TW202424642A - 用於清潔製程的設備 - Google Patents

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TW202424642A
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TW
Taiwan
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layer
photocurable resin
cleaning process
resin layer
substrate
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TW112141856A
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English (en)
Inventor
金彩姈
Original Assignee
南韓商三星電子股份有限公司
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Application filed by 南韓商三星電子股份有限公司 filed Critical 南韓商三星電子股份有限公司
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提供一種用於清潔製程的設備。在用於清潔製程的方法中，可將在上面形成有層的基板裝載於基板台上。可將光硬化樹脂旋轉塗佈於所述層上以形成光硬化樹脂層。可將光照射至光硬化樹脂層上來對光硬化樹脂層進行硬化，以形成含有自所述層的表面吸附的顆粒的聚合物層。可移除含有顆粒的聚合物層。
TW112141856A 2022-12-08 2023-10-31 用於清潔製程的設備 TW202424642A (zh)

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KR10-2022-0170478 2022-12-08

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