圖樣之其製造過程簡化的三 階L C D中5縱然在閘電極與閘線(3 6 )與有閘絕緣層(3 5 )於 其間之源/汲電極與源/汲線(3 3 亦無短路現象在其中( 3 3 : 3 6 )發生f因而改善其產量使用本實施例之鋁-鈸合金 K為第一實施例之閘電極與閘線材料者,由於隆起部形成 而介於該等電極間之短路則可完全避免。 由上所述可顯見者為藉使用含鈸之鋁而為使用交錯式 丁 P T s之液晶顯示器之閘電極及閘線材料係避免隆起部之形 成。因此,該閘極(電極與線)K及源/汲極(電極與線)之 構造係避免由隆起部所引起之短路發生於上逑電極與線間 >因而改善其產量 > 而上述之閜極與源/汲極係藉具有與 該_極(電極與線)相同形狀之絕緣層的厚度而加以絕緣。 其上雖描述有本發明之較佳實_例;然吾&可知仍有 多種之修正案可加K提出:且其係欲W申請專利範圍將所 有本於本發明創作精神範疇之此等修正予K納λ。 之 M l 10.30 透明基質 11.31 遮掩層 (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) # 裝--------訂--------- % 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 5 37762D1 526356 A7 五、發明說明(ie) 12,32 1 3 £ 3 3 P 14,33,331 1 5 t 3 3 S i 6 , 3 3 D 1 7 s 3 4 17N s 34N 18 1 9 , 3 6 G 20,36,361 21 3 5 _B7 層際絕緣層 像素電極 汲線 源電極 汲電極 a - S i 層 N +型接觸層 閘絕緣層 閘電極 閘線 光阻劑 閘絕緣膜 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 16 37762D1

Claims (1)

  1. 526356 \ H3 仔 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 导月 Γ> 利申請蘇; 申請專利範圍修正本 備 具 置 裝 示 顯 晶 液 S& 種 曰 3 月 7 年 複 像接 , 逑 連 極 前及 電 於Κ 素 接 , 像 及連極 用 Κ : 電 動. ,有之 驅 線具線 晶 閘體汲 液 之晶逑 之 數電前 上 複膜於 板 之薄接; 基 差此 連極 於 交,,電 成 線體 極閘: 形 汲晶 電之為 數,述電 源線徵 複 線前膜 之閛特 Μ 汲與 薄極逑其 之 電前 數 素於 極 電 各 及 線 極 電 各 述 前 3 極 至 電 1 閘有 , 含 極鋁 電於 汲 對 , 相 極中 。 電1)者 源 U 成 {鋁形 在所 由金 係 合 極之 電d) 個(N 一 钕 少 之 KO 至 之 中 量 重 極 電 素 像 之 用 勖 33 驅 晶 .液 : 之 備上 具板 , 基 置於 裝成 示形 , 顯數線 晶 複 汲 液 K 之 種 數 一 複 2 像 逑 前 於 接 遵 及 : Μ 有 , 具 閘體 之 晶 數電 複膜 之薄 差此 交 , 線體 汲 晶 述電 前 膜 與薄 璉 及 極 電 汲 之 線 汲 逑 前 於 ; 接極 連 電 , 閘 極 之 : 電線為 源閘徵 之逑特 極 前其 電 於 素接 Μ纟項、 前 , 及入口 1 / 鋁第 或之圍 線钕範 汲之利 述量專 前少請 有申 含如 3 或 線 閘 形第 所或 2 及 / 中 其 錯 , 在 置 由 裝 係 示 極 顯 電 晶 閘 液 〇 之 者項 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 x 297公釐)1 37662D1 526356 Η 其 置 裝 。 示 者顯 钕 晶 之液 比之 量 項 8 重 2 2¾第 有或 含 項 中 1 鋁第 在圍 為範 金利 合 專 該請 之申 中如 在 係 古口 而 極 電 汲 與 極 電 源 該 對 。 極者 閘置 之位 體之 晶 遠 電 較 膜板 薄基 之該 中距 5 6 其。其 , 者 , 置成置 裝形裝 示金示 顯合顯 晶 之晶 液钕液 之之之 項 量項 2 少 2 第有第 或含或 項中項 lisl 第 在第 圍由圍 範為範 利極利 專 電· 專 請 閘請 申之申 如中如 線專 閘請 之 申 中如 鋁 在 由 為 第 圍 範 利 其 o f 者置 成裝 形示 金顯 合 晶 之液 銳之 之 項 量 2 少第 有或 含 項 中 1 形 金 合 之 钕 之 量 少 有 含 中 鋁 在 由 為 線 閘 與 極 電 閘 〇 之者 中成 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)2 37762D1
TW89113867A 1994-07-08 1995-08-19 Liquid-crystal display with inter-line short-circuit preventive function TW526356B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15731094A JPH0822029A (ja) 1994-07-08 1994-07-08 液晶表示装置及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW526356B true TW526356B (en) 2003-04-01

Family

ID=15646882

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW84108683A TW493095B (en) 1994-07-08 1995-08-19 Liquid-crystal display with inter-line short-circuit preventive function and process for producing same
TW89113867A TW526356B (en) 1994-07-08 1995-08-19 Liquid-crystal display with inter-line short-circuit preventive function

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW84108683A TW493095B (en) 1994-07-08 1995-08-19 Liquid-crystal display with inter-line short-circuit preventive function and process for producing same

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPH0822029A (zh)
TW (2) TW493095B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5199638B2 (ja) 2007-10-16 2013-05-15 株式会社ジャパンディスプレイイースト 液晶表示装置
JP5364422B2 (ja) * 2008-04-17 2013-12-11 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置及びその作製方法
CN109712930B (zh) * 2018-11-27 2020-10-30 合肥鑫晟光电科技有限公司 显示基板及其制作方法、显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0822029A (ja) 1996-01-23
TW493095B (en) 2002-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW522570B (en) Manufacturing method of thin film transistor array substrate and its structure
TW519763B (en) Active matrix LCD panel
TW447139B (en) Thin film transistor and manufacturing method of the same
TWI286257B (en) Liquid crystal display device
TW565719B (en) Manufacturing method of array substrate for display device
TW512247B (en) Liquid crystal display device, matrix array substrate, and manufacture thereof
US20050127447A1 (en) Method of manufacturing a substrate for an electronic device by using etchant and electronic device having the substrate
US7417693B2 (en) Liquid crystal display device and its manufacturing method
CN103309105B (zh) 阵列基板及其制备方法、显示装置
TW200525264A (en) Liquid crystal display and faricating the same
TW526380B (en) Liquid crystal display device and producing method
CN109411485A (zh) 阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置
US5691782A (en) Liquid-crystal display with inter-line short-circuit preventive function and process for producing same
JP2005283689A (ja) 液晶表示装置とその製造方法
US7982837B2 (en) Liquid crystal display device and its manufacturing method
CN109300841B (zh) 阵列基板的制造方法
TW526356B (en) Liquid-crystal display with inter-line short-circuit preventive function
TW514760B (en) Thin film transistor and its manufacturing method
TW200428086A (en) LCD device and manufacturing method thereof
KR20070114472A (ko) 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치 및 그 제조방법
TW494266B (en) Manufacturing method of thin film transistor liquid crystal display
CN100397157C (zh) 阵列基板及平面显示装置
CN100390630C (zh) 反射透射型液晶显示装置用阵列衬底及其制造方法
TW200527097A (en) Liquid crystal display and fabricating the same
JP2005106881A (ja) 液晶表示装置とその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MK4A Expiration of patent term of an invention patent