TW464580B - Method and apparatus for engraving solid articles with laser beams and the articles produced - Google Patents

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Brian Lee Olejniczak
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Praxair Technology Inc
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Description

464580 A7 _B7_ 五、發明說明() 發明背# I明…領1 本發明傺有關一種藉由多重雷射光束彫刻剛性表面的 方法,其中各雷射光束都是由單一光束源利用繞射性光 學裝置而形成的。 相關抟術説明 液體轉移物件具有很多應用,在没有任何限制下包含 用於印刷的平板或滾筒、用於套販印刷法(〇 f f s e t P r i n t i u g ),橡膠輪版印刷法(f 1 e x o g r a P h y )或照像製販 法(g r a v u r e )的計量平板或滾筒或用於將例如墨汁、噴漆 、或液態樹脂塗佈於將要塗覆以這類液體之表面上之平 板及滾筒。於所有例子裡,偽將待1¾移之液體或墨汁保 持在彫刻於該平板或滾筒表面的許多小凹窩内,待轉移 液體之量傺則取決於該彫刻表面上每單位面積小凹窩之 數目、尺寸、及深度。實際上,複數小凹窩依由各小凹 窩平行線所構成之明確圖形緊密地形成在一起。於圓柱 體的例子裡,較佳地使它們於該圓柱表面上以連續螺線 請; 先 閱 讀 背 面 之 注 意 事 項一| 填 寫 本 頁 裝 訂 線 ,凹 式小 形各 的有 板刻 平彫 呈面 是表 能其 可體 面柱 表圓 刻在 彫是 己式 該形 然的 雖見 。常 成及 形通 式普 方為 的最 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 所體 得柱 使圓 成該 刻於 彫行 被平 線與 螺會 之部 窩全 凹線 小行 數平 複多 0 許 上的 線窩 螺凹 纊小 連複 一 的 在生 窩産 薛 6 為或 稱。 常30 通如 /V 例 度 角, 的0° 同3 目到 成 ο 形約 段大 線從 面是 。 表能5° 4 可 的 Ϊ 是 Ϊ 度 3 軸 — 的 角 « ^ Μ 之®常 筒),更 滾角是 或幕但 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2〗0 X 297公釐) 464580 —五、發明說明() 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 而的關束,該具計 都脈鑲重的時程固的 刻柱已排行 般然的光束於都下 波該重該則上過新成 彫圓該構施 一必度射光夠窩度 脈,r ,規之種重構 線於對結未 而及硬雷射能凹 _ 腥中為α)不面這上料 螺直由鏵若 IB 然以其由雷有小預 一序稱 ί 有表於緣材 沿垂Μ重 , ,度為藉的具各可 每程種 ^ 具筒。邊之 小沿以該度 始 體硬因是續它的及 的的一 —是滾出的化 減倍可將則 液高 ,法連為成度 束窩生 但該噴窩固 法兩。地規 移極過方是因形確 光凹産 Ϊ 的於面凹新 方約離全不 轉有不用的束所準 射小處 f 狀焦表小重 知大距完的 於具 β 實用光 。度 雷造綜丨環聚筒各由 習於間是上 用面移一使射窩高 ,製周¾呈波滾繞種 由小窩或度 將表轉唯言雷凹以 中於窩 i 是眤該圍這 藉之凹地高 高 以物體的而波小夠 法過凹 上之自在。 法使小部在 可化液面面脈式能 方不小 狀光並會觀。無,各局構 面硝於表表用離旦 的。個(^形射發料外構得離的而結 表屬用種些使分度 計窩一分在電蒸材的結使距段光鑄 刻金而這某是成滦 設凹每部言當會出口 鏞會間線抛重 彫及性刻刻的形及 知小繞起而。料噴山重構窩之行該 種瓷磨彫彫見内徑 習個圍升般度材已火該結凹軸進為 各陶抗來對常面直。種一在的一高瓷些生是鋳小縱筒因 然為的用然更表定體一生會 J 構和陶有産就重各筒滾 。 雖因佳,雖而刻待液於産也構結度其,而緣該之滾刻掉 言絶傜。然彫有量 會波結鑲寛,中化邊 線形彫除 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 464580 A7 B7 五、發明說明( 減鄰 構相 結各 _ 在 重會 該能 將可 而體 光液 拋則 的 , 分帶 充地 不坦 了平 行的 施間 是之 或窩 光凹 後各 何為 任低 時當 間 〇 之 J 窩構 凹結 小窩 鄰凹 相小 各放 過:開 通 Γ 能稱 體構 液結 當的 。式 動型 流種 間這 之稱 窩人 凹吾 小 , 面 , 表畤 始帶 原地 出坦 高平 有各 具的 生度 産高 構身 結本 鑄面 重表 該始 得原 使於 光等 拋是 的或 分度 充高 成同 完相 小是 各 且 使構 而結 流凹 間小 之閉 窩密 凹為 小稱 鄰偽 相構 各結 於種 夠這 ώΗ° 再的 不閉 體密 液成 為變 因窝 則Η 有問 具的 而上 槌如 粗明 是説 常已 通些 且那 狀了 形除 的致 則導 規會 不徴 呈特 。 是些 構常這 結常 。 的構的 佳結起 較鐳凸 種重鋭 一 尖 金去縳 或面重 膠表該 塑筒因 用滾能 使墨可 傜受 Η ,從刀 中 ,類 版前這 刷之 。 印程法 於製方 如至該 例汁設 C 墨重 題量便 問計以 多在汁 很便墨 的以的 外 Η 剩 之刀過 題屬除 刀來 使對 能致 可導 後而 最 * 0 内 隳窩 破凹 或小 損各 磨之 到筒 受滾 早墨 過受 而該 度於 則積 規澱 不料 之材 構的 結 Η 該多 是很 的為 心會 關度 題則 問規 個不 一 之 另構 。結 量 _ 計重 致該 一 ο 不質 的品 汁美 墨審 之的 简用 滾作 該刻 自彫 <請先閱讀背面之注意事項ΐ填寫本頁) 裝 .. -線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 來整 帶的 上形 窝圖 凹刻 小艱 各之 在面 且表 觀筒 外滾 的該 J 越 飾跨 。 修致性 未導致 Γ 會 一 而這不 0 。在 粗稱現 來對呈 帶的觀 刻差外 彫很體 專,的 予 國 人 授 美 等 • 3 列 下 在 以 可65 例 8 實10 刻4, 彫第 束的 t i 5 π 3 寸 i , C3 4_ 雷 予 5 之授4, 件:第 物到的 移找人 轉中等 體件ge 液文or 利Ge 予 授 ' 利 專 號 予 授 / 利 專 號 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 464580 A7 B7 i 五、發明說明() 第 予 授 / 利 專 _lrt 1 第 的 利 專 號 利 專 .lEfl·0 號ί 3 ® 6 7 文 Θ 考 3 2 參 5 為 第列 和容 號内 8 . 7 示 1-_ ,掲 3 4 之 1α ,件 13 文 利 專 th些 LU這 予捋 授此 、在 第 的 某彫 的新 上重 面經 表 。 筒題 滾問 之的 過類 刻這 彫多 已很 對除 由免 藉而 夠刻 能 εέ 現新 發重 經行 已進 人積 吾面 且 稱 對 更 得 變 夠 匕匕 窩 凹 之 \J/ 刻 彫 的 次 兩 少 至 歷 經 已 /IV 刻 也滑 該平 應更 做 且 麼薄 這更 〇 得 鈍變 圓壁 更窩 且 凹 滑小 平之 更窩 得凹 變小 構-結 _ 窩 重凹 該小 使許 夠允 能會 到 能之 也 J C 擊 放撞 開 Γ 更次 且單 滑束 平光 更射 得雷 變到 會受 也 只 該比 應度 部深 底之 之窩 窩凹 凹小 小各 各使 〇夠 知 習th 30與LU 或服予 2 克授 出程述 多製上 度刻 。 深彫題 的新問 窩重多 凹種很 小這的 各 闊 多 更 或 度 深 的 相 程 製 刻 彫 之 擊 撞 次 明 説 中 件 文 ί 專 國 美 的 射群 雷 個 ,一 中每 程中 製其 Hi 種 , 這成 於形 。式 程方 製的 刻群 彫續 \ϊ i·— 葑 邊 歹 的条 計 一 設在 知偽 習波 種 脈 一 束 了光 波件 脈物 群移 一 轉 每體 .液 波該 脈於 的會 開都 隔擊 間撞 而的 續上 連面 個表 多性 更剛 或該 個之 兩刻 括彫 包欲 都在 (請先閱讀背面之注意事項真填寫本頁) -裝 訂,
--線I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 筒的 滾們 對它 為到 法回 方件 種元 一 學 〇 光 法用 方焦 的聚 刻該 彫使 C 新後 窩重然 凹於 , 小用刻 的他Mi 獨其次 單有一 成知第 形已行 内 進 種齊 這對 oc'ra 刻適 彫的 次間 一 之 行刻 進彫 筒次 滾二 個第 整與 對次 新一 重第 再保 後確 然是 ο ^ 置困 位的 始法 起方 生 産 〇 以貴 次曰卬 兩又 複慢 重既 程是 製法 刻方 彫該 該故 使 , 須筒 必滾 於的 由刻 ,刻 外彫 此新 。重 合 已 疊後 或最 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公芨) b 4 5 8 Ο A7 __B7_ 五、發明說明() ---------I--I --- 請先閱讀背面之注意事填寫本頁) 另一種方法傜使用習知的折射式光學元件,將雷射光 .束分為兩個光束,使每一光束含有分閱的聚焦光點。藉 由調整此方法之光程内的各面鏡,能夠將該第二聚焦光 點定位於已預先彫刻過的小凹窩之上。此方法需要控制 器以便隨箸彫刻圖形的改變而定位各面鏡。通常會用到 兩個分光器,因為該第二分光器會使兩傾光束的能量作 第二次的分光作用,這可能産生5 G !£的能量耗損。大多 數商用雷射不會有足夠的功率,容許功率産生這樣的50 S耗損,仍能不使液體轉移滾简之彫刻處理速率變慢。 透過普通聚焦透鏡而利用這種技術對兩値光束進行折射 作用也可能會導致光束形狀的形變,這會使該彫刻出的 小凹窩具有稍微橢圓的形狀而不是想要的圓形^此方法 也是非常昂貴的,會為雷射加工装置耗費六萬美金 ($ 6 0,G Q 0 . 0 0 )且為控制器及用來操作此控制器之軟體耗 費多逹五萬美金($50,00D.00)。 -線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又有另一種方法俗使用一種聲-光調制器以調制雷射 能量之連續光束而重新彫刻小凹窩。例如,藉由該雷射 光束彫刻某一小凹窩然後再使該光束偏轉到位於該滾筒 圓周上的下一個小凹窩上以彫刻該小凹窩。然後再使該 光束偏轉回原始小凹窩上使之接受第二次撞擊。然後沿 該滾筒圓周重複該製程。吾人不相信此方法會産生如以 其他方法産生所期望的滾筒彫刻品質。例如,常見用於 傳墨滾筒的陶瓷材料是一種很差的熱導體。吾人已發現 該經初始彫刻之小凹窩會需要時間進行冷卻且完全重新 -7 -本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2】0 X 297公釐) 464580 A7 _B7五、發明說明() 充減統 供法糸 提方個 未刻一 法彫每 方新對 此重 , C 他的 點其貴 優之昂 部較常 全而非 的 ,是 擊用也 撞作統 次卻条 二 冷種 第當這 受適 0 享供質 便以品 以間其 化時了 固分低 金 美 萬 九 逹 多 費 耗 需 言 而 機 刻 彫 存 現 多 很 對 統 条 用 制 調 束 光 及 用 光 分 束 光 類 這 必 及 寸 尺 體 實 的 器 機 類 這 0 性 適 溯 可 的 限 有 有 具 言 而 器 的 箸 顯 行 進 器 機 〇 對内 下之 用器 費機 高該 極到 在適 要溯 需統 會条 常種 通這 徴使 特便 束以 光正 要修 不如 在 。 夠量 能産 而及 法率 方效 刻其 彫良 新改 重下 種質 j 品 出的 找品 是成 的之 要刻 想彫 度經 高該 人低 吾降 致 性下 射本 繞成 用的 蓮法 種方 一 知 用習 利於 由低 藉地 偽著 明顯 發在 本而 ,統 的糸 明學 。 説光良 要之改 將件些 後元這 稍學成 同光達 光 性 ri 繞 0 找 中 章 文 或 件 : 文用 利應 專種 些各 某的 的柵 下光 如元 在二 已或 人件 吾元 學 文 . 3 IX 和 t 8 a, 專 τ 4 國予 ΟΪ 美授5, 一 、第 利的 件 予 授 第 〇 的利 人專 等號 專 η 8 予 39授 6,及 3 Λ4 f 4,利 第專 S 虎 人60 等,5 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) i裂 - 線-
R 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 件 元 學 Μ光 由性 I 射 繞 白 場 技 競 業 商 入 進 厂 章 文 的 表 發 於 現 出 偽 界 世 焦 聚 射 雷 之 版 年 中 司書 公 一 版d) 出rl
R 件 元 學 光 Μ.性 由射 - 繞 的 計 設 品 産 良 改 厂 章 文 的 表 發 人 等 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 4645 8 0 A7 _B7五、發明說明() 於 現 出 傜 司 公 限 有 版 出 年由 譜 波 子 光 的 月 中 TT 期 狀 形於 束現 光出 射條 雷 , 的 J 來 e , Γ 未 U t 厂 U F 章 Θ 文 h 勺 t -m 表or f 發 L s Λ e -- p 等 a i 設 tr於 US用 w d Θ Π : N Π 件: 論 元 c 評 學'1 射^G 雷 元 y 業 二 Π3 Ε Γ η t~| «1 之 章 { 版 文件 年 的元 d. D 表性 發射 司 一an繞 公 ihlli新 版 e a 之 *T_ VA 出 V 組 1 Θ 1 R A 具 w r 由工 π Θ n S - 者 G a f— p L 討 中 書 於 現 出 偽 公 限 有 販 出 子 光 的 月 9 年 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 譖 波 中 一fll 期 篇 二 第 及 以 件 文 利 專 的 人 等 光性 射 射 雷繞 一 以 單示 將顯 夠未 bb έ 二 HJ 元他 學 , 光過 性不 -0¾ ο 13繞束 和如光 人例出 等 ,輸 do的個 E 出數 是指成 別中換 待章轉 文束
液及 作件 製文 於利 用專 是份 別三 待 合 用結 刻意 彫有 新中 重此 及 〇 刻束 彫光 於光 用分 供的 提件 件物 元移 學轉 SB 照 參 0 以 ,° ΦΛ Εαρ 麄 哕 文説 考的 參用 為應 列及 容造 内製 示之 掲件 的元 章學 文光 篇性 四射 第繞 到對 一 們 第它 扼 明 發 3 訂! -線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 的 面 表 性 剛 刻 彫 束 光 射 雷 重 多 由 藉 種1 sy 有 要傜 明 發 本 光 性 射 繞 利 源 束 光1 單 由 是 0 束 光 4Ί- •Wt? 〇 雷的 各成 中形 其而 , 置 法裝 方學 性多 HJ W Η 韵 刻供 彫提 於上 用分 種剖 1 1 的少 供至 提的 而面 例表 施件 實物 佳該 較於 的便 明以 發法 本方 據的 根件 物 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2]0 X 297公釐) ab4b80 A7 B7 五、發明說明( 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 是每相一焦光用裝第内 對新法而 在一 。小的的第。 的而是每聚焦作學和面 得重方件 會第交的軸軸的間 佳 ,點中的聚光光束表 使於的物 都該相内一 一們之 較束光其束的分之光之 束用明移 窩與上列第第它軸 ‘,光焦,光束的件一件 光有發轉 凹及點兩之之使二 束個聚對一光束元第物 的在本體 小軸軸少窩窩會第 光兩各束第二光學的該 上存。液 個央心至凹凹窩的 射為。光之第射光點於 以言束的 一中中於小小H窩 雷分點成對之雷性光束 値而光用 每一在置各各小凹 種束光形束對始射焦光 兩束光應 ,第會配内内分小 一光焦會光束原繞聚的 了 光分種 中有軸對列列部開 生射聚言該光。有之光 „ 成光一各 例含各括一鄰一隔 産雷成而以該窩含開分窩形分另之 施該旦包某相少間0-。將形般時以凹過隔已凹 > 個的述 實,軸驟過過至個-1 窩。上一同並小通間用小中每窩所 佳口 央步穿穿内兩 凹束面束是窩刻束有使多例的凹上 較開中刻中於列内 小光表光式凹彫光含會許施窩小如 一出二彫其行一列 刻射該各方小經射成法刻實凹刻有 C另義第該,平某鄰 彫雷在。置新前雷形方彫佳小彫具用的定的,刻是中相 經式會的配一先該少此新較新經作有明内交中彫上其於 的波都開的刻一使至 C 重一刻前製的發面正例行質且列 開脈束隔束彫刻由便束及某彫先於別本表軸施進實 ·,排 隔種光間光點彫藉以光刻於於刻用待於件央實窩段段軸 間一 一互對光點是置二彫 用彫對言 物中此凹線線二 --------------裝·-------訂·-------* 線 ? I: (請先閱讀背面之注意事項兵填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) d 4 5 8 Ο Α7 _Β7_ 五、發明說明() 較佳的是,使某一列内兩値小凹窩之間沿含有其第一軸 之線段的非彫刻間隔長度,是該列内某一小凹窩與相鄰 列内某一相鄰小凹窩之間沿含有各小凹窩之中心軸點之 線段的非彫刻間隔長度的大約1倍到大約1 . 3倍之間。 同時較佳的是,排列各小凹窩使得穿過其中一列内某一 小凹窩之中心軸點的線段以及穿過相鄰列内相鄰小凹窩 之中心軸點的線段,會與平行於該圖柱形物件之縱軸的 線段形成落在大於大約〇 °與小於大約9 ΰ °之間的角度 β最佳的是,該角度偽落在大於大約6 與小於大約9 (Γ 之間。 於某一恃別的較佳實施例中,傑依實質上相互間等距 間隔開的方式配置各小凹窩,其中某一列内兩個小凹窩 之間沿含有其第一軸之線段的非彫刻間隔長度,實質上 是等於該列内某一小凹窩與相鄰列内某一相鄰小凹窩之 間沿含有各小凹窩之中心軸點之線段的非彫刻間隔長度。 較佳的是,該繞射性光學元件是由一種對該雷射光束 而言呈透明之材料所形成的。有利的是,其波長是從大 約0 . 1到大約〗5微米,且最有利的是其波長是從大約1 到大約1 5微米。最佳的是,該雷射光束的波長大約1 0 . 6 微米。 根據本發明的某一替代實施例而提供的一種裝置,傺 用於彫刻剛性物件以便於該物件表面的至少一部分上提 供許多間隔開的經彫刻小凹窩。該裝置包含用於産生雷 射光束的雷射光束産生器。較佳的是,其中所産生的雷 -1 1 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------I-------- --- <請先閱讀背面之注意事—J填寫本頁)
I -線- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印f 104645 8 0 A7 B7 五、發明說明( 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 光光較軸過是裝配一先物 對新 束 種 能 使 , 性個。的穿的學的刻一該 且重 光 一 係。件 置 射兩點束之佳光束彫刻為 ,於 射 的 ,量元 裝 繞少光光使較該光點彫對 束用 雷 明 法産學 刻 有至焦射再。。對光點束 α 光有 該 發 方及光 彫 含為聚雷後點的一 焦光光刻的供。對 本 刻率性 新 種分成該然光開每聚焦一彫上提束種 括 彫效射。重 一 束形生 ,的隔而的聚每新以 +S光一 包 新其繞法式 供光上産束焦間 ,束的用重個而光由 也 重良用方良 提射面所光聚束對光束利及兩束分是 品 種改利的改 。雷表沿個經光束一光梗刻供光個件 成 一下種光種 束該該件兩供他光第二以彫提光一元 0 的 供質一分一 光將在元少提其成之第制行會分另學的出 提品供束供2-射便會學至上與形對之機進置悃的光成造 是品提光提-1 雷以都光為面是束束對供窩裝每窩性形製 的成是射是 式,束性分表都光光束提凹學的凹射所法 目刻的雷的 波置光射束該束各該光。小光窩小繞料方 的彫目之目 脈裝個繞光在光使以該窩多該凹刻該材的 明經一置一 種學一該該而個會時以凹許,小彫,之明。發低 S 裝又 一 光每使將鏡一言同並小的是新經是明發例本降的刻的 是的使,便透每而是窩刻內的刻前的透本施 ,致明彫明 柬件且是以性中般式凹彫面佳彫先佳呈由實此不發新發 光元,的置射其一方小經表較於刻較言藉佳因在本重本 射學束佳配折,置置新前件 用彫 而 較 夠 該 I-----— 1-----震--------訂--------,線 (請先閱讀背面之注意事.|填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制取 4 645 8 0 A7 _B7 Π 五、發明說明() 以實現利用嬈射性光學元件使用於重新彫刻之雷射光束 分光的重新彫刻方法。 本發明的再一目的是藉由本發明的方法提供一種液體 轉移犓件而降低了其製造成本。 本發明的上述及其他目的及優點將會因為以下篸照所 附圖示對顯示用實施例的詳細説明而變得更明顯。 圖式之簡塱説明 第1圖俗用以顯示根據本發明較佳實施例之雷射彫刻 裝置的示意圖》 第2圖偽用以顯示所提供成品之經彫刻表面的局部透 視示意圖。 第3圖偽第1圖裝置的示意圖,其中顯示的是能夠藉 由根據本發明較佳實施例之裝置及方法製造出的較佳小 凹窩圖形。 較佳窗旃例的詳細説明 雖則本發明將會參照各附圖中的實施例加以説明,然 而應該了解的是本發明也可以依很多替代實施例的形式 而施行。另外,也能夠使用任何適合的尺寸、形狀、或 是材料或元件型式。 參照第1圖,本發明傑有關一種彫刻及重新彫刻的方 法和裝置1 〇,傣藉由雷射光束i 6以與該剛性表面1 4之相 對蓮動撞擊該表面14,而對剛性表面〗4内一条列小凹落 1 2進行彫刻及重新彫刻。特別是,本發明偽有關一種藉 由多重雷射光束].6彫刻剛性表面1 4的方法,該多重雷射 -1 3 - (請洗閱讀背面之注意事^-.彳填寫本頁) 裝 訂-_ .線- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 □ 45 8 0 A7 _B7_ ϋ 五、發明說明() 光束1 6在該表面1 4上含有間隔開的焦點2 4和2 6 ^含有該 間隔開之焦點2 4和2 6的雷射光束偽藉著利用繞射性光學 元件2 ϋ及折射性透鏡2 2之雷射産生器而由單一雷射光束 1 5而形成的。 能夠藉由任何想要的習知設計中所熟知的機制而提供 雷射光束焦點2 4和2 6與該表面1 4的相對蓮動。例如能夠 籍由受電腦控制之何服機或步進裝置2 S和2 9而移動電射 産生器18及光學条統30、或是表面14、或其中的某些組 合,以提供用於彫刻小凹窩1 2所需要的相對蓮動。用於 在雷射光束底下來回移動工作表面1 4的機制是吾人非常 熟知的,故不會形成本發明的一部分。 根據本發明某一實施例而産生的雷射光束是一種脈波 式雷射光束。該光學裝置30包含用於使雷射光束15分光 成至少兩個雷射光束1 S的繞射性光學元件2 D,而使每一 値雷射光束16都會在該表面14上形成聚焦光點24或26之 類。較佳的是使該繞射性光學元件20沿箸該産生器18所 産生之雷射光束15的軸3 4而配置,且將該射束分光成至 少兩橱射束然後使之通過折射性透鏡2 2而在該表面1 4上 提供了聚焦光點2 4或2 6。較佳的是每一 ί固射束1 6都會與 另一個射束1 6間隔開。較佳的是該光學裝置30會使射束 1 6成對,而每一對射束1 6的配置方式會同時地以該射束 ί 6對中第一射束之聚焦光點2 4彫刻一新小凹窩1 2,並以 該射束1 6對中第二射束之聚焦光點2 6重新彫刻一先前經 彫刻小凹窩1 2。較佳的是提供了控制機制以便利用每一 -14^ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------I --------訂·------- (諳先閱讀背面之注意事«../%寫本頁) u 4 b Β Ο A7 B7 13 五、發明說明( 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 新 Μ 束射件15損件而新繞形独 Θ 上個許金件少2226 重一1 該元束耗元,成。圖而5)質一允,元至鏡或 及:i 成學射率學波形動觀術(1實中且12學到透24 刻。^ϊι構光使功光光而蓮徹技 束生其,簡光看該點 彫件I]:成性會在性的合向過刻 射産許窩凹性會使光 行物 h 義射上夠射目結方通光 射上允凹小射22會焦 進移 定繞本能繞數新的15知 入隔而小刻繞鏡這聚 离轉ίιι 以以基而該大重同束習。變間,各彫該透。各 凹體1S'㈣可由為,。極側不射用的改定26的經。得16的 小液 ΪΒ1徴藉因1616為一光或利内會固或内前成使束束 ίπ4 多種;恃。 ,束束裂另射波是之成在 214先完,射射 稱了 丨 許一 Μ 卩的和傜射射分的入光常面計會點面各中僳的値 3 06 _ I 的是 0中上總關^重波2與迫通表設2光表刻驟||度數5 内36(«ί, 面的位最多光件依強形20俱鏡焦始彫步位角之-1 ο 章 ο 面件 2 平偽相各成入元夠由圖件 2 透聚原新的相一收 表物件 像關各供光進學能藉觀元件焦個料重面之某接 36該元 d 影位内提分各光波偽微學元聚兩材26表15呈所 件是學*fl定相15以束内該光20該光學得的刻點該束面於 物的光 給子束置射15在的件,性光使度彫光越射22應 為佳性ιίϊι何光射配該束會新元裂射性 ,強24焦跨該鏡對 對較射ΚΗ任各該新將射波。學分繞射偽等點聚趟變透個 16。繞BF在之變重下使光波光之該繞關相光個單改與數 束刻各 >5)15改量小會些光性使到該位有焦二在會個生 射彫 柵(1束20能很20這的射而刻 相具聚第部20兩産 -· - - n ff n I · n --f DJ· I I ^1 I (請先閱讀背面之注意事*-./填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 14❹ 45 8 0 A7 B7 五、發明說明( 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 之焦 繞溯 2 生 繞供新滑凹夠之學20這。光彫用 15聚 於可JSII2産 用提重平小能此光件。量分於個 刻鏡 6 6 束各 由也^|2 。使而的變了 2 除性元量産束用一 射定 時它卩I 或性内 1 行構加點。射學能了 射個另 。 該固 同故sf$2 稱 3 束施結增焦焦繞光的良該毎有 1 變式 。,/II點對置射30鑄及二聚用性高改將對供束 改方 元容刻 1 光的裝重統重、第内使射較地成,提射 有 2 地的 美相彫、焦好學多条及義為 1 ,繞供彗計中會光 ο 合 確期 千1 在 聚良光成學壁定因窩形該提顯設置都分 精預 數置已 “個了 於光光12何是凹情於内而20配,的 夠可 是裝 ,<0兩持由分以窩幾加小的因16率件佳言12 能及 本刻外 &使維藉1 。凹的增刻器肇束速元較而窩 20複 成彫之以致12,束良小好的彫光會射的學種16Η 件重 的數此 ^ 不窩術射改使更度經分15光業光 一束小 元可20多除3020凹技將的是有深前學束分作性於射刻 學依。件大。少件小刻便得念具12先光射痼刻射。光彫 光夠隔元與置至元使彫以顯概狀窩之知的一彫繞16分經 性能間學會裝到學而新20了 良形凹下習光每高該束的前 射故的光件刻測光,重件有改12小底用分於提將射12先 繞 ,26性元彫觀性變他元質個窩 。14使行而夠是個窩刻 該傜或射學存上射形其學品三凹度面之施 ,能的兩凹彫 Κ關24繞光現率繞的之光刻的小深表較20應人佳於小新 由位點該性於效該顯較性彫剡使12該,件效吾較多新重 。相光 射適理之明 射的彫、窩在外元的使 成刻於 -------------裝·!-----訂·-----i ·線 (請先閱讀背面之注意事填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
“ υ 45 8 G A7 _B7_ 五、發明說明() 根據本發明的替代較佳實施例,提供了 一種用於彫刻 剛性物件的方法以便至少於該物件3 6表面的某一部分上 提供許多間隔開之經彫刻小凹窩1 2。較佳的是將雷射光 束15産生為一種脈波式雷射宠束。將雷射光束15分光為 至少兩個射束1 6,使各射束1 6都會在該表面1 4上形成聚 焦光點24或26。各聚焦光點24或26傜相互間隔開的。各 射束16 —般而言會形成射束對,而每一對射束16的配置 方式會同時地以該射束1 6對中第一射束之聚焦光點2 4彫 刻一新小凹窩1 2,並以該射束1 6對中第二射束之聚焦先 點2 6重新彫刻一先前經彫刻小凹窩1 2。原始雷射光束1 5 的分光作用是藉由使之通過具有繞射性光學元伴2Q之光 學裝置3 G以便至少使第一射束和第二射束形成間隔開的 聚焦光點24或26。該方法會使用各分光射束16以便對該 物件表面内的許多小凹窩1 2進行彫刻及重新彫刻。較佳 的是該方法係受電腦控制的,以致能在該物件3 6表面1 4 與各射束1 6之間提供適當的相對蓮動而為小凹窩1 2提供 與該表面1 4相關的想要陣列。其中能夠使用習知彫刻技 術中所熟知的任何必要電腦控制器及其附屬軟髏。 於S —種較佳實施例中形成了兩個以上的射束1 6 ,以 致對每個用於彫刻新小凹窩的分光射束1 6而言,都會提 供有另一個用於重新彫刻先前經彫刻小凹窩的分光射束 1 6 本發明的各方法對具有如上所逑多種應用之液體轉 移物件的製作而言是待別有用的。 、 現在參照第2和3圖於本發明的又一個較佳實施例中 -1 7 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -------------裝·!-----訂---------線 {請先閱讀背面之注意事現ΐ填寫本頁) 16 ο 4 b 8 Ο Α7 Β7 五、發明說明( 2 中 Ι在 $會 央軸 -Φ各 且 第 有4’ ~4 含Λ /(V fi 36央 件中 物二 該第 於的 會交 都正 12軸 离央 凹中 小一 個第 一 該 每與 * 及 P 開 出 義 定 内 4 r-H 面 表 的 小 的 内 列 兩 少 至 於 置 配 對 括 包 交驟 相步 上刻 46彫 點該 軸 , 心中 例 施 實 此 第 之 2 II 窩 凹 小 各 内 8 4 Μϋ 歹一 某 過 穿 中 其 刻 彫 行 進的 2 2 1X 4- 窩軸 少 至 8 4 内 列48 鄰列 相一 過某 穿中 於其 行且 平 是段 上線 質的 宵42 段軸 線一 第 之 2 I1 窩 凹 小 各 内 佳 較 且 分 部 列是 鄰的 相佳 於較 列 。 排間 4 4 之 由 4 I·*··' 二 軸 第二 的第 們的 它12 使窩 會凹 2 、 1 WJ 窩開 凹隔 小間 有橱 所兩 是内 第 其 有 含 沿 間 之 2 ΊΛ 窩 凹 小 0 兩 内 8 4 或 8 4 列1 某 隔 間 刻 彫 芦 8 m·, 4 的列 段鄰 線相 之與 某 内 點 軸 3 中 心 1 其 中約過 之大穿 12到得 之 間 之 列 —-----—-----裝·— (請先閱讀背面之注意事——填寫本頁) 該 是 度 長 2 1A 窩 凹 小一 某 内 窩H 小 各 有 含 沿 間 之 2 1—_ 窩 凹 小 鄰 相 大凹 的爿點 度纟軸 長 心 0-1Λ 5 th 4 • is , 隔 之 T 2 刻彳窩 彫Ms 非i小 ®時一 線 内 ®使S 1 2 線 1X 勺 & 钇 § β 6 線 的 6 4 點 軸 心 中 之 2 1Χ 窩 凹 小 鄰 ΠΠ 内 訂· _ 大 在 落 成 形 段 線 的 軸 縱 之 件 物 形 柱 圓 8 ί 4 該 列於 鄰 行 相平 過與 穿會 及 , 以段 約 大 於 小 ΓΠ3/ 與 -線. 約 大 於 大 在 落 偽 ο οα 約度 大角 於該 是 的 利 有 0 α 度 角 的 間 之 約 大 於 與 當 〇 間 之 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 軸 6 方 距 的 等 間 互 筒 相 滾 上 於 α質 行度實 平角依 在幕m 落屏 , 會指中 4 來例 軸用施 該是實 ,常佳 時通較 筒 α 的 滾度別 是角恃 36該一 件。某 物上於 該向 小長 値50 兩隔 内間 0〇 J 4 亥 列彫 一 非 某的 中段 其線 ,之 2 2 1 4 is軸 凹 一 小第 各其 置有 配含 式沿 方間 的之 2 開 1 隔窩 間凹 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 17464580 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7_ 五、發明說明() 度,實質上是等於該列48内某一小凹窩12與相鄰列48 内某一相鄰小凹窩1 2之間沿含有各小凹窩1 2之中心軸點 46之線段的非彫刻間隔52長度。 參照第1到3圖特別是第3圖,將線段5 4分割成如圖 所示的一序列線段「A」和「B」。「B」線段5 4會出現 在「A」線段54的每一側,反之亦然。能夠藉由繞射性 元件20而提供四個聚焦光點24或26。這種嬈射性光學元 件2 0已連續地應用於本發明之方法及裝置1 0的替代性較 佳實施例中。於四痼聚焦光點的方法及裝置1 〇中,m兩 個聚焦光點2 4彫刻小凹窩1 2且以兩個聚焦光點2 6重新艱 刻小凹窩1 2。於此較佳實施例中,將控制器3 2規_成容 納兩個聚焦光點2 4,其中之一只用來彫刻「A」線段而 另一個則用來彫刻「B」線段。同樣地,將兩傾聚焦光 點2 6配置成其中之一只用來彫刻「A j線段而另一個則 用來彫刻「B」線段。例如,該四光點繞射性元件2 0能 夠因為以第一和第三光點2 4彫刻「A」和「B」線段並以 第二和第四光點2 6重新彫刻這些線段而受益於這種結構 β這麼做的優點是使彫刻處理的速率變成兩倍而保持了 由本發明所提供的改良。利用這種方法的六和八光點繞 射性元件2 0能夠使彫刻速率強化三和四倍,只要該雷射 産生器18能夠産生足夠用於所有聚焦光點24或26的能量 就行了。 藉由本發明的方法而産生的經彫刻産物也包括一種本 發明的較佳實施例。較佳的是該産物是一種液體轉移物 -1 9- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格mo X 297公釐) ϋ ϋ n t n ϋ ^1· » I t / ϋ n ϋ ϋ n h^I ϋ i n ϋ I <請先閱讀背面之注意事填寫本頁) 4645 8 0 A7 _B7五、發明說明() 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 之 ·· 22統性溯用元使常鏡兩設下 繞 該滾丨位 鏡条射能使性方轉透。的如 該 用凹!而繞:^的 透學繞就内射後旋該齊 2 式 入 常小 Η 目圍括 。焦光該易30繞正由和對件程 進 ,種 "^數在包 整 筒聚該得容統個22_20形元方 是 言三 h12*料ί 完 敎 Η 滾於對使很条數鏡夠件圖性的 0 而的s-ι窩出資 之 移似要這且學多透能元刻射隔 而 用"^1凹算入器成 轉類需。容光用焦。學彫繞間 聚 作60^ 小計輸Jig構 0 0 2 體度若正相該使聚間光與該該 焦 刻和 U 之礎該 1 液尺時修統於夠該之性置於算 的 彫。):上基 窩 種其件的条是能於18射位決計 鏡。知45PC向為目L凹 一 種元少刻的也設器繞的取於 透計習、“方料數〇0小 是一此極彫佳時裝生該26是用 該設的。數 ^3資12以由 锪是用作存較要20産的或隔。 是角3630計角入窩及個 産20應要現然必件束内24間聚 F 射筒於段幕輸凹 α 兩 該件故需何雖,元射F)點的焦 ,繞滾等線屏以小角上 是元,只任 。2 性該 光 2 的 隔的移 α 分定會的幕周 的性件也與内件射與 焦或220 間20轉角公特32上屏圓 佳射元正會置元繞22ί 聚24鏡 0 角件體幕每沿腦周 、36 最繞學修乎裝性該鏡件値點透an半元液屏。在電圓徑筒 且該光何幾類射將透配兩光該 t 是學墨其形落。之直滾 ,為 一任20這繞。該鏡使焦及 PH 光傳是圖數的36之該 36因單作件於個20於透而聚以H=中性對的12計出筒36繞 件之30元適一件位見22個計 其射 到窩由定滾筒圍 -------------裝---------訂--------*線 (請洗閱讀背面之注意事JS-·...填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 46458 0 A7 ____ B7______ 19 五、發明說明() 置。先前已將這類列或線段54標示為「A」和「β」線段 。當産生第一小凹窩列亦即「Α」線段時,電腦32會將 該光學条統3 0的位置推進到下一小凹嵩列亦即「β」線 段的位置上,以便不與先前彫刻作用的「Α」線段曼合 。藉由使ΓΒ」線段的位置相對於圍繞該滾筒36圓周之 Γ Α」線段作平移,並使該光學糸統3〇推進少於一個金 小凹窩寬度,則兩値線段「Α」和「Β」會交聯而產生類 似於如第2圖所示之蜂巢的圖形。向下重複這種推進該 光學条統30位置並改變「Α」線段與「Β」線段之間位置 的處理逹滾筒36軸56的長度e該電腦會改變各小凹离12 繞該圓周而沿該滾筒3 6軸5 6的間隔5 0或5 2以産生想要的 LPC和屏幕角α。 於根據本發明的較佳實施例中,使用由光學条統30産 生的至少兩値聚焦光點2 4或2 6,較佳的是使該光點2 4或 26依與「Aj和「Β」線段平行的方式對齊,或者最佳的 是使該光點24或26依與該滾筒軸56平行的方式對齊。由 繞射性元件20産生的兩個光點24或26會嬈蕗在兩個光點. 之間的點而旋轉。該兩個光點24或2 6是定位成相隔180° 的位置上。可以在使該第二或落後光點26直接地與由該 第一或領先光點24産生之各小凹窩12中點對齊的嘗試中 稍後地旋轉該繞射性元件2 {),以致其中一個光點2 4會彫 刻材料之原始表面1 4而第二光點2 6會彫刻先前經膨刻的 各小凹窩。 在兩個光點幾乎與「A」和「B j線段平行的情形下, -21- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS〕A4規格(2]0 X 297公釐) — — — — — — — —--—II - - - - ----Γ ^ · I I I I---- (請先閱讀背面之注意事^-填寫本頁) , 4 b 45 8 Ο 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _ B7 _ Γδ ' 五、發明說明() 使該繞射性元件2 0旋轉零點幾度會使光點沿該滾筒軸5 δ 移動更多。藉由結合該繞射性元件2 G的旋轉及改變其 L P C ,能夠將該落後光點2 6直接定位於先前經彫刻的各 小凹窩的中點内,而産生本發明想要的重新彫刻效應。 該光學条統3 (3與任何用於液體轉移檄件滾筒3 6之彫刻 作用的控制器都是相容的,因為它們全部使用類似的處 理技術以産生想要的小凹窩1 2圖形。不過,因為光點2 4 與2 6之間的間隔是固定的,故較佳的是能夠以高準確度 及一致性産生這類圖形以取代各小凹窩1 2的電腦,以確 保該第二光點2 6會在該滾筒3 6的整個彫刻期間保持位於 先前經彫刻各小凹窩的中心點上。 最佳的是使光點24和2 6與滾筒36之軸56對齊。例如, 對其屏幕角α為6 0°之經彫刻小凹窩1 2圖形而言,可以 將線段5 4計數對表面1 4與各射束之間沿滾筒軸5 6的相對 推進關偽表為: c 〇 s cr =滾筒3 6之軸5 6方向的推進量額除以線段計數 例如,若該彫刻作業是依《為6 0°以及2 D G L P C圖形之方 式而施行的,則c 〇 s 6 0° = G . 5而沿滾筒軸的線段數目為 1 0 0 L P C。那指的是若以兩個間隔大約1毫米之聚焦光點 2 4和2 6完成彫刻作業,則這兩個聚焦光點2 4和2 6是沿滾 筒軸5 6而不是沿屏幕角α而對齊,該第一光點2 4會彫刻 原始表面1 4而該第二光點2 6會在落後該第一光點2 4十個 線段4 4下遵循相同的圖形而重新彫刻小凹窩1 2。使兩個 聚焦光點24和26與滾筒軸5f5而不是該屏幕角α對齊,指 -2 2 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -------------裝·-------訂--------*線 (請先間讀背面之注意事、填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 6 458 0 A7 _ B7 Π 五、發明說明() 的是對所有線段5 4之計數及屏幕角a都能夠使它們之間 的間隔保持固定,只要對每一個角度計算出其推進並使 之圓鈍化。在小凹窩1 2上第一與第二擊之間的十個線段 4 4軸向縫隙會增加該小凹窩i 2在各擊之間的冷卻時間而 改良7該小凹窩1 2的美觀程度。 可替代地3若該彫刻作業是依tr為6 0 °以及2 G 0 L P C圖 形之方式而施行的,則沿滾筒軸5 6之線段4 4術數目是 141.4(c〇S 45°二0.707)。若使其推進圓鈍化成為最接 近的偶數個L P C亦即1 4 0 ,旦算回去,則造成1毫米間隔 的真實L P C是1 9 S。(其誤差為1 % 。能夠將相同的數學方 法用於3 (Γ之α角的彫刻作業。 有利的是,該聚焦光點2 4和2 6的間隔是從大約0 . 1毫 米到2 5毫米,且最有利的是從大約0 . 5毫米到5毫米。 已發現在焦點24與26之間隔是大約1毫米時作用良好。 因為該第二光點2 6會增加先前經彫刻小凹窩1 2的深度, 將會需要於配置期間於測試帶面稹内量測出結果。當焦 點2 4到2 6之間隔是大約1毫米或更小時會使所需要測試 帶的量額變得最小β由於光點2 4到2 6之間隔是焦距的函 數,故對每一種焦距的透鏡2 2而言都必須使用不同的嬈 射性元件2 0。 為了顯示一種根據本發明的較.佳實施例,得到的是直 徑為1 . 1英吋< 2 , 8公分)之繞射性元件2 Q。當沿射束1 5之 軸3 4放置該繞射性元件2 ϋ時,如第1圖所示在透鏡2 2後 方有一個1.5英时(3.8公分)的焦距,由透鏡22産生了兩 -2 3 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --------------裝--- (請先閱讀背面之注意事―ΐ填寫本頁) 訂· 464580 A7 B7 2 2 五、發明說明( 個焦點2 4和2 6。較佳的是該繞射性元件2 Q或是二次光榈 具有812±1徹米之光柵週期,對一锢f= 1.5英时(3. 8公 分)之聚焦透鏡2 2以及波長為1 0 . 6微米之雷射光束1 5而 言,此光柵週期會在焦點2 4和2 6上轉換成+ 1與-1階射束 1 6之間0 · 3 3 5毫米的間隔。有利的是,該雷射光束1 5的 波長會落在fl . 1微米與1 5撒米之間。對光柵2 ί)而言狹縫 3 8的標的深度是1 . 7 7微米± 0 . 0 8 9微米(士 5 5S )。於此實 例中,得到的深度為1 . 8 3微米。跨越該直徑為1 . 1英吋 (2 . 8公分)之繞射性元件2 0的蝕刻均勻度是大約士 1戈。 該繞射性元件2 0塗覆有1 0 . 6微米(雷射波長)之Αϋ/ΑΚ V (抗反射層)。此實例中之繞射性元件20是用於由二氣化 磺雷射産生器1 &産生波長等於i 0 . 6微米之雷射光束。較 佳的是該繞射性元件2 0是由對雷射光束1 5呈透明的材料 形成的。於此實例中,該繞射性元件2 0是由鍺製成的以 滿足這種要求。根據本實例而製造的繞射性光學元件20 具有8 Q %的效率,且所産生的小凹窩1 2會呈現出經重新 彫刻之小凹窩1 2的所有特徵。 請 先 閱 讀 背 面 之 注 意 事 項一 I 填 L ί裝 頁 訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 因更>刻 Υ 3 ,得 ΡΙ4d:件 的義b$構 Η 物 成定以結 ㈣移 製有 Μ 性。石轉 鍺具射内榴體 由料 6 繞之石液 是材Ρ2的料鋁對 20種4f似材釔在 件這 h 類線铷用 元 。|1將外於應 隹; 性故肖夠紅用被 射縐 £ 能遠應地 基 繞的 ε 。他術遍 佳密 損其技普 較稠^耗的刻更 的為]Jt率類彫得 因 用更,功之種變 使構構及鋅這已 中結結用化將且 例體型作硒夠 , 實晶微射如能上 本其的散例也射 為好的到 雷 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 4 ο 4 5 8 Ο 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___ B7 — -~-~" 五、發明說明() 的彫刻作用上。這種雷射會産生波長為1 . G 6微米之光束 ,且需要由例如石英或是合成石英(通常稱為融熔砂石) 之類對此波長呈透明之材料製成的繞射性元件2 0。在考 量對液體轉移物件3 6進行彫刻下,應該能夠將這種彫刻 技術應用在任何必要的雷射光束1 5波長上,只要能夠找 到適用的透明材料能夠支持所需要的嬈射性結構(將之 独刻或輾磨到該材料表面之内)就行了。 本實例的繞射性元件與聚焦透鏡是以2毫米的空間間 隔開的。旋轉該配件以便使一階光點2 4和2 6與滾筒3 6之 軸5 6對齊。光學条統3 0産生了兩個間隔了大約9 3 5微米 的一階聚焦光點2 4和2 6。兩橱一階聚焦光點2 4與2 6之間 的強度分布是大約5 ί) / 5 0。 小凹窩12的圖形彫刻在180 LPC及更低的速率下産生 的而具有絶佳的彫刻品質。經重新彫刻的小凹窩1 2呈 現的深度是比如第2圖所示之小凹窩1 2深度5 8增加了 1 8 % ,這應該會改良其彫刻速率。看起來並未因該繞射性光學 元件而引進任何像差。量測得的該光學系統3 0效率是大 概9 0 5; 大概1 G 5S的光束1 5能量會被引導到不會參與彫刻 處理的二階光點上。 本實例的光學条統3Ε)是設計成使一階聚焦光點24和26 沿著從「A」線段到下個線段的方向對齊。這指的是線 段計數的組合必須是奇數的倍數1 , 3 , 5 , 7。在光點2 4到 26之間隔是大約1毫米時這等於能為60°之屏幕角c(逹 成其線段計數為6 D , 1 0 D , 1 4 0 L P C的彫刻作用。減少光點 -2 5 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2〗0 X 297公釐) ------1 I I I I I I - I —--I I I 訂·-------- (請先閱讀背面之注意事"·.填寫本頁) 464580 A7 B7 2 4 五、發明說明( 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 佳。陶如屬鶴 鎢 化物氧物 法金槍 説基44½^ 落塗 較度屬例金化1鈦is氣化的合 覆的爆ί 的覆6,fw能於 ,析金將或磺銘化-is、氣中混 塗佳起56整塗0168f 可決 此解或以屬用,磺钛鋁的其其 漿較該 4’完於3,3,^ 度取 因的屬可金使鉻、化化内以或 電將 。71有用第17^厚則 。當金。 、以鎳銘氧氧金是矽 、,上2,中知案4,JTf層度 度適、用瓷可—鈷、加合的化 法法面第件習請第一|^覆糍 析持瓷作陶如bl物鉻基佳氣 槍覆表案文。申 、2;塗粗 解維陶刻的例 Hb 散化鐵較、。爆塗屬請號獻利號 U 的其 的並有彫類 αϊΜ分氧、。;鉻起霧金申40文專97⑽佈, 數隔含的之上 物、金料 ο 化如噴的利,8考國,fci塗内 計間 1 明物面^¾ 化鉻合材 2 氣例熱筒專 1 參美 5 .法圍 段點面發化表 t — 氧化基類 A 是術般滾國,為在 槍範 S^¾ <ί\ ·Μ_ - οϋ ϋϋ πύ 線光表本碳的 _ - 的氣鐵之 的技一該美¾4列以ϋέi爆的-各小的據屬36化鉻内、、金 U佳的是到於13容可 ®起米 低最36根金件碳化金金鋁合a{最知或加且及内明tM 或毫 降作件受是物、磺合合化基領而熟法料的 ▲示説 法00 會當物接或該鎳、鈷基氣鏍}、,何料材知 f 掲的57M 漿111 隔米使以物到1鋁 '銘加及 3料任燃覆熟68其術4,01電5¾ 間毫是,化加 U 二金、鈦鎳20材由基塗所3,將技9184由ο 之 1 的層氧層以化合金化 、^覆藉氣物人17此漿3,9,藉約 26以佳塗性塗 ί 氣轱合氧物{C塗夠速化吾4,在電第51。大 到是較的火瓷 I 三 '基、散鉻作能高碩是第,的 、4,獻從4- _ 2 的 瓷耐陶- 、鎳銅钛分化當 、屬法、明板號第文在 -------------裝--------訂---------線 (請洗閱讀背面之注意事本.彳填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 4 6 45 8 0 A7 B7 2 5 五、發明說明( 覆方法{亦即電漿法或起爆槍法)、塗覆材料型式、及塗 覆層厚度而落在從大約5 Q到1 G Q 0 R «的範圍内。 較佳的是以例如環氧密封劑之類適合的細孔密封劑處 理滾筒上的金屬或金颶碩化物塗層/一種這類密封劑是 可自 Praxair Surface Technologies, Inc.公司取得的 商品 UCAR 100環氧(UCAR是 Union Carbide Corporation 公司的商標)。該處理會使細孔密封以防止溼氣或其他 腐蝕性材料穿透陶瓷或是金屬磺化物塗覆層而打擊並破 壤該滾筒底下的金屬結構。 吾人應該了解的是前逑說明僅供本發明的顯示之用。 熟悉習知設計的人能夠在不偏離本發明所附申請專利範 圍之精神及架構下作各種替代和修正。據此,本發明有 意涵蓋所有這類替代和修正以及落在所附申請專利範圍 之精神及架構内的變化。 參考符號説明 10.....彫刻裝置 12.....連績小凹窩 請 先 閱 讀 背 S 之 注 意 事 填 Ϊ裝 頁 訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ο 2 2 2 件 束 元 光器學鏡 面束射生光透 表光雷産性性 性射重 射射射 剛雷多雷繞折 點 焦 之 束 光 射 雷 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 6 45 8 0 A7 _B7_ 五、發明說明() 2 8,2 9 .....受電腦控制之伺服機或步進裝置 3〇.....光學条统 32.....控制機制 34.....雷射光束之軸 36.....物件(滾简) 38.....狹縫 40.....開口 42.....第一中央軸 44.....第二中央軸 46.....中心軸點 48.....列 48 '.....相鄰列 5 0 , 5 2 .....非經彫刻間隔 54.....線段 5 6.....滾筒軸 --------------裝--- (請先閱讀背面之注意事填寫本頁〕 . 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. 4 to 45 8 Ο I 六、申請專利範圍 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 的法 表該置一一射形以 ,的小 ,含且配列鄰 面方 該-配刻刻雷少; 。法窩刻 法該軸對一相 表。 在的的彫彫該至束 窩方凹彫 方,央括某過 件窩 會開束點點使便光 凹之小經 之口中包過穿 物凹 都隔光光光由以二 小件新前 件開二驟穿於 該小 束間對焦焦藉置第 多物刻先 物出第步中行 於刻 光互一聚聚是裝和 許性彫刻 性義的刻其平 便彫 一相每的的括學束 刻剛於彫 剛定交彫,是 以經 每是中束束包光光 彫刻用新 刻内正該刻上 ,的 而點其光光驟之一 新SV對重¾面軸中^質 法開 ,光,一二步件第 重於得於 於表央其行實 方隔 束焦對第第光元的 及用使用 用件中 ,進段 之間 光聚束之之分學點 刻之束有 之物一交窩線 件多 ;値該光對對該光光 彫項射在 α 項在第相凹的 物許 束兩,成束束,性焦 内 1 的存束 1 會該上小軸 性供 光為點形光光窩射聚 面第上言光第都與點的一 剛提..射分光會該該凹繞之 表圍以而光圍窩及軸内第 刻上驟雷束焦言以以小有開 之範値束分範凹軸心列之 彫分步種光聚而時並刻含隔 件利兩光一利小央中兩窩 於部列一射成般同窩彫過間 物專成光S專 一 中在少凹 用一下生雷形一是凹經通有 該If形分的請每一會至小 種少括産將上束式小前束含 於申中値窩申中第軸於各 一至包 面光方新先光成及 如其每凹如其有各置内 —-----------、裝--------訂---------線 ^ · '(請先胳讀背面之注音3事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格<210 X 297公釐) ABCD 4 b 45 8 Ο 六、申請專利範圍 列内各小凹窩之第一軸的線段;且其中某一列内至少 一部分小凹窩會使它們的第二軸排列於相鄰列内兩値 間隔開小凹窩的第二軸之間。 4 .如申請專利範圍第3項之用於彫刻剛性物件之方法, 其中使某一列内兩値小凹窩之間沿含有其第一軸之線 段的非彫刻間隔長度,是該列内某一小凹窩與相鄰列 内某一相鄰小凹窩之間沿含有各小凹窩之中心軸之線 段的非彫刻間隔長度的大約1倍到大約1 . 3倍之間。 5 .如申請專利範圍第4項之用於彫刻剛性物件之方法, 其中排列各小凹窩使得穿過其中一列内某一小凹窩之 中心軸點的線段以及穿過相鄰列内相鄰小凹窩之中心 軸點的線段,會與平行於該圓柱形物件之縱軸的線段 形成落在大於大約0°與小於大約9 G °之間的角度。 S .如申請專利範圍第5項之用於彫刻剛性物件之方法, 其中該角度葆落在大於大約6 1Τ與小於大約9 ίΓ之間。 ?.如申請專利範圍第1項之用於彫刻剛性物件之方法, 其中該雷射光束之波長是從大約〇 . 1到大約1 5微米。 S . —種用於彫刻剛性物件之裝置,以便於該物件表面的 至少一部分上提供許多間隔開的經彫刻小凹窩,裝置 包括: 一雷射光束産生器,係用於産生雷射光束; 一含有繞射性光學元件的光學裝置,偽用於使該雷 .射光束分為至少兩値光束,且使每一値光束都會在該 表面上形成聚焦光點,其中每一個光束都是與其他光 -3 0 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) !丨1 丨 II— !— --------訂 — 丨 1ί!_ 、(請先阶讀背面之注意事項#填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 46458 0 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 毎的 而束 ,光 對一 束第 光之 成對 彩束 束光 光該 各以 使時 會同 丄|曰是 而式 般方 一 置 , 配 的的 開束 隔光 間對 束一 的 束 光 二 第 之及 對以 束 ·’ 光窩 該凹 以小 並刻 窩彫 凹經 小 前 新先 一 Γ 刻刻 彫 艱 點點 光光 焦焦 聚聚 小 多 許 的 内 面 表 件 物 該 為 對 0 束刻 光彫 一 新 每重 用及 利刻 # 彫 ,行 置進 裝窩 凹 ! 彫 置於 裝用 之對 件且 物 , 性束 剛光 刻的 彫上 於 以 用 値 之兩 項供 8 提 第會 圍置 範裝 利學 專光 請該 申中 如其 9 刻 彫 新 重 於 用 有 。 供束 提光 ^5光 而分 束個 光一 光另 分的 個窩 每凹 的小 窩刻 凹彫 小經 新前 刻先 置 裝 之 件 物 性 III 刻 彫 於 用 之 項 β 第 圍 範 利 專 請 串 如 件 物 移 體 液 1 是 件 物 該 中 其 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
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