TW464666B - Continuous fluid flow chemical alteration process - Google Patents
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Description
A7 經濟,那中央標準局員工消費合作社印製 薄 /1 6 d 6 6 6 五、發明説明(1 發明領域 本發明關於使用一種在流體的連續流流至最終基質期 間,讓流體進行化學方式改變的方法。 發明背景 多種塗層方法提供一種從分配器運送—種流體,特別是 一種液體至最終基質中的方法。一旦流體到達最終基質, 此流體可藉物理方式或化學方式改變。 抵達最終基質後流體改變的實例包括漣續聚合化方法、 溶劑的蒸發和類似改變。 PCT專利刊物W0 0 031 725揭示一種製造氣體分離之超 薄固體隔膜的方法》美國專利編號4,132,824揭示—種澆鑄 極薄甲基戊缔聚合物隔膜方法。日本專利説明書HE】 2(1990)-2〇787〇揭示超薄薄膜壓層板的製造。 美國專利编就5,〇67,797揭示一種濟轉槽中液體結晶聚合 物溶液的方法。日本專利説明書JP 83,〇35,723揭示一種藉 將聚合物溶液倒入水面上、輾壓和纏繞所得的無孔隔膜於 多孔性隔膜上>乂製造一種组合多孔和無孔的隔膜。 美國專利编號5,324,359揭示一種沈積液滴和當液滴落至 基質時視情沉以輻射照液滴的$法。 世界專利编號96/23 595 (Melancon等人)揭示一種塗敷兩 層幕的方法,即已知的一種載流體的方法,其使用一種流 體(如水)’的載體層以運送官能層(如矽氧烷或其他聚合物 材料)至薄金屬片。此方法的優點是其可用於製.造非常 的塗層(即少於1000埃)而不須稀釋溶劑。 表紙張尺度適用中國國家標準(CMS ) Λ4現格(210X297公浼 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 4 6 4 6 6 6 B7 五、發明説明(2 ) 發明概述 塗層方法技術不被認可在從分配器流至最終基質的連續 流體運送期間,其具有提供流體進行化學反應的機會之可 能性和價値。 本發明'的一個特點是一種以化學方式改變從分配器流至 最終基質之連續流體中第一種流體組合物的方法,其包括 分配從來源處流之連續流體中的流體於第二種流體中,並 且在塗層或擠壓方法中,第一種流體離澗第二種流體和接 觸最終基質之前,於第一種流體中施予至少一種條件以改 變第一種流體的化學組合物等步驟。 第一種流體可爲液體、氣體、液體和氣體的组合、兩種 或多種氣體的組备、兩種或多種液體的組合、超臨界流 體、超臨界流體和氣體的組合、超臨界流體和液體的組合 或兩種或多種超臨界流體的組合。 第二種流體可爲液體、氣體、液體和氣體的组合、兩種 或多種氣體的组合、兩種或多種液體如混合物或多層物的 組合、超臨界流體、超臨界流體和氣體的组合、超臨界流 體和液體的組合或兩種或多種超臨界流體的組合。 最終基質可爲固體、至少一種液體於固體中或至少一種 氣體於液體中。 條件爲施予一種簡單型的光化輻射、同時施予多種光化 輻射,或依次施予多種光化輻射。 其他條件可爲第一種流體吸收一種反應性氣體,。 其他條件可爲藉傳導獲輻射將熱傳至第一種流體。 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填窝本頁) 、17 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 4 8 4 6 6 6 A7 I--~--- ______ B7 五、發明説明(3 ) ^ 一 其他條件可爲第一種流體捕捉活性粒子或催化劑。 其他條件可自活性霧吸入第一種流體中。 其他條件可以施予放電。 其他條件可以施予一種交流或直流電能電流。 其他條件可以施予電暈場。 其他條件可以施予電場。 .其他條件可以施予磁場。 其他條件可以施予振動場。 其他條件可以施予聲波^ 其他條件可以施予超音波。 其他條件可以施予震動波。 其他條件可以施予壓力波。 此分配器可爲擠壓塑模、噴嘴、滑動塑模或其他來自第 —種流體源的篩板。 本發明的特點是在分配時間和運送至最終基質間的時間 内’具有改變流體流體化學性質的能力。 本發明的另-特點是具有從分配至運送的時間内以多於 —種的方式改變化學性質的能力。 本發明的優點是流體從其來源擠出後,在最終基質上 成不同的化學組合物。 本發明的其他優點是第二種流體對第一種流體是不具活 性即實質上不溶於其中或不與第—種流體反應,因此在第 —種流體通過第二種流Μ間和第一種流體接觸任何固體 之前,可以化學形式改變第—種流體〇 -6 - 本纸張尺度適用中國國家插準(CNS ) A4im~{ 210x197^^ )~ C請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .衣. -丁 、-° EH111n-^
P Λ 4 6 4 6 6 6 A7 B7 五、發明説明(4 ) 本發明的其他優點是施予可改變第一種流體之化學组合 物的條件期間,第一種流體在重力流體的原理下操作。 其他特點和優點經本發明具體實例更詳細的解釋會更清 楚。 本發明具體實例 塗層和擠壓方法 任何用於將從來源的流體移送至最終基質上的塗層和擠 壓技術皆適合本發明使用。塗層技術的.非限定實例一般可 在如Kirk-Othmer所著,化學技術百科全書,第三和第四 ( Wiley-Interscience,各別於 1979 和 1994 年發行)中任何” 塗層方法"和”塗層"文章論文内的技術文獻中發現。 經濟部中夹標準扃負工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意WK項再填寫本頁) 許多屬於普通塗層方法的塗層技術因爲其可用於經精密 測量的連續流體流中的流體運送,特別是一種或多種液體 故可使用。這些塗層技術的非限定實例爲幕塗層、滑動塗 層、擠壓塑模塗層和滚動塗層,這些技術是被完整地描述 於Cohen和Gutoff (現代塗層和乾燥技術,VCH出版社, 1992)和 Tadmor 和 Gogos (聚合物處理原理,John Wiley & Sons ,·,紐約,1979)。較佳的塗層方法包括載流體塗層, 其被完整地描述在國際PCT專利刊物編號W0 96/23595 (Melancon 等人)0
Melancon等人柄示一種塗敷兩層幕的方法,即已知的載 流體的方法,其使用一種流體(如水)的載體層以運送官能 層(如硬氧貌或其他聚合物材料)至薄金屬板。此+.方法的優 點是其可用於製造非常薄的塗層(即少於1000埃)而不須稀 -7- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公茇) 464S66 A7 經濟部中央標华局貝工消費合作社印製 B7五、發明説明(5 ) 釋溶劑。 第一種流體 第一種流體可爲液體、氣體、液體和氣體.的組合、兩種 或多種氣體的組合、兩種或多種液體混合或如多層物的,组 合 '溶化的聚合物、溶化的鹽類、液態金屬、或含一種或 多種來源同時或依次分配的超臨界流體,以在到達最終基 質前,於連續流體中進行化學方式的改變。 任一種或多種可到達最終基質的流體·或其可在運送至少 一種其他流體至最終基質期間被丟棄。這些被丟棄的流體 即爲已知的載流體,如上Melancon等人中所描述的。 可用於作爲載流體之第一種流體的非限定實例包括水、 親水性液體、疏水性液體、惰性氣體、鈍氣和空氣,不然 其對分配第一種流體和流過第二種流體運送至最終基質間 的應條件不反應。 否則,欲進行化學反應之第一種流體的組合物爲已知的 官能性流體。官能性流體的非限定實例包括單體、寡聚 物、前聚合物、聚合物、交聯劑、引發劑、改良劑和任何 其他化合物,此化合物在一定溫度、一定壓力和一定體積 之單一環導下可以流體形式離開,並且在通過第二種流體 之連續流中的流體運送期間所施予的任何條件下具化學反 應性。 此種流體之較佳實例爲穿過環境空氣期間,適合以曝照 光化射線進行更多聚合化的液態前聚合物。此前聚合物 的非限定實例爲純的或溶劑中,單獨分配或與載流體一起 -8- ----------^衣— t t (諳先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 丁 '-° m
P 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X297公益) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 464666 五、發明説明(6 ) ~ ~-- 被分配的矽氧烷前聚合物β 备说性流體可與載流體互溶或不互溶。 較佳的官能性薄層配方包括砂氧燒_尿釋放配方(如美國 f利編號5,〇45,391 (Brandt等人)所揭示的);㈣氧燒或 風基梦氧燒聚合物(如烯系不飽和-,經基-,環氧基末端 或侧面官能的砂氧燒和敦基碎氧燒前聚合物);或其他具 有適當低表面.能量之釋放聚合物,如pcT刊物 W097/12282中所揭示的(如聚(有機矽氧烷)、氟基聚合物 和類似物)和可用於黏合劑的聚合物,其包含但不限於丙 烯酸酯、矽氧烷尿和甲基丙烯酸酯。可交聯基團的莫耳百 分比最好是從0至2 〇莫耳。/0 ’較佳係〇_15莫耳%,其中以 〇-1〇莫耳%爲最佳。對於加成熟化系統,可使周乙烯基和 烯基(碳數大於2和少於10)交聯基團。如在較高分子量矽 氧烷膠和矽酸鹽樹脂作爲添加劑的存在下,交聯的分佈可 爲單一形式或多重形式。官能性層最好是選自包含具有末 端和/或側面交聯官能度的前聚合物,其包括但不限於矽 氧燒•前聚合物、矽氧烷尿聚合物、丙浠酸酯官能聚合物和 環氧基官能聚合物以及揭示於上的复基聚合物。 矽氧烷、氟基硬,氧烷和氟基聚合物官能層前聚合物最好 具有從L〇00-60,000道爾呑之數目平均分予量範圍和 30,000毫Pas即適合無溶劑塗層。而且,溶劑可用於溶解 較高分子量矽氧烷和氟基矽氧烷前聚合物〇較佳係官能層 前聚合物具有從10,000-30,000道爾呑之數目平均分子量和 200-20,000 毫 Pas 0 -9- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X297公f ) (請先閱請背面之注意事項再填寫本頁j
464666 A7 B7 五、發明説明(7 ) 對於加成熟化矽氧烷前聚合物,矽烷基氫化物交聯劑的 非限定名單包括Dow Corning的如均聚物(Syl-OffTM 7048 ), 共聚物(Syl-OffTM7678 )和混合物(Syl-Off™ 7488 ),其使用 量相當於1:1至10:1之矽烷基氫化物··乙烯基。對於100% 固體塗層,可使用適當量之抑制劑以獲得較妤的熟化和適 當的儲存壽命。抑制劑的非限定實例是比例爲70:30之反 式丁烯二酸酯於声甲基醇中以獲得較好的熟化和適當的儲 存壽命。對於以溶劑爲基料之塗層,抑.制劑對低百分比固 體的分配可能不需要。 對於加成熟化矽氧烷官能層聚合物,由熱和紫外線 ( "UV”)引發的鉑催化劑可用於第—種流體中。鉑熱催化 劑的非限定實例爲 Dow Corning 的(Midland, MI) Syl-Off 4000和Gelest的(Tullytown,麻州)鉑二乙烯基四甲基二砂 氧燒錯合物(SIP6830.0和SIP6831.0) 〇鉑U V催化劑的非限 定實例揭示於美國專利編號4 51〇,〇94 (Drahnak)中。不像 熱催化劑’ U V催化劑不需要額外的抑制劑,因爲此錯合 物可有效地被抑制直到曝照U V。 秦能層组合物中可加入化學添加劑或改良劑β這些化學 添加劑包帑較高分子量膠、矽酸鹽樹脂、界面活性劑、粒 子填料等。 攻氧貌膠的非限定實例包括可獲自Gelest (DMS-41, DMS-46,DMS-52)之具有從60,000至8〇〇 〇〇〇道爾呑之數 目平均分子量範園的乙烯基官能膠和根據美國.專利编號 5’468’815 和 5,520,978 (Boardman)以及歐洲專利刊物 -10 - 本紙張尺度適财(2ωχ297公势) (請先閱讀背面之注意事¾再填巧本耳j ,丁 -so 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 4 6 4 6 6 6 A? B7 五、發明説明(8 ) 0559575A1所製備的烯系不飽和有機聚矽氧烷膠。烯基官 能矽氧烷最好是具有2至10個碳原子和分予量爲近 440,000道爾呑。當矽氧烷膠作爲添加劑用於100%固體配 方中低黏度矽氧烷前聚合物時,其分子量最好是低於 800,000道爾呑’較佳係低於600,000道爾吞,其中以低於 500,000道爾呑爲最佳。他們在矽氧烷前聚合物中的濃度 最好是低於20%(重量./重量$,較佳係低於10%(重量/重 量)和其中以低於5 % (重量/重量)爲最佳〇 矽酸鹽樹脂的非限定名單包括Syl_〇ff (Dow Corning) 7615,以矽酸鹽於矽氧烷中之分配形態供應的Geiest乙烯 基Q樹脂VQM-135和VQM-146。矽酸鹽樹脂在矽氧烷前聚 合物中的存在量最好爲5至1〇〇重量/重量%,較佳係〇至 75% ’其中以Ό至50重量/重量%.爲最佳。 界面活性劑的非限定名單包括以低分予量以丙烯酸醋爲 基料的界面活性劑如Modaflow (Monsanto,聖路易市,密 蘇里州)和BYK-358 (BYK-化學公司,0wensHill,馬里蘭 州),梦氧燒界面活#劑如SilwetTM ( 〇SI,Danbury,康乃 狄克:州)和氟化學界面活性劑如Flu〇rads (3M,聖保羅 市,明尼驊達州)和Zonyl (杜邦公司,威里明頓市, 維州)均化劑。 ’ 當第一種流體需要至少一種氣體或至少一種流體時,視 情況其也可包括粒子固體於其中,若其不會分裂任何第一 種流體的分配、傳送或運送。粒子填料的非限史名單包括 疏水性煙燻矽石如CAB_〇_SIL™ TS_53〇,TS 56i〇和%3 (請先閱讀背面之注意事項再填{碎本頁) > 訂 -11
6 4 6 6 6 A7 B7 五、發明説明(9 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 720 (兩者皆獲自Billerica市的Cabot公司,明尼蘇達州)和 AER-O-SIL™ R812 ’ R812S,R972,R202 (皆獲自 Ridgefield Park的Degussa公司,新澤西州)。較佳的無機 粒子最好包括煙燻、沈澱或微細的矽石〇低表面能量填料 的非限定名單包括經疏水性處理的煙燻矽石、聚曱基甲基 丙烯酸酯球、聚苯乙烯球、矽氧烷橡膠粒子、鐵氟龍粒子 和丙烯酸粒子。其他可使用但屬於較高表面能量的粒子填 料包括但不限於矽石(不經疏水性改良的)、二氧化鈦、氧 化鋅、氧化鐵、氧化鋁、五氧化二釩、氧化銦、氧化錫和 摻銻的氧化錫。也可使用已被處理成低表面能量粒子的高 表面能量粒子8 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 特佳的無機粒子包括已知商品名爲cab-o-siltm (可獲 自Cabot)和AEROSIL™ (可獲自Degussa)的膠體矽石。 CAB-0-SILTM TS-530是一種曾以六甲基二矽氨烷(HMDZ) 處理過之高純度煙燻矽石。CAB-0-SILTM TS-610是一種曾 以二氯二甲基矽烷處理過之高純度煙燻矽石。此處理是以 三甲基矽烷基取代許多煙燻矽石上的羥基。cab-o-siltm TS-720是一種曾以二甲基矽氧烷流體處理過之高純度煙燻 矽石。結舉獲得低表面能量粒子的矽石。 最佳填料是一種同時以HMDZ處理成以化學形式將矽石 键結在前聚合物上之經疏水性改良的煙燻矽石,其可獲自 Nusil公司(Carpinteria,力cr州)。疏水性填料的組合物最好 是0.1至20%,較佳係0.5至10%,其中以1至5重量/重量 %爲最佳。 -12- 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X297公釐) 464666 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 A7 B7 五、發明説明(1〇 ) 第二種流體 第二種流體的非限定實例包括水、親水性液體、疏水性 液體、情性氣體、鈍氣和空氣,不然其對分配第一種流體 和運送其至最終基質之間的條件不反應》 第二種流體無法中斷至少一種第一種流體的组合物之連 績流體。理想地,第二種流體不會妨礙或中斷第一種流體 之所有成份的連績流直到至少一種第一種流.體的成份到達 最終基質。 - 第二種流體若爲氣體,其最好是環境空氣、氮氣或氦 氣,若爲液體,其最#是水。 ‘ 施予條件 施予第二種流體反應但可與第一種流體反應進行化學反 應之條件是施以一種簡單型的光化輻射、同時施予多種光 化輻射或依次施予多種光化輻射。視第一種流體通過第二 種流體的時間而定,光化輻射的用量可根據本發明執行者 的需要作明顯地變化。 光化輻射種類的非限制實例蓋括整個電磁光譜波長,此 波長將不同頻率之能量經第二種流體運送至第一種流體 中。光化輻射最好爲一般用於聚合化方法中的紅外光,近 紅外光,可見光或紫外光,熱波,電子束輻射,微波輻 射,準分子雷射,準分子燈,電暈處理,X-光或γ輻射。 施於第一種流體上之光化射線的劑量涵蓋從光的例子之 從約1毫焦耳/平方厘米至約100毫焦耳/平方厘米之能量通 量範圍,其中能量通量以單位施予面積的能量表示,至其 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) (請先Η請背而之注意事項再填寫本頁)
S1T 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 464666 Α7 ___ Β7 五、發明説明(11 ) 他稿射種類的例子中之從約i毫雷得/平方厘米至約100毫 雷得/平方厘米之能量通量範圍,其中能量通量以單位施 予面積的毫雷得表示。 光化輻射來源爲任何可產生特定目標波長輻射處或其组 合,此波長係從太陽至"黑體光"至中壓汞燈至鈷輻射來 源’工業技術者皆知可提供能量使流體在固體或在其他流 體中產生化學反應的來源’β 當第一種流體從分配器經第二種流體傳送至最終基質 時,輻射劑量視欲進行化學反應的.第一種流體量而定。化 學反應量的非限制實例包括在前聚合物到達最終基質前, 其可完全聚合化;部份聚合化可提供"新張力",有用的 流動性質或分配第一種流體成—種液體,和運送前聚合物 至最終基質以進一步處理間的其他暫時性操作優點;或第 一種流體到達最終基質之前,一些同時進行或依次進行化 學反應類型的组合。 例如’從分配液器所產生的兩種液體單體之階段性化學 反應可形成一種前聚合物,接著以交聯劑與第一種流體流 混合然後在第一種流體到達最終基質之前完成聚合化。 視分配器的尺寸和形狀而定,其可在連續流中製造第一種 流體,當第一種流體在第二種流體中時,此流體可形成一 種線、板、或一些其他三度空間的物品》藉穿過第二種流 體的完成,施予此流體的條件可以化學方式改變此物品成 —種固體以沈積在最終基質上。 -14 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210Χ 297公漦) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1Τ 4 6 6 6 A7 _ B7 五、發明説明(12 ) 最終基質可只是一種經化學方式改變的第一種流體之沈 積點,或其爲最終產物的主要表面,此產物可藉其主要表 面上經化學方式改變之第一種流體塗層而改良〇 最終基質的非限定實例可爲連續帶、分離板或元件、圓 形滾筒、球體、粒子、框架和類似物。 經化學方式改f的第一種流體欲接觸的表面具有許多表 面性質,此性質可改變與基質接觸之經化學方式改變第一 種流體的物理外觀。表面性質的非限定實例包括有孔的、 微孔的和無孔的表面;條紋的、微折疊的、浮凸的或其他 壓花表面;有粒子沈積或平滑表面;高表面能量或低表面 能量的表面;不透明、透明、半透明或具光學顏色表面; 和對輻射敏感或可承受輻射的表面。 較佳係最終基質不暴露在光化輕射下,當施予可以化學 方式改變第二種流體中的第一種流體之條件時,然後視情 况選用但最好是遮蔽最終基質以隔離光化輻射源,但當第 —種流體穿過第二種流體時則不須將其遮避。 +經濟部中央標準局員工消費合作社印製 企圖作爲經化學方式改變的第一種流體暫時沈積點的基 .質可具有舞何上述.表面性質但_佳係具有帶適合表面能量 以提供已改變的第一種流體之目標溼潤性質或幫助接下來 的釋放之主要表面。暫時塗敷點的非限制實例包括具有含 矽氧烷釋放表面以移除液體的薄金屬板,其中此液體在穿 過空氣期間已被聚合化,液體單體聚合化以形成一種黏合 板’在此板接觸釋放襯墊之前,以及—種含或不含起動器 -15- 既張尺度適用中國國家標i ( CNS ) Λ4規;ϋ 210X 297公楚〉一-~~ - 464666 五 、發明説明(13 Α7 Β7. 麗,.碎氧燒釋放在襯整上增進漫潤度和黏性的聚合物薄金 屬片。 企圖作爲經化學方式改變的第_種流禮永久駐留的最終 質可爲任何作爲短暫停留點的最終基質或任何其他具有 上述表南性質的基質。 .最终基質的组合物可爲金屬性、陶瓷的或聚合物的;天 然生成或合成衍生的;和結晶的或非結晶的。 當最終產物是目標最終產物中的一層.時,本發明方法可 使用的產物之非限定實例包括電圖影像裝置(如電子照相 金屬板或靜電轉移劑);布帶、研磨劑、釋放襯墊上的黏 合劑、光學和反射壓層板、織物、隔膜、薄膜和類似物。 一種特別適合使用本發明爲運送一種功能性流體至低能 量表面基質,其中分配和運送至基質時之間需要增加流體 的黏度。此用途可降低低能量表面基質上使用起動器的需 求以接受經化學方式改變之第一種流體塗敷於基質上。 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 其他特別適合使用本發明爲運送化學方式變化時會產生 明顯放熱之功能性流體的運送,否則此放熱可能危害最終 基質..β可使用第二種流體作爲退熱劑以降低熱對最終基質 的損害’摻供一種先前無蜂獲#之塗層方法和官能層和基 質的結合β 其他特別適合使用本發明爲功能性流體至對輻射敏感基 質的運送,因此在第一種流體與已遮蔽的基質接觸之前, 曝照其以防止損害基質3 基質最好可包括聚酯對苯二酸酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210Χ 297公趋) A7 B7 4 6 4 6 6 6 五、發明説明() 和如;PCT專利刊物W0 96/34318之實例6中所描述的已轉化 雙層光接收器。最佳係基質爲透明的聚酯。 遮蔽 當遮蔽對流過第二種流體之第一種流體流無不利影響 時,視情沉可使用遮蔽以保護最終基質隔離光化輻射或化 學方式改變方法的結果(如放熱)。遮蔽的非限定實例包括 金屬板、陶瓷板、泡沫板和類似物 後運送處理 . 經化學方法改變之第一種流體至最終基質的運送不會終 止使用本發明的可能性。然後可使用任何流體在基質上的 普通塗敷或處理技術以進一步改變第一種流體或基質的物 理或化學性質,或改變此兩種性質,或同時改變兩者。 後運送處理的非限定實例包括浮凸、壓花、光滑、檀 拌、聚合化、加熱、溶劑蒸發、砑光和類似技術。 本發明用涂 已定出本發明的特別用途是結合載流體塗層(如 Melancon等人之W0 96/23 595中所描述的)或具有同時改變 配方材料性質以達到控制塗層性質的目的之優點的幕塗 層,以部贫或完全熟化聚合物材料。 特別地,一種低黏度、可熟化配方可自由地流出塗層塑 模’然後可部份(或完全)地熟化於流體幕上,因此增加欲 沈積於基質上之配方的黏度。 本發明的其他用途是使用此熟化方法以程序内聚合化前 聚合物,在其接觸對熱或對光敏感的基質或多層塗層之 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 29*7公楚) (請先閲讀背面之注意事項存填寫本頁) 訂 *" 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 6 4 6 6 A7 B7 五、發明説明(15 則,因爲基質本身將接收最少的曝光◊熱和輻射熟化方法 兩者皆預設於此發明中0 本發明万法可結合上述Butler等人發明利用流體載體塗 層技術以製造經控制的壓花或多孔隔膜或薄膜而實行。 本發明不限於上述具體實例。申請專利範園如下β (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁). -·
11T 經濟部中央標準扃員工消费合作社印製 -18 - 尺度適用中國國家榡準(CNS ) Α4規格(2丨0>〇97公潑〉
Claims (1)
- A8 B8 84.6 4 6 6 6 第87103505號專利申請案 中文申請專利範圍_正本(90年子丹 κ、申請專利範圍 丨公告本 1. 一種以化學方式改變從分配器至最終基質之連績流動中 之液體之化學組成之方法,其包括以下步驟: (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 分配從來源處之連續流動中之液體至流體中,其中液 體包括載流體及功能性流體,和’ 在液體離開流體並接觸最終基質之前,在液體上施予 至少一種條件,以改變液體之化學組成, 其中被施予之條件係選自包括單一型式之光化輻射、 同時施予一種以上型式之光化輻射,或依次施予一種以 上型式之光化輻射之群组。 2. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中分配器包括一種 擠壓模、一種喷嘴、一種滑動模或其他來自液體源之孔 口。 3. 根據申請專利範園第1或2項之方法,其中分配步騾包括 簾塗覆、載流體塗覆、擠壓塑塗覆或輥塗。 4. 根據申請專利範圍第1或2項之方法,其中液體之化學性 質可以超過一種方式在施予步驟期間進行改變。 經濟部中央橾隼局貝工消費合作社印裝 5. 根據申請專利範圍第1或2項之方法,其中載流體係選自 包括水、親水性液體、疏水性液體、稀有氣體、惰性氣 體和空氣,且其中功能性流體係選自包括單體、寡聚 物、預聚合物、聚合物、交聯劑、引發劑、改質劑和任 何其他化學物質,其在特定溫度、特定壓力和特定體積 之單一環境下可以流體形式存在,並且在施予步驟期間 之任何條件下具化學反應性。 6. 根據申請專利範圍第1或2項之方法,其中液體進一步包 本紙張尺度適用中國國家#準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 464666 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 含粒子固體。 7. 根據申請專利範圍第㊆項之方法,其中功能性流體之 黏度在施予步驟中增加。 8. 根據申請專利範園第!或2積之方法,其中在施予步驟期 間,係遮蔽對輻射敏感之最終基質表面以隔離光化輻射 源,但未遮蔽液體。 9. 根據申請專利範園第之方法,其中功能性流體為 .液.體聚合物’其易於輸送於環境空氣並曝Μ化射線之 下進行聚合作用。 瓜根據申請專利範園第!或2项之方法,其中載流體為水。 U· 一種根據中請專利第1或"之方法所製備之塗層基 質。 f靖先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ί-^· '訂 經濟部中央楼準局員工消費合作社印製 2- ^紙張尺度逋用中國圃家揉率(CNS ) A4规格(210X 297公釐) A8 B8 84.6 4 6 6 6 第87103505號專利申請案 中文申請專利範圍_正本(90年子丹 κ、申請專利範圍 丨公告本 1. 一種以化學方式改變從分配器至最終基質之連績流動中 之液體之化學組成之方法,其包括以下步驟: (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 分配從來源處之連續流動中之液體至流體中,其中液 體包括載流體及功能性流體,和’ 在液體離開流體並接觸最終基質之前,在液體上施予 至少一種條件,以改變液體之化學組成, 其中被施予之條件係選自包括單一型式之光化輻射、 同時施予一種以上型式之光化輻射,或依次施予一種以 上型式之光化輻射之群组。 2. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中分配器包括一種 擠壓模、一種喷嘴、一種滑動模或其他來自液體源之孔 口。 3. 根據申請專利範園第1或2項之方法,其中分配步騾包括 簾塗覆、載流體塗覆、擠壓塑塗覆或輥塗。 4. 根據申請專利範圍第1或2項之方法,其中液體之化學性 質可以超過一種方式在施予步驟期間進行改變。 經濟部中央橾隼局貝工消費合作社印裝 5. 根據申請專利範圍第1或2項之方法,其中載流體係選自 包括水、親水性液體、疏水性液體、稀有氣體、惰性氣 體和空氣,且其中功能性流體係選自包括單體、寡聚 物、預聚合物、聚合物、交聯劑、引發劑、改質劑和任 何其他化學物質,其在特定溫度、特定壓力和特定體積 之單一環境下可以流體形式存在,並且在施予步驟期間 之任何條件下具化學反應性。 6. 根據申請專利範圍第1或2項之方法,其中液體進一步包 本紙張尺度適用中國國家#準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US83293497A | 1997-04-04 | 1997-04-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW464666B true TW464666B (en) | 2001-11-21 |
Family
ID=25262972
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW087103505A TW464666B (en) | 1997-04-04 | 1998-03-10 | Continuous fluid flow chemical alteration process |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0971798A1 (zh) |
JP (1) | JP2001524869A (zh) |
KR (1) | KR20010005995A (zh) |
CN (1) | CN1095700C (zh) |
AU (1) | AU5710098A (zh) |
BR (1) | BR9714656A (zh) |
TW (1) | TW464666B (zh) |
WO (1) | WO1998045054A1 (zh) |
ZA (1) | ZA982820B (zh) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69914754T2 (de) | 1998-04-29 | 2004-12-09 | 3M Innovative Properties Co., Saint Paul | Empfangsschicht für tintenstrahldruck, die eine strukturierte oberfläche hat |
EP1189757B1 (en) | 1999-06-01 | 2003-07-30 | 3M Innovative Properties Company | Optically transmissive microembossed receptor media |
JP2003500262A (ja) | 1999-06-01 | 2003-01-07 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ランダムにマイクロエンボス加工を施した受容媒体 |
ATE304453T1 (de) | 2000-02-08 | 2005-09-15 | 3M Innovative Properties Co | Verbesserte verfahren für kalten bildtransfer |
EP1249533A1 (en) | 2001-04-14 | 2002-10-16 | The Dow Chemical Company | Process for making multilayer coated paper or paperboard |
US7473333B2 (en) | 2002-04-12 | 2009-01-06 | Dow Global Technologies Inc. | Process for making coated paper or paperboard |
US7364774B2 (en) | 2002-04-12 | 2008-04-29 | Dow Global Technologies Inc. | Method of producing a multilayer coated substrate having improved barrier properties |
AU2002337877A1 (en) * | 2002-10-15 | 2004-05-04 | Dow Global Technologies Inc. | A method of producing a coated substrate |
NL1030913C2 (nl) * | 2006-01-13 | 2007-07-17 | Trespa Int Bv | Werkwijze voor het door middel van curtain coating aanbrengen van een of meer lagen op een ondergrond, alsmede decoratieve folie. |
JP5363204B2 (ja) * | 2009-06-11 | 2013-12-11 | エア・ウォーター株式会社 | 塗布装置のスリットノズルの洗浄方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4970093A (en) * | 1990-04-12 | 1990-11-13 | University Of Colorado Foundation | Chemical deposition methods using supercritical fluid solutions |
MX9201364A (es) * | 1991-03-27 | 1992-10-01 | Union Carbide Chem Plastic | Sistema de supresion de reaccion quimica. |
US5324359A (en) * | 1992-02-25 | 1994-06-28 | Nouvas Manufacturing Technology Co. | Material deposition device |
US5464661A (en) * | 1994-05-25 | 1995-11-07 | Davidson Textron Inc. | Reduced solvent island coating system |
-
1997
- 1997-12-23 CN CN97182093A patent/CN1095700C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-23 AU AU57100/98A patent/AU5710098A/en not_active Abandoned
- 1997-12-23 BR BR9714656-0A patent/BR9714656A/pt not_active Application Discontinuation
- 1997-12-23 EP EP97953329A patent/EP0971798A1/en not_active Withdrawn
- 1997-12-23 WO PCT/US1997/023509 patent/WO1998045054A1/en not_active Application Discontinuation
- 1997-12-23 JP JP54274498A patent/JP2001524869A/ja active Pending
- 1997-12-23 KR KR1019997009073A patent/KR20010005995A/ko not_active Application Discontinuation
-
1998
- 1998-03-10 TW TW087103505A patent/TW464666B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-04-02 ZA ZA9802820A patent/ZA982820B/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ZA982820B (en) | 1999-10-04 |
WO1998045054A1 (en) | 1998-10-15 |
CN1251541A (zh) | 2000-04-26 |
AU5710098A (en) | 1998-10-30 |
JP2001524869A (ja) | 2001-12-04 |
BR9714656A (pt) | 2000-07-11 |
EP0971798A1 (en) | 2000-01-19 |
KR20010005995A (ko) | 2001-01-15 |
CN1095700C (zh) | 2002-12-11 |
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