TW202407995A - 發光顯示設備 - Google Patents
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Abstract
所討論的是發光顯示設備,其能包含:包含主動區域以及相鄰於主動區域的非主動區域的基板、設置於主動區域中以及非主動區域的第一部分中的平坦化層、設置於平坦化層上的發光二極體層以及第一圖案、設置於發光二極體層以及第一圖案上的保護層以及設置於相鄰於非主動區域的第一部分的第二部分中的第二圖案。
Description
本發明係關於一種發光顯示設備,特別是一種控制設置於發光二極體層上的保護層的流動之發光顯示設備,其會提升設置於發光顯示設備的外周邊區域中的觸控線路的靈敏度。
能夠顯示各種資訊並且與觀看此類資訊的使用者互動的顯示設備須具有各種尺寸、各種形狀以及各種功能。
顯示設備的示例包含液晶顯示裝置(LCD)、電泳顯示裝置(FPD)以及發光顯示設備。
發光顯示設備是自發光顯示裝置,且與液晶顯示裝置(LCD)不同的是,自發光顯示裝置不需要獨立光源。因此,發光顯示設備能被製造成重量輕且厚度小。
再者,因為發光顯示設備是於低電壓被驅動,所以它除了在功耗方面,還在色彩實施、反應速度、觀看視角以及對比率(CR)方面具有優勢,致使其正被作為次世代顯示器進行研究。
當發光顯示設備為有機發光顯示設備時,發光二極體層能為包含陽極、發光層以及陰極的有機發光二極體層。此外,作為發光二極體層,能進一步使用包含量子點(QD)的量子點發光二極體(QLED)。以下,即使將在發光顯示設備為有機發光顯示設備的假設下進行說明,但發光二極體層的類型並不以此為限。
有機發光顯示設備會藉由從包含具有發光層的發光二極體層之多個像素發出光,來將資訊顯示於螢幕上。
有機發光顯示設備能依據驅動像素的方法而被分類成主動矩陣型有機發光二極體顯示器(AMOLED)或被動矩陣型有機發光二極體顯示器(PMOLED)。
主動矩陣型有機發光二極體顯示器(AMOLED)會使用薄膜電晶體(TFT)來控制在有機發光二極體中流動的電流以顯示影像。
主動矩陣型有機發光二極體顯示器包含例如切換薄膜電晶體、連接於切換TFT的驅動TFT的各種薄膜電晶體以及連接於驅動TFT的有機發光二極體(OLED)。
閘極電極、源極電極、汲極電極以及半導體層構成具有各種用途的各種TFT。於此,會設置連接於其的大量電極線路並且平坦化層會被提供於薄膜電晶體上。
發光二極體層能設置於平坦化層上。發光二極體層能包含作為像素電極的陽極電極(陽極)、發光層以及陰極電極(陰極)。
有機發光顯示設備會為發光層使用有機材料。在透過兩個電極(如陽極電極以及陰極電極)將電子以及電洞注入由有機材料構成的發光層中以使電子以及電洞於發光層上交會(met)而重組(recombined)的流程期間,發光層會形成激子並且會因為來自激子的能量而發光。
電子以及電洞是透過作為像素電極的陽極電極以及作為共用電極的陰極電極而注入。為了更順利地注入電子以及電洞,有機層能包含電洞注入層、電洞傳輸層、電子傳輸層以及電子注入層並且能具有上述層體的多層結構。
然而,有機發光顯示設備能具有的一些缺陷在於可能會有一些因內部因素產生的劣化以及因外部因素產生的劣化,內部因素產生的劣化例如因為氧氣而產生的電極以及發光層的劣化或由發光層與界面之間的反應而產生的劣化,外部因素產生的劣化例如來自外部的水氣、氧氣以及紫外線而產生的劣化。因此,有機發光顯示設備的包裝以及封裝是重要的。
對此,包含至少一無機層以及至少一有機層的保護層能被形成以保護發光二極體層。
構成保護層的有機材料是由聚合物材料構成並藉由在以液態被施加於基板上之後的固化製程所形成。有機材料於固化製程之前會具有流動性,而能產生構成有機材料的液態聚合物於基板的外周緣中侵入形成驅動電路的區域中以造成驅動失敗或瑕疵的缺陷。
為了提供使用發光顯示設備的使用者更多樣有用的功能,已發展出觸控顯示設備,其藉由避免例如按鈕、鍵盤或滑鼠等常見輸入方法而提供基於觸控的輸入方法以允許使用者直覺並輕易地輸入資訊或指示。
提供觸控顯示設備的一種方式是提供設置於保護層上的多個觸控線路,以基於形成於基板上的這些觸控線路中形成的電容變化來偵測觸控的存在或觸控座標。
在發光顯示設備的外周邊區域中設置於保護層之下的平坦化層、絕緣層以及金屬線路會被蝕刻,而形成陡峭的傾斜度以及段差(step)。因此,可能會有保護層的邊緣無法施加保護層或其厚度會急遽地減小的缺陷。因此,可能會有在發光顯示設備的外周邊區域中設置於保護層上的觸控線路之觸控靈敏度被降低的缺陷。
因此,即使已進行各種檢查以控制發光顯示設備的保護層的流動並且提升發光顯示設備的外周邊區域中的觸控靈敏度,但仍能為不足的而需要其發展。
本發明將達成的一目的是提供一種包含第一圖案的發光顯示設備,以更有效率地控制包含於發光顯示設備中的第二保護層的流動。
本發明將達成的另一目的是提供一種藉由控制發光顯示設備的第二保護層的流動以最小化第二保護層的設計餘裕而具有薄邊框的發光顯示設備。
本發明將達成的又另一目的是提供一種藉由改善外周邊區域中的保護層的厚度以最小化設置於保護層上方及下方的電極的電場干擾來提升顯示品質的發光顯示設備。
本發明將達成的又另一目的是提供一種藉由將保護層的頂面的段差以及彎曲最小化來提升包含形成於保護層上的觸控線路的發光顯示設備的外周邊區域中的觸控靈敏度之發光顯示設備。
本發明的目的不限於上述目的且本技術領域中具通常知識者從以下說明能清楚地理解上方未提及的其他目的。
根據本發明的態樣,一種發光顯示設備包含:包含主動區域以及相鄰於主動區域的非主動區域的基板;設置於主動區域中以及非主動區域的第一部分中的平坦化層;設置於平坦化層上的發光二極體層以及第一圖案;設置於發光二極體層以及第一圖案上的保護層;以及設置於相鄰於非主動區域的第一部分的第二部分中的第二圖案。
根據本發明的另一態樣,一種發光顯示設備包含:包含主動區域以及相鄰於主動區域的非主動區域的基板;設置於主動區域中以及非主動區域的第一部分中的平坦化層;設置於平坦化層上的發光二極體層以及第一圖案;設置於發光二極體層中的有機發光二極體以及第一圖案上的保護層;設置於相鄰於非主動區域的第一部分的第二部分中的第二圖案;以及設置於保護層上的觸控線路。
根據本發明的又一態樣,一種發光顯示設備包含:主動區域以及相鄰於主動區域的非主動區域;設置於主動區域中的發光二極體層;設置於非主動區域的第一部分中的第一圖案;設置於發光二極體層以及第一圖案上的保護層;設置於相鄰於非主動區域的第一部分的第二部分中的第二圖案;以及設置於非主動區域的第一部分中的孔洞。
其他示例性實施例的詳細內容包含在實施方式以及圖式中。
根據本發明的示例性實施例,發光顯示設備構造有第一圖案使第一圖案會控制第二保護層的流動,以最小化第二保護層溢流至形成有驅動電路的區域之程度,從而提升顯示品質以及穩定性。
根據本發明的示例性實施例,發光顯示設備構造有第一圖案使設計餘裕考慮到讓第二保護層擴散(或流動)的區域而被最小化以提供薄邊框。
根據本發明的示例性實施例,發光顯示設備構造有第一圖案使設置於相鄰於主動區域的非主動區域NA中的保護層的厚度被改善,以有效地阻擋水氣以及氧氣從發光顯示設備的側面進入。
根據本發明的示例性實施例,發光顯示設備構造有第一圖案使位於相鄰於主動區域的非主動區域NA中的保護層的厚度被改善,以最小化設置於保護層上方以及下方的電極的電場干擾,從而提升顯示品質。
根據本發明的示例性實施例,發光顯示設備會最小化保護層保護層的頂面上的彎曲以及段差以抑制觸控線路的損耗,從而提升發光顯示設備的外周邊區域的觸控靈敏度。
根據本發明的示例性實施例,發光顯示設備能包含:包含主動區域以及圍繞主動區域的非主動區域的基板;位於主動區域中並且部分地侵入非主動區域中的平坦化層;位於主動區域中並且部分地侵入非主動區域中的保護層;以及插設於平坦化層與保護層之間,並且設置於非主動區域中的第一圖案。
根據本發明的功效不限於上方舉例說明的內容,且更多樣的功效包含在本說明書中。
藉由參考以下詳細描述之示例性實施例連同所附圖式,本發明的優勢與特徵以及達成這些優勢與特徵的方法將變得清楚。然而,本發明並不以本文所揭露之示例性實施例為限,而是將以各種形式實施。示例性實施例僅做為示例提供,並使本領域具通常知識者能完全理解本發明的揭露以及本發明的範圍。因此,本發明將僅由所附請求項的範圍所界定。
繪示於所附圖式中用於描述本發明的示例性實施例之形狀、尺寸、比例、角度、數量等僅為示例,且本發明並不以此為限。通篇說明書中,相似的標號通常表示相似的元件。再者,在本發明的以下描述中,能為了避免不必要地模糊本發明的標的而省略習知相關技術的詳細解釋。除非有與用語「僅」一起使用,否則於本文使用的例如「包含」、「具有」以及「組成」等之用語通常旨在允許其他元件之添加。除非另有說明,否則任何引用單數形式者能包含多數的形式。
即使沒有明確說明,元件仍應被解釋為包含尋常誤差範圍。
當使用例如「上」、「之上」、「之下」以及「旁邊」等之用語來描述兩個部件之間的位置關係時,除非與用語「立即」或「直接」一起使用,否則一或多個部件能位於這兩個部件之間。當元件或層體設置於另一元件或層體「上」時,另一個層體或另一個元件能直接插設於另一元件或它們之間。
當使用例如「之後」、「以下」、「接著」以及「之前」等之用語來描述時間關係時,除非與用語「立即」或「直接」一起使用,否則包含非連續的情況。
雖然用語「第一」、「第二」等用於描述各種元件,但這些元件並不受限於這些用語。這些用語僅用於辨認元件。因此,在本發明的技術概念中,以下提及的第一元件可為第二元件。
描述本發明的示例性實施例的元件時,能使用「第一」、「第二」、「A」、「B」、「(a)」、「(b)」等術語。用語是用於區分元件,但元件的本質、順序或數量不被所述術語限制。當元件描述為「連結」、「耦接」或「連接」於另一元件時,元件能直接連結或連接於其他元件。然而,除非另有特殊狀態,否則應理解的是第三元件能插設於能間接連結或連接的所述元件之間。
應理解的是「至少一」包含一或多個相關元件的所有組合。舉例來說,「第一、第二以及第三元件中的至少一者」不僅表示第一、第二或第三元件,還表示包含二或多個第一、第二以及第三元件的所有組合。
在本發明中,「設備」能包含顯示設備,其包含顯示面板以及用於驅動顯示面板的驅動器,例如液晶模組(LCM)或有機發光顯示(OLED)模組。再者,「設備」能更包含為包含LCM或OLED模組的完整產品(或最終產品)的電子裝置組或裝置組(或設備組),例如筆記型電腦、電視機或電腦螢幕,包含另一類型的載具(vehicle)的車用顯示器或設備顯示器以及包含智慧型手機或電子平板的行動電子裝置。
因此,本發明的設備不僅能包含例如LCM或OLED模組的顯示設備本身,還包含所應用的產品或設備組,其為包含LCM、OLED模組等的最終消費裝置。
在一些示例性實施例中,由顯示面板以及驅動器構成的LCM或OLED模組表示為「顯示設備」並且作為包含LCM或OLED模組的完整產品的電子設備表示為「設備組」。舉例來說,顯示設備能包含液晶(LCD)或有機發光(OLED)顯示面板以及作為用於驅動顯示面板的控制器之源電路板(source PCB)。設備組能更包含電路板(PCB)組來作為電性連接於源電路板以驅動整體設備組的控制器組。
作為使用於本發明的示例性實施例的顯示面板,能使用任何類型的顯示面板例如液晶顯示面板、有機發光二極體(OLED)顯示面板以及電場發光(electroluminescent)顯示面板,但示例性實施例不限於此。舉例來說,顯示面板能為藉由根據本發明的示例性實施例的振動裝置振動以產生聲音的顯示面板。應用於根據本發明的示例性實施例的顯示設備的顯示面板不以所述顯示面板的形狀或尺寸為限。
本發明的各種實施例之特徵能部分或整個地彼此黏合或結合,且能技術性地以各種方式互鎖(interlocked)及運作,並且實施例能以彼此獨立或彼此相關的方式實施。
以下,將參考如下所附圖式與示例來描述本發明的示例性實施例。為了描述之目的,繪示於所附圖式中的元件尺寸與實際尺寸不同,使得尺寸不限於繪示於圖式中的尺寸。
以下,將參考所附圖式詳細描述本發明的各種示例性實施例。根據本發明的所有實施例之各個發光顯示設備的所有元件為有效地耦接與構成。
圖1是根據本發明的示例性實施例的發光顯示設備之平面圖。圖2是圖1中發光顯示設備的外周邊區域之平面放大圖。圖3是沿著圖2的線段I-I’擷取之剖面圖。
參考圖1、圖2及圖3,根據本發明的示例性實施例的發光顯示設備100包含基板110、發光二極體層200、第一圖案400以及第二圖案500。再者,將理解的是發光顯示設備100包含多個閘極線路、多個資料線路以及包含連接於能夠使發光顯示設備100適當運作的多個像素及/或多個子像素SP之多個薄膜電晶體(TFT)的其他元件。
因此,發光顯示設備100能更包含各種額外的元件,以於主動區域AA中產生各種訊號或驅動多個子像素SP。用於驅動子像素SP的額外的元件能包含反向器電路、多工器或靜電放電(ESD)電路。發光顯示設備100也能包含與子像素(SP)驅動功能之外的功能有關的額外元件。舉例來說,發光顯示設備100能提供包含觸控感測功能、使用者驗證功能(例如指紋辨識)、多級壓力感測(multilevel pressure sensing)功能或觸覺回饋功能的額外元件。上述額外元件能位於非主動區域NA或連接於連接界面的外部電路中。
參考圖1、圖2及圖3,基板110能包含主動區域AA以及非主動區域NA。基板的非主動區域NA相鄰於主動區域AA並設置於主動區域AA的外部。
外周邊區域A能為基板110的邊緣區域。舉例來說,外周邊區域A能包含非主動區域NA以及主動區域AA的一端(或一側)。
再者,外周邊區域A能包含資料驅動電路、將訊號供應至這些子像素SP的驅動電路以及感測連接於驅動電路的訊號線路之異常的存在的感測電路。資料驅動電路會將資料訊號供應至位於主動區域AA的一端(或一側)的子像素SP以及設置於設置在主動區域AA的外部的非主動區域NA中的多個子像素SP。外周邊區域A能為周邊部,但不限於此術語。
主動區域AA是設置多個子像素SP以顯示影像的區域。這些子像素SP的每一者為發光的個別單元並且於這些子像素的每一者中會形成發光二極體以及驅動電路。舉例來說,在這些子像素SP中能設置用於顯示影像的顯示元件以及用於驅動顯示元件的電路單元。這些子像素SP能包含紅色的子像素SP、綠色的子像素SP、藍色的子像素SP及/或白色的子像素SP,但不限於此。
一或各個子像素SP能包含多個電晶體、電容器以及多個配線線路。舉例來說,子像素SP能由二個電晶體以及一個電容器(2T1C)構成,但不限於此,並且能被實施為應用4T1C、7T1C、6T2C等的子像素。
非主動區域NA是不顯示影像的區域並且能設置用於驅動設置於主動區域AA中的這些子像素SP之各種配線線路以及驅動電路。舉例來說,在非主動區域NA中,能設置各種例如閘極驅動積體電路(IC)與資料驅動積體電路(IC)的積體電路(IC)以及驅動電路。非主動區域NA能為不顯示影像的區域。舉例來說,非主動區域NA能被稱為邊框區域或邊框,但非主動區域並不僅限於此類術語。
非主動區域NA能為如圖1所示圍繞主動區域AA的區域。非主動區域NA能為從主動區域AA延伸的區域。或者,非主動區域NA能為不設置多個子像素SP的區域,但不限於此。
主動區域AA能被稱為顯示區域並且非主動區域NA能被表示為邊框區域,但不限於此類術語。
即使在圖1中,繪示為非主動區域NA圍繞四邊形的主動區域AA,但主動區域AA的形狀以及相鄰於主動區域AA的非主動區域NA的形狀及放置方式(placement)仍不限於圖1中所示之示例。主動區域AA以及非主動區域NA能具有適於包含發光顯示設備100的電子裝置的設計之形狀。舉例來說,主動區域AA的示例形狀能為五邊形、六邊形、圓形、橢圓形等,但不限於此。
非主動區域NA能包含第一部分P1以及第二部分P2。
非主動區域NA的第一部分P1能為圍繞主動區域AA的區域。非主動區域NA的第一部分P1能為於非主動區域NA中相鄰於主動區域AA的一部分。非主動區域NA的第一部分P1能為設置於主動區域AA與非主動區域NA的第二部分P2之間的一部分。非主動區域NA的第一部分P1能為於非主動區域NA中供平坦化層130設置的區域。
非主動區域NA的第二部分P2能為圍繞非主動區域NA的第一部分P1的區域。非主動區域NA的第二部分P2能設置成相鄰於非主動區域NA的第一部分P1並圍繞非主動區域NA的第一部分P1。非主動區域NA的第二部分P2能為於非主動區域NA中不存在平坦化層130的區域。舉例來說,平坦化層130可能已被蝕刻而被移除。
非主動區域NA的第一部分P1能從設置於主動區域AA中的平坦化層130延伸。非主動區域NA的第二部分P2能從平坦化層130的一端點(或一側)包含發光顯示設備的一端(或一側)。第二部分P2能設置於第一部分P1的外部,並且能圍繞非主動區域的第一部分P1以及主動區域AA。例如藉由將邊界界定為平坦化層130中止存在於非主動區域NA中的地方,而能界定出位於第一部分P1與第二部分P2之間的邊界。
基板110能支撐顯示設備的各種元件。基板110能由玻璃或具有可撓性的塑膠材料形成。
當基板110由塑膠材料形成時,例如當基板110由聚醯亞胺(polyimide)形成時,發光顯示設備的製造程序會在當由玻璃形成的支撐基板設置於基板110下方的情況下進行且支撐基板能在完成發光顯示設備的製造程序之後被釋放。再者,在釋放支撐基板之後,支撐基板110的背板能設置於基板110下方。
當基板110由聚醯亞胺形成時,水分會滲透至由聚醯亞胺形成的基板110而使水分滲透進行至薄膜電晶體或發光二極體層,以降低發光顯示設備的性能。為了抑制顯示設備的性能因為水分滲透而降低,根據本發明的示例性實施例的顯示設備能由二個聚醯亞胺物構成。再者,無機層能形成於二個聚醯亞胺(PI)物之間以阻擋水分滲透底聚醯亞胺(PI)物,而使產品性能的可靠度能被提升。無機層能由單層的氮化矽(SiN
x)或氧化矽(SiO
x)或是兩者的多層結構形成。
基板110能包含形成於基板110上的功能層以及元件,例如切換元件、連接於切換元件的驅動元件(或薄膜電晶體)、連接於驅動元件(或薄膜電晶體)的有機發光二極體以及保護層。其他層體或結構能被包含在基板110中。
緩衝層能設置於基板110的整個表面上。緩衝層能提升形成於緩衝層以及基板上的多個層體之間的黏著性並阻止各種類型的瑕疵之產生(如從基板110洩漏出的鹼性成分)。再者,緩衝層能延緩滲透基板110的水氣或氧氣的擴散。
緩衝層能由單層的氮化矽(SiN
x)或氧化矽(SiO
x)或是兩者的多層結構形成。當緩衝層由多個層體形成時,能交替形成氧化矽(SiO
x)以及氮化矽(SiN
x)。能將其它材料使用於緩衝層。
緩衝層能基於基板110的類型或材料以及薄膜電晶體的結構與類型而被省略。
在根據示例性實施例的發光顯示設備100中,薄膜電晶體120能進一步設置於緩衝層上。薄膜電晶體120能包含閘極電極121、半導體層123、源極電極125S以及汲極電極125D。
汲極電極125D會電性連接於發光二極體層200以將電流或訊號傳遞至發光二極體層200。再者,連接電極126進一步設置於汲極電極125D與發光二極體層200之間,以透過連接電極126將薄膜電晶體的電流以及訊號傳遞至發光二極體層200。
為了方便解釋,即使於能被包含在發光顯示設備100中的各種薄膜電晶體之中是繪示驅動薄膜電晶體,但例如切換薄膜電晶體的其他薄膜電晶體仍能被包含在發光顯示設備100中。而且,為了方便解釋,雖然已描述薄膜電晶體120具有底部閘極結構,但並不限於此結構並且能被實施為例如頂部閘極結構的其他結構。
閘極電極121能設置於緩衝層上。閘極電極121能由鉬(Mo)、銅(Cu)、鈦(Ti)、鋁(Al)、鉻(Cr)、金(Au)、鎳(Ni)、釹(Nd)以及鎢(W)或上述金屬的合金中的任一者形成的多層或單層結構所形成。其他材料或合金能被使用於閘極電極121。
第一絕緣層122能設置於閘極電極121上。第一絕緣層122能將閘極電極121絕緣於半導體層123。
第一絕緣層122能由例如氮化矽(SiN
x)或氧化矽(SiO
x)的絕緣材料或其他絕緣有機或無機材料形成。
半導體層123設置於第一絕緣層122上。半導體層123能由多晶矽(p-Si)製成。在這個情況下,能用雜質摻雜預設的區域。再者,半導體層123能由非晶矽(a-Si)或例如稠五苯(pentacene)的各種有機半導體材料製成。於另一示例中,半導體層123能由氧化物製成。
第二絕緣層124能設置於半導體層123上。第二絕緣層124能由例如氮化矽(SiN
x)或氧化矽(SiO
x)的絕緣材料或其他絕緣有機或無機材料形成。第二絕緣層124會選擇性地被移除以形成設置有源極電極125S以及汲極電極125D的接觸孔。
源極電極125S以及汲極電極125D能設置於第二絕緣層124上。
源極電極125S以及汲極電極125D能由鉬(Mo)、銅(Cu)、鈦(Ti)、鋁(Al)、鉻(Cr)、金(Au)、鎳(Ni)以及釹(Nd)或上述金屬的合金中的任一者形成的多層或單層結構所形成。舉例來說,源極電極125S以及汲極電極125D能由導電金屬材料形成的鈦(Ti)/鋁(Al)/鈦(Ti)的三層結構所形成,但不限於此。
源極電極125S以及汲極電極125D透過第二絕緣層124的接觸孔電性連接於半導體層123。
平坦化層130能設置於源極電極125S以及汲極電極125D上。
平坦化層130能設置以覆蓋薄膜電晶體120。平坦化層130能保護設置於其下方的驅動元件並減緩或平坦化因為各種層體圖案產生的段差或高度(elevation)變化。
平坦化層130能由丙烯酸樹脂(acrylic resin)、環氧樹脂(epoxy resin)、酚樹脂(phenol resin)、聚醯胺樹脂(polyamide resin)、聚醯亞胺樹脂(polyimide resin)、不飽和聚酯樹脂(unsaturated polyester resin)、聚伸苯樹脂(polyphenylene resin)以及聚伸苯硫醚樹脂(polyphenylene sulfide resin)中的至少一者形成,但不限於此。
平坦化層130能設置於主動區域AA以及非主動區域NA的一部分中。舉例來說,平坦化層130能從主動區域AA延伸至非主動區域NA的第一部分P1。
平坦化層130於非主動區域NA中被蝕刻以形成段差或高度變化。
在非主動區域NA中,未藉由蝕刻製程移除平坦化層130的非主動區域NA的一部分能被界定為第一部分P1。藉由蝕刻製程移除平坦化層130的非主動區域NA的一部分能被界定為第二部分P2。
平坦化層130能設置為單層結構,但考慮到電極的放置方式能設置為二或更多層結構。
這是因為隨著發光顯示設備100發展到更高的解析度,各種訊號線路會增加。因此,難以在確保最小間距之同時將所有配線線路設置於一個層體上,而需提供額外的層體。藉由提供此類額外的層體,會使配線線路的佈置有餘裕,這會使得設計電線/電極之放置更容易。再者,當介電材料被使用於由多個層體構成的平坦化層130時,平坦化層130能被利用以於這些金屬層之間形成電容。
當提供二個平坦化層130時,平坦化層能包含底平坦化層140以及頂平坦化層150。但並不限於此,且額外的層體能被包含在平坦化層130中。
連接電極126能設置於底平坦化層140與頂平坦化層150之間。
接觸孔於底平坦化層140中形成且連接電極126更設置於接觸孔中,而使薄膜電晶體120與發光二極體層200能藉由連接電極126電性連接。
舉例來說,連接電極126的一端(或一部分)能連接於薄膜電晶體120且連接電極126的另一端(或另一部分)能連接於發光二極體層200。
發光二極體層200能設置於平坦化層130上。發光二極體層200包含陽極電極210、發光層230以及陰極電極240。這樣的發光二極體層200能藉由依序地將陽極電極210、發光層230以及陰極電極240設置於平坦化層130上而形成。
陽極電極210能形成於穿過平坦化層130或位於平坦化層130上方的接觸孔中。陽極電極210能透過接觸孔電性連接於汲極電極125D。
當發光顯示設備100更包含連接電極126時,陽極電極210能透過連接電極電性連接於汲極電極125D。
陽極電極210能將電洞供應至發光層230並且能由導電材料形成。導電材料能具有高功函數。
當發光顯示設備100是頂部發光型時,能使用不透明導電材料作為將光反射的反射電極來設置陽極電極210。舉例來說,陽極電極210能由銀(Ag)、鋁(Al)、金(Au)、鉬(Mo)、鎢(W)、鉻(Cr)或上述金屬的合金中的至少一者形成。其他金屬或合金能被使用。
舉例來說,陽極電極210能用銀(Ag)/鉛(Pb)/銅(Cu)的三層結構形成,但不限於此。
當發光顯示設備100是底部發光型時,能使用讓光通過的透明導電材料設置陽極電極210。
舉例來說,陽極電極能由氧化銦錫(ITO)以及氧化銦鋅(IZO)中的至少一者形成。其他化合物或導電材料能被使用。
堤部層220能於主動區域AA以及非主動區域NA中設置在平坦化層130或陽極電極210上。
堤部層220能劃分這些子像素SP、最小化炫光現象並且抑制各種觀看視角下的混色。
堤部層220能設置於除了陽極電極210的發光區域之外的陽極電極210或平坦化層130上的區域中。堤部層220能具有曝露相對應於發光區域的陽極電極210的一部分的堤部孔。
堤部層220能由例如氮化矽(SiNx)或氧化矽(SiOx)的無機絕緣材料以及例如苯並環丁烯(benzocyclobutene,BCB)、丙烯酸樹脂(acrylic resin)或醯亞胺樹脂(imide resin)的有機絕緣材料中的至少一者形成。
間隔件能進一步設置於堤部層220上。間隔件能藉由緩衝形成發光二極體層200的基板110與頂基板之間的空的空間,來最小化發光顯示設備100因為外部衝擊而破損的情形。間隔件與堤部層220能由相同的材料形成並且同時地形成,但不限於此。
第一圖案400以及第二圖案500能設置於發光顯示設備100的非主動區域NA中。
第一圖案400以及第二圖案500能抑制例如當保護層300的第二保護層320侵入(intrude)形成有驅動電路的非主動區域NA的區域中之時候所造成的驅動失敗之缺陷。在第一圖案400以及第二圖案500之中,至少有第一圖案400能位於平坦化層130上,且第一圖案400能進一步與設置有間隔件的層體作為相同層體的堤部層220上。然而,這並非必須的,且只要至少有第一圖案400能位於非主動區域NA中並且位於平坦化層130上或上方,第一圖案400就能與間隔件設置於不同的層體上。在本發明的各種實施例中,能提供一個以上的第一圖案400以及一個以上的第二圖案500。
構成第二保護層320的材料是有機材料(聚合物)並且以液態被施加於基板110上且接著固化以形成第二保護層320。有機材料具有低黏度而能於固化前處於高密度的液態。因此,有機材料會具有流動性以於發光顯示設備100的非主動區域中形成有驅動電路的區域中流動。當有機材料侵入形成有驅動電路的區域中時,能有造成驅動失敗或光測試失敗的缺陷。
因此,本發明的發明者進行數次實驗以減少有機材料的流動直到第二保護層320固化。發明者透過數次實驗而發明出發光顯示設備100來最小化發光顯示設備的第二保護層320的有機材料的流動並且最小化於形成有驅動電路的非主動區域NA的區域中第二保護層320的入侵(invasion)所造成的驅動失敗。
第一圖案400以及第二圖案500能控制第二保護層320的有機材料的流動性(flowability)。首先,會藉由相鄰於主動區域AA的第一圖案400控制第二保護層320的有機材料的流動。其次,當有機材料溢出第一圖案400時,第二圖案500能阻擋第二保護層320的有機材料擴散(或流動)至非主動區域中的驅動電路中。
第一圖案400能沿著主動區域AA的周緣設置。舉例來說,第一圖案400能設置於主動區域AA的外部以圍繞主動區域AA。
第一圖案400能設置於非主動區域NA的第一部分P1中。舉例來說,第一圖案400能設置於從主動區域AA延伸的非主動區域NA的平坦化層130上。
因為第一圖案400設置於第一部分P1的平坦化層130上,所以第一圖案400會相對第二圖案500設置於較高的位置並被形成以更相鄰於主動區域AA,而更有效率地控制第二保護層320的有機材料的流動。
再者,即使第二圖案500設置於非主動區域NA的第二部分P2中,仍能因於非主動區域NA中蝕刻多個平坦化層、絕緣層以及金屬線路而形成的段差或高低起伏(elevation drop)的高度或傾斜度而使第二保護層320的有機材料的移動速度加快。因此,會有第二保護層320在固化之前擴散(或流動)至非主動區域NA的驅動電路之缺陷。
然而,第一圖案400會設置於非主動區域NA的第一部分P1中以主要抑制或減少第二保護層320的有機材料的流動。因此,從第一圖案400溢出或溢流的第二保護層320的量會減少並且第二保護層320的擴散(或流動)速度會被降低,而使第二保護層320的擴散(或流動)距離能被控制。因此,能抑制可由侵入非主動區域NA中的第二保護層320造成的驅動失敗的缺陷。
再者,會最小化第二保護層320的擴散(或流動)距離以最小化第二保護層320的設計餘裕,進而能提供具有薄邊框並且可靠度受到提升的發光顯示設備。
因為第一圖案400設置於平坦化層130上,所以位於設置於相鄰於主動區域AA的非主動區域NA中的第一圖案400中之第二保護層320的有機材料的流動會被阻擋,使第二保護層320的厚度能在固化後被增加。具有增加的厚度的保護層300能有效地阻擋從發光顯示設備100的側面流動來的水氣以及氧氣。
至少一第一圖案400能被設置。即使在圖1中是繪示一個第一圖案,仍不限於此。
第一圖案400能使用至少一材料設置為多個層體。舉例來說,第一圖案能包含使用於設置堤部層220以及間隔件的至少一材料。
第二圖案500能阻擋未被第一圖案400控制的第二保護層320的有機材料擴散(或流動)至非主動區域的驅動電路。
第二圖案500能設置於非主動區域NA的第二部P2中。舉例來說,第二圖案500能設置於第二部分P2上,第二部分P2為非主動區域NA的平坦化層130因為被蝕刻而移除的區域。
第二圖案500能與形成於非主動區域NA的第一部分P1中的第一圖案400相隔並且能沿著第一圖案400的周緣設置。
至少一第二圖案500能被設置。即使在圖1中是繪示一個第二圖案500,仍不限於此而能為超過一個的第二圖案500。
第二圖案500能使用至少一材料設置為至少一層體。舉例來說,第二圖案500能包含使用於設置平坦化層130、堤部層220以及間隔件的至少一材料。
發光層230能設置於陽極電極210上。發光層230能為藉由會發出特定顏色的光的有機材料所構成的層體。舉例來說,發光層230能藉由紅色有機發光層、綠色有機發光層、藍色有機發光層以及白色有機發光層中的至少一者構成。當發光層230藉由白色有機發光層構成時,濾光片能進一步設置於發光二極體層200上方以提供特定顏色的光。
除了發光層230,還能包含電洞注入層、電洞傳輸層、電子傳輸層以及電子注入層。而且,額外的層體或不同的層體能被包含或提供於發光二極體層200。
陰極電極240能設置於發光層230上。陰極電極240會將電子供應至發光層230並且能由導電材料形成。導電材料能具有低功函數。
當發光顯示設備100為頂部發光型時,陰極電極240能使用讓光穿過的透明導電材料來設置。舉例來說,陰極電極能由氧化銦錫(ITO)以及氧化銦鋅(IZO)中的至少一者形成。
再者,陰極電極能使用光無法穿過的不透明導電材料來設置。舉例來說,陰極電極240能由下列合金中的至少一者形成,如氟化鋰/鋁、氟化銫/鋁、鎂:銀、鈣/銀、鈣:銀、氟化鋰/鎂:銀、氟化鋰/鈣/銀,以及氟化鋰/鈣:銀。其他合金或化合物也能被使用於陰極電極240。
當發光顯示設備100為底部發光型時,陰極電極240能使用不透明導電材料來設置為反射光的反射電極。舉例來說,陰極電極240能由銀(Ag)、鋁(Al)、金(Au)、鉬(Mo)、鎢(W)、鉻(Cr)或上述金屬的合金中的至少一者形成。
保護層300能設置於發光二極體層200上。保護層300能設置於的發光顯示設備100主動區域AA以及非主動區域NA的一部分中。
保護層300會抑制來自外部的氧氣以及水氣的滲透,以抑制電極材料以及發光材料的氧化。保護層300能包含阻擋水氣或氧氣滲透的第一保護層310、第二保護層320以及第三保護層330。
第一保護層310、第二保護層320以及第三保護層330會交替層壓(laminated)。保護層300能由透明材料形成以透射從發光層230發出的光。因此,第二保護層320能設置於主動區域AA中、非主動區域NA的第二部分P2中或二者中。而且,位於第一圖案400的內部的保護層300以及位於第一圖案400的外部的保護層300能具有高度差,並且非主動區域NA的第一部分P1以及第二部分P2中的第二保護層320的厚度差能為形成高度差的原因。同時,第二保護層320的厚度能沿從主動區域AA朝外延伸至非主動區域NA的方向變化。儘管如此,第二保護層320不須設置於第二圖案500的外部。
第一保護層310以及第三保護層330能由氮化矽(SiN
x)、氧化矽(SiO
x)以及氧化鋁(Al
yO
z)之中的至少一無機材料形成。第一保護層310以及第三保護層330能使用例如化學氣相沉積(CVD)或原子層沉積(ALD)的真空膜形成方法來形成,但不限於此。
第二保護層320能覆蓋能在製造程序期間產生的雜質、異物或微粒。再者,第二保護層320能將第一保護層310的表面平坦化。舉例來說,第二保護層320能為微粒覆蓋層,但不限於此術語。
第二保護層320能為例如聚合物(如碳氧化矽(silicon oxy carbon,SiOCz))、環氧樹脂(epoxy)、聚醯亞胺(polyimide)、聚乙烯(polyethylene)或丙烯酸脂(acrylate)的有機材料。舉例來說,第二保護層320能為具有20厘泊(cPs)以下的黏度之聚合物材料。可基於第二圖案500的存在使用20厘泊(cPs)以上的黏度。
第二保護層320能由藉由熱或光而固化的熱固性材料或可光固化(photocurable)材料形成。
第二保護層320能藉由例如噴墨塗布(inkjet coating)或狹縫塗布(slit coating)的各種方法所形成。舉例來說,於主動區域AA中透過使用噴墨裝置或噴嘴塗布裝置而藉由將液態有機材料噴灑(spraying)或滴落(dropping)於形成第一保護層310的基板110上,第二保護層320能形成於第一保護層310上。流體有機材料能在噴灑噴嘴於施加區域上移動(或噴嘴固定而物體移動)之同時形成於施加區域中。
在噴灑或滴落有機材料之後,藉由在有機材料上進行乾燥製程以及固化製程來移除溶劑以及水氣,以形成固化的第二有機保護層320。
當液態有機材料在主動區域AA中被噴灑或滴落的基板110上時,形成於圍繞主動區域AA的非主動區域NA的第一部分P1中的第一圖案400能有效地阻擋第二保護層的有機材料的流動。在本發明的實施例中,第一部分P1中的保護層300的表面能具有表面本質上為平坦的平面部。同時,位於第一圖案400與第二圖案500之間的保護層300的表面能包含表面不完全平坦或能包含不規則性(irregularities)的不均勻部。基於保護層300的平坦度,保護層300於第一部分P1中的厚度能相異於保護層300於第二部分P2中在第一圖案400與第二圖案500之間的厚度。
同時,當陽極電極210的材料設置於非主動區域NA中時,第二圖案500能於非主動區域NA中設置於陽極電極210的材料上。非主動區域NA中的陽極電極210的材料能稱為輔助電極或輔助圖案。輔助電極能與陽極電極210電性隔離並且電流不須於輔助電極中流動,但並不以此為限。在其他實施例中,輔助電極能電性連接於例如陽極電極210的另一結構,或電流可於輔助電極中流動。非主動區域NA中的陽極電極210的材料於非主動區域NA中能為連續或非連續的,從而使非主動區域NA中的陽極電極210的材料能存在於所有的非主動區域NA中或於非主動區域NA的離散部分或一部分中。第二圖案500能位於非主動區域NA中的陽極電極210的材料的至少一部分上或與其(例如整個地或部分地)接觸。在本發明的各種實施例中,非主動區域NA中的陽極電極210的材料能位於第二圖案500的底部、側部、頂部中的至少一者上或與其(例如整個地或部分地)接觸。同時,非主動區域NA中的陽極電極210的材料能位於第二圖案500上方、下方或穿過第二圖案500。舉例來說,非主動區域NA中的陽極電極210的材料能覆蓋、部分地覆蓋或插設於第二圖案500的多個部分之間。
圖4A是繪示未形成第一圖案的發光顯示設備的第二保護層之剖面圖。
圖4B是繪示形成第一圖案的根據本發明的示例性實施例的發光顯示設備的第二保護層之剖面圖。
更具體而言,圖4A及圖4B是繪示根據使用噴墨裝置或噴嘴塗布裝置滴落液態有機材料的次數形成的第二保護層320的剖面(profiles)。
在圖4A及圖4B中,滴液0(Drop)表示未滴落有機材料。滴液1表示滴落一滴的有機材料且滴液2表示滴落二滴的有機材料。滴液3、滴液4以及滴液5表示分別滴落三滴、四滴以及五滴。
圖4A及圖4B中的箭頭表示第二保護層320的端點。
當比較形成有第一圖案400的基板以及未形成第一圖案400的基板時,形成有第一圖案400的基板110的第二保護層320被證實會於基板110的非主動區域NA中輕微地擴散(或流動)。
以下表1是藉由測量圖4A及圖4B中的第二保護層320從平坦化層130至發光顯示設備100的外周邊方向的擴散距離而獲得的表格。
在以下表1的對比例中,距離是從未形成第一圖案的基板110測得並且示例性實施例的第一圖案是從形成有第一圖案400的基板110測得。
滴液的數量越大,第二保護層320的擴散(或流動)距離會越大。然而,已證實當與未形成第一圖案400的基板110相比時,形成有第一圖案400的基板的第二保護層320的長度平均減少27%。
[表1]
滴液的數量 | 對比例 | 第一圖案(示例性實施例) |
1 | 48 μm | 16 μm |
2 | 91.5 μm | 50.5 μm |
3 | 124 μm | 89.5 μm |
4 | 172 μm | 126 μm |
5 | 215 μm | 157.5 μm |
圖5A是未形成第一圖案的發光顯示設備的第二保護層的剖面之顯微照片。
圖5B是形成圖3中的第一圖案的發光顯示設備的第二保護層的剖面之顯微照片。
構成第二保護層320的材料具有低黏度特性而能處於高密度的液態直到材料固化。在圖5B中,已證實第一圖案400被圍繞而相鄰於主動區域AA,使得於非主動區域NA中擴散(或流動)的第二保護層320的量被最小化。
再者,第二保護層320的擴散(或流動)距離被最小化,以最小化第二保護層320的設計餘裕,而使具有薄邊框並且可靠度受到提升的發光顯示設備能被提供。
再者,會有第二保護層320的擴散(或流動)速度因為在圖5A中因蝕刻相鄰於主動區域AA的非主動區域NA中的平坦化層130所形成的高段差a而使第二保護層在固化前擴散(或流動)的缺陷。
根據本發明的示例性實施例,第一圖案400設置以使第二保護層320的傾斜度為平緩的,以降低第二保護層320的擴散(或流動)速度。
因此,能抑制藉由侵入非主動區域NA中的第二保護層320造成的驅動失敗的缺陷。
以下,將參考圖1、圖2及圖6來描述本發明的另一示例性實施例。
圖6中的發光顯示設備100除了緩衝孔BH之外,其他部分與圖3中的顯示設備實質上相同,故省略或簡述多餘的說明。
圖6是根據本發明的另一示例性實施例的發光顯示設備之剖面圖。
參考圖6,根據本發明的另一示例性實施例的發光顯示設備100包含:包含主動區域AA以及非主動區域NA的基板110、平坦化層130、保護層300、第一圖案400、第二圖案500以及緩衝孔BH。
緩衝孔BH能於非主動區域NA的第一部分P1中設置在平坦化層130或陽極電極210上。
緩衝孔BH能沿著主動區域AA的周緣設置。舉例來說,緩衝孔BH能設置於主動區域AA與第一圖案400之間。舉例來說,緩衝孔BH能設置於位於主動區域AA與第一圖案400之間的邊界上。此外,緩衝孔BH能設置於堤部層220與第一圖案400之間。緩衝孔BH能為孔洞或第一孔洞,但不限於此術語。
緩衝孔BH能與主動區域AA的堤部孔藉由相同的製程形成,但不限於此。
至少一緩衝孔BH能被設置。舉例來說,緩衝孔BH藉由蝕刻堤部層220來形成以抑制第二保護層320的有機材料的溢出超過第一圖案400。舉例來說,緩衝孔BH用以使從第一圖案400的第二保護層320溢流或溢出的有機材料的量減少,並且使第二保護層320的有機材料的擴散(或流動)距離能被進一步有效地控制。因此,緩衝孔BH用以使藉由侵入非主動區域NA中的第二保護層320造成的驅動失敗的缺陷能被抑制。再者,能考慮到第二保護層320的施加量的偏差而確保緩衝空間,進而能藉由最小化第二保護層320的設計餘裕而提供具有薄邊框的發光顯示設備。
以下,將參考圖1、圖2及圖7來描述本發明的另一示例性實施例。
圖7中的發光顯示設備100除了觸控線路600之外,其他部分與圖3中的顯示設備實質上相同,故省略或簡述多餘的說明。
圖7是根據本發明的另一示例性實施例的發光顯示設備之剖面圖。
參考圖7,觸控線路600能設置於保護層300上。觸控線路600能由氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)以及奈米銀線(AgNW)之中的至少一透明導電材料形成,以允許從設置於觸控線路600下方的發光二極體層200發出的光被透射。
根據本發明的另一示例性實施例,觸控緩衝層能更被包含在保護層300與觸控線路600之間。
觸控緩衝層能抑制保護層300的損壞並且阻擋觸控線路600被驅動時能產生的干擾訊號。
觸控緩衝層能由單層的氮化矽(SiN
x)或氧化矽(SiO
x)或是兩者的多層結構形成,但不限於此。
觸控線路600能更包含第一觸控電極以及第二觸控電極。
互電容Cm能形成於第一觸控電極與第二觸控電極之間。
互電容Cm藉由供應至第二觸控電極的觸控驅動脈衝來使電荷帶電荷(charge),並使帶電荷的電荷放電至第一觸控電極以作為觸控感測器。
具有觸控感測器的發光顯示設備在顯示期間藉由具有發光二極體層200的多個子像素SP的方式顯示影像。再者,具有觸控感測器的發光顯示設備在觸控期間藉由感測使用者的觸控所產生的互電容Cm(觸控感測器)的變化,來感測觸控的存在以及觸控位置。舉例來說,第一觸控電極以及第二觸控電極可用以藉由感測第一觸控電極與第二觸控電極之間的互電容Cm變化,來感測顯示設備上觸控的存在以及觸控的位置。
因為相鄰於發光顯示設備100的主動區域AA之非主動區域NA中的保護層300的段差以及薄厚度及/或陡峭的傾斜度,所以於保護層300上設置多個觸控線路600的發光顯示設備100會具有而使發光顯示設備100的外周邊區域的觸控靈敏度下降之缺陷。舉例來說,主動區域AA的保護層300具有均勻的厚度。反之,在形成於相鄰於主動區域AA的非主動區域NA中的保護層300中,能因為設置於保護層300下方的平坦化層、絕緣層以及金屬線路被蝕刻而形成陡峭的傾斜度以及段差。因此,會有在第二保護層320固化且還沒有施加第二保護層320之前,第二保護層320的有機材料的移動速度會增加而使厚度減小的缺陷。
在相鄰於主動區域AA的非主動區域NA中形成以具有薄厚度的保護層300會造成設置於保護層300上方以及下方的配線線路以及電極的電場干擾,這會導致顯示品質的劣化以及觸控靈敏度的下降。
再者,當觸控線路600被製造成非主動區域NA中有保護層300的段差以及陡峭的傾斜度時,若觸控線路600形成於形成有保護層300的段差或傾斜度的區域中,則會有例如觸控線路的斷接(disconnection)或損耗的缺陷。
因此,本發明的發明人進行數次實驗以減緩相鄰於主動區域AA的非主動區域NA中顯示品質以及觸控靈敏度下降的情形。已進行數次實驗以藉由最小化設置於相鄰於主動區域AA的非主動區域NA中的保護層300上方或下方的電極的電場干擾來改善顯示品質並且提升觸控靈敏度。
形成於相鄰於主動區域AA的非主動區域NA的第一部分P1中的第一圖案400會抑制第二保護層320的有機材料的流動,以使形成於第一部分P1中的第二保護層320的厚度變厚。第二保護層320於非主動區域NA以及主動區域AA中的第一部分P1中形成以具有相似的厚度。因此,可抑制相關技術領域中形成於相鄰於主動區域AA的非主動區域NA中的寄生電容值Cp的提高,並且提升顯示品質以及觸控感測的靈敏度。
觸控線路600能與設置於保護層300上的第一圖案400以及第二圖案500中的至少一者的一部分相隔。
觸控線路600能以第一距離D1與第一圖案400相隔且第一距離D1能為10 μm以上。
觸控線路600能以第二距離D2與第二圖案500相隔且第二距離D2能為50 μm以上。參考圖7,多個觸控線路600能於非主動區域NA的第二部分P2中設置於保護層300上,並且能沿遠離非主動區域NA的第一部分P1的方向依序地具有下降的高度。
於非主動區域NA的第一部分P1中,緩衝孔BH能進一步設置於平坦化層130或陽極電極210上。
緩衝孔BH能沿著主動區域AA的周緣設置。緩衝孔BH能於主動區域AA與第一圖案400之間形成。
至少一緩衝孔BH能被設置。舉例來說,藉由蝕刻堤部層220來形成緩衝孔BH以抑制第二保護層320的有機材料的溢出超過第一圖案400。舉例來說,從第一圖案400溢出的第二保護層320的有機材料的量會減少,並且第二保護層320的有機材料的擴散(或流動)距離能被進一步有效地控制。因此,緩衝孔BH用以使由侵入非主動區域NA中的第二保護層320造成的驅動失敗的缺陷能被抑制。再者,因為構成緩衝孔BH,所以能考慮到第二保護層320的施加量的偏差而確保緩衝空間,進而能藉由最小化第二保護層320的設計餘裕而提供具有薄邊框的發光顯示設備。
圖8是圖1的相機區域之平面放大圖。
圖8中的發光顯示設備100除了設置於顯示面板中的相機區域CA中的遮光件170之外,其他部分與圖2中的發光顯示設備實質上相同,故省略或簡述多餘的說明。
參考圖8,相機區域CA設置於主動區域AA中。相機區域CA設置於主動區域AA中的這些子像素SP之間。相機區域CA是例如相機的光學元件或光學感測器設置的區域。光學感測器能包含近接感測器、紅外線感測器以及紫外線感測器,但不限於此。相機區域CA包含穿過發光顯示設備100的一些元件的光學孔CH以設置光學元件。形成穿過發光顯示設備100的光學孔CH以確保設置光學元件的空間。
光學孔CH能為孔洞或第二孔洞,但不限於此術語。
從這些子像素SP發出的一些光能朝設置於這些子像素SP之間的相機區域CA(如光學孔CH)行進。當從這些子像素SP行進至光學孔CH的光被傳遞至例如相機的光學元件時,會產生能降低光學元件的可靠度的雜訊。因此,遮光件170能設置於光學孔CH中以抑制從這些子像素SP發出的光被傳遞至光學孔CH中。
非主動區域NA能形成於主動區域AA與相機區域CA之間。即使繪示非主動區域NA圍繞相機區域CA,主動區域AA的形狀以及相鄰於主動區域AA的非主動區域NA的形狀/放置方式並不限於圖8所示的示例。主動區域AA以及非主動區域NA能具有適於包含發光顯示設備100的電子裝置的設計的形狀。舉例來說,主動區域AA的示例形狀能為五邊形、六邊形、圓形、橢圓形等,但不限於此。
設置於圖8中的相機區域CA中的非主動區域NA與圖3、圖6及圖7中所示的非主動區域NA具有相同的剖面結構,並且具有相同功效。
遮光件170能由具有導電性的材料形成。遮光件170會在防止漏光之同時釋放靜電。遮光件能由不透明並具有導電性的材料形成。
遮光件170能阻擋發光顯示設備100的光進入光學孔CH中並將從前構件產生的靜電釋放。遮光件170能覆蓋透過光學孔CH曝露的一部分的基板110以及非主動區域NA的側面中的至少一者。
遮光件170能由導電墨或導電膠形成。舉例來說,遮光件170能由混合有例如碳黑的導電微粒或例如聚(3,4-伸乙二氧基噻吩)(poly(3,4-ethylenedioxythiophene),PEDOT:PSS)的導電聚合物的導電墨形成或由例如銀(Ag)的材料形成的導電膠所形成。舉例來說,遮光件170能具有0至10
6歐姆(Ω)的電阻值以將靜電釋放。遮光件170能由上述材料以外的各種材料形成,但不限於此。
遮光件170能使用例如氣動噴塗(pneumatic spray coating)或靜電噴塗(electrostatic spray coating)的製程來形成。舉例來說,氣動噴射塗布是藉由使用氣動壓力推動注射器中的材料來噴灑的方法。靜電噴射塗布是在施加電壓於將帶電荷的材料之後使用噴灑噴嘴來噴灑帶電荷材料的方法。當藉由氣動噴射塗布或靜電噴射塗布方法形成遮光件170時,遮光件170的黏度為約10000厘泊(cPs)以下,但不限於此。遮光件170能藉由上方提及的方法以外的各種方法形成,但不限於此。
本發明的示例性實施例也能被描述如下:
根據本發明的態樣,提供一種發光顯示設備。發光顯示設備包含:包含主動區域以及相鄰於主動區域的非主動區域的基板;設置於主動區域中以及非主動區域的第一部分中的平坦化層;設置於平坦化層上的發光二極體層以及第一圖案;設置於發光二極體層以及第一圖案上的保護層;以及設置於相鄰於非主動區域的第一部分的第二部分中的第二圖案。
第一圖案能沿著主動區域的周緣設置。
平坦化層能從主動區域延伸至非主動區域的第一部分。
發光顯示設備能更包含設置於平坦化層上的孔洞。孔洞能設置於非主動區域的第一部分中。
孔洞能設置於主動區域與第一圖案之間。
發光顯示設備能更包含設置於堤部層上的間隔件。第一圖案能由堤部層以及間隔件中的至少一者構成。
發光顯示設備能更包含設置於平坦化層上的堤部層以及設置於堤部層上的間隔件。第二圖案能由平坦化層、堤部層以及間隔件中的至少一者構成。
發光顯示設備能更包含設置於平坦化層上的堤部層以及設置於保護層上的觸控線路。
觸控線路能與第一圖案以及第二圖案中的至少一者的一部分相隔。
觸控線路與第一圖案之間的距離能小於觸控線路與第二圖案之間的距離。
根據本發明的另一態樣,提供一種發光顯示設備。發光顯示設備包含:包含主動區域以及相鄰於主動區域的非主動區域的基板;設置於主動區域中以及非主動區域的第一部分中的平坦化層;設置於平坦化層上的發光二極體層以及第一圖案;設置於發光二極體層中的有機發光二極體,以及第一圖案上的保護層;設置於相鄰於非主動區域的第一部分的第二部分中的第二圖案;以及設置於保護層上的觸控線路。
觸控線路能與第一圖案以及第二圖案中的至少一者的一部分相隔。
觸控線路與第一圖案之間的距離能小於觸控線路與第二圖案之間的距離。
觸控線路能更包含第一觸控電極以及第二觸控電極。
藉由感測第一觸控電極與第二觸控電極之間的互電容的變化能感測觸控的存在以及觸控位置。
第一圖案能沿著主動區域的周緣設置。
平坦化層能從主動區域延伸至非主動區域的第一部分。
發光顯示設備能更包含設置於平坦化層上的孔洞。孔洞能設置於非主動區域的第一部分中。
發光顯示設備能更包含設置於平坦化層上的堤部層以及設置於堤部層上的間隔件。第一圖案能由堤部層以及間隔件中的至少一者構成。
發光顯示設備能更包含設置於平坦化層上的堤部層以及設置於堤部層上的間隔件。第二圖案能由平坦化層、堤部層以及間隔件中的至少一者構成。
根據本發明的又另一態樣,提供一種發光顯示設備。發光顯示設備包含:包含主動區域以及相鄰於主動區域的非主動區域的基板;設置於主動區域中的發光二極體層;設置於非主動區域的第一部分中的第一圖案;設置於發光二極體層以及第一圖案上的保護層;設置於相鄰於非主動區域的第一部分的第二部分中的第二圖案;以及設置於非主動區域的第一部分中的孔洞。
孔洞能設置於主動區域與第一圖案之間。
發光顯示設備能包含界定發光二極體層的發光區域的堤部層,並且孔洞能設置於堤部層與第一圖案之間。
根據本發明的又另一態樣,發光顯示設備能包含:包含主動區域以及圍繞主動區域的非主動區域的基板;位於主動區域中並且部分地侵入非主動區域中的平坦化層;位於主動區域中並且部分地侵入非主動區域中的保護層;以及插設於平坦化層與保護層之間,並且設置於非主動區域中的第一圖案。
非主動區域能包含相鄰於主動區域的第一部分、位於第一部分外部的第二部分以及位於第一部分與第二部分之間的邊界,並且非主動區域的第二部分須不包含平坦化層。
非主動區域能包含第一部分以及位於第一部分外部的第二部分,第一圖案能設置於非主動區域的第一部分中,並且保護層能藉由漫溢第一圖案而從主動區域延伸至非主動區域的第二部分。
非主動區域能包含第一部分以及位於第一部分外部的第二部分,並且第二圖案能設置於非主動區域的第二部分中。
保護層能包含第一保護層以及第二保護層,並且第二保護層在從非主動區域的第一部分朝外延伸至第二部分的方向能具有不同厚度。
發光顯示設備能更包含位於平坦化層上的陽極電極、位於陽極電極上的堤部層、位於陽極電極上的發光層以及位於發光層上的陰極電極,陽極電極的材料能設置於位於非主動區域的第一部分外部的非主動區域的第二部分中,並且第二圖案能位於第二部分中並包含非主動區域的第二部分中的陽極電極的材料。
第二保護層須不漫溢第二圖案。
位於第一圖案內部的保護層的表面能包含平面部分,並且位於第一圖案的外部的保護層的表面能包含參差部分。
非主動區域能包含第一部分以及位於第一部分外部的第二部分,並且多個觸控線路能位於非主動區域的第一部分中的保護層上。
這些觸控線路能更位於非主動區域的第二部分中的保護層上,並且沿從非主動區域的第一部分朝外的方向依序地具有下降的高度。
發光顯示設備能更包含位於基板中並且被主動區域圍繞的光學孔。
儘管已參考附圖詳細描述本發明的示例性實施例,但本發明不限於此,且在不偏離本發明的技術概念下能以多種不同的形式來實施。因此,本發明的示例性實施例僅被提供用於繪示目的,而不旨在限制本發明的技術概念。本發明的技術概念的範圍不限於此。
因此,應理解上述示例性實施例繪示於所有態樣中且不限制本發明。本發明的保護範圍應基於以下申請專利範圍來解釋,並且在其同等範圍中的所有技術概念應被解釋為落於本發明的範圍內。
A:外周邊區域
AA:主動區域
NA:非主動區域
SP:子像素
BH:緩衝孔
CA:相機區域
CH:光學孔
P1:第一部分
P2:第二部分
D1:第一距離
D2:第二距離
100:發光顯示設備
110:基板
120:薄膜電晶體
121:閘極電極
122:第一絕緣層
123:半導體層
124:第二絕緣層
125S:源極電極
125D:汲極電極
126:連接電極
130:平坦化層
140:底平坦化層
150:頂平坦化層
170:遮光件
200:發光二極體層
210:陽極電極
220:堤部層
230:發光層
240:陰極電極
300:保護層
310:第一保護層
320:第二保護層
330:第三保護層
400:第一圖案
500:第二圖案
600:觸控線路
a:段差
本發明的上方以及其他態樣、特徵以及其他優點將透過以下詳細描述結合所附圖式被更詳細地理解,於圖式中:
圖1是根據本發明的示例性實施例的發光顯示設備之平面圖。圖2是圖1中發光顯示設備的外周邊區域之平面放大圖。圖3是根據本發明的示例性實施例的發光顯示設備之剖面圖。圖4A是繪示未形成第一圖案的發光顯示設備的第二保護層之剖面圖。圖4B是繪示形成有第一圖案的根據本發明的示例性實施例的發光顯示設備的第二保護層之剖面圖。圖5A是未形成第一圖案的發光顯示設備的第二保護層的剖面之顯微照片。圖5B是形成有第一圖案的根據本發明的示例性實施例的發光顯示設備的第二保護層的剖面之顯微照片。圖6是根據本發明的另一示例性實施例的發光顯示設備之剖面圖。圖7是根據本發明的另一示例性實施例的發光顯示設備之剖面圖。圖8是圖1的相機區域之平面放大圖。
AA:主動區域
NA:非主動區域
P1:第一部分
P2:第二部分
110:基板
120:薄膜電晶體
121:閘極電極
122:第一絕緣層
123:半導體層
124:第二絕緣層
125S:源極電極
125D:汲極電極
126:連接電極
130:平坦化層
140:底平坦化層
150:頂平坦化層
200:發光二極體層
210:陽極電極
220:堤部層
230:發光層
240:陰極電極
300:保護層
310:第一保護層
320:第二保護層
330:第三保護層
400:第一圖案
500:第二圖案
Claims (34)
- 一種發光顯示設備,包含:一基板,包含一主動區域以及相鄰於該主動區域的一非主動區域;一平坦化層,設置於該主動區域中以及該非主動區域的一第一部分中;一發光二極體層以及一第一圖案,設置於該平坦化層上;一保護層,設置於該發光二極體層以及該第一圖案上;以及一第二圖案,設置於該非主動區域中相鄰於該第一部分的一第二部分中。
- 如請求項1所述的發光顯示設備,其中該第一圖案沿著該主動區域的一周緣設置。
- 如請求項1所述的發光顯示設備,其中該平坦化層從該主動區域延伸至該非主動區域的該第一部分。
- 如請求項1所述的發光顯示設備,更包含:一孔洞,設置於該平坦化層上,其中該孔洞設置於該非主動區域的該第一部分中。
- 如請求項4所述的發光顯示設備,其中該孔洞設置於該主動區域與該第一圖案之間。
- 如請求項1所述的發光顯示設備,更包含:一堤部層,設置於該平坦化層上;以及一間隔件,設置於該堤部層上,其中該第一圖案包含該堤部層以及該間隔件中的至少一者的材料。
- 如請求項1所述的發光顯示設備,更包含:一堤部層,設置於該平坦化層上;以及一間隔件,設置於該堤部層上,其中該第二圖案包含該平坦化層、該堤部層以及該間隔件中的至少一者的材料。
- 如請求項1所述的發光顯示設備,更包含:一觸控線路,設置於該保護層上。
- 如請求項8所述的發光顯示設備,其中該該觸控線路與該第一圖案以及該第二圖案中的至少一者的一部分相隔。
- 如請求項9所述的發光顯示設備,其中該觸控線路與該第一圖案之間的距離小於該觸控線路與該第二圖案之間的距離。
- 一種發光顯示設備,包含:一基板,包含一主動區域以及相鄰於該主動區域的一非主動區域;一平坦化層,設置於該主動區域中以及該非主動區域的一第一部分中;一發光二極體層以及一第一圖案,設置於該平坦化層上;一保護層,設置於該發光二極體層中的一有機發光二極體上,並且設置於該第一圖案上;一第二圖案,設置於該非主動區域中相鄰於該第一部分的一第二部分中;以及一觸控線路,設置於該保護層上。
- 如請求項11所述的發光顯示設備,其中該觸控線路與該第一圖案以及該第二圖案中的至少一者的一部分相隔。
- 如請求項12所述的發光顯示設備,其中該觸控線路與該第一圖案之間的距離小於該觸控線路與該第二圖案之間的距離。
- 如請求項11所述的發光顯示設備,其中該觸控線路更包含一第一觸控電極以及一第二觸控電極。
- 如請求項14所述的發光顯示設備,其中藉由感測該第一觸控電極與該第二觸控電極之間的一互電容的變化來感測觸控的存在以及觸控位置。
- 如請求項11所述的發光顯示設備,其中該第一圖案沿著該主動區域的一周緣設置。
- 如請求項11所述的發光顯示設備,其中該平坦化層從該主動區域延伸至該非主動區域的該第一部分。
- 如請求項11所述的發光顯示設備,更包含:一孔洞,設置於該平坦化層上,其中該孔洞設置於該非主動區域的該第一部分中。
- 如請求項11所述的發光顯示設備,更包含:一堤部層,設置於該平坦化層上;以及一間隔件,設置於該堤部層上,其中該第一圖案包含該堤部層以及該間隔件中的至少一者的材料。
- 如請求項11所述的發光顯示設備,更包含:一堤部層,設置於該平坦化層上;以及一間隔件,設置於該堤部層上,其中該第二圖案包含該平坦化層、該堤部層以及該間隔件中的至少一者的材料。
- 一種發光顯示設備,包含:一基板,包含一主動區域以及相鄰於該主動區域的一非主動區域;一發光二極體層,設置於該主動區域中;一第一圖案,設置於該非主動區域的一第一部分中;一保護層,設置於該發光二極體層以及該第一圖案上;一第二圖案,設置於該非主動區域中相鄰於該第一部分的一第二部分中;以及一孔洞,設置於該非主動區域的該第一部分中。
- 如請求項21所述的發光顯示設備,其中該孔洞設置於該主動區域與該第一圖案之間。
- 如請求項21所述的發光顯示設備,更包含:一堤部層,界定該發光二極體層的一發光區域,其中該孔洞設置於該堤部層與該第一圖案之間。
- 一種發光顯示設備,包含:一基板,包含一主動區域以及圍繞該主動區域的一非主動區域;一平坦化層,位於該主動區域中並且部分地侵入該非主動區域中;一保護層,位於該主動區域中並且部分地侵入該非主動區域中;以及一第一圖案,插設於該平坦化層與該保護層之間,並且設置於該非主動區域中。
- 如請求項24所述的發光顯示設備,其中該非主動區域包含相鄰於該主動區域的一第一部分、位於該第一部分外部的一第二部分以及位於該第一部分與該第二部分之間的一邊界,並且其中該非主動區域的該第二部分不包含該平坦化層。
- 如請求項24所述的發光顯示設備,其中該非主動區域包含一第一部分以及位於該第一部分外部的一第二部分,其中該第一圖案設置於該非主動區域的該第一部分中,並且其中該保護層藉由從該第一圖案溢流而從該主動區域延伸至該非主動區域的該第二部分。
- 如請求項24所述的發光顯示設備,其中該非主動區域包含一第一部分以及位於該第一部分外部的一第二部分,並且其中一第二圖案設置於該非主動區域的該第二部分中。
- 如請求項24所述的發光顯示設備,其中該保護層包含一第一保護層以及一第二保護層,並且其中該第二保護層在從該非主動區域的一第一部分朝外延伸至一第二部分的方向具有不同厚度。
- 如請求項25所述的發光顯示設備,更包含位於該平坦化層上的一陽極電極、位於該陽極電極上的一堤部層、位於該陽極電極上的一發光層以及位於該發光層上的一陰極電極,其中該陽極電極的一材料設置於位於該非主動區域的一第一部分外部的該非主動區域的一第二部分中,並且其中一第二圖案位於該第二部分中並包含位於該非主動區域的該第二部分中的該陽極電極的該材料。
- 如請求項26所述的發光顯示設備,其中該第二保護層不從該第二圖案溢流。
- 如請求項24所述的發光顯示設備,其中位於該第一圖案內部的該保護層的一表面包含一平面部分,並且其中位於該第一圖案的外部的該保護層的該表面包含一不均勻部分。
- 如請求項24所述的發光顯示設備,其中該非主動區域包含一第一部分以及位於該第一部分外部的一第二部,並且其中多個觸控線路於該非主動區域的該第一部分中位於該保護層上。
- 如請求項32所述的發光顯示設備,其中該些觸控線路更於該非主動區域的該第二部分中位於該保護層上,並且沿從該非主動區域的該第一部分朝外的方向依序地具有下降的高度。
- 如請求項27所述的發光顯示設備,更包含位於該基板中並且被該主動區域圍繞的一光學孔。
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