TW407330B - Method for evaluating semiconductor device - Google Patents

Method for evaluating semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
TW407330B
TW407330B TW086104639A TW86104639A TW407330B TW 407330 B TW407330 B TW 407330B TW 086104639 A TW086104639 A TW 086104639A TW 86104639 A TW86104639 A TW 86104639A TW 407330 B TW407330 B TW 407330B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
type
diffusion layer
field
silicon substrate
domain
Prior art date
Application number
TW086104639A
Other languages
English (en)
Inventor
Hitoshi Maeda
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Application granted granted Critical
Publication of TW407330B publication Critical patent/TW407330B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/20Sequence of activities consisting of a plurality of measurements, corrections, marking or sorting steps
    • H01L22/24Optical enhancement of defects or not directly visible states, e.g. selective electrolytic deposition, bubbles in liquids, light emission, colour change
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S438/00Semiconductor device manufacturing: process
    • Y10S438/977Thinning or removal of substrate

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

407330 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明( 1 ) 1 I ϋ. 明 枝 術 領 域 1 I 本 發 明 係 與 用 Μ 對 形 成 於 半 導 體 矽 基 板 内 之 擴 散 層 領 1 1 域 之 形 狀 進 行 評 鑑 之 技 術 有 關 者 〇 1 請 1 i>L 杵 抟 術 jL 1 閲 讀 Μ 往 半 導 體 裝 置 (d e v i c e ) 之 —‘ 構 成 要 件 之 擴 散 層 » 背 1 I 之 1 對 電 晶 體 之 特 性 可 產 生 巨 大 影 響 因 此 確 認 其 二 次 元 性 注 1 意 I 事 1 或 三 次 元 性 構 造 甚 為 重 要 0 可 評 鑑 擴 散 層 領 域 之 形 狀 之 技 Ψ 1 I 術 之 例 已 開 發 有 將 劈 開 之 試 料 利 用 吉 爾 托 (2 i r t 0 1 ?) 液 •V、 寫 本 頁 1 -* 業 圖 1 (河東田隆編著 半導體評鑑技術 Ρ P · 136、 137; 產 、 1 書 1 9 89 ) 施 予 前 處 理 1 藉 Μ 對 已 經 顯 露 化 之 擴 散 層 利 1 1 用 掃 描 型 電 子 顯 微 鏡 法 (SEM :S c a η η in Z E 1 e c t Γ ο η 1 Mi c r 0 S C 0 p y ) 進 行 評 鑑 之 方 法 〇 該 方 法 係 利 用 吉 爾 托 液 訂 I 對 矽 之 蝕 刻 率 (etc hi n g Γ at e )有 賴 於 矽 中 之 不 純 物 濃 度 > 1 1 I 不 純 物 澹 度 愈 高 愈 容 易 被 蝕 刻 之 性 質 者 採 用 該 方 法 時 1 1 I » 不 純 物 濃 度 能 將 10 19 at tn S / C m3 層 级 以 上 之 擴 散 層 領 域 顯 1 1 線 露 化 〇 1 ϋ. 明 擬 解 決 問 m 1 I 然 而 S 的 在 最 尖 端 科 技 之 裝 置 中 為 媛 和 電 場 乃 採 1 1 | '用 在 半 導 體 基 板 内 形 成 低 濃 度 之 擴 散 層 領 域 之 情 形 愈 來 愈 I 多 上 述 之 利 用 吉 爾 托 液 進 行 jlJU 刖 處 理 之 方 法 已 經 無 法 令 1 1 I 上 述 之 低 濃 度 擴 散 層 領 域 顯 露 化 因 此 有 無 法 以 良 好 之 1 1 精 度 進 行 擴 散— 層 領 域 之 形 狀 之 評 鑑 之 問 題 0 1 1 另 外 於 利 用 吉 爾 托 液 進 行 前 處 理 時 一 般 作 為 層 間 1 I 絕 緣 膜 而 使 用 之 矽 氧 化 m 亦 大 受 腐 蝕 因 此 要 Η 良 好 再 琨 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 3 3 8 8 3 5 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明( 2 ) 1 | 性 進 行 裝 置 全 體 之 構 造 評 鑑 已 有 困 難 〇 1 1 本 發 明 係 為 解 決 上 述 問 題 所 作 VX 提 供 一 種 能 Μ 再 現 1 1 性 良 好 之 狀 態 進 行 將 形 成 在 半 導 體 基 板 内 之 擴 散 層 領 域 之 1 I 形 狀 加 Μ 評 鑑 之 技 術 為 0 的 者 〇 請 先 1 1 | 為 解 決 問 所 採 取 手 段 讀 背 1 本 發 明 之 半 導 體 置 之 評 鑑 方 法 係 Μ 具 備 有 : ( 意 事 1 a ) 將 具 有 H型第1領 域 與 P型第2領 域 之 半 m 體 裝 置 Μ 至 少 f 1 I 令 第 1 領 域 暴 露 之 狀 態 浸 潰 在 氟 酸 與 酒 精 之 混 合 液 中 之 步 寫 本 頁 V· 1 卜 驟 : Η 及 (b )與對於第2領 域 成 為 高 電 位 或 同 電 位 之 混 合 1 1 m 相 比 使 第 1領域成為高電位之步驟為其特徵者 1 1 最 理 想 者 則 於 (a )工程中 亦令第2領 域 暴 露 為 佳 0 1 | 另 外 最 理 想 者 則 第 1領域乃半導體機板 第2領 域 乃 訂 I 擴 散 層 領 域 且 進 一 步 具 備 有 (C ) 在 擴 散 層 領 域 與 混 合 液 1 I 兩 者 間 令 半 導 體 薄 膜 化 之 步 驟 更 佳 〇 1 1 ί 1 另 外 更 理 想 者 則 在 步 驟 (b )中 亦令第2領 域 相 對 於 混 合 液 成 為 低 電 位 為 佳 〇 線 1 另 外 本 發 明 之 半 導 體 装 置 之 更 另 外 評 鑑 方 法 係 以 1 1 » 具 備 有 ; (a )將 •令N型 第 1領域與p型 第 2 領 域 兩 者 均 暴 1 | 露 之 半 導 體 裝 置 浸 潰 在 金 屬 離 子 溶 液 中 之 步 驟 Μ 及 ( I ί b)與 對 於 第 1 領 域 成 低 電 位 或 同 電 位 之 金 鼷 離 子 溶 液 相 比 1 1 I 使 第 2領域成為低電位之步驟為其特徵者 1 1 最 理 想 者 則 於 步 驟 (b )中 令第1領 域 相 對 於 金 屬 離 子 1 1 溶 液 成 為 高 電 位 為 佳 0 1 1 明 7 宵 辆 形 裤 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 4 3 8 83 5 407330 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明( 3 ) 1 I K. 形 1 1 | 首 先 t 說 明 令 擴 散 層 領 域 顯 露 化 之 原 理 〇 如 果 在 氟 1 1 酸 與 酒 精 之 混 合 液 (以下, 僅記為 '混合腐蝕液( e t c h an t 1 7 j ) 中 > 令 矽 陽 極 化 j 則 引 起 多 孔 化 (P 0 Γ 0 U s )砂 之 形 成 請 先1 閲 I 讀 背 反 應 9 或 矽 之 電 場 研 磨 反 應 〇 • si 多孔 + 2F- 性矽 + 4HF 之形成 + λ h 4 反 H2 nfag m Si Fe + H 2 + (2 -λ ) e 之1 1 事1 項1 (λ < 2 h : 正孔、 e : 電 子 ) ),、1 寫 ^ 本 頁1 '--- 1 矽 之 電 場 研 磨 反 ttfif m • Si + 40H ~ + 入 h S i ( 0H )4 + ( 4 - λ )e 1 (λ < 4 h : 正孔、 e : 電 子 ) 1 | 參 Si ( 0 Η ) 4 S i 0 2 + 2H 2 0 訂 I • Si 0 2 + 6HF — H2 Si Fe + 2 Η 2 0 1 1 I 在 此 將 發 生 多 孔 矽 之 形 成 反 懕 或 矽 之 電 場 研 磨 反 1 1 應 中 任 一 項 則 視 於 進 行 矽 之 陽 極 化 之 際 所 加 上 之 電 壓 1 1 而 定 存 在 有 臨 界 電 壓 〇 亦 即 當 加 上 高 於 臨 界 電 壓 之 電 線 1 壓 時 即 發 生 矽 之 電 場 研 磨 反 應 而 加 上 低 於 臨 界 電 壓 之 1 1 電 壓 時 則 發 生 多 孔 化 矽 之 形 成 反 應 〇 另 外 該 臨 界 電 壓 1 | 則 視 矽 之 不 純 物 濃 度 而 定 不 純 物 濃 k 愈 低 則 臨 界 電 壓 ! I 即 愈 高 〇 1 1 I 例 如 將 在 P型矽基板内形成有N型擴 散 層 領 域 之 試 枓 1 1 9 浸 潰 在 混 合 腐 蝕 液 中 外 加 高 於 臨 界 電 壓 之 直 流電 壓 f 1 1 而 令 N型擴散層領域相對於P型 基 板 及 混 合 腐 蝕 液 成 為 相 1 1 對 高 電 位 狀 態 如 此 一 來 N 型 擴 散 層 領 域 即 發 揮 陽 掻 之 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨0'〆297公釐) 5 3 8 8 3 5 407330 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明( 4 ) 1 I 功 能 且 有 正 孔 之 供 給 因 此 亦 即 進 行 電 場 研 磨 反 應 » 1 1 妖 而 ) P 型 矽 基 板 則 不 致 於 發 生 陽 搔 之 功 能 亦 不 致 於 發 1 1 生 電 場 研 磨 反 應 0 於 是 利 用 電 場 研 磨 反 應 有 無 發 生 而 1 | 可 隨 意 令 N型擴散層領域顯露出來 請 先 閱 讀 背 1¾ 意 事 項 1 1 | 第 1圖係提示本發明實拖形態1之 半 導 體 裝 置 之 評 鑑 方 I 法 之 斷 面 圖 -0 首 先 於 在 Ρ型矽基板4内 形 成 N 型 擴 散 層 1 I 領域6後 在P型 矽 基 板 4¾ Ν型 擴 散 層 領 域 6 上 將 例 如 矽 1 氧 化 膜 堆 積 上 去 K 形 成 層 間 m 緣 膜 8 並 選 擇 性 形 成 開 寫 本 | □ 0 其 後 將 鋁 電 極 5 7 Μ 連 接 在 P 型 矽 基 板 4 與N型 頁 1 1 擴 散 層 領 域 6 之 狀 態 各 白 形 成 之 0 其 後 令 P 型 矽 基 板 1 1 4與N型 擴 散 層 領 域 6之斷面露出來 以完成試料製作 1 I 其 次 將 連 接 於 P 型 矽 基 板 4之鋁電極5與 設 置 在 混 合 訂 I m 蝕 液 ( 可 使 用 例 如 酒 精 與 m 酸 之 混 合 液 )2中 之 白 金 電 極 1 1 1 1兩者 共同連接在直流電源3a之陰極側 將連接於N型 擴 1 1 散 層 領域6之鋁電極7 再 連 接 在 直 流 電 源 3 a 之 陽 極 側 0 其 1 1 次 將 該 試 枓 中 露 出 了 Ρ型矽基板4與 N型擴散層領域6之 1 斷 面 之 部 分 而 浸 漬 在 混 合 腐 蝕 液 2中 利用直流電源3 a 1 1 t 外 加 超 過 臨 界 電 壓 Μ 上 之 電 壓 0 1 I 如 此 一 f來 N型擴散層領域6 即 產 生 陽 極 之 功 能 發 生 1 1 I 電 場 研 磨 反 off 懕 相 對 於 此 形 成 在 P型矽基板4内 之 PN接合 1 1 I 則 由 直 流 電 源 3a之 作 用 發 生 反 向 偏 ΠΠΙ m 琨 象 因 此 P 型 矽 1 1 基 板 4 則 不 致 於 產 生 陽 極 之 功 能 亦 不 致 於 進 行 電 場 研 磨 1 1 反 應 〇 1 於 是 視 有 無 發 生 電 場 研 磨 反 應 之 不 同 決 能 否 實 I 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4C格(210X297公釐〉 6 3 8 8 3 5 407330 Αν B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印策 五、發明説明( 5 ) 1 I 現 N型擴散層領域6之 顯 % 化 而 將 執 行 過 本 項 處 理 後 之 試 1 1 料 之 斷 面 利 用 SEM奪觀察之, 即可藉Μ進行Ν型 擴 散 層 領 1 1 域 6之二次元性評鑑工作 1 另 外 於 對 H型擴散層領域6外 加 超 過 臨 界 電 壓 以 上 之 請 閱 1 | 值 之 高 電 壓 時 低 濃 度 之 擴 散 層 領 域 即 顯 m 出 來 因 此 » 讀 背 1 在 Μ 往 之 技 術 無 法 辦 到 之 低 濮 度 N 型 擴 散 層 領 域 之 形 狀 之 事 ¥ 1 1 評 鑑 工 作 即 可 實 現 0 1 1 I 再 者 在 此 情 形 下 酒 精 即 可 產 生 緩 衝 劑 之 作 用 因 寫 本 頁 I I 此 層 間 絕 緣 膜 8 與 氟 酸 兩 者 之 化 學 反 應 即 受 到 抑 制 進 1 1 一 步 作 為 絕 緣 物 之 由 δ夕 氧 化 S轉 構 成 之 層 間 緣 膜 8 亦 1 1 無 從 對 電 解 反 應 有 所 貢 獻 因 此 層 間 |>*C 緣 膜 8 受 到 蝕 刻 1 | 之 量 亦 較 之 Μ 往 之 方 法 者 為 少 對 於 進 行 擴 散 層 領 域 之 訂 I 形 狀 之 評 鑑 工 作 頗 為 方 便 〇 1 1 I 以 上 就 在 丨> 型矽基板4内 形 成 有 N型擴敗層領域6之試 1 1 1 枓 作 了 上 述 說 明 然 如 第 2 ΒΙ 所 示 對 於 在 N 型 矽 基 板 1 1 1 0内 形 成 有 P 型 擴 散 層 領 域 11之試料 言 亦 連 接 上 直 流 電 後 1 源 3b 設 成 可 令 Η 型 矽 基 板 1 0能 相 對 於 混 合 腐 蝕 劑 2及P型 1 1 擴 散 層 領 域 11而 成 為 高 電 位 狀 態 之 構 成 並 露 出 斷 面 之 試 1 | 料 令 該 試 料 產 生 電 場 研 磨 反 ai*r m 即 可 藉 Μ 對 P 型 擴 散 層 I 領 域 11 進 行 二 次 元 性 形 狀 評 鑑 〇 1 1 I 啻施形態2 1 在 實 形 態 1 中 係 提 示 對 將 斷 面 露 出 來 之 試 料 進 1 1 行 二 次 元 性 形 狀 評 鑑 之 方 法 者 而 i 為 進 一 步 實 現 更 良 1 ! 適 之 評 鑑 亦 可 進 行 三 次 元 性 形 狀 評 鑑 工 作 0 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 7 3 8 8 3 5 407330 at B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明( 6 ) 1 1 第 3圖偁提示本發明簧胞形態2之 半 等 體 裝 置 之 評 鑑 方 1 1 法 之 斷 面 圖 0 首 先 .> 於 在 N型矽基板10内 形成P型 擴 散 層 I 1 領 域 1 1後 再 在 Η型矽基板〗0及P型 擴 散 層 領 域 1 1上 堆 積 1 例 如 矽 氧 化 膜 形 成 層 間 絕緣膜 8 並 選 擇 性 造 成 開 P 0 請 閲 讀 背 面 1 1 I 其 後 將 鋁 電 極 5 7 t 在 各自連 接 在 N型矽基板1 0及P型 擴 1 1 散 層 域 11 之 狀 態 下 各 白 形成之 C 意 1 1 I 其 次 * 對 處 在 Ρ 型 擴 散層11正 下 方 領 域 之 N 型 矽 基 板 事 項 1 1 10 進 行 研 磨 藉 以 形 成 N型矽基板1 0 Z薄膜化領域9 完 >,、 寫 本 1 I 成 試 料 製 作 X 作 0 至 於 在本實 跑 形 態 2中 則並無令P型 1 1 1 擴 散 層 領 域 ]1 η 出 來 之 需 要。 1 1 其 次 t 將 迪 接 在 P型擴散曆領域1 1之鋁電極7與設置 在 1 | 混 合 腐 蝕 劑 2 中 之 白 金 電 極〗兩 者 共 同 迪 接 在 直 流 電 源 訂 I 3b之陰 極 側 將 連 接 於 N型矽基板10之鋁電極5 再 連 接 於 1 1 I 直 流 電 源 3 b之賜 極 側 C 其 後*將 該 試 料 中 將 包 含 薄 m 化 1 1 I 領 域9及P 型擴散層領域1 1之N型 矽 基 板 10浸 潰 在 混 合 腐 蝕 1 1 線 1 液 2 中 利 用 直 流 電 源 3 b ,外加 上 超 過 臨 界 電 壓 K 上 之 值 之 電 壓 0 1 1 第 4 圃 提 示 經 過 該 項 反應後 之 試 枓 之 狀 態 之 斷 m _ 者 1 I 〇 亦 與 實 細 形 態 1同樣 ,N型矽基 板 10¾ 產 生 陽 極 - 功: 能 者 1 I t 因 此 仍 發 生 電 場 研 磨 反應》 狀 而 當 電 場 研 磨 進 一 步 1 1 再 繼 壤 進 行 下 去 則 ρ 型 擴散層 領 域 1 ]即 壬 現 三 次 元 性 露 1 1 出 狀 態 0 另 一 h 面 -J N型矽基板10與P型 擴 散 層 領 域1 1兩 者 1 1 之 接 台 面 亦 即 PN接 合 則 因 直淦電 源 3 b之 作 用 » 成 為 反 向 偏 fn«J J 壓 狀 態 故 Ρ 型 擴 散 層 領 域1 1即 不 致 於 發 揮 陽 極 之 功 能 > 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 8 3 8 8 3 5 407330 at Β7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五 '發明説明( 7 ) 1 | 從 而 亦 不 致 於 遒 受 到 電 場 研 磨 0 1 1 此 時 > 處 在 t 形 成 有 P 型 擴 散 層 領 域 ]1其 領 域 正 下 方 1 Ν 型 矽 基 板 10 5 甶 於 預 先 經 過 薄 膜 化 加 工 故 即 使 庵 在 1 I P型擴散層領域1 1周邊之N型 矽 基 板 10 受 到 電 場 研 磨 » 請 先 閲 讀 背 1¾ 1 事 項 1 1 I 使 得 P 型 擴 散 層 領 域 1 1外 露 出 來 處 在 鋁 電 槌 5 ι£ 下 方 之 1 1 I N 型 基 板 10 亦 完 全 不 致 於 遭 受 到 電 場 研 磨 仍 能 繼 續 1 I 外 加 電 壓 直 至 P 型 擴 散 曆 領 域 完 全 m 出 為 止 0 於 是 自 1 過 本 處 理 後 之 試 枓 裡 m 側 利 用 SEH '、 原 子 間 力 顯 微 鏡 y-yti 寫 本 1 | 法 (AF Μ : At 〇 m Ϊ C F or c. e Η ί C r 〇 S C 0 P y ) 等 觀 察 之 即 可 藉 頁 1 1 Μ 行 P型擴散層領域] 1之三次元性評鑑 1 1 m 3 1 苜 先 說 明 令 擴 敗 If 領 域 顯 m 化 之 另 一 個 原 埋 0 如 果 1 訂 I > 令 矽 在 金 廢 離 子 (例如網離子)溶 液 屮 產 生 陰 極 之 功 能 1 1 I » 則 可 對 其 供 ittir IB 電 子 而 在 δ夕 之 表 面 析 出 金 賜 (例如銅) 0 1 1 • C u 2, + 2 e— C u 1 I (· e : 電 子 ) 後 1 例 如 對 在 P型矽基板闪肜成有N型擴散 層 領 域 之 試 枓 1 I > 外 加 電 壓 , Μ 令 P 型 矽 基 板 之 電 位 成 為 低 於 金 屬 離 子 1 1 溶 液 及 Η 型 擴 散 層 領 域 之 電 :位 之 狀 態 並 將 其 浸 湞 在 金 賜 1 ί I 離 子 溶 液 中 則 I) 型 矽 基 板 即 成 為 陰 掻 發 撺 功 能 > 因 此 ί 1 1 I 亦 在 表 面 析 出 金 m 妖 > <·. 而 N 型 擴 散 ϋ 領 域 則 不 致 發 揮 1 1 陰 極 之 功 能 因 此 亦 不 致 於 在 表 面 析 出 金 屬 0 於 是 利 1 1 用 有 無 析 出 金 m 之 反 應 即 可 進 行 令 Ν 型 擴 散 層 領 域 顯 露 1 工 作 r 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 9 3 8 8 3 5 407330 Μ Β7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明( δ ) 1 I 第 5圖招 氏提示本發明實施开 $態3之 半 導 體 裝 置 之 評 鑑 方 1 1 法 其 斷 面 圖 0 首 先 t 於 在 P型矽基# 1 4 Μ 形 成 N 型 擴 散 層 領 1 1 域 6之後* 再在P型 矽 基 板 4及N型 擴 散 層 領 域 6 上 堆 積 例 1 I 如 fi夕 氧 化 膜 . 形 成 層 間 m 緣 膜 8 » 並 有 m 擇 性 令 其 造 成 請 kj 閱 1 1 1 開 P 0 /X <·. 後 t 在 令 鋁 電 極 5、 7 各 i 連 接 在 p型ϋ々基板4及 讀 背 1 1 1 Ν - 型 擴 散 層 領 域 6 2狀態下, 形成之 並且亦令P型 基 板 意 1 1 I 4 反 Ν型擴敗層領域6各 自 m 出 斷 III ) K Tt; 成 製 造 試 枓 之 工 事 1 1 I 作’ C 寫 本 頁 1 t I 其 次 t 將 連 接 於 P 型 矽 基 板 4之鋁電搔5 再 連 接 在 直 1 1 流 電 源 3 c Z 陰 極 側 將 連 接 於 Ν 型 擴 散 層 領 域 6 鋁 電 極 1 1 7反設置在金屬離子溶液(例 如 6Μ 酸 綱 水 溶 液 ' 硝 酸 銅 水 溶 I 1 m )1 2中;I白金電極1兩 者 共 同 連 接 在 i 流 電 源 3c 之 陽 極 側 訂 1 0 其 次 * 將 該 試 料 中 P型& ?基板4及 N型擴敗層領域6之 斷 1 1 I 面 露 出 之 部 浸 潰 在 金 屬 離 子 溶 掖 1 2中 並 利 用 直 流 電 1 1 I 源 3 c 外 加 電 壓 0 1 1 如 此 一 來 f>型矽基板4即 發 揮 陰 極 之 功 能 因 此 在 線 { 其 表 面 析 出 金 屬 j 相 對 於 此 在 P型矽基板4及 N 型 擴 敗 層 1 1 m 域 6 兩 者 之 接 合 面 PN接 合 卻 因 直 流 電 源 3 c 之 作 用 呈 1 | d 反 向 偏 懕 狀 態 5 因 此 N型擴散層領域6 即 不 致 於 發 揮 1 I 陰 極 之 作 用 亦 不 致 於 在 表 面 析 出 金 屬 0 從 而 如 果 針 對 1 1 I 經 過 本 項 處 理 後 斷 面‘ 利 用 SEM 或 反 射 型 電 子 m 微 m ( 1 1 R E Μ 二 R e Ϊ 1 e C t ion -E 1 e c t Γ on Μ i c r 〇 S C 0 P y J .等 進 行 観 m t 1 1 則 由 於 W 與 金 屬 兩 者 之 對 比 (C ο η t Γ a s t) 之 差 別 現 象 存 在 t 而 可 進 行 N型擴散曆領域6之 -一 次 元 性 肜 狀 評 鑑 0 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 1 〇 3 8 8 3 ί> 407330 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 五、發明説明( 9 ) 1 I 另 外 t 矽 與 金 屬 兩 者 之對比 差 別 * 係 由 於 原 子 序 數 之 1 1 差 別 而 來 者 J 例 如 Μ 金 屬 為飼之 情 形 言 s 原 子 序 數 較 大 之 1 1 铜 可 清 晰 觀 察 到 C 另 外 ,利用 奥 格 m 子 分 光 譜 U g e r 1 el e c t: Γ on S P e C t. r OS C 0 p y )、X線 微 分 析 (m i c r 〇 an a I y s i i s ) 請 先 Μ 1 I 等 之 分 析 儀 针 對 砂 與 飼 ,進行 測 繪 { UI a p p i π g ) ♦ 亦 可 達 背 1 到 造 行 擴 散 層 Z 評 鑑 之 § 的、 之 注 意 1 1 I 上 就 在 P 型 &9 基板4 1人J 肜 成 有 N 型 摘 散 層 領 域 事 ίΐ 1 1 I 0Z試料有所說明 然而. 如第6圖 所 示 對 於 在 N 型 矽 基 寫 本 頁 '—^ 1 | 板 1 0 W 形 成 有 P 型 擴 散 層 領域1 1之 試 枓 * 亦 ϋ 接 上 直 流 電 1 1 源 2e , 設 成 可 P型擴散層領域1 1之電位成為低於Η型 矽 基 1 1 板 10及 金 屬 離 子 溶 液 1 2之 電位之 構 成 並 對 露 出 斷 面 之 試 1 | 料 促 使 其 發 生 金 m 析 出 反應, 即 可 進 行 P 擴 散 層 領 域 訂 1 1 1之 一 次 元 性 形 狀 評 鑑 0 1 1 1 旃 m 1 | 在 實 施 形 態 1屮 係令P型矽 基 板 4與混合腐蝕液2兩 者 1 1 線 1 成 為 同 電 位 狀 態 因 此 P型矽基板4即 可 因 m 酸 之 作 用 t 遭 受 4b 微 蝕 作 用 而 ,為實 現 Κ 更 良 好 再 U 性 1 進 行 1 1 擴 散 層 領 域 之 形 狀 評 鑑 e 的,則 仍 Μ 完 全 止 ? 型 矽 基 板 1 4遭受蝕刻反應為佳 1 I 第 7圖係提示本發明實_形態4之 半 導 體 裝 置 評 鑑 η 法 1 1 | 之 斷 面 _ 0 如 第 7圖所示 ,在設置於混合躲蝕液2中 之 白 金 1 1 电 極 1與P型 —基 板 4 _ #間,插人良流電源3 d 設 成 可 -令 1 1 白 金 电 極 1 Z電位 •亦即混合腐蝕液2 之 電 位 成 為 高 於 Ρ 型 1 1 矽 基 板 4之電( 1 :令p型 6夕 基板發 揮 陰 極 之 功 能 即 可 藉 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1 1 38835 407330 A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 B7五、發明説明(1G) 完全防止P型矽基板4因氟酸之作用,遒受到腐蝕。 於是,即使例如在P型矽基板4與Η型擴散層領域6兩者 之接合面之ΡΝ接合中,產生洩漏電流2情形下,仍可防止 直直流電流3 a令Ρ型矽基板4發揮陽極之功能,使得在Ρ型 矽基板4進行電場研磨反應之琨象出捤,而暁Μ精度更良 好&狀態,進行H型擴散層領域6之二次元性評鑑工作。 Κ上,就在Ρ型矽基板4内*肜成有Ν型擴散曆令域6之 .試料作了說明,然而,如第8 _所示,Μ在Ν型矽基板〗0内 -形成有Ρ型擴散層領域1 1之試料而言,對於連接上直流 電源3 e > 3 b,設成可令Ρ型擴散層领域]1及Η型矽基板1 0, 能相對於混合腐蝕劑2 ,各自成為低電位、高電位之構成 ,並露出斷面之試枓 > 促使其產生箪場研磨反應,即可藉 以進行精度更良奸,之Ρ型擴散層領域U之一次元性形狀 評鑑。 蜇施形態5 在實胞形態2屮,係設成令Ρ型_散層領域U與混合腐 蝕液2兩者成為同電位之構成者,因此,Ρ型擴散層領域 1 1乃可因氟酸作用,稍微遭受到Μ蝕,然而,為Μ再琨性 良好狀態,進行擴散層領域Ζ形狀評鑑工作^,仍Μ作到可 完全防止ρ型擴散層領域U受到澧到腐蝕為佳。 第9圖係提示本發明實胞形態ί> 2:半導體裝置其評鑑 //法之斷面_。如第9画所示,在設置於混合腐蝕液2屮之 白金電極1與P型擴散ϋ領域1 _1兩者間,插人直流電源3 e, 設成可令金電極之電位,亦即混合賴蝕液之電位成為 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 12 3 8 8 3 f) U 訂 I線 I ! (請先閱讀背面之注意事項v^-寫本頁) 407330 at B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明( 11 ) 1 1 高 於 P型擴散層領域] 1之電位2構成 以令P型 擴 散 層 領 域 1 1 1 7. 發 揮 陰 極 之 功 能 即 可 U K 完 全 防 止 P型擴散層領ΜΊ 1 1 1 因 氣 酸 -J 作 用 遭 受 到 腐 蝕 之 現 象 出 現 C 1 I 於 是 即 使 例 如 在 Η型矽基板1 0與P型 擴 敗 層 領 域 ]1 兩 請 先 閲 讀 背 1 1 I 者 間 接 合 m PN接 合 上 產 生 洩 Μ /"T 条 电 時 仍 可 完 全 防 止 1 1 電 3 1) 使 得 1) 型 擴 散 層 領 域 發 揮 m m Ζ 功 能 > 雄 而 Ψ 意 I 使 得 P 型 擴 散 層 領 域 1 1.遭受 到 電 場 研 磨 之 槻 象 而 能 K 精 事 1 1 度 鑑 更 良 好 狀 態 打 p 型 擴 散 層 領 域 11 ~^τ 二 次 元 性 形 狀 評 寫 本 頁 '·«^ 1 »_ I 1 窖皰形機ft 1 1 在 實 施 肜 態 ·;> 屮 係 設 成 令 ΝΜ擴散If領域6與 金 屬 離 1 | 子 洛 液 ]2兩 者 成 為 同 茧 位 —*7 構 成 者 , 因 此 得 Μ 在 N 型 檐 訂 I 散 層 領 域 6 表 HO 析 出 些 微 金 m m V. 而 為 將 Κ 再 珣 性 艮 1 1 I 好 狀 態 進 行 擴 散 層 領 域 其 肜 狀 評 鑑 工 作 仍 y. 完 全 防 止 1 1 1 > 在 N型擴散層領域6之 表 m 析 出 金 屬 之 Η 象 出 現 為 佳 〇 1 1 第 1 0圖 係 提 示 本 發 明 實 施 形 態 6 Z 半 m 體 裝 1 之 評 鑑 線 1 η 法 之 斷 面 閻 〇 如 第 1 〇 ti 所 示 在 設 置 於 金 臑 離 子 溶 液 1 2 1 1 中 之 白 金 電 極 1與N型 擴 散 層 領 域 者 間 > 插 人 直 流 電 源 1 I 3 t 設 成 可 令 N 型:擴 散 阛 領 域 6 之 電 位 成 為 卨 於 白 金 電 極 1 I 1 : I電位亦即金藤離子溶液] 2 2電位之構成 *進而令N型 擴 1 1 I 散 層 领 域 (3發揮陽極之功眭 即可藉Μ完全防止 在n型 擴 1 1 散 層 領 域 6表面析出金» 2現象ίϋ財 1 1 從 而 即 使 例 如 在 Ρ型基板4與 n型擴散瞜領域 者 之 1 1 接 fii 之 丨)Ν接 合 其 接 台 面 5 產 生 洩 涵 m U -7 情 m 下 - 仍 可 1 1 13 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 38B35 407330 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明( 12 ) 1 I 完 全 防 止 直 m Μ 源 3 C使 得 N型擴散層領域6發 陰 極 功 能 1 1 1 亦 使 得 在 N型擴散層領域6表 W 析 出 金 Μ 之 m 象 出 現 而 1 1 眭 Μ 精 度 更 良 好 狀 態 進 行 Η型擴散層領域6之 一 次 元 性 形 1 I 狀 評 鑑 工 作 C 請 tL 閱 讀 背 1 I 以 上 * 就 ♦ 在 Ρ型矽基板4闪 f 形 成 有 N 型 擴 散 層 領 域 1 1 6之試料 有所說明 然而 如第]]1S)所示 > Μ在Η型 矽 基 1 1 1 | 板 10 W 形 成 有 P 型 擴 敗 曆 领 域 11 Z 試 枓 rfn 言 對 If: 迆 接 事 1 1 I 上 直 m 电 源 3e - 3 g 設 成 Π] 今 P型_散_與域1 ]及N型 矽 基 寫 本 頁 1 t 1 板 10相 對 於 金 m m f 溶 1 2 各 白 成 為 低 /Wt* 电 位 高 電 位 之 1 1 構 成 · 並 m 出 if ft! - 試 料 令 其 產 生 金 析 出 反 應 時 即 1 1 可 藉 Μ 進 行 精 ft .¾ 艮 奸 之 Ρ 型- 擴 敗 層 領 域 1. I 其 二 次 元 性 1 1 形 狀 評 鑑 工 作 c 訂 I 如 上 所 述 本 發 明 令 m 散 阛 领 域 顯 m 化 係 Μ 採 取 1 1 | 利 用 電 化 學 反 應 之 手 段 因 此 即 使 擴 散 _ m 域 之 不 純 物 1 1 I m 度 為 低 m 度 仍 精 度 良 Η 之 狀 態 進 行 其 肜 狀 評 鑑 工 1 1 作 C 線 ! iL 明 果 1 «*!·>· m 用 本 發 明 中 專 利 m 園 第 1 m Z 半 m 體 裝 置 之 評 1 1 I 鑑 方 法 時 ffl 於 設 成 令 第 1 領 域 發 揮 陽 極 之 功 能 » 且 至 少 1 I 將 苇 1 域 顯 m 出 來 故 因 氟 m 之 作 用 而 出 Η 電 m 研 m 1 1 I η 象 0 —* 在 半 導 體 裝 置 :6 面 由 第 1谗域與第2領 域 構 1 1 成 之 P N接 合 則 呈 η 反 Μ 偏 m 狀 態 因 此 2 % 即 不 致 1 1 於 發 揮 陽 榇 之 功 能 亦 致 出 U 墁 m 反 應 C 因 此 觀 1 1 電 場 研 m 反 應 有 無 發 生 即 可 籍 Μ 就 第 1领域與第2领 域 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1 4 3 8 8 3 5 407330
A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 五、發明説明 ( 13 ) 兩 者 m 界 處 > 進 行 形 狀 評 鑑 工 作 c 一 而 且 利 用 今 其 電 位 差 上 昇 即 ή 進 行 低 濟 燴 擴 散 Μ 領 域 其 Afit m. Ϊ% 研 磨 而 nj 進 行 在 Μ 往 不 可 能 實 m *"*7 低 濃 度 之 擴 散 層 領 域 其 肜 狀 評 鑑 0 另 外 m 用 本 發 明 屮 申 專 利 範 圍 第 2 項 之 半 m 體 裝 置 2 評 鑑 方 法 時 ,'- 係 設 成 在 雙 .6 均 顯 m 出 來 - 第 1 領 域 及 第 2領域屮 僅有第1 領 域 發 揮 陽 極 Ζ 功 能 亦 進 行 η 場 研 磨 反 應 -y· 構 成 0 從 而 利 用 觀 箪 Μ 研 m 有 無 發 生 即 藉 以 就 第 1领域與第2 領 域 兩 者 境 '4 處 進 行 ' 次 元 性 之 形 狀 評 鑑 工 作 -¾ 外 應 用 本 發 明 屮 申 請 專 利 範 圍 第 ·? 項 之 半 導 體 裝 a 評 鑑 5 法 時 田 !j<; 僅 有 可 發 m 極 功 能 之 半 導 體 基 板 1 受 到 電 場 研 0 此 時 - 處 在 糖 散 層 領 域 it 下 η 之 半 體 基 板 , 則 預 先 胞 予 薄 m 化 處 埋 因 此 繼 進 行 电 場 研 m 直 擴 散 曆 領 域 完 全 露 出 來 為 止 〇 因 此 就 擴 散 層 領 域 完 全 露 出 後 構 造 觀 察 -y 即 能 藉 K m 行 擴 散 層 領 域 之 二 次 元 性 之 肜 狀 評 Cfsl· 鑑 X 作 0 另 外 > 6k·. 膨 用 本 發 明 甲 請 專 利 m 圍 第 4 Z 半 導 um W 裝 置 評 鑑 万 法 時 由 於 第 2 領 域 3: 電 位 lit, 於 混 合 液 之 位 t 故 ίΐμ 使 在 P N 接 合 之 接 台 面 生 洩 漏 甯 m 之 愴 形 Τ 第 2 領 域 亦 不 玫 5今 發 揮 陽 極 之 功 ·) μ 亦 能 完 全 防 止 第 ^»L^I vP 域 5§' 受 到 窜 m 6H m 反 m 出 Μ = 而 可 Μ 精 度 更 良 好 —7 狀 m * ϋ 行 半 導 體 裝 置 狀 評 鑑 工 作 用 本 發 明 Φ Φ 0% 專 利 IB 圍 第 b 境 2 半 m 體 裝 宣 J7 評 請 A* 閱 讀 背 之 .注 Λ 事 項 表紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210 X 297公釐) «父7 A 訂 線 407^30 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( ]4 ) 鑑 J5 法 時 在 半 導 體 裝 置 万 ffl 由 第 1領域與第 領 域 構 成 1' N 接 合 係 呈 Μ 反 Ν 偏 壓 狀 態 因 此 在 m Η 均 顯 % 出 來 之 第 ].及第2領 域 中 li 有 第 2 茚 域 發 揮 陽 m 功 能 在 表 面 析 出 金 屬 C 因 此 利 用 觀 祭 金 _ 析 出 反 m 有 無 出 射 即 可 m K 就 第 1領域與第2 η 域 m 者 之 堍 界 處 進 行 形 吠 評 鑑 工 作 C 外 m 用 本 發 明 串 請 專 利 m m 第 6 礙 半 導 體 裝 S -*7 評 鑑 方 法 時 : 甶 於 第 1 領 域 之 电 位 成 為 咼 於 金 m 離 子 洛 液 之 η 位 故 即 使 在 Ρ N 接 合 其 t# 合 άϊί 睡 生 洩 漏 笛 流 Z 情 形 下 第 1 領 域 亦 不 致 於 發 m 陰 極 Ζ 功 能 C 於 是 可 7V 全 止 在 Ar.*~ 弔 1 領 域 表 面 析 出 金 顧 Itn 眭 Κ ίή 度 .¾ 良 奸 之 状 m > 迮 行 半 導 體 裝 置 之 ft- 狀 評 鑑 工 作 C m m 單 明 第 1 圖 係 提 示 本 發 明 實 胞 形 態 1. 之 半 導 體 裝 置 Z 評 鑑 方 法 之 斷 面 ϋ 0 第 2 圖 係 提 示 本 發 明 實 U 形 態 1 之 半 m 體 裝 置 之 評 鑑 法 之 斷 面 m C 第 m 係 提 示 本 發 明 實 斑 m 態 2 之 半 m 體 裝 置 之 評 鑑 h 法 之 斷 m 画 C 第 4 111 係 提 示 本 發 明 實 形 態 V 之 半 導 體 裝 S 之 W 鑑 法 -y -* 一 面 _ ‘ 第 5 _ 係 提 示 本 發 明 實 8¾ 態 ·_» 之 半 m 體 裝 置 之 評 鑑 方 法 Z idu· 斷 m 幽 c· 第 6 圖 係 提 示 木 發 明 實 陁 m m Ζ 半 導 體 裝 置 之 鑑 請 閱 讀 背 之 注 意 事 項 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公嫠) 3 8 8 3 5
IT 線 ^07330 A7 B7 五、發明説明(u’) 方法之斷面圖c 第7 @係提示本發明簧触肜態4 Z半導體裝置;Z評鑑 圖 ffij :斷 之 万 0 實 明 發 本 示 提 係 圃 8 第 體 .等 半 之
鑑 評 之W 0 !囬 斷 之 法 -/7 形 實 明 發 本 示 提 :係 圖 -._ 9 第
鑑 評 Z 置 裝 體 半 Z 肜 胞 實 明 發 本 示 C 提 園係 面 _ 斷10 之 第 法 :6' 鑑, 評 之Μ 裝 體 半 Ζ
態 肜 實 明 發 本 示 C 提 圖係 .0 福 斷 1 Z第 法 /J 鑑 If 之Μ 裝 體 半 Ζ (請先閲讀背面之&意事項-^,寫本頁) _ 面 斷 之 法 .6- 明 說 Μ 號 符 極 電 金 ΖΠ
液 蝕 β 合 混 VJ 源 電 流 直 板 基 型 極 電 鋁 、-=β- 線 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 域 領 層 散 0 型 膜 緣 絕 間 層 板 基 0. 型 域 領 層 散 擴 型 11 1 域 領 化 薄
% 溶 子 m 屬 金 2 TJ 7 11 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210'〆297公釐)

Claims (1)

  1. 407330 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 有 備 Μ 即 浸 態 狀 , 與之 法域露 , 方領暴 及 鑑⑸域以' 0 jfc 領; - 型 卩 έΝ 1M 置 有第步 裝具 令 之 體 將 少 中 導)至 液 半(aM> 合 楨 ..混 一 置 Z 第 型 裝 體 導 半Ζ Μ 領 精 酒 與 酸 Μ 在 .被 合 之 位 I电 同 或 位 電 高 成 域 領 2 第 於 對 與 者 kv, 0 特 其 為0 步 之 位 電 I咼 為 成 域 領 1-第 使 比 相 第 圍 IB 利 專0 申 如 2 中 1/ 9 /1' 驟 步 述 前 在 第 圍 範 利 專 .0 Φ 如 ’ 第 Μ 。 述 係者前 * -Μ, 法特法 /7-其 方 鑑 為鑑 評 露評 之 _ 之 體域體 _ 領導 半e2半 - 第 - 之、 之 0;-項 (請先聞讀背面之注意事項-S填寫本頁) 板 機 體 導 半 乃 域 領 有0 M. 步 1 進 且 , 者 域,兩 領液 層 合 散 混 擴 與 為域 域領 領 層 2散 第擴 gc) 者 0 步 之 化 膜 體 導 半今 間 鑑 If 之 體 # 半Z 項 1 任 屮 項 3 :全 —_ 第 _ .ie 利 専 0 申 如 屮 者 徵 特 其 為 位 U 電 驟低 步為 述成 前 1被 在 合 , 混 Μ 述 係 4刖 ’ 於 法對 相 Μ r 第 述 前令 亦 法與 方 域 鑑領 評 之 置 裝 令 體將 導 ) 半 ΓΗ 第 型 之 露 暴 均 者 : 兩 有 域 備領 -Ν1 具 即 第 型 經濟部中央標準局員工消贵合作社印製 前 步 Ζ 之 及位位 Μ 電 電 --II - .,冏 低 步位成 N¾域 屮低领 、液 成 2 溶域第 子 領 該 ,. >r IB f 肖 lf 藤第 , 金述比 在 前 相 潰於:被 浸 對溶 置 與子 裝 > 0 體(b屬 導 金 半 述 Μ係 法 鑑Ζ 體 導 半 之 項 5 第 〇ii 者IL 徵-利 特専 其請 為申 m 如 第今 中 0子 0 0金述 前於 對 相 域 〇 領 # —徵 特 其 為 位 U 電 驟 高 步為 述成 前 ’ 在 液 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 3 8 8 3 5
TW086104639A 1997-01-07 1997-04-11 Method for evaluating semiconductor device TW407330B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9000563A JPH10199946A (ja) 1997-01-07 1997-01-07 半導体装置の評価方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW407330B true TW407330B (en) 2000-10-01

Family

ID=11477198

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW086104639A TW407330B (en) 1997-01-07 1997-04-11 Method for evaluating semiconductor device

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6027949A (zh)
JP (1) JPH10199946A (zh)
KR (1) KR100269440B1 (zh)
CN (1) CN1114940C (zh)
DE (1) DE19722164A1 (zh)
TW (1) TW407330B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8111081B2 (en) * 2007-01-05 2012-02-07 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. Method for evaluating silicon wafer
CN114743893B (zh) * 2022-06-13 2022-09-16 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司 导电插塞的深度的监控方法、检测结构

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2656496A (en) * 1951-07-31 1953-10-20 Bell Telephone Labor Inc Semiconductor translating device
US3379625A (en) * 1964-03-30 1968-04-23 Gen Electric Semiconductor testing
US3660250A (en) * 1967-12-22 1972-05-02 Ibm Method of determining impurity profile of a semiconductor body
US3846259A (en) * 1973-10-18 1974-11-05 Ibm Semiconductor fabrication method for accommodating redundancy
JPS6130038A (ja) * 1984-07-23 1986-02-12 Nec Corp エツチングの方法
EP0253420A1 (de) * 1986-06-23 1988-01-20 Stiftung Hasler Werke Anordnung und Verfahren zum elektrochemischen Aetzen von Silizium
JPS63205908A (ja) * 1987-02-23 1988-08-25 Toshiba Corp 半導体基板のメツキ法
DE69330980T2 (de) * 1992-04-22 2002-07-11 Denso Corp Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung
US5338416A (en) * 1993-02-05 1994-08-16 Massachusetts Institute Of Technology Electrochemical etching process
US5360521A (en) * 1993-11-12 1994-11-01 Honeywell Inc. Method for etching silicon
US5464509A (en) * 1994-05-20 1995-11-07 Massachusetts Institute Of Technology P-N junction etch-stop technique for electrochemical etching of semiconductors
JPH08250564A (ja) * 1995-03-15 1996-09-27 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置の拡散層を観察する方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN1187690A (zh) 1998-07-15
US6027949A (en) 2000-02-22
JPH10199946A (ja) 1998-07-31
DE19722164A1 (de) 1998-07-16
KR100269440B1 (ko) 2000-12-01
KR19980069751A (ko) 1998-10-26
CN1114940C (zh) 2003-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Ashruf et al. Galvanic porous silicon formation without external contacts
Allongue et al. Etching of silicon in NaOH solutions: II. Electrochemical studies of n‐Si (111) and (100) and mechanism of the dissolution
Glembocki et al. Bias‐dependent etching of silicon in aqueous KOH
Kunitake et al. Self-organized porphyrin array on iodine-modified Au (111) in electrolyte solutions: in situ scanning tunneling microscopy study
O’Dwyer et al. Anodic formation and characterization of nanoporous InP in aqueous KOH electrolytes
Chason et al. Understanding residual stress in electrodeposited Cu thin films
Solomon et al. Scanning electrochemical microscopy. 30. Application of glass micropipet tips and electron transfer at the interface between two immiscible electrolyte solutions for SECM imaging
WO2012053431A1 (ja) 燃料電池用セパレータおよびその製造方法
TW407330B (en) Method for evaluating semiconductor device
TWI712208B (zh) 能量轉換裝置及形成其的方法
Chen et al. The band model and the etching mechanism of silicon in aqueous KOH
Bischoff et al. Frontside micromachining using purous-silicon sacrificial-layer technologies
Roberts et al. Synthesis and electroplating of high resolution insulated carbon nanotube scanning probes for imaging in liquid solutions
Lee et al. A study on field-emission array pressure sensors
Lin et al. Effect of ethanol on the photoelectrochemical fabrication of macroporous n-Si (100) in HF solution
Morisawa et al. Electrochemical metal deposition on atomically nearly-flat silicon surfaces accompanied by nano-hole formation
Eriksson et al. In-situ STM imaging of n-GaAs during anodic photocorrosion
Gassilloud et al. Selective etching of n-InP (1 0 0) triggered at surface dislocations induced by nanoscratching
Chen et al. Selective etching of silicon in aqueous ammonia solution
Gabrielli et al. Scanning electrochemical microscopy for investigating gas bubble/liquid interfaces
Steer et al. Formation of As2O3 during anodic dissolution of GaAs
Garaud et al. Galvanic corrosion of stacked metal gate electrodes during cleaning in HF solutions
Cheng et al. Microcontamination of silicon wafer surfaces by copper and silver
KR100611475B1 (ko) 전해식각 방법을 이용한 주사전자현미경 관찰용 시료 처리 방법 및 분리 패턴의 불량 분석 방법
Wang et al. In Situ Electrochemical ATR-FTIR Spectroscopic Investigation of Hydrogen-Terminated Si (111) Surface in Diluted NH 4 F Solution

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees