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Description

3201twf·doc/006 A7 B7 五、發明説明（f ) 本發明是有關於一種步進機（Stepper)生產％胃 (Mask)，且特別是有關於一種在NIKON步進機與ASML步 進機中均適用的光罩。 凡是與金氧半導體（MOS)元件的結構相關的，如：名__ 薄膜的圖案（Pattern)及摻質（Dopants)的區域，都是由微 影步驟來決定。因此，我們通常以一個製程所需要經過的 微影次數，或是所需要的光罩數量，來表示這個製程的難 易程度。此外’整個半導體工業的元件積集度 (In t eg r a t i on) ’是否能往更小的線寬進行，也端賴於爲 穎製程的發展是否順利而定。 微影製程的技術雖然很複雜，其基本原理卻很簡單。 首先在晶片上面覆上一層光阻，在曝光（Exposure)的步驟 中，入射光透過光罩進行選擇性的感光，便會將光罩上的 圖案轉移到光阻上面。 ^".^中^^鋒^^^^^^^名作^"·^ mnn ml n HHT mV ! ·" / n —Bf — -" -.. (#先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 進行曝光所需要的工具除了光源以外，還有用來提供 線路圖案以便執行圖案轉移的光罩。光罩的主體是由平坦 且透明的玻璃所構成，半導體元件各層的圖案，則是以在 玻璃的表面覆上一層厚度約數百個A的鉻膜來代表，甚至 於在鉻膜的表面上再加上一層厚度約200A的二氧化鉻 膜，用來防止金屬鉻膜在曝光時的反射。 傳統上，執行光阻曝光的技術主要包括接觸式 (Contact)、近接式（Proximity)及投影式（Projection)等 三種。以投影式的曝光技術而言，它與接觸式和近接式最 大的差別，在於光罩並沒有直接與晶片接觸或接近，而是 3 本纸張尺度適州中國國家標準（CNS ) A4規格（2丨0X297公釐） 320Xtwf.d〇c/006 A7 B7 經漪部中央樣11·^ρ;ί-τ消货合作扣印^ 五、發明説明（爻） 以類似投影機將投影片上的文字或圖形，投射到牆上的這 種方式來進行光罩圖案的轉移。此種曝光法的優點是不會 損害光罩上的圖案，而且圖案轉移的解析度極佳，執行此 種曝光法的曝光機便稱爲步進機。 有許多廠商均有生產步進機，對於不同廠牌的步進機， 其所使用的光罩規格與設計也不同。請參照第1圖，第1 圖繪示爲NIKON步進機所使用的光罩配置圖。 目前NIKON六英吋的光罩配置圖至少包括：線網玻璃 (Reticle Glass)100，在線網玻璃100的表面上覆蓋一層 鉻膜（Chrome) 102，鉻膜用以代表半導體元件各層的圖案。 在鉻膜102的周圍，分別包含了一個光罩對準記號 (Alignment Mark)，各爲第一對準標記104、第二對準標 記1〇6與第三對準標記108 ;而在第一對準標記104的上 下方均有辨識用的條碼112(Bar Code)。其中’有效使 用面積114的長寬大小爲126 X 110腿。 另外，有一層薄膜表層（Pellicle Frame)110，覆蓋在 有效使用面積114的表面上，用以避免光罩表面因長久的 使用而沾上微粒，進而影響後續轉移圖案的品質。 另外，請參照第2圖，第2圖爲ASML步進機所使用的 光罩配置圖。目前ASML六英吋的光罩配置圖至少包括： 線網玻璃200，在線網玻璃200的表面上覆蓋一層鉻膜 202，鉻膜用以代表半導體元件各層的圖案。此外’線網 玻璃200上，分別包含了光罩預對準記號 204(Preal ignment Mark)與光罩對準記號206。一邊的光 (锖先閱讀背面之注意事項存填寫本頁) 装------丁 *vs 本紙張尺度適州中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 1 32〇itwf. doc/006 A7 B7 經濟部中央i·?:準而只-T消资合竹社印？水 五、發明説明（> ) 罩對準記號206上方有辨識用的條碼208，而在另一邊的 光罩對準記號206上下方有人工可辨識的條碼210。其中， 有效使用面積214的長寬大小爲137X110 mm。 另外，有一層薄膜表層212，覆蓋在有效使用面積214 的表面上，用以避免光罩表面因長久的使用而沾上微粒， 進而影響後續轉移圖案的品質。 對有NIKON與ASML步進機的半導體廠而言，常因產能 與排貨的考量，會要求一個半導體製程能夠不限制機台種 類，藉以達成生產更加順暢的需求；但對於兩種步進機， 所使用的光罩並不相同，因此必須製作兩套光罩，一套用 於NIKON步進機，一套用於ASML的機台上。如此一來， 光罩的製作成本會因需求而提高，而光罩的管理也因此變 的更加複雜。 最理想的設計便是僅使用一套光罩，可適用兩種機台； 但是目前適用於NIKON的光罩如果要拿到ASML的機台上 使用，則會因爲規格不符，而有硬體毀損、曝光面積匹配 與光罩對準等問題產生；相反的，若將ASML的光罩拿到 NIKON機台上使用，也會發生同樣的問題。 有鑑於此，本發明的主要目的就是在提供一種相容性 光罩，可以同時適用於NIKON步進機與ASML步進機，藉 以節省光罩的製作成本，並簡化光罩的管理；且使製程進 行不會因步進機機台的緣故而影響到產能。 根據本發明的上述及其他目的，提出一種相容性光罩， 在線網玻璃上，包括預對準標記、第一對準標記，作爲在 5 本紙張尺庶適扣中國國家標準（CNS ) A4規格（2丨0X297公釐） nn In— s^l^i talv n^ii ^in·· · .^^——t n I-. ',_J (讀先閲讀背面之注意事項再镇寫本頁} 、π ..¾ 經Μ部中夾樣4,-^只工消价合作^印繁 3201twf.doc/006 A7 — B7_ 五、發明説明（> ) .~~ ASML步進機的光罩對準標記；第二對準檩記，作爲在NIK〇N 步進機的光罩對準標記；第一條碼’爲ASML步進機的辨 識條碼；以及第二條碼，爲NIKON步進機的辨識條碼。另 外有〜層絡膜覆蓋在線網玻璃上’一薄膜表層覆蓋在鉻膜 上，用以防止光罩表面沾上微粒。 爲讓本發明之上述目的、特徵、和優點能更明顯易懂， 下文特舉一較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如 下： 圖式之簡單說明： 第1圖繪示爲NIKON步進機所使用的光罩配置圖； 第2圖繪示爲ASML步進機所使用的光罩配置圖； 第3圖繪示依照本發明一較佳實施例之相容性光罩配 置簡略圖；以及 第4圖繪示依照本發明一較佳實施例之相容性光罩配 置結構圖。 圖示標記說明： 100.200.300 線網玻璃 102.202.302 鉻膜 104.106.108.206.306.308 對準標記 110.212 薄膜表層 112.208.310.312 條碼 114.214.316 有效使用面積 204.304 預對準標記 210 人工辨識條碼 6 本紙張尺度適州t國國家標準（CNS ) A4規格（]1〇Χ297^^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
320Xtwf . doc/006 A7 B7 五、發明説明（s) 314 線網玻璃之中心點 實施例 請參照第3圖，其繪示爲本發明一較佳實施例之相容 性光罩配置簡略圖。首先提供線網玻璃300，在線網玻璃 300的表面上覆蓋一層鉻層302。其中，線網玻璃300沒 有被鉻膜302覆蓋的部分，在上方角落的兩側分別有一個 預對準標記304，此爲ASML步進機的預對準標記。 另外，在線網玻璃300中間部分的兩側，分別有一個 第一對準標記306與第二對準標記308，第一對準標記306 係應用在ASML步進機，第二對準標記308則用於NIKON 步進機上。其中因爲ASML與NIKON步進機的對準標記之 位置有部分互相重疊，本實施例中將習知用於NIKON步進 機的對準標記的尺寸減掉約500μιη，以此作爲第二對準標 記308的尺寸，而削減的部分係與第一對準標記306相鄰。 此外，在線網玻璃300的一側有第一條碼310,其爲ASML 步進機之辨識條碼，在另一側第一對準標記306的上下方 均有一個第二條碼312，用以作爲NIKON步進機的辨識條 碼。而線網玻璃300的中心點標示爲314。 請同時參照第3圖與第4圖，其繪示爲第3圖中所示 的相容性光罩配置結構圖。在線網玻璃上各結構的相關位 置舉例如下所示： 預對準標記304之間的垂直距離爲67.75mm ; 線網玻璃300邊緣與其中心點314的垂直距離爲 76mm ； 7 .i i.¾ (讀先聞讀背面之注意事項再填寫本I ) -s 本紙張尺度適扣中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 經淤部中央榀準^U-T消阶合作私印褽
37S2SG 3201twf.doc/006 A7 B7 五、發明説明（厶） 第一對準標記306與其中心點314的垂直距離爲 69.5mm ;以及 第二條碼312與其中心點314的垂直距離爲65丽。 另外，覆蓋於鉻膜302上，用以防止光罩表面沾上微 粒的薄膜表層，其中心點位置與線網玻璃的中心點314 — 致，而其尺寸也爲習知ASML與NIKON光罩上薄膜表層之 交集。 本發明提出之相容性光罩，必須同時適用於ASML與 NIKON兩種步進機的機台，故光罩上結構之相關位置大致 上必須是習知的ASML光罩與NIKON光罩的交集。所以有 效使用面積316大小以NIKON與ASML之尺寸交集爲標準； 薄膜表層的中心點與線網玻璃的中心點相同；而原本在 ASML上人工可辨識的條碼，由於其所在位置與NIKON光罩 上的條碼位置相近，故將之省略，以避免NIKON條碼機識 別錯誤。 _ 由於本發明提出之相容性光罩同時具有ASML與NIKON 之光罩的特性，可適用於兩種步進機，因此適合不限機台 種類的半導體製程，無須因爲機台種類不同而更換光罩。 因此，在整個半導體製程上僅需要一套光罩，藉此可降低 製作成本，並減少光罩的數量，使光罩的管理較爲簡單。 雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上，然其並非用 以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精 神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保 護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者爲準。 8 (諳先聞讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T i:ΓΛ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2丨0X297公釐）

Claims (1)

  1. 公 S78280 3201fcwf.doc/006 ns 來f 只8 j J_^_ 申請專利範圍 1 · 一種相容性光罩，適用於一 ASML步進機與一 NIKON 步進機，該相容性光罩至少包括： 一線網玻璃，在其中心位置具有一中心點； 一鉻膜，覆蓋於該線網玻璃上； _ 一預對準標記./，用以作爲該八31^步進機之預對準標 記； ^ 第一對準標記，用以作爲該ASML步進機之對準標 記 請 先 閲- 讀 背 之 -vi_ 意 事 項 一第二對準標記，用以作爲該NIKON步進機之對準標 i 裝 記 一第一條碼，用以作爲該ASML步進機之辨_條碼；以 及 一第二條碼，用以作爲該NIKON步進機之辨麗條碼。 2. 如申請專利範圍第1項所述之相容性光罩，其中該 預對準標記與該中心點之垂直距離爲67.75mm。， 3. 如申請專利範圍第1項所述之相容性光罩，其中該 線網玻璃與該中心點之垂直距離爲76mm。 4. 如申請專利範圍第1項所述之相容性光罩，其中該 第一對準標記與該中心點之垂直距離爲69.5mm。 5. 如申請專利範圍第1項所述之相容性光罩，其中該 第二條碼與該中心點之垂直距離爲65mrn。 6. 如申請專利範圍第1項所述之相容性光罩，其中該 第二對準標記之尺寸較習知NIKON之對準標記尺寸縮減約 500μιη。 訂 *線 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） 37S2S0 3201twf.doc/006 A 8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 7.如申請專利範圍第 5項所述之相容性光罩，其中該 第二對準標記縮減之部分# 吳該第一對準標記相鄰。 } 10 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Μ規格（210X297公釐）
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