TW311185B - - Google Patents

Description

185 185 經濟部中央標準局—工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明（） 發明之技術範園 本發明係關射束曝光系統’例如電子束曝光系統’ 尤有關於其中蝕刻罩之改進。 發明之背畺 在一'習知技術之電子束曝光系統中，爲了提局生產量， 一電子束被投射在一具有圖樣之蝕刻罩單元上，穿過蝕刻 罩單元之電子束投射在一標的物上。 蝕刻罩單元之第一種型式係藉由一蝕刻罩、一用於支 持在一孔中之蝕刻罩之支持件及一用於固定該支持件之 固定板所形成。在後面將會對此詳述。 在第二種型式之蝕刻罩單元中，複數之蝕刻罩固定在 連接至一固定板之支持件的孔中。蝕刻罩之數目可大於第 一種型式之蝕刻罩單元(請見：JP-A-63-175423)。此亦會 在後文中詳述。 此外，在一蝕刻罩之孔中設置每一個皆小於一解析度 極限値之精細網孔以消除近接效應亦屬已知者(請見： JP-A-4-137520)。 然而，在前述之習知技術的電子束曝光系統中，由於 在一蝕刻罩單元中所設置之圖樣數目很少，故可以描示之 圖樣係有限的。當描示所有可能之圖樣時，蝕刻罩即支持 件需要以另一個支持件來取代，因此降低系統之運作效 率。此外，可在蝕刻罩之孔中設置每一個皆小於一解析度 極限値之精細金屬網孔以消除近接效應。然而，在此情況 下，由於蝕刻罩在機械性劣化，很難形成如此之網孔。因 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） --：---^-----^ I I- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -線1 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 311185 A7 ___B7____ 五、發明説明（） 此，另一個具有此等網孔之蝕刻罩必需安裝在此系統上， 故會增加系統之製造成本。 發明之綜合說明 本發明之一目的在於提供一用於射束曝光系統(例 如，電子束曝光系統)之改良式蝕刻罩設備(單元），其可增 加運作效率並降低製造成本。 依照本發明，在一射束曝光系統中，一射束投射在一 蝕刻罩單元上，且穿過蝕刻罩單元之射束偏向並投射至一 標的物。蝕刻罩單元包含一多邊形中空之支持件及複數蝕 刻罩。支持件係由蝕刻罩固定板及框架所形成，每一蝕刻 罩固定板具有用於固定蝕刻罩之孔且每一框架具有一讓 射束穿過之孔。 此外，在每一框架之孔中設置用於消除近接效應之精 細金屬網孔。 圖式之簡單說明 藉由閱讀下面與習知技術相比較並配合圖式之說明 可更加了解本發明： 圖1係一例示習知技術之電子束曝光系統之示意圖； 圖2係圖1之蝕亥[)罩單元之透視圖； 圖3係圖1之蝕刻罩單元之另一種型式之俯視圖； 圖4係例示依照本發明之電子束曝光系統之一實施例； 圖5係圖4之蝕刻罩單元之透視圖； 圖6係圖5之蝕刻罩單元之一改良例之透視圖； 齩佳眚施例之詳細描述 ---^---^-----號-------訂------線 1' {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 經濟部中央標準局負工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明（） 在說明較佳實施例之前，先配合圖1、2及3說明習 知技術之電子束曝光系統。 圖1例示一第一電子束曝光系統，參考標記1表示用 於放射一電子束2之電子槍。電子束2穿過一蝕刻罩單元 3之長方形孔3a，且更穿過一透鏡4A、由靜電板所組成 之偏向單元5X與5Y及一透鏡4B，而到達一蝕刻罩單元 6 〇 如圖2所示，蝕刻罩單元6係由一蝕刻罩61、一用 於支持在一孔62a中之蝕刻罩61之支持件62及一用於固 定支持件62之固定板63所構成。 回到圖1，電子束2穿過蝕刻罩單元6、一縮小透鏡 7、由靜電板所組成之偏向單元8X與8Y及一稱爲投射 透鏡之縮小透鏡9而投射至一標的物10上。 偏向單元8X及8Y被控制以重複一瞄準(偏向運作）。 因此，可能之圖樣被描示至標的物10上。 在圖1及圖2之習知技術的電子束曝光系統中，由於 在蝕刻罩單元6中只設置一種圖樣，故可能之描示圖樣之 數目係有限的。當描示所有可能之圖樣時，蝕刻罩61即 支持件62必需更換另一支持件，因此降低系統之運作效 率。此外，可在一蝕刻罩61之孔中設置每一個皆小於一 解析度極限値之精細金屬網孔以消除近接效應。然而，在 此情況下，由於蝕刻罩61之機械性劣化，很難形成如此 之網孔。因此，另一個具有此等網孔之蝕刻罩必需安裝在 此系統上’故會增加系統之製造成本。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（2丨0 X 297公釐） ---^---^-----^ -I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、νβ 線 311185 A7 _____B7________ 五、發明説明（） 在圖3中例示另一習知技術之蝕刻罩單元6’、複數之 蝕刻罩61’被安裝在連接至一固定板63’之支持件62’的孔 中。蝕刻罩之數目可大於圖1及圖2所示之系統中者。 即使在圖3之蝕刻罩6’中，由於在蝕刻罩單元6中所 設置之圖樣數目係有限的，故可能之描示圖樣之數目亦是 有限的。因此，當描示所有可能之圖樣後，蝕刻罩61’即 支持件62’必需更換另一支持件，因此降低系統之運作效 率。此外，由於蝕刻罩61’之機械性劣化，故很難形成如 此之網孔。因此，另一個具有此等網孔之鈾刻罩必需安裝 在此系統上，故會增加系統之製造成本。 在圖4中例示本發明之一實施例，取代圖1之蝕刻罩 單元6者，係設置一蝕刻罩單元11、一用於沿著水平方 向移動蝕刻罩單元11之驅動單元12及一用於旋轉蝕刻罩 單元11之驅動單元13。 在圖5中詳細地顯示圖4之鈾刻罩單元11。 蝕刻罩單元11包含一多邊形中空之支持件111，在 此例子中係一六邊形。支持件111係藉由複數之蝕刻罩固 定板112而形成，每一蝕刻罩固定板112具有用於支持蝕 刻罩113之複數孔112a。此外，支持件111係藉由複數 框架1Η形成，每一框架114具有一用於讓電子束穿過之 孔114a。並且，固定板112中之一者係與其中一個框架 114面對。 在圖5中，參考標記115表示蝕刻罩113之對正標記。 蝕刻罩單元11可藉由圖4之驅動單元12而沿著方向 5 ^ ^ 進 · 訂 --線 - 1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 製 經濟部中央棣準局貝工消費合作衽印製 A7 B7 五、發明説明（） D移動。此外，蝕刻罩單元11可藉由圖4之驅動單元13 而沿著方向R轉動。 圖4及圖5之運作如後所述。 首先，同樣型式或不同型式之蝕刻罩113被預先安裝 在蝕刻罩固定板112之孔112a中。 接著，蝕刻罩單元11被安置在圖4之系統中’且蝕 刻罩單元11之對正係藉由驅動單元12及13參考對正標 記115而實施。 最後，電子束從電子槍1放射，經由蝕亥！1罩單元3而 到達蝕刻罩單元11。接著，電子束又穿過其中一個餓刻 罩113其中一個孔114a以到達標的物10。 在圖ό中例示圖5之蝕刻罩單元11之一種改良，在 —框架114之孔114a中設置每一個皆小於一解析度極限 値之精細金屬網孔116以消除近接效應。 因此，在使用圖6之蝕刻罩單元11之圖4的電子束 曝光系統中，由於儲存於抗蝕劑內不同之能量分布，而可 以消除在圖樣間之近接效應。即，由於電子束之前散射及 後散射，通常電子束之能量係儲存於抗蝕劑內。亦即，網 孔116被調整以使分配在標的物1〇之抗蝕劑中之能量均 等化。 在圖4、5及6之電子束曝光系統中，雖然只設置一 個蝕刻罩單元11，但複數之此等蝕刻罩單元11可以一旋 轉體之形式設置。 此外，本發明可應用於其他電荷束曝光系統、一光束 6 本紙張尺度適用中國國家榡準（CNS ) A4規格（2歐297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-β 線< 311185 A7 B7 五、發明説明（） 曝光系統或一 X-光束曝光系統。 如前所述，依照本發明，由於一大數目之圖樣可被供 應至一蝕刻罩單元中，故蝕刻罩之更換運作之次數可被降 低，因此提高系統之運作效率。此外，由於在蝕刻罩單元 中設置用於消除近接效應之精細網孔，用於此精細網孔之 特別的蝕刻罩變得不需要，因此降低系統之製造成本。 在以上詳細說明中所提出之具體的實施態樣或實施 例僅爲了易於說明本發明之技術內容，本發明並非狹義地 限制於該實施例，在不超出本發明之精神及以下之申請專 利範圍之情況，可作種種變化實施。 1 ! 避 一-,卩 各減 -_ - 5 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央樣準局員工消費合作社印製 7 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）

Claims (1)

1. 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 311185 六、申請專利範圍 1、 一種用於一電子束曝光系統之蝕刻罩設備，包含： 一多邊形中空之支持件(111)，包含複數之蝕刻罩固定 板(112)及複數框架(114)、在每一該蝕刻罩固定板中形成之 複數第一孔(112a)、在每一該框架中形成之一孔(114a);及 複數之蝕刻罩(113)，安裝在該第一孔中。 2、 如申請專利範圍第1項之蝕刻罩設備，其中該餓 刻罩固定板中之一個與該框架中之一個面對著。 3、 如申請專利範圍第1項之蝕刻罩設備，其中尙包 含精細金屬網孔(116)，各金屬網孔(116)皆設於其中一個該 框架之該第二孔中，以消除近接效應。 4、 如申請專利範圍第1項之蝕刻罩設備，其中尙包 含： 第一驅動裝置(12)，用於沿著該支持件之一軸移動該支 持件；及 第二驅動裝置(13)，用於沿著該支持件之一軸轉動該支 持件。 5、 如申請專利範圍第1項之鈾刻罩設備，其中在該 支持件上標示有對正標記(115)。 6、 一種射束曝光系統，包含： 射束放射裝置(1)，用於放射一射束(2); 蝕刻罩裝置(11); 第一偏向裝置(3, 5X，5Y)，配置在該射束放射裝置及該 第一蝕刻罩裝置間，用於放射該射束至該第一飩刻罩裝置 上；及 8 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） --:-II----<------tr------ί (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 ___ D8 _ 六、申請專利範圍 第二偏向裝置(8X，8Y)，用於使該穿過該蝕刻罩裝置之 射束偏向以使該射束投射至一標的物(10)， 該蝕刻罩裝置包含： 一多邊中空之支持件(111)，包含複數之蝕刻罩固定板 (112)及複數框架(114)，在每一該蝕刻罩固定板中形成之複 數之第一?L(112a)、與在每一該框架中形成之孔(114a);及 複數之蝕刻罩(113a)，安裝在該第一孔中。 7、 如申請專利範圍第6項之系統，其中該蝕刻罩固 定板中之一個與該框架中之一個面對著。 8、 如申請專利範圍第6項之系統，其中尙包含精細 金屬網孔(116)，每一皆固定於其中一個該框架之該第二孔 中，以消除近接效應。 9、 如申請專利範圍第6項之系統，其中尙包含： 第一驅動裝置(12)，用於沿著該支持件之一軸移動該支 持件；及 第二驅動裝置(13)，用於沿著該支持件之一軸轉動該支 持件。 10、 如申請專利範圍第6項之系統，其中該支持件上 標示有對正標記(115)〇 11、 如申請專利範圍第6項之系統，其中該射束係一 電荷束、一光束及一 X-光束中之一者。 9 —：---：-----Μ------ΐτ------ί -a • - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）