TW202401151A - 阻劑組成物、阻劑圖型形成方法、化合物及高分子化合物 - Google Patents
阻劑組成物、阻劑圖型形成方法、化合物及高分子化合物 Download PDFInfo
- Publication number
- TW202401151A TW202401151A TW112108732A TW112108732A TW202401151A TW 202401151 A TW202401151 A TW 202401151A TW 112108732 A TW112108732 A TW 112108732A TW 112108732 A TW112108732 A TW 112108732A TW 202401151 A TW202401151 A TW 202401151A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- hydrocarbon group
- substituent
- alkyl group
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 161
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 97
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 76
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 70
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 title description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 312
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 237
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 198
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 122
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 105
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 73
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 17
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 363
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 262
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 74
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 68
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 18
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 150
- -1 itaconic acid diesters Chemical class 0.000 description 135
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 122
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 85
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 79
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 65
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 65
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 64
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 61
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 59
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 53
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 52
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 48
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 44
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 42
- 239000002585 base Substances 0.000 description 39
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 39
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 38
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 38
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 37
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 32
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 32
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 32
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 150000001768 cations Chemical group 0.000 description 29
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 238000011161 development Methods 0.000 description 28
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 28
- 230000008569 process Effects 0.000 description 28
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 27
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 27
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 26
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 26
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 26
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 26
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 26
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 25
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 24
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 24
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 24
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 21
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 20
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 19
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 19
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 19
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 17
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 16
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 15
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 14
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 14
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 14
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 14
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 14
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 13
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 13
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 12
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 description 11
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 10
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 10
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 10
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 10
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 10
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 10
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 9
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 9
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 9
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 8
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 8
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 7
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 7
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 7
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 7
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 7
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- 125000004924 2-naphthylethyl group Chemical group C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 6
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 6
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 6
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N hexan-2-ol Chemical compound CCCCC(C)O QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 6
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 6
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 6
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 6
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 6
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 241000208340 Araliaceae Species 0.000 description 5
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 5
- 235000005035 Panax pseudoginseng ssp. pseudoginseng Nutrition 0.000 description 5
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 description 5
- SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N Triphenylene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C2=C1 SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 5
- 235000008434 ginseng Nutrition 0.000 description 5
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 5
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 5
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 5
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 5
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CETWDUZRCINIHU-UHFFFAOYSA-N 2-heptanol Chemical compound CCCCCC(C)O CETWDUZRCINIHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 4
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 4
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical class C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 4
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N (+-)-Isoprenaline Chemical compound CC(C)NCC(O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006218 1-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QNVRIHYSUZMSGM-LURJTMIESA-N 2-Hexanol Natural products CCCC[C@H](C)O QNVRIHYSUZMSGM-LURJTMIESA-N 0.000 description 3
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 3
- 125000005916 2-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005917 3-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N Diazomethane Chemical class C=[N+]=[N-] YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 3
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 3
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 3
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 3
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N n-butyl methyl ketone Natural products CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1CC KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLLSSPDPJPLOR-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbut-2-ene Chemical group CC(C)=C(C)C WGLLSSPDPJPLOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXGUIWHIADMCFC-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpropyl 2-methylpropionate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)C RXGUIWHIADMCFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C=C XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BKOOMYPCSUNDGP-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-2-ene Chemical group CC=C(C)C BKOOMYPCSUNDGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical group OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDFXRVAOBHEBGJ-UHFFFAOYSA-N 3-(cyclononen-1-yl)-4,5,6,7,8,9-hexahydro-1h-diazonine Chemical compound C1CCCCCCC=C1C1=NNCCCCCC1 QDFXRVAOBHEBGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-hexanone Chemical compound CC(C)CCC(C)=O FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZKSECIXORKHQS-UHFFFAOYSA-N Heptan-3-ol Chemical compound CCCCC(O)CC RZKSECIXORKHQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWATWSYOIIXYMA-UHFFFAOYSA-N Pentylbenzene Chemical compound CCCCCC1=CC=CC=C1 PWATWSYOIIXYMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000002635 aromatic organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPRLTFBKWDERLU-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.2]octane Chemical compound C1CC2CCC1CC2 GPRLTFBKWDERLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 2
- NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N butyl formate Chemical compound CCCCOC=O NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N carbonyldiimidazole Chemical compound C1=CN=CN1C(=O)N1C=CN=C1 PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- NLUNLVTVUDIHFE-UHFFFAOYSA-N cyclooctylcyclooctane Chemical group C1CCCCCCC1C1CCCCCCC1 NLUNLVTVUDIHFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000005549 heteroarylene group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOCHHNOQQHDWHG-UHFFFAOYSA-N hexan-3-ol Chemical compound CCCC(O)CC ZOCHHNOQQHDWHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical compound C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- SJWFXCIHNDVPSH-UHFFFAOYSA-N octan-2-ol Chemical compound CCCCCCC(C)O SJWFXCIHNDVPSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N octan-3-ol Chemical compound CCCCCC(O)CC NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 2
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 2
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 125000002345 steroid group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZHROOGPARRVHS-UHFFFAOYSA-N triacetylene Chemical compound C#CC#CC#C MZHROOGPARRVHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005671 trienes Chemical group 0.000 description 2
- RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutyl) acetate Chemical compound COC(C)(C)CCOC(C)=O RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N (R)-camphor Chemical compound C1C[C@@]2(C)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- QAERDLQYXMEHEB-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3,3-pentafluoroprop-1-ene Chemical group FC(F)=CC(F)(F)F QAERDLQYXMEHEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOLWBTYFFTMCW-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,5,6,7-hexahydroimidazo[1,5-a]pyridine Chemical compound C1CCN2CNCC2=C1 XLOLWBTYFFTMCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDNKZNFMNDZQMI-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisopropylcarbodiimide Chemical compound CC(C)N=C=NC(C)C BDNKZNFMNDZQMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPVXHAANQNHFSF-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxan-2-one Chemical compound O=C1COCCO1 VPVXHAANQNHFSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-non-5-ene Chemical compound C1CCN=C2CCCN21 SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMDZBCPBFSXMTL-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide Substances CCN=C=NCCCN(C)C LMDZBCPBFSXMTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 1-pyrrolidin-3-ylpyrrolidine Chemical compound C1CCCN1C1CNCC1 HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 2,6-di(propan-2-yl)aniline Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1N WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWKQJZCTQGMHKD-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylpyridine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=N1 UWKQJZCTQGMHKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXXFZKQPYACQLD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCO XXXFZKQPYACQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGJMFCAWGKNEAZ-UHFFFAOYSA-N 2-(methoxymethoxy)ethanamine Chemical compound COCOCCN DGJMFCAWGKNEAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJYQGDNOPVHONN-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-acetyloxyethyl)amino]ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCN(CCOC(C)=O)CCOC(C)=O DJYQGDNOPVHONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- FEWFXBUNENSNBQ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyacrylic acid Chemical class OC(=C)C(O)=O FEWFXBUNENSNBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPPFYBPQAPISCT-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl acetate Chemical compound CC(O)COC(C)=O PPPFYBPQAPISCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyliminomethylidene-ethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN=C=NCCCN(C)C FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMRPBPVERJPACX-QMMMGPOBSA-N 3-Octanol Natural products CCCCC[C@@H](O)CC NMRPBPVERJPACX-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical group C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 9H-thioxanthene Chemical group C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3SC2=C1 PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- AXPZDYVDTMMLNB-UHFFFAOYSA-N Benzyl ethyl ether Chemical compound CCOCC1=CC=CC=C1 AXPZDYVDTMMLNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TVSSZLPCOSUMSU-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)O.COC(CC(=O)O)C Chemical compound C(C)(=O)O.COC(CC(=O)O)C TVSSZLPCOSUMSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-OUBTZVSYSA-N Carbon-13 Chemical compound [13C] OKTJSMMVPCPJKN-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000723346 Cinnamomum camphora Species 0.000 description 1
- PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N Cyclobutane Chemical compound C1CCC1 PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N Cyclopropane Chemical compound C1CC1 LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical compound C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N Heptylamine Chemical compound CCCCCCCN WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N Methyl-2-hydoxyisobutyric acid Chemical compound COC(=O)C(C)(C)O XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100323029 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) alc-1 gene Proteins 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFFFKMOABOFIDF-UHFFFAOYSA-N Pentanenitrile Chemical compound CCCCC#N RFFFKMOABOFIDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPWFISCTZQNZAU-UHFFFAOYSA-N Thiane Chemical group C1CCSCC1 YPWFISCTZQNZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007877 V-601 Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- XRLHGXGMYJNYCR-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2-(2-hydroxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CC(O)=O.CC(O)COC(C)CO XRLHGXGMYJNYCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethoxyethane Chemical compound CC(O)=O.CCOCC KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001573 adamantine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005282 allenyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- LLCSWKVOHICRDD-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diyne Chemical group C#CC#C LLCSWKVOHICRDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229960000846 camphor Drugs 0.000 description 1
- 229930008380 camphor Natural products 0.000 description 1
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- BZDWENUBDLILHM-UHFFFAOYSA-N dehydroadamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC2=CC1C3 BZDWENUBDLILHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000005265 dialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N dibenzothiophene Chemical group C1=CC=CC=2[34S]C3=C(C=21)C=CC=C3 IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N 0.000 description 1
- 125000002897 diene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical group 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N dioctylamine Chemical compound CCCCCCCCNCCCCCCCC LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000018459 dissociative disease Diseases 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- UHKJHMOIRYZSTH-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCOC(C)C(=O)OCC UHKJHMOIRYZSTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-[2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-(2-methoxy-2-oxoethyl)amino]ethyl]amino]acetate Chemical compound C=1C=CC=C(OC(C)=O)C=1CN(CC(=O)OC)CCN(CC(=O)OC)CC1=CC=CC=C1OC(C)=O OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N mono-hydroxyphenyl-ethylene Natural products OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzyl-1-phenylmethanamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COFKFSSWMQHKMD-UHFFFAOYSA-N n,n-didecyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCN(CCCCCCCCCC)CCCCCCCCCC COFKFSSWMQHKMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N n,n-diheptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(CCCCCCC)CCCCCCC CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJWMENBYMFZACG-UHFFFAOYSA-N n-heptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCNCCCCCCC NJWMENBYMFZACG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZJVVXCHJIQVOL-UHFFFAOYSA-N nitro(phenyl)methanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C([N+]([O-])=O)C1=CC=CC=C1 IZJVVXCHJIQVOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006344 nonafluoro n-butyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N octan-4-ol Chemical compound CCCCC(O)CCC WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N phenetole Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1 DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229920003050 poly-cycloolefin Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- ILVGAIQLOCKNQA-UHFFFAOYSA-N propyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)O ILVGAIQLOCKNQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 150000005619 secondary aliphatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011827 silicon-based solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- LPQZERIRKRYGGM-UHFFFAOYSA-N tert-butyl pyrrolidine-1-carboxylate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)N1CCCC1 LPQZERIRKRYGGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003510 tertiary aliphatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- XBFJAVXCNXDMBH-UHFFFAOYSA-N tetracyclo[6.2.1.1(3,6).0(2,7)]dodec-4-ene Chemical compound C1C(C23)C=CC1C3C1CC2CC1 XBFJAVXCNXDMBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001412 tetrahydropyranyl group Chemical group 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical group C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- SWZDQOUHBYYPJD-UHFFFAOYSA-N tridodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(CCCCCCCCCCCC)CCCCCCCCCCCC SWZDQOUHBYYPJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
本發明採用具有一般式(a0-1)表示之化合物所衍生之構成單位且含有樹脂成分之阻劑組成物。一般式中,R
m為烷基、鹵化烷基、鹵原子或氫原子;L
1為脂肪族烴基;n為0~2之整數;R
a0為酸解離性基。R
a01為脂肪族烴基;R
a02、R
a03及R
a04為烴基或氫原子。R
a01與R
a02亦可鍵結並形成脂環構造。R
a03與R
a04亦可鍵結並形成芳香環構造或脂環構造。R
a01及R
a02鍵結所形成之脂環構造與R
a03及R
a04鍵結所形成之芳香環構造或脂環構造亦可縮合,R
a05為鏈狀或脂環式之烴基或氫原子。
Description
本發明為關於一種阻劑組成物、阻劑圖型形成方法、新穎之化合物及高分子化合物。
本案主張2022年3月9日在日本申請之特願2022-036439號為優先權,並沿用其內容。
近年來,在半導體元件或液晶顯示元件之製造中,因微影技術之進步,圖型之微細化急速地進化。作為微細化之手法,一般來說有進行曝光光源之短波長化(高能量化)。
阻劑材料要求對此等之曝光光源之感度、能夠再現微細之大小之圖型之解像性等之微影特性。
作為滿足如此之要求之阻劑材料,以往,有使用含有因酸之作用而對顯像液之溶解性有變化之基材成分與因曝光而產生酸之酸產生劑成分之化學增幅型阻劑組成物。
化學增幅型阻劑組成物中,一般來說,為了微影特性等之提升,有使用具有複數構成單位之樹脂。
例如專利文獻1中有提案一種阻劑組成物,其係含有:具有特定構造之重複單位二種且因酸之作用而對鹼顯像液之溶解度增加之樹脂。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2006-276759號公報
[本發明欲解決之課題]
隨著微影技術之更進步、阻劑圖型之微細化之演進,例如EUV或EB之微影中,目標為形成數十nm之微細圖型。如此,伴隨圖型之更微細化,阻劑膜之薄膜化也在進步,阻劑材料中,更需要將阻劑圖型作為光罩進行蝕刻時之耐蝕刻性提升。進而,隨著圖型之微細化的進步,阻劑材料也更要求對放射線之高感度化。對於此等之要求特性,在以往阻劑組成物中,更要求性能之提升。
本發明有鑑於上述事實,其課題為提供一種在更提高耐蝕刻性的同時,也能夠追求高感度化之阻劑組成物、使用該阻劑組成物之阻劑圖型形成方法、有用於該阻劑組成物之高分子化合物,及用來製造該高分子化合物之有用的化合物。
[解決課題之手段]
為了解決上述課題,本發明採用以下構成。
亦即,本發明之第1型態為提供一種阻劑組成物,其係因曝光產生酸,且因酸之作用而對顯像液之溶解性有變化之阻劑組成物,
且含有因酸之作用而對顯像液之溶解性有變化之樹脂成分(A1),前述樹脂成分(A1)具有由下述一般式(a0-1)表示之化合物所衍生之構成單位(a0)。
[式(a0-1)中,R
m為碳數1~5之烷基、碳數1~5之鹵化烷基、鹵原子或氫原子。L
1為亦可具有取代基之脂肪族烴基,構成該脂肪族烴基之碳原子之一部份亦可經雜原子取代,n為0~2之整數,R
a0為上述一般式(a0-r-1)表示之酸解離性基,R
a01為脂肪族烴基,R
a02、R
a03及R
a04各自獨立為亦可具有取代基之烴基或氫原子,R
a01與R
a02亦可相互鍵結並形成脂環構造,R
a03與R
a04亦可相互鍵結並形成芳香環構造或脂環構造,或R
a01及R
a02相互鍵結所形成之脂環構造與R
a03及R
a04相互鍵結所形成之芳香環構造或脂環構造亦可縮合,R
a05為鏈狀或脂環式之烴基或氫原子,*表示與R
a0所鍵結之氧基(-O-)之鍵結處]。
本發明之第2型態為提供一種阻劑圖型形成方法,其係具有:
於支持體上,使用前述第1型態相關之阻劑組成物,形成阻劑膜之步驟、
將前述阻劑膜曝光之步驟,及
將前述曝光後之阻劑膜顯像,形成阻劑圖型之步驟。
本發明之第3型態為提供一種下述一般式(a0-1)表示之化合物。
[式(a0-1)中,R
m為碳數1~5之烷基、碳數1~5之鹵化烷基、鹵原子或氫原子。L
1為亦可具有取代基之脂肪族烴基,構成該脂肪族烴基之碳原子之一部份亦可經雜原子取代,n為0~2之整數,R
a0為上述一般式(a0-r-1)表示之酸解離性基,R
a01為脂肪族烴基,R
a02、R
a03及R
a04各自獨立為亦可具有取代基之烴基或氫原子,R
a01與R
a02亦可相互鍵結並形成脂環構造,R
a03與R
a04亦可相互鍵結並形成芳香環構造或脂環構造,或R
a01及R
a02相互鍵結所形成之脂環構造與R
a03及R
a04相互鍵結所形成之芳香環構造或脂環構造亦可縮合,R
a05為鏈狀或脂環式之烴基或氫原子,*表示與R
a0所鍵結之氧基(-O-)之鍵結處]。
本發明之第4型態為提供一種具有由下述一般式(a0-1)表示之化合物所衍生之構成單位之高分子化合物。
[式(a0-1)中,R
m為碳數1~5之烷基、碳數1~5之鹵化烷基、鹵原子或氫原子。L
1為亦可具有取代基之脂肪族烴基,構成該脂肪族烴基之碳原子之一部份亦可經雜原子取代,n為0~2之整數,R
a0為上述一般式(a0-r-1)表示之酸解離性基,R
a01為脂肪族烴基,R
a02、R
a03及R
a04各自獨立為亦可具有取代基之烴基或氫原子,R
a01與R
a02亦可相互鍵結並形成脂環構造,R
a03與R
a04亦可相互鍵結並形成芳香環構造或脂環構造,或R
a01及R
a02相互鍵結所形成之脂環構造與R
a03及R
a04相互鍵結所形成之芳香環構造或脂環構造亦可縮合,R
a05為鏈狀或脂環式之烴基,或氫原子,*表示與R
a0所鍵結之氧基(-O-)之鍵結處。]
[發明效果]
藉由本發明,能夠提供一種在更提高耐蝕刻性的同時,也能夠追求高感度化之阻劑組成物、使用該阻劑組成物之阻劑圖型形成方法、有用於該阻劑組成物之高分子化合物,及用來製造該高分子化合物之有用的化合物。
本說明書及本申請專利範圍中,「脂肪族」意指定義為對芳香族為相對之概念,且不具有芳香族性之基、化合物等。
「烷基」只要沒有特別排除,其係包含直鏈狀、分支鏈狀及環狀之1價飽和烴基者。烷氧基中之烷基亦相同。
「伸烷基」只要沒有特別排除,其係包含直鏈狀、分支鏈狀及環狀之2價飽和烴基者。
「鹵原子」有舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
「構成單位」意指構成高分子化合物(樹脂、聚合物、共聚合物)之單體單位(單體單位)。
記載成「亦可具有取代基」時,包含將氫原子(-H)以1價基取代之情形與將亞甲基(-CH
2-)以2價基取代之情形兩種。
「曝光」之概念為包含放射線之照射整體。
「基材成分」意指具有膜形成能之有機化合物。作為基材成分使用之有機化合物大致區別為非聚合物與聚合物。作為非聚合物,通常使用分子量為500以上且未滿4000者。以下稱為「低分子化合物」時表示分子量為500以上且未滿4000之非聚合物。作為聚合物,通常使用分子量為1000以上者。以下稱為「樹脂」、「高分子化合物」或「聚合物」時表示分子量為1000以上之聚合物。作為聚合物之分子量,使用GPC(凝膠滲透層析)之聚苯乙烯換算之質量平均分子量者。
「衍生之構成單位」意指碳原子間之多鍵,例如乙烯性雙鍵開裂所構成之構成單位。
「丙烯酸酯」中,鍵結於α位碳原子之氫原子亦可經取代基取代。取代該鍵結於α位碳原子之氫原子之取代基(Rαx)為氫原子以外之原子或基。且亦包含取代基(Rαx)經包含酯鍵結之取代基取代之衣康酸二酯,或取代基(Rαx)經羥基烷基或修飾其羥基之基取代之α羥基丙烯醯酯。且,丙烯酸酯之α位碳原子,只要沒有特別排除,意指丙烯酸之羰基所鍵結之碳原子。
以下,有時將鍵結於α位碳原子之氫原子經取代基取代之丙烯酸酯稱作α取代丙烯酸酯。
「衍生物」意指包含對象化合物之α位氫原子經烷基、鹵化烷基等其他取代基取代者以及此等之衍生物之概念。作為此等之衍生物,有舉出將α位氫原子亦可經取代基取代之對象化合物之羥基之氫原子以有機基取代者;α位氫原子亦可經取代基取代之對象化合物上鍵結羥基以外之取代基者等。且,α位只要沒有特別排除,意指與官能基相鄰的第1個碳原子。
作為取代羥基苯乙烯之α位氫原子之取代基,有舉出與Rαx相同者。
在本說明書及本案申請專利範圍中,根據化學式表示之構造,有存在不對稱碳,也能夠有存在鏡像異構物(enantiomer)或非鏡像異構物(diastereomer)。此時以一種化學式代表此等之異性體。此等之異性體亦可單獨使用,亦可作為混合物來使用。
(阻劑組成物)
本發明之第1型態相關之阻劑組成物為因曝光而產生酸,且因酸之作用而對顯像液之溶解性有變化。
相關之實施形態之阻劑組成物含有因酸之作用而對顯像液之溶解性有變化之基材成分(A)(以下亦稱作「(A)成分」)。
使用本實施形態之阻劑組成物,形成阻劑膜,若對該阻劑膜進行選擇性曝光,該阻劑膜之曝光部會產生酸,且因該酸之作用,(A)成分對顯像液之溶解性會有變化,另一方面,該阻劑膜之未曝光部中,(A)成分對顯像液之溶解性不會有變化,故在該阻劑膜之曝光部與未曝光部之間,會產生對顯像液之溶解性之差。
本實施形態之阻劑組成物亦可為正型阻劑組成物或負型阻劑組成物。
且,本實施形態之阻劑組成物亦可為阻劑圖型形成時之顯像處理中使用鹼顯像液之鹼顯像製程用,亦可為該顯像處理中使用有機系顯像液之溶劑顯像製程用。
亦即,本實施形態之阻劑組成物在鹼顯像製程中,為形成正型阻劑圖型之「鹼顯像製程用正型阻劑組成物」,在溶劑顯像製程中,為形成負型阻劑圖型之「溶劑顯像製程用負型阻劑組成物」。
<(A)成分>
本實施形態之阻劑組成物中,(A)成分包含因酸之作用而對顯像液之溶解性有變化之樹脂成分(A1)(以下亦稱作「(A1)成分」),前述(A1)成分具有由一般式(a0-1)表示之化合物所衍生之構成單位(a0)。
作為(A)成分,至少使用(A1)成分,亦可與該(A1)成分同時併用其他高分子化合物及低分子化合物中至少一種。
實施形態之阻劑組成物中,(A)成分亦可單獨使用1種,亦可併用2種以上。
・關於(A1)成分
(A1)成分具有由後述一般式(a0-1)表示之化合物所衍生之構成單位(a0)。
(A1)成分中,除了構成單位(a0)之外,亦可具有構成單位(a0)以外之其他構成單位。
≪構成單位(a0)≫
構成單位(a0)為由下述一般式(a0-1)表示之化合物所衍生之構成單位。
相關之構成單位(a0)中,式(a0-1)中之R
a0為酸解離性基,此酸解離性基會保護式(a0-1)中之羰基氧基[-C(=O)-O-]之氧基(-O-)側。
於此之「酸解離性基」具有因酸之作用,該酸解離性基及與該酸解離性基相鄰之氧原子(氧基(-O-))之間的鍵結會開裂之酸解離性。因酸之作用使該酸解離性基解離時,會產生極性比該酸解離性基高之極性基(羧基),且極性會增加。其結果,(A1)成分整體之極性會增加。(A1)成分藉由極性增加,相對地對顯像液之溶解性也會有變化,顯像液為鹼顯像液時,溶解性會增加,顯像液為有機系顯像液時,溶解性會減少。
[式(a0-1)中,R
m為碳數1~5之烷基、碳數1~5之鹵化烷基、鹵原子或氫原子。L
1為亦可具有取代基之脂肪族烴基,構成該脂肪族烴基之碳原子之一部份亦可經雜原子取代,n為0~2之整數,R
a0為上述一般式(a0-r-1)表示之酸解離性基,R
a01為脂肪族烴基,R
a02、R
a03及R
a04各自獨立為亦可具有取代基之烴基或氫原子,R
a01與R
a02亦可相互鍵結並形成脂環構造,R
a03與R
a04亦可相互鍵結並形成芳香環構造或脂環構造,或R
a01及R
a02相互鍵結所形成之脂環構造與R
a03及R
a04相互鍵結所形成之芳香環構造或脂環構造亦可縮合,R
a05為鏈狀或脂環式之烴基,或氫原子,*表示與R
a0所鍵結之氧基(-O-)之鍵結處。]
前述式(a0-1)中,R
m為碳數1~5之烷基、碳數1~5之鹵化烷基、鹵原子或氫原子。
R
m之碳數1~5之烷基為碳數1~5之直鏈狀或分支鏈狀之烷基較佳,有舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、tert-丁基、戊基、異戊基、新戊基等。
碳數1~5之鹵化烷基為經前述碳數1~5之烷基之氫原子之一部份或全部經鹵原子取代之基。
作為鹵原子,有舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。作為鹵化烷基中之鹵原子,尤其是氟原子較佳。
作為R
m,為氫原子、碳數1~5之烷基或碳數1~5之氟化烷基較佳,以工業上之取得容易度來看,為氫原子或甲基最佳。
前述式(a0-1)中,L
1為亦可具有取代基之脂肪族烴基,構成該脂肪族烴基之碳原子之一部份亦可經雜原子取代,
L
1中之脂肪族烴基意指不具有芳香族性之烴基。該脂肪族烴基亦可為飽和或不飽和,飽和較佳。作為前述脂肪族烴基,有舉出直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基,或構造中包含環之脂肪族烴基等。
L
1中之該直鏈狀之脂肪族烴基為碳原子數1~10較佳,為碳原子數1~6再較佳,為碳原子數1~4更較佳,為碳原子數1~3最佳。
作為直鏈狀之脂肪族烴基,為直鏈狀之伸烷基較佳,具體來說,有舉出亞甲基[-CH
2-]、伸乙基[-(CH
2)
2-]、三伸甲基[-(CH
2)
3-]、四伸甲基[-(CH
2)
4-]、五伸甲基[-(CH
2)
5-]等。
L
1中之該分支鏈狀之脂肪族烴基為碳原子數2~10較佳,為碳原子數3~6再較佳,為碳原子數3或4更較佳,為碳原子數3最佳。
作為分支鏈狀之脂肪族烴基,為分支鏈狀之伸烷基較佳,具體來說有舉出-CH(CH
3)-、-CH(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)
2-、-C(CH
3)(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)(CH
2CH
2CH
3)-、-C(CH
2CH
3)
2-等之烷基伸甲基;-CH(CH
3)CH
2-、-CH(CH
3)CH(CH
3)-、 -C(CH
3)
2CH
2-、-CH(CH
2CH
3)CH
2-、-C(CH
2CH
3)
2-CH
2-等之烷基伸乙基;-CH(CH
3)CH
2CH
2-、-CH
2CH(CH
3)CH
2-等之烷基三伸甲基;-CH(CH
3)CH
2CH
2CH
2-、-CH
2CH(CH
3)CH
2CH
2-等之烷基四亞甲基等之烷基伸烷基等。作為烷基伸烷基中之烷基,為碳原子數1~5之直鏈狀之烷基較佳。
前述直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基亦可具有或不具有取代基。作為該取代基,有舉出氟原子、經氟原子取代之碳原子數1~5之氟化烷基、羰基等。
L
1中,作為該構造中包含環之脂肪族烴基,有舉出環構造中亦可包含包含雜原子之取代基之環狀脂肪族烴基(自脂肪族烴環去除2個氫原子之基)、前述環狀脂肪族烴基鍵結於直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基之末端之基、前述環狀脂肪族烴基介在直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基中間之基等。作為前述直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基,有舉出與前述相同者。
環狀之脂肪族烴基為碳原子數3~20較佳,為碳原子數3~12再較佳。
環狀之脂肪族烴基亦可為多環式基或單環式基。作為單環式之脂環式烴基,為自單環烷烴去除2個氫原子之基較佳。作為該單環烷烴,為碳原子數3~6者較佳,具體來說有舉出環戊烷、環己烷等。作為多環式之脂環式烴基,為自聚環烷烴去除2個氫原子之基較佳,作為該聚環烷烴,為碳原子數7~12較佳,具體來說有舉出金剛烷、降烷、異烷、三環癸烷、四環十二烷等。
環狀脂肪族烴基亦可具有或不具有取代基。作為該取代基,有舉出烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基、羥基、羰基等。
作為前述取代基之烷基,為碳原子數1~5之烷基較佳,為甲基、乙基、丙基、n-丁基、tert-丁基最佳。
前述作為取代基之烷氧基,為碳原子數1~5之烷氧基較佳,為甲氧基、乙氧基、n-丙氧基、iso-丙氧基、n-丁氧基、tert-丁氧基再較佳,為甲氧基、乙氧基最佳。
前述作為取代基之鹵原子,有舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等,為氟原子較佳。
作為前述取代基之鹵化烷基,有舉出前述烷基之氫原子之一部份或全部經前述鹵原子取代之基。
構成L
1中該脂肪族烴基之碳原子之一部份亦可經雜原子取代。
例如,L
1中,環狀之脂肪族烴基係構成其環構造之碳原子之一部份經包含雜原子之取代基取代。作為包含該雜原子之取代基,為-O-、-C(=O)-O-、-S-、-S(=O)
2-、-S(=O)
2-O-較佳。
上述中,作為L
1,為直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基較佳,為直鏈狀之脂肪族烴基再較佳,為碳原子數1~10更較佳,亦即,L
1為-(CH
2)s-;s為1~10之整數所表示之直鏈狀伸烷基較佳。
作為L
1,具體來說,有舉出伸甲基[-CH
2-]、伸乙基 [-(CH
2)
2-]、三伸甲基[-(CH
2)
3-]、四伸甲基[-(CH
2)
4-]、五伸甲基[-(CH
2)
5-],為伸甲基[-CH
2-]、伸乙基[-(CH
2)
2-]特別佳。
前述式(a0-1)中,n為0~2之整數,較佳為0或1。
前述式(a0-1)中,R
a0為上述一般式(a0-r-1)表示之酸解離性基,式(a0-r-1)中,*表示與R
a0所鍵結之氧基(-O-)之鍵結處。
R
a0以高感度化之點,為鏈狀之基較佳。
R
a0以耐蝕刻性之點,為環狀之基較佳。
前述式(a0-r-1)中,R
a01為脂肪族烴基,
作為R
a01中之脂肪族烴基,有舉出直鏈狀或分支鏈狀之烴基,為直鏈狀之烴基較佳。作為於此之直鏈狀或分支鏈狀之烴基之碳原子數,為碳原子數1~10較佳,為碳原子數1~6再較佳,為碳原子數1~4更較佳。
作為R
a01中之直鏈狀或分支鏈狀之烷基之具體例,有舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、tert-丁基、戊基、異戊基、新戊基等,為甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、tert-丁基較佳,為甲基、乙基再較佳,為甲基更較佳。
前述式(a0-r-1)中,R
a02、R
a03及R
a04各自獨立為亦可具有取代基之烴基或氫原子。
作為R
a02、R
a03及R
a04中之烴基,為脂肪族烴基較佳,亦可為飽和脂肪族烴基或不飽和脂肪族烴基,為飽和脂肪族烴基再較佳。
作為R
a02、R
a03及R
a04中之飽和脂肪族烴基,有舉出直鏈狀、分支鏈狀,或環狀之烷基。
作為R
a02、R
a03及R
a04中之直鏈狀或分支鏈狀之烷基,有舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、tert-丁基、戊基、異戊基、新戊基等,為甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、tert-丁基較佳,為甲基、乙基再較佳,為甲基更較佳。
作為R
a02、R
a03及R
a04中之環狀之烷基,有舉出碳原子數3~20之脂環式基。此脂環式基亦可為單環式基或多環式基。
作為單環之脂環式基,有舉出自單環烷烴去除1個氫原子之基。前述單環烷烴為碳原子數3~10較佳,為碳原子數4~8再較佳,為碳原子數5~6更較佳。作為單環烷烴之具體例,有舉出環丙烷、環丁烷、環戊烷、環己烷、環庚烷、環辛烷等。其中,為環戊烷或環己烷較佳。
作為多環之脂環式基,有舉出自聚環烷烴去除1個氫原子之基。前述聚環烷烴為碳原子數7~15較佳,為碳原子數7~12再較佳,為7~10更較佳。作為前述聚環烷烴之具體例,有舉出金剛烷、降烷、異烷、三環癸烷、四環十二烷等。
作為R
a02、R
a03及R
a04中之烴基所亦可具有之取代基,有舉例如烷基、鹵原子、鹵化烷基等。
作為前述取代基之烷基,為碳原子數1~5之烷基較佳,為甲基、乙基、丙基、n-丁基、tert-丁基最佳。
作為前述取代基之鹵原子,有舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。
作為前述取代基之鹵化烷基,有舉出前述烷基之氫原子之一部份或全部經前述鹵原子取代之基。
上述中,作為R
a02、R
a03及R
a04,各自獨立為直鏈狀或分支鏈狀之烷基,或氫原子較佳,為直鏈狀之烷基、氫原子再較佳。
前述式(a0-r-1)中,R
a01與R
a02亦可相互鍵結並形成脂環構造,作為R
a01與R
a02所形成之脂環構造,有舉出碳原子數3~20之脂環式基。於此之脂環式基亦可為單環式基或多環式基,為碳原子數5~15之脂環式基較佳,例如為環戊烯基或環己烯基較佳,為環戊烯基再較佳。
構成前述脂環構造之碳原子之一部份亦可經雜原子取代。作為於此之雜原子,有舉出氧原子、硫原子、氮原子等。惟,以酸解離性之點,在Ra
01中,與氧基(-O-)鍵結之第3級碳原子上有鍵結碳原子。
前述式(a0-r-1)中,R
a03與R
a04亦可相互鍵結並形成芳香環構造或脂環構造。
作為R
a03與R
a04所形成之芳香環構造,為碳原子數5~30較佳,為碳原子數5~20再較佳,為碳原子數6~15更較佳,為碳原子數6~12特別佳。作為該芳香環構造,具體來說,有舉出苯、萘、蒽、菲等之芳香族烴環;構成前述芳香族烴環之碳原子之一部份經雜原子取代之芳香族雜環等。作為芳香族雜環中之雜原子,有舉出氧原子、硫原子、氮原子等。
作為R
a03與R
a04所形成之脂環構造,有舉出上述與R
a01與R
a02所形成之脂環構造相同者。
或R
a01及R
a02相互鍵結所形成之脂環構造與R
a03及R
a04相互鍵結所形成之芳香環構造或脂環構造亦可縮合。
前述式(a0-r-1)中,作為R
a01以及R
a02、R
a03及R
a04,R
a01為直鏈狀之烴基,有適當地舉出R
a02、R
a03及R
a04皆為氫原子之情形;R
a03與R
a04相互鍵結並形成芳香環構造之情形;R
a01與R
a02會相互鍵結並形成脂環構造之情形。
關於R
a01與R
a02會相互鍵結並形成脂環構造之情形,有適當地舉例如R
a01與R
a02相互鍵結並形成脂環構造,R
a03及R
a04各自為直鏈狀或分支鏈狀之烷基或氫原子之情形;R
a01及R
a02相互鍵結所形成之脂環構造與R
a03及R
a04相互鍵結所形成之芳香環構造會縮合,並形成縮合環構造之情形。
作為R
a01以及R
a02、R
a03及R
a04,尤其是以高感度化之點,為鏈狀之基較佳,也適當地舉出R
a01為直鏈狀之烴基,R
a02、R
a03及R
a04皆為氫原子時之情形。
作為R
a01以及R
a02、R
a03及R
a04,尤其是以耐蝕刻性之點,為環狀之基較佳,也適當地舉出R
a03與R
a04相互鍵結並形成芳香環構造之情形;R
a01與R
a02會相互鍵結並形成脂環構造之情形。
前述式(a0-r-1)中,R
a05為鏈狀或脂環式之烴基,或氫原子。
R
a05中之鏈狀烴基,有舉出直鏈狀或分支鏈狀之飽和烴基(烷基),或直鏈狀或者分支鏈狀之不飽和烴基。
作為該直鏈狀或分支鏈狀之烷基之具體例,有舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、tert-丁基、戊基、異戊基、新戊基等。
作為該直鏈狀或分枝鏈狀之不飽和烴基中之不飽和烴基,更具體來說有舉出烯基、二烯烴基、三烯烴基等之具有雙鍵之不飽和烴基;自炔基、二炔去除1個氫原子之基、自三炔去除1個氫原子之基等具有三鍵之不飽和烴基。
作為該直鏈狀或分枝鏈狀之烯基之具體例,有舉出乙烯基、丙烯基(烯丙基)、2-丁烯基等之直鏈狀烯基;1-甲基乙烯基、2-甲基乙烯基、1-甲基丙烯基、2-甲基丙烯基等之分枝鏈狀烯基等。
作為該二烯烴基之具體例,有舉出丙二烯基、丁二烯基等。
作為該三烯烴基之具體例,有舉出丁三烯基等。
作為該直鏈狀或分枝鏈狀之炔基之具體例,有舉出乙炔基、丙炔基、3-戊烯基等之直鏈狀之炔基;1-甲基丙炔基等之分枝鏈狀之炔基等。
作為自該二炔去除1個氫原子之基之具體例,有舉出自二乙炔去除1個氫原子之基等。
作為自該三炔去除1個氫原子之基之具體例,有舉出自六-1,3,5-三炔去除1個氫原子之基等。
R
a05中,作為脂環式之烴基,具體來說有舉出單環之脂環式基、多環之脂環式基。
作為單環之脂環式基,為單環烷烴或自單環烯烴去除1個以上之氫原子之基較佳。作為該單環烷烴,為碳原子數3~6者較佳,具體來說有舉出環戊烷、環己烷等。作為該單環烯烴,為碳原子數3~6者較佳,具體來說有舉出環戊烯、環己烯等。
作為多環之脂環式基,為聚環烷烴或自聚環烯烴去除1個以上之氫原子之基較佳,作為該聚環烷烴,為碳原子數7~12者較佳,具體來說有舉出金剛烷、降烷、異烷、三環癸烷、四環十二烷等。且,作為該聚環烯烴,為碳原子數7~12者較佳,具體來說有舉出金剛烯、降烯、異烯、三環癸烯、四環十二烯等。
前述式(a0-r-1)中,R
a05在上述中,為直鏈狀或分支鏈狀之飽和烴基(烷基),或氫原子較佳。
以耐蝕刻性之點,R
a05為氫原子較佳。
以感度之點,R
a05為鏈狀或脂環式之烴基較佳。
以下表示構成單位(a0)之具體例。
以下各式中,R
α表示氫原子、甲基或三氟甲基。
本實施形態之阻劑組成物中,作為構成單位(a0),為選自各自以上述化學式(a0-1-u1)~(a0-1-u9)表示之構成單位、各自以化學式(a0-1-u10)~(a0-1-u18)表示之構成單位、各自以化學式(a0-1-u19)~(a0-1-u27)表示之構成單位所成群中至少一種較佳,此等中,為選自各自以上述化學式(a0-1-u1)~(a0-1-u6)表示之構成單位、各自以化學式(a0-1-u10)~(a0-1-u15)表示之構成單位及各自以化學式(a0-1-u19)~(a0-1-u24)表示之構成單位所成群中至少一種再較佳。
或以高感度化之點,作為構成單位(a0),選自各自以化學式(a0-1-u1)、化學式(a0-1-u10)及化學式(a0-1-u19)表示之構成單位所成群中至少一種較佳,為選自各自以化學式(a0-1-u1)及化學式(a0-1-u10)表示之構成單位所成群中至少一種再較佳。
以耐蝕刻性之點,作為構成單位(a0),為選自各自以化學式(a0-1-u2)~(a0-1-u9)表示之構成單位、各自以化學式(a0-1-u11)~(a0-1-u18)表示之構成單位及化學式(a0-1-u20)~(a0-1-u27)表示之構成單位所成群中至少一種較佳,為選自各自以化學式(a0-1-u2)~(a0-1-u6)表示之構成單位、各自以化學式(a0-1-u11)~(a0-1-u15)表示之構成單位及各自以化學式(a0-1-u20)~(a0-1-u24)表示之構成單位所成群中至少一種再較佳。
(A1)成分所具有之構成單位(a0)亦可為1種或2種以上。
(A1)成分中構成單位(a0)之比例相對於該構成(A1)成分之全構成單位之合計(100莫耳%),為20莫耳%以上80莫耳%以下較佳,為30莫耳%以上70莫耳%以下再較佳,為40莫耳%以上65莫耳%以下更較佳。
構成單位(a0)之比例若在前述較佳範圍之下限值以上,則感度、耐蝕刻性皆容易提高。另一方面,若在前述較佳範圍之上限值以下,則容易與其他構成單位取得平衡。
≪構成單位(a0)以外之其他構成單位≫
(A1)成分中,除了上述構成單位(a0)以外,因應必要,亦可具有其他構成單位。
作為其他構成單位,有舉例如包含因酸之作用而增加極性之酸分解性基之構成單位(a1);後述一般式(a10-1)表示之構成單位(a10);因曝光而產生酸之構成單位(a5);包含含內酯之環式基之構成單位(a2);由後述一般式(a8-1)表示之化合物所衍生之構成單位(a8)等。且,其他構成單位中,去除相當於上述構成單位(a0)者。
關於構成單位(a1):
構成單位(a1)為包含因酸之作用而增加極性之酸分解性基之構成單位。但,去除相當於上述構成單位(a0)者。
「酸分解性基」為具有因酸之作用,該酸分解性基之構造中至少一部份之鍵結能夠開裂之酸分解性之基。
作為因酸之作用而增加極性之酸分解性基,有舉例如因酸之作用而分解,並產生極性基之基。作為此極性基,有舉例如為羧基、羥基、胺基、磺酸基(-SO
3H)等。
作為酸分解性基,具體來說,有舉出前述極性基經酸解離性基保護之基(例如含OH之極性基之氫原子經酸解離性基保護之基)。
作為酸解離性基,於此有舉出作為化學增幅型阻劑組成物用之基底樹脂之酸解離性基所提案者。
作為化學增幅型阻劑組成物用之基底樹脂之酸解離性基所提案者,具體來說,有舉出以下說明之「縮醛型酸解離性基」、「第3級烷基酯型酸解離性基」、「第3級烷基氧基羰基酸解離性基」、「第2級烷基酯型酸解離性基」。
縮醛型酸解離性基:
前述極性基中,作為保護羧基或羥基之酸解離性基,有舉例如下述一般式(a1-r-1)表示之酸解離性基(縮醛型酸解離性基)。
[式中,Ra’
1及Ra’
2各自為氫原子或烷基。Ra’
3為烴基,Ra’
3亦可與Ra’
1、Ra’
2之任一者鍵結並形成環。]
式(a1-r-1)中,Ra’
1及Ra’
2中,至少一者為氫原子較佳,兩者為氫原子再較佳。
Ra’
1或Ra’
2為烷基時,作為該烷基,為碳原子數1~5之烷基較佳。具體來說,較佳有舉出直鏈狀或分支鏈狀之烷基。更具體來說,有舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、tert-丁基、戊基、異戊基、新戊基等,為甲基或乙基再較佳,為甲基特別佳。
式(a1-r-1)中,作為Ra’
3之烴基,有舉出直鏈狀或分支鏈狀之烷基或環狀之烴基。
該直鏈狀之烷基,碳原子數為1~5較佳,碳原子數為1~4再較佳,碳原子數為1或2更較佳。具體來說,有舉出甲基、乙基、n-丙基、n-丁基、n-戊基等。此等之中,為甲基、乙基或n-丁基較佳,為甲基或乙基再較佳。
該分支鏈狀之烷基,碳原子數為3~10較佳,碳原子數為3~5再較佳。具體來說,有舉出異丙基、異丁基、tert-丁基、異戊基、新戊基、1,1-二乙基丙基、2,2-二甲基丁基等,為異丙基較佳。
Ra’
3成為環狀之烴基時,該烴基亦可為脂肪族烴基或芳香族烴基,且亦可為多環式基或單環式基。
作為單環式基之脂肪族烴基,為自單環烷烴去除1個氫原子之基較佳。作為該單環烷烴,為碳原子數3~6者較佳,具體來說有舉出環戊烷、環己烷等。
作為多環式基之脂肪族烴基,為自聚環烷烴去除1個氫原子之基較佳,作為該聚環烷烴,為碳原子數7~12者較佳,具體來說,有舉出金剛烷、降烷、異烷、三環癸烷、四環十二烷等。
Ra’
3之環狀烴基成為芳香族烴基時,該芳香族烴基為至少具有1個芳香環之烴基。
此芳香環只要是具有4n+2個π電子之環狀共軛系即可,並無特別限定,亦可為單環式或多環式。芳香環之碳原子數為5~30較佳,為碳原子數5~20再較佳,為碳原子數6~15更較佳,為碳原子數6~12特別佳。
作為芳香環,具體來說有舉出苯、萘、蒽、菲等之芳香族烴環;構成前述芳香族烴環之碳原子之一部份經雜原子取代之芳香族雜環等。作為芳香族雜環中之雜原子,有舉出氧原子、硫原子、氮原子等。作為芳香族雜環,具體來說有舉出吡啶環、噻吩環等。
作為Ra’
3中之芳香族烴基,具體來說有舉出自前述芳香族烴環或芳香族雜環去除1個氫原子之基(芳基或雜芳基);自包含2個以上芳香環之芳香族化合物(例如聯苯、茀等)去除1個氫原子之基;前述芳香族烴環或芳香族雜環之1個氫原子經伸烷基取代之基(例如苄基、苯乙基、1-萘基甲基、2-萘基甲基、1-萘基乙基、2-萘基乙基等之芳基烷基等)等。鍵結於前述芳香族烴環或芳香族雜環之伸烷基之碳原子數為1~4較佳,為碳原子數1~2再較佳,為碳原子數1特別佳。
Ra’
3中環狀之烴基亦可具有取代基。
作為此取代基,有舉例如-R
P1、-R
P2-O-R
P1、-R
P2-CO-R
P1、-R
P2-CO-OR
P1、-R
P2-O-CO-R
P1、-R
P2-OH、-R
P2-CN或-R
P2-COOH (以下將此等取代基統稱為「Ra
x5」)等。
於此,R
P1為碳原子數1~10之1價鏈狀飽和烴基、碳原子數3~20之1價脂肪族環狀飽和烴基或碳原子數6~30之1價芳香族烴基。且,RP2為單鍵、碳原子數1~10之2價鏈狀飽和烴基、碳原子數3~20之2價脂肪族環狀飽和烴基或碳原子數6~30之2價芳香族烴基。
但,R
P1及R
P2之鏈狀飽和烴基、脂肪族環狀飽和烴基及芳香族烴基所具有之氫原子之一部份或全部亦可經氟原子取代。上述脂肪族環狀烴基亦可單獨具有1個以上之1種上述取代基,亦可各具有1個以上之上述取代基中之複數種。
作為碳原子數1~10之1價鏈狀飽和烴基,有舉例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、癸基等。
作為碳原子數3~20之1價脂肪族環狀飽和烴基,有舉例如環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基、環癸基、環十二基等之單環式脂肪族飽和烴基;雙環[2.2.2]辛烷基、三環[5.2.1.02,6]癸烷基、三環[3.3.1.13,7]癸烷基、四環[6.2.1.13,6.02,7]十二烷基、金剛烷基等之多環式脂肪族飽和烴基。
作為碳原子數6~30之1價芳香族烴基,有舉例如自苯、聯苯、茀、萘、蒽、菲等之芳香族烴環去除1個氫原子之基。
Ra’
3與Ra’
1、Ra’
2之任一者鍵結並形成環時,作為該環式基,為4~7員環較佳,為4~6員環再較佳。作為該環式基之具體例,有舉出四氫哌喃基、四氫呋喃基等。
第3級烷基酯型酸解離性基:
上述極性基中,作為保護羧基之酸解離性基,有舉例如下述一般式(a1-r-2)表示之酸解離性基。
[式中,Ra’
4~Ra’
6各自為烴基,Ra’
5、Ra’
6亦可互相鍵結形成環。]
作為Ra’
4之烴基,有舉出直鏈狀或分支鏈狀之烷基、鏈狀或環狀之烯基,或環狀之烴基。
Ra’
4中之直鏈狀或分支鏈狀之烷基、環狀之烴基(單環式基之脂肪族烴基、多環式基之脂肪族烴基、芳香族烴基)有舉出與前述Ra’
3相同者。
Ra’
4中之鏈狀或環狀之烯基為碳原子數2~10之烯基較佳。
作為Ra’
5、Ra’
6之烴基,有舉出與前述Ra’
3相同者。
Ra’
5與Ra’
6互相鍵結形成環時,有適當地舉出下述一般式(a1-r2-1)表示之基、下述一般式(a1-r2-2)表示之基、下述一般式(a1-r2-3)表示之基。
另一方面,Ra’
4~Ra’
6不會互相鍵結,且為獨立之烴基時,有適當地舉出下述一般式(a1-r2-4)表示之基。
[式(a1-r2-1)中,Ra’
10表示一部份亦可經鹵原子或含雜原子之基取代之直鏈狀或分支鏈狀之碳原子數1~12之烷基。Ra’
11為與Ra’
10所鍵結之碳原子一起形成脂肪族環式基之基。式(a1-r2-2)中,Ya為碳原子,Xa為與Ya一起形成環狀烴基之基。此環狀烴基所具有之氫原子之一部份或全部亦可經取代。Ra
101~Ra
103各自獨立為氫原子、碳原子數1~10之1價鏈狀飽和烴基或碳原子數3~20之1價脂肪族環狀飽和烴基。其鏈狀飽和烴基及脂肪族環狀飽和烴基所具有之氫原子之一部份或全部亦可經取代。Ra
101~Ra
103之2個以上亦可互相鍵結形成環狀構造。式(a1-r2-3)中,Yaa為碳原子。Xaa為與Yaa一起形成脂肪族環式基之基。Ra
104為亦可具有取代基之芳香族烴基,式(a1-r2-4)中,Ra’
12及Ra’
13各自獨立為碳原子數1~10之1價鏈狀飽和烴基或氫原子。此鏈狀飽和烴基所具有之氫原子的一部份或全部亦可經取代。Ra’
14為亦可具有取代基之烴基。*表示鍵結處(以下,相同)。]
上述式(a1-r2-1)中,Ra’
10為一部份亦可經鹵原子或含雜原子之基取代之直鏈狀或分支鏈狀之碳原子數1~12之烷基。
Ra’
10中之直鏈狀之烷基,為碳原子數1~12,為碳原子數1~10較佳,為碳原子數1~5特別佳。
Ra’
10中作為分支鏈狀之烷基,有舉出與前述Ra’
3相同者。
Ra’
10中之烷基係一部份亦可經鹵原子或含雜原子之基取代。例如構成烷基之氫原子之一部份亦可經鹵原子或含雜原子之基取代。且,構成烷基之碳原子(亞甲基等)之一部份亦可經含雜原子之基取代。
作為於此之雜原子,有舉出氧原子、硫原子、氮原子。作為含雜原子之基,有舉出(-O-)、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-、 -C(=O)-、-O-C(=O)-O-、-C(=O)-NH-、-NH-、-S-、-S(=O)
2-、-S(=O)
2-O-等。
式(a1-r2-1)中,Ra’
11(與Ra’
10所鍵結之碳原子同時形成之脂肪族環式基)為作為式(a1-r-1)中之Ra’
3之單環式基或多環式基之脂肪族烴基(脂環式烴基)所舉出之基較佳。其中,為單環式之脂環式烴基較佳,具體來說,為環戊基、環己基再較佳。
式(a1-r2-2)中,作為Xa與Ya一起形成之環狀烴基,有舉出前述式(a1-r-1)中之Ra’3中自環狀之1價烴基(脂肪族烴基)進而去除1個以上氫原子之基。
Xa與Ya一起形成之環狀烴基亦可具有取代基。作為此取代基,有舉出與上述Ra’
3中之環狀烴基所亦可具有之取代基相同者。
式(a1-r2-2)中,Ra
101~Ra
103中,作為碳原子數1~10之1價鏈狀飽和烴基,有舉例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、癸基等。
Ra
101~Ra
103中,作為碳原子數3~20之1價脂肪族環狀飽和烴基,有舉例如環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基、環癸基、環十二基等之單環式脂肪族飽和烴基;雙環[2.2.2]辛烷基、三環[5.2.1.02,6]癸烷基、三環[3.3.1.13,7]癸烷基、四環[6.2.1.13,6.02,7]十二烷基、金剛烷基等之多環式脂肪族飽和烴基等。
Ra
101~Ra
103之中,以合成容易性之觀點來看,為氫原子、碳原子數1~10之1價鏈狀飽和烴基較佳,其中,為氫原子、甲基、乙基再較佳,為氫原子特別佳。
作為上述Ra
101~Ra
103表示之鏈狀飽和烴基或脂肪族環狀飽和烴基所具有之取代基,有舉例如與上述Ra
x5相同之基。
作為藉由Ra
101~Ra
103之2個以上互相鍵結形成環狀構造所產生之包含碳-碳雙鍵之基,有舉例如環戊烯基、環己烯基、甲基環戊烯基、甲基環己烯基、環亞戊基乙烯基、環亞己基乙烯基等。此等之中,以合成容易性之觀點來看,為環戊烯基、環己烯基、環亞戊基乙烯基較佳。
式(a1-r2-3)中,Xaa與Yaa一起形成之脂肪族環式基為作為式(a1-r-1)中之Ra’
3之單環式基或多環式基之脂肪族烴基所舉出之基較佳。
式(a1-r2-3)中,作為Ra
104中之芳香族烴基,有舉出自碳原子數5~30之芳香族烴環去除1個以上氫原子之基。其中,Ra
104為自碳原子數6~15之芳香族烴環去除1個以上氫原子之基較佳,為自苯、萘、蒽或菲去除1個以上氫原子之基再較佳,為自苯、萘或蒽去除1個以上氫原子之基更較佳,為自苯或萘去除1個以上氫原子之基特別佳,為自苯去除1個以上氫原子之基最佳。
作為式(a1-r2-3)中之Ra
104所亦可具有之取代基,有舉例如甲基、乙基、丙基、羥基、羧基、鹵原子、烷氧基(甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等)、烷基氧基羰基等。
式(a1-r2-4)中,Ra’
12及Ra’
13各自獨立為碳原子數1~10之1價鏈狀飽和烴基或氫原子。作為Ra’
12及Ra’
13中之碳原子數1~10之1價鏈狀飽和烴基,有舉出與上述Ra
101~Ra
103中之碳原子數1~10之1價鏈狀飽和烴基相同者。此鏈狀飽和烴基所具有之氫原子之一部份或全部亦可經取代。
Ra’
12及Ra’
13中,為氫原子、碳原子數1~5之烷基較佳,為碳原子數1~5之烷基再較佳,為甲基、乙基更較佳,為甲基特別佳。
上述Ra’
12及Ra’
13表示之鏈狀飽和烴基經取代時,作為其取代基,有舉例如與上述Ra
x5相同之基。
式(a1-r2-4)中,Ra’
14表示鍵結。作為Ra’
14中之烴基,有舉出直鏈狀或分支鏈狀之烷基,或環狀之烴基。
Ra’
14中直鏈狀之烷基為碳原子數1~5較佳,為1~4再較佳,為1或2更較佳。具體來說,有舉出甲基、乙基、n-丙基、n-丁基、n-戊基等。此等之中,為甲基、乙基或n-丁基較佳,為甲基或乙基再較佳。
Ra’
14中分支鏈狀之烷基為碳原子數3~10較佳,為3~5再較佳。具體來說,有舉出異丙基、異丁基、tert-丁基、異戊基、新戊基、1,1-二乙基丙基、2,2-二甲基丁基等,為異丙基較佳。
Ra’
14成為環狀之烴基時,該烴基亦可為脂肪族烴基或芳香族烴基,且亦可為多環式基或單環式基。
作為單環式基之脂肪族烴基,為自單環烷烴去除1個氫原子之基較佳。作為該單環烷烴,為碳原子數3~6者較佳,具體來說有舉出環戊烷、環己烷等。
作為多環式基之脂肪族烴基,為自聚環烷烴去除1個氫原子之基較佳,作為該聚環烷烴,為碳原子數7~12者較佳,具體來說,有舉出金剛烷、降烷、異烷、三環癸烷、四環十二烷等。
作為Ra’
14中之芳香族烴基,有舉出與Ra
104中之芳香族烴基相同者。其中,Ra’
14為自碳原子數6~15之芳香族烴環去除1個以上氫原子之基較佳,為自苯、萘、蒽或菲去除1個以上氫原子之基再較佳,為自苯、萘或蒽去除1個以上氫原子之基更較佳,為自萘或蒽去除1個以上氫原子之基特別佳,為自萘去除1個以上氫原子之基最佳。
作為Ra’
14所亦可具有之取代基,有舉出與Ra
104所亦可具有之取代基相同者。
式(a1-r2-4)中之Ra’
14為萘基時,與前述式(a1-r2-4)中三級碳原子鍵結之位置亦可為萘基之1位或2位中任一者。
式(a1-r2-4)中之Ra’
14為蒽基時,與前述式(a1-r2-4)中三級碳原子鍵結之位置亦可為蒽基之1位、2位或9位中任一者。
前述式(a1-r2-1)表示之基之具體例於以下舉出。
前述式(a1-r2-2)表示之基之具體例於以下舉出。
前述式(a1-r2-3)表示之基之具體例於以下舉出。
前述式(a1-r2-4)表示之基之具體例於以下舉出。
第3級烷基氧基羰基酸解離性基:
前述極性基中,作為保護羥基之酸解離性基,有舉例如下述一般式(a1-r-3)表示之酸解離性基(以下在方便上有時稱作「3級烷基氧基羰基酸解離性基」)。
[式中,Ra’
7~Ra’
9各自為烷基。]
式(a1-r-3)中,Ra’
7~Ra’
9各自為碳原子數1~5之烷基較佳,為碳原子數1~3之烷基再較佳。
且,各烷基之合計碳原子數為3~7較佳,為碳原子數3~5再較佳,為碳原子數3~4最佳。
第2級烷基酯型酸解離性基:
上述極性基中,作為保護羧基之酸解離性基,有舉例如下述一般式(a1-r-4)表示之酸解離性基。
[式中,Ra’
10為烴基,Ra’
11a及Ra’
11b各自獨立為氫原子、鹵原子或烷基,Ra’
12為氫原子或烴基,Ra’
10與Ra’
11a或Ra’
11b亦可互相鍵結且形成環,Ra’
11a或Ra’
11b與Ra’
12亦可互相鍵結且形成環,*表示鍵結處。]
前述式(a1-r-4)中,作為Ra’
10及Ra’
12中之烴基,有舉出與前述Ra’
3相同者。
前述式(a1-r-4)中,作為Ra’
11a及Ra’
11b中之烷基,有舉出與前述Ra’
1中之烷基相同者。
前述式(a1-r-4)中,Ra’
10及Ra’
12中之烴基以及Ra’
11a及Ra’
11b中之烷基亦可具有取代基。作為此取代基,有舉例如上述Ra
x5等。
Ra’
10與Ra’
11a或Ra’
11b亦可互相鍵結且形成環,
Ra’
11a或Ra’
11b與Ra’
12亦可互相鍵結且形成環,
此等亦可互相鍵結所形成知該環各自亦可為多環或單環,亦可為單環或芳香環。該脂環及該芳香環亦可包含雜原子。
作為Ra’
10與Ra’
11a或Ra’
11b互相鍵結且形成環(環(x)),上述中,為單環烯烴、單環烯烴之碳原子之一部份經雜原子(氧原子、硫原子等)取代之環、單環二烯烴較佳,為碳數3~6之環烯烴較佳,為環戊烯或環己烯較佳。
作為Ra’
11a或Ra’
11b與Ra’
12互相鍵結且形成環(環(y)),上述中,為芳香環較佳,為苯特別佳。該芳香環亦可包含雜原子,有舉例如噻吩環等。
或前述環(x)與前述環(y)亦可互相鍵結為縮合環。作為該縮合環,具體來說,有舉例如茚烷等。
前述環(x)、環(y)、此等互相鍵結之縮合環各自亦可具有取代基。作為此取代基,有舉例如上述Ra
x5等。
前述式(a1-r-4)表示之基之具體例於以下舉出。
作為構成單位(a1),有舉出由鍵結於α位碳原子之氫原子亦可經取代基取代之丙烯酸酯衍生之構成單位、由丙烯醯胺衍生之構成單位、由羥基苯乙烯或羥基苯乙烯衍生物衍生之構成單位之羥基中氫原子之至少一部份經包含前述酸分解性基之取代基保護之構成單位、由乙烯安息香酸或乙烯安息香酸衍生物衍生之構成單位之 -C(=O)-OH中氫原子之至少一部份經包含前述酸分解性基之取代基保護之構成單位等。
以下表示構成單位(a1)之具體例。
以下各式中,R
α表示氫原子、甲基或三氟甲基。
(A1)成分所具有之構成單位(a1)亦可為1種或2種以上。
(A1)成分具有構成單位(a1)時,(A1)成分中之構成單位(a1)之比例相對於該構成(A1)成分之全構成單位之合計(100莫耳%),為20莫耳%以下較佳,為超過0莫耳%且未滿20莫耳%再較佳。
關於構成單位(a10):
構成單位(a10)為下述一般式(a10-1)表示之構成單位。
[式中,R為氫原子、碳原子數1~5之烷基或碳原子數1~5之鹵化烷基。Ya
x1為單鍵或2價連結基。Wa
x1為亦可具有取代基之芳香族烴基。n
ax1為1以上之整數。]
前述式(a10-1)中,作為R,為氫原子、碳原子數1~5之烷基或碳原子數1~5之氟化烷基較佳,以工業上之取得容易度來看,為氫原子、甲基或三氟甲基再較佳,為氫原子或甲基更較佳,為氫原子特別佳。
前述式(a10-1)中,Ya
x1為單鍵或2價連結基。
前述化學式中,作為Ya
x1中之2價連結基,並無特別限定,但有舉出亦可具有取代基之2價烴基、包含雜原子之2價連結基等作為適合者。
・亦可具有取代基之2價烴基:
Ya
x1中之2價連結基為亦可具有取代基之2價烴基時,該烴基亦可為脂肪族烴基或芳香族烴基。
・・Ya
x1中之脂肪族烴基
該脂肪族烴基意指不具有芳香族性之烴基。該脂肪族烴基亦可為飽和或不飽和,通常為飽和較佳。
作為前述脂肪族烴基,有舉出直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基或構造中包含環之脂肪族烴基等。
・・・直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基
該直鏈狀之脂肪族烴基為碳原子數1~10較佳,為碳原子數1~6再較佳,為碳原子數1~4更較佳,為碳原子數1~3最佳。
作為直鏈狀之脂肪族烴基,為直鏈狀之伸烷基較佳,具體來說,有舉出亞甲基[-CH
2-]、伸乙基[-(CH
2)
2-]、三伸甲基[-(CH
2)
3-]、四伸甲基[-(CH
2)
4-]、五伸甲基 [-(CH
2)
5-]等。
該分支鏈狀之脂肪族烴基為碳原子數2~10較佳,為碳原子數3~6再較佳,為碳原子數3或4更較佳,為碳原子數3最佳。
作為分支鏈狀之脂肪族烴基,為分支鏈狀之伸烷基較佳,具體來說有舉出-CH(CH
3)-、-CH(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)
2-、-C(CH
3)(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)(CH
2CH
2CH
3)-、-C(CH
2CH
3)
2-等之烷基伸甲基;-CH(CH
3)CH
2-、-CH(CH
3)CH(CH
3)-、 -C(CH
3)
2CH
2-、-CH(CH
2CH
3)CH
2-、-C(CH
2CH
3)
2-CH
2-等之烷基伸乙基;-CH(CH
3)CH
2CH
2-、-CH
2CH(CH
3)CH
2-等之烷基三伸甲基;-CH(CH
3)CH
2CH
2CH
2-、-CH
2CH(CH
3)CH
2CH
2-等之烷基四亞甲基等之烷基伸烷基等。作為烷基伸烷基中之烷基,為碳原子數1~5之直鏈狀之烷基較佳。
前述直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基亦可具有或不具有取代基。作為該取代基,有舉出氟原子、經氟原子取代之碳原子數1~5之氟化烷基、羰基等。
・・・構造中包含環之脂肪族烴基
作為該構造中包含環之脂肪族烴基,有舉出亦可在環構造中包含亦可包含雜原子取代基之環狀脂肪族烴基(自脂肪族烴環去除2個氫原子之基)、前述環狀脂肪族烴基鍵結於直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基之末端之基、前述環狀脂肪族烴基介在直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基中間之基等。作為前述直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基,有舉出與前述相同者。
環狀之脂肪族烴基為碳原子數3~20較佳,為碳原子數3~12再較佳。
環狀之脂肪族烴基亦可為多環式基或單環式基。作為單環式之脂環式烴基,為自單環烷烴去除2個氫原子之基較佳。作為該單環烷烴,為碳原子數3~6者較佳,具體來說有舉出環戊烷、環己烷等。作為多環式之脂環式烴基,為自聚環烷烴去除2個氫原子之基較佳,作為該聚環烷烴,為碳原子數7~12較佳,具體來說有舉出金剛烷、降烷、異烷、三環癸烷、四環十二烷等。
環狀脂肪族烴基亦可具有或不具有取代基。作為該取代基,有舉出烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基、羥基、羰基等。
作為前述取代基之烷基,為碳原子數1~5之烷基較佳,為甲基、乙基、丙基、n-丁基、tert-丁基最佳。
前述作為取代基之烷氧基,為碳原子數1~5之烷氧基較佳,為甲氧基、乙氧基、n-丙氧基、iso-丙氧基、n-丁氧基、tert-丁氧基再較佳,為甲氧基、乙氧基最佳。
前述作為取代基之鹵原子,有舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等,為氟原子較佳。
作為前述取代基之鹵化烷基,有舉出前述烷基之氫原子之一部份或全部經前述鹵原子取代之基。
環狀之脂肪族烴基係構成其環構造之碳原子之一部份經包含雜原子之取代基取代。作為包含該雜原子之取代基,為-O-、-C(=O)-O-、-S-、-S(=O)
2-、-S(=O)
2-O-較佳。
・・Ya
x1中之芳香族烴基
該芳香族烴基為至少具有1個芳香環之烴基。
此芳香環只要是具有4n+2個π電子之環狀共軛系即可,並無特別限定,亦可為單環式或多環式。芳香環之碳原子數為5~30較佳,為碳原子數5~20再較佳,為碳原子數6~15更較佳,為碳原子數6~12特別佳。惟,該碳原子數中,不包含取代基中的碳原子數。作為芳香環,具體來說有舉出苯、萘、蒽、菲等之芳香族烴環;構成前述芳香族烴環之碳原子之一部份經雜原子取代之芳香族雜環等。作為芳香族雜環中之雜原子,有舉出氧原子、硫原子、氮原子等。作為芳香族雜環,具體來說有舉出吡啶環、噻吩環等。
作為芳香族烴基,具體來說有舉出自前述芳香族烴環或芳香族雜環去除2個氫原子之基(伸芳基或雜伸芳基);自包含2個以上芳香環之芳香族化合物(例如聯苯、茀等)去除2個氫原子之基;自前述芳香族烴環或芳香族雜環去除1個氫原子之基(芳基或雜芳基)之1個氫原子經伸烷基取代之基(例如自苄基、苯乙基、1-萘基甲基、2-萘基甲基、1-萘基乙基、2-萘基乙基等之芳基烷基中之芳基進而去除1個氫原子之基)等。鍵結於前述芳基或雜芳基之伸烷基之碳原子數為1~4較佳,為碳原子數1~2再較佳,為碳原子數1特別佳。
前述芳香族烴基中,該芳香族烴基所具有之氫原子亦可經取代基取代。例如鍵結於該芳香族烴基中之芳香環之氫原子亦可經取代基取代。作為該取代基,有舉例如烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基、羥基等。
作為前述取代基之烷基,為碳原子數1~5之烷基較佳,為甲基、乙基、丙基、n-丁基、tert-丁基最佳。
作為前述取代基之烷氧基、鹵原子及鹵化烷基,有舉出作為取代前述環狀之脂肪族烴基具有之氫原子之取代基所例示者。
・包含雜原子之2價連結基:
Ya
x1中之2價連結基包含雜原子之2價連結基時,作為該連結基之較佳者,有舉出-O-、-C(=O)-O-、-C(=O)-、 -O-C(=O)-O-、-C(=O)-NH-、-NH-、-NH-C(=NH)-(H亦可經烷基、醯基等之取代基取代)、-S-、-S(=O)
2-、-S(=O)
2-O-、一般式-Y
21-O-Y
22-、-Y
21-O-、-Y
21-C(=O)-O-、 -C(=O)-O-Y
21-、-[Y
21-C(=O)-O]
m”-Y
22-、-Y
21-O-C(=O)-Y
22-或-Y
21-S(=O)
2-O-Y
22-表示之基[式中,Y
21及Y
22各自獨立為亦可具有取代基之2價烴基,O為氧原子,m”為0~3之整數]等。
前述包含雜原子之2價連結基為-C(=O)-NH-、-C(=O)-NH-C(=O)-、-NH-、-NH-C(=NH)-時,其H亦可經烷基、醯基等之取代基取代。該取代基(烷基、醯基等)為碳原子數1~10較佳,為1~8更較佳,為1~5特別佳。
一般式-Y
21-O-Y
22-、-Y
21-O-、-Y
21-C(=O)-O-、 -C(=O)-O-Y
21-、-[Y
21-C(=O)-O]
m”-Y
22-、-Y
21-O-C(=O)-Y
22-或-Y
21-S(=O)
2-O-Y
22-中,Y
21及Y
22各自獨立為亦可具有取代基之2價烴基。作為該2價烴基,有舉出與作為前述2價之連結基之說明所舉出者(亦可具有取代基之2價烴基)相同者。
作為Y
21,為直鏈狀之脂肪族烴基較佳,為直鏈狀之伸烷基再較佳,為碳原子數1~5之直鏈狀之伸烷基更較佳,為伸甲基或伸乙基特別佳。
作為Y
22,為直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基較佳,為伸甲基、伸乙基或烷基伸甲基再較佳。該烷基伸甲基中之烷基為碳原子數1~5之直鏈狀之烷基較佳,為碳原子數1~3之直鏈狀之烷基再較佳,為甲基最佳。
式-[Y
21-C(=O)-O]
m”-Y
22-表示之基中,m”為0~3之整數,為0~2之整數較佳,為0或1再較佳,為1特別佳。亦即,作為式-[Y
21-C(=O)-O]
m”-Y
22-表示之基,為式 -Y
21-C(=O)-O-Y
22-表示之基特別佳。其中,為式 -(CH
2)
a ’-C(=O)-O-(CH
2)
b ’-表示之基較佳。該式中,a’為1~10之整數,為1~8整數較佳,為1~5之整數再較佳,為1或2更較佳,為1最佳。b’為1~10之整數,為1~8之整數較佳,為1~5之整數再較佳,為1或2更較佳,為1最佳。
作為Ya
x1,為單鍵、酯鍵結[-C(=O)-O-、 -O-C(=O)-]、醚鍵結(-O-)、直鏈狀或分支鏈狀之伸烷基,或此等之組合較佳,為單鍵、酯鍵結[-C(=O)-O-、 -O-C(=O)-]再較佳。
前述式(a10-1)中,Wa
x1為亦可具有取代基之芳香族烴基。
作為Wa
x1中之芳香族烴基,有舉出自亦可具有取代基之芳香環去除(n
ax1+1)個氫原子之基。
於此之芳香環只要是具有4n+2個π電子之環狀共軛系即可,並無特別限定。芳香環之碳原子數為5~30較佳,為碳原子數5~20再較佳,為碳原子數6~15更較佳,為碳原子數6~12特別佳。
該作為芳香環,具體來說有舉出苯、萘、蒽、菲等之芳香族烴環;構成前述芳香族烴環之碳原子之一部份經雜原子取代之芳香族雜環等。作為芳香族雜環中之雜原子,有舉出氧原子、硫原子、氮原子等。作為芳香族雜環,具體來說有舉出吡啶環、噻吩環等。
且,作為Wa
x1中之芳香族烴基,亦有舉出自亦可具有2個以上取代基之包含芳香環之芳香族化合物(例如聯苯、茀等)去除(n
ax1+1)個氫原子之基。
上述中,作為Wa
x1,為自苯、萘、蒽或聯苯去除(n
ax1+1)個氫原子之基較佳,為苯或萘去除(n
ax1+1)個氫原子之基再較佳,為自苯去除(n
ax1+1)個氫原子之基更較佳。
Wa
x1中之芳香族烴基亦可具有或不具有取代基。作為前述取代基,有舉例如烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基等。
作為前述取代基之烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基,有舉出與上述Ya
x1中,作為環狀脂肪族烴基之取代基(烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基)所舉出者相同者。
前述取代基為碳原子數1~5之直鏈狀或分支鏈狀之烷基較佳,為碳原子數1~3之直鏈狀或分支鏈狀之烷基再較佳,為乙基或甲基更較佳,為甲基特別佳。
Wa
x1中之芳香族烴基不具有取代基較佳。
前述式(a10-1)中,n
ax1為1以上之整數,為1~10之整數較佳,為1~5之整數再較佳,為1、2或3更較佳,為1或2特別佳。
以下表示前述式(a10-1)表示之構成單位(a10)之具體例。
以下各式中,R
α表示氫原子、甲基或三氟甲基。
(A1)成分所具有之構成單位(a10)亦可為1種或2種以上。
(A1)成分具有構成單位(a10)時,(A1)成分中之構成單位(a10)之比例相對於構成(A1)成分之全構成單位之合計(100莫耳%),為20~80莫耳%較佳,為30~70莫耳%再較佳,為35~60莫耳%更較佳。
構成單位(a10)之比例藉由在前述較佳範圍之下限值以上,容易更提高感度。另一方面,藉由在前述較佳範圍之上限值以下,容易與其他構成單位取得平衡。
關於因曝光而產生酸之構成單位(a5):
本實施形態中,構成單位(a5)為因曝光而產生酸之構成單位,能夠使用公知者。
作為構成單位(a5),有適當地舉例如下述一般式(a5-1)表示之構成單位。
[式中,R
m為碳數1~5之烷基、碳數1~5之鹵化烷基、鹵原子或氫原子。La
1為2價連結基或單鍵,Ra
050為亦可具有取代基之2價烴基。La
0為2價連結基,Ya
0為亦可具有雜原子之2價連結基,或單鍵。Ra
051及Ra
052各自獨立為氫原子、氟原子或氟化烷基。n0為1~4之整數。m為1以上之整數,M’
m+為m價鎓鹽陽離子。]
{陰離子部}
前述式(a5-1)中,R
m為碳數1~5之烷基、碳數1~5之鹵化烷基、鹵原子或氫原子。
R
m之碳數1~5之烷基為碳數1~5之直鏈狀或分支鏈狀之烷基較佳,有舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、tert-丁基、戊基、異戊基、新戊基等。
碳數1~5之鹵化烷基為經前述碳數1~5之烷基之氫原子之一部份或全部經鹵原子取代之基。
作為鹵原子,有舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。作為鹵化烷基中之鹵原子,尤其是氟原子較佳。
作為R
m,為氫原子、碳數1~5之烷基或碳數1~5之氟化烷基較佳,以工業上之取得容易度來看,為氫原子或甲基最佳。
前述式(a5-1)中,La
1為2價連結基或單鍵,
作為La
1中之2價連結基,並無特別限定,但有舉出適合作為亦可具有取代基之2價烴基及包含雜原子之2價連結基者,各自與作為上述Ya
x1中之2價連結基所例示之亦可具有取代基之2價烴基、包含雜原子之2價連結基相同。
上述中,作為La
1,為酯鍵結[-C(=O)-O-、-O-C(=O)-]、醚鍵結(-O-)、直鏈狀或分支鏈狀之伸烷基、芳香族烴基或此等組合,或者單鍵較佳。此等中,作為La
1,為酯鍵結 [-C(=O)-O-、-O-C(=O)-]、單鍵再較佳,為酯鍵結[-C(=O)-O-、-O-C(=O)-]更較佳。
前述式(a5-1)中,Ra
050為亦可具有取代基之2價烴基。
Ra
050中之2價烴基亦可為脂肪族烴基或芳香族烴基。
・・Ra
050中之脂肪族烴基
該脂肪族烴基意指不具有芳香族性之烴基。該脂肪族烴基亦可為飽和或不飽和,通常為飽和較佳。
作為前述脂肪族烴基,有舉出直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基,或構造中包含環之脂肪族烴基等。
・・・直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基
該直鏈狀之脂肪族烴基為碳原子數1~10較佳,為碳原子數1~6再較佳,為碳原子數1~4更較佳,為碳原子數1~3最佳。
作為直鏈狀之脂肪族烴基,為直鏈狀之伸烷基較佳,具體來說,有舉出亞甲基[-CH
2-]、伸乙基[-(CH
2)
2-]、三伸甲基[-(CH
2)
3-]、四伸甲基[-(CH
2)
4-]、五伸甲基[-(CH
2)
5-]等。
該分支鏈狀之脂肪族烴基為碳原子數2~10較佳,為碳原子數3~6再較佳,為碳原子數3或4更較佳,為碳原子數3最佳。
作為分支鏈狀之脂肪族烴基,為分支鏈狀之伸烷基較佳,具體來說有舉出-CH(CH
3)-、-CH(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)
2-、-C(CH
3)(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)(CH
2CH
2CH
3)-、-C(CH
2CH
3)
2-等之烷基伸甲基;-CH(CH
3)CH
2-、-CH(CH
3)CH(CH
3)-、 -C(CH
3)
2CH
2-、-CH(CH
2CH
3)CH
2-、-C(CH
2CH
3)
2-CH
2-等之烷基伸乙基;-CH(CH
3)CH
2CH
2-、-CH
2CH(CH
3)CH
2-等之烷基三伸甲基;-CH(CH
3)CH
2CH
2CH
2-、-CH
2CH(CH
3)CH
2CH
2-等之烷基四亞甲基等之烷基伸烷基等。作為烷基伸烷基中之烷基,為碳原子數1~5之直鏈狀之烷基較佳。
前述直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基亦可具有或不具有取代基。作為該取代基,有舉出氟原子、經氟原子取代之碳原子數1~5之氟化烷基、羰基等。
・・・構造中包含環之脂肪族烴基
作為該構造中包含環之脂肪族烴基,有舉出亦可在環構造中包含亦可包含雜原子取代基之環狀脂肪族烴基(自脂肪族烴環去除2個氫原子之基)、前述環狀之脂肪族烴基鍵結於直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基之末端之基、前述環狀之脂肪族烴基介在直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基之中間之基等。作為前述直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基,有舉出與前述相同者。
環狀之脂肪族烴基為碳原子數3~20較佳,為碳原子數3~12再較佳。
環狀之脂肪族烴基亦可為多環式基或單環式基。作為單環式之脂環式烴基,為自單環烷烴去除2個氫原子之基較佳。作為該單環烷烴,為碳原子數3~6者較佳,具體來說有舉出環戊烷、環己烷等。作為多環式之脂環式烴基,為自聚環烷烴去除2個氫原子之基較佳,作為該聚環烷烴,為碳原子數7~12較佳,具體來說有舉出金剛烷、降烷、異烷、三環癸烷、四環十二烷等。
環狀脂肪族烴基亦可具有或不具有取代基。作為該取代基,有舉出烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基、羥基、羰基等。
作為前述取代基之烷基,為碳原子數1~5之烷基較佳,為甲基、乙基、丙基、n-丁基、tert-丁基最佳。
前述作為取代基之烷氧基,為碳原子數1~5之烷氧基較佳,為甲氧基、乙氧基、n-丙氧基、iso-丙氧基、n-丁氧基、tert-丁氧基再較佳,為甲氧基、乙氧基最佳。
前述作為取代基之鹵原子,有舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等,為氟原子較佳。
作為前述取代基之鹵化烷基,有舉出前述烷基之氫原子之一部份或全部經前述鹵原子取代之基。
環狀之脂肪族烴基係構成其環構造之碳原子之一部份經包含雜原子之取代基取代。作為包含該雜原子之取代基,為-O-、-C(=O)-O-、-S-、-S(=O)
2-、-S(=O)
2-O-較佳。
・・Ra
050中之芳香族烴基
該芳香族烴基為至少具有1個芳香環之烴基。
此芳香環只要是具有4n+2個π電子之環狀共軛系即可,並無特別限定,亦可為單環式或多環式。芳香環之碳原子數為5~30較佳,為碳原子數5~20再較佳,為碳原子數6~15更較佳,為碳原子數6~12特別佳。惟,該碳原子數中,不包含取代基中的碳原子數。作為芳香環,具體來說有舉出苯、萘、蒽、菲等之芳香族烴環;構成前述芳香族烴環之碳原子之一部份經雜原子取代之芳香族雜環等。作為芳香族雜環中之雜原子,有舉出氧原子、硫原子、氮原子等。作為芳香族雜環,具體來說有舉出吡啶環、噻吩環等。
作為芳香族烴基,具體來說有舉出自前述芳香族烴環或芳香族雜環去除2個氫原子之基(伸芳基或雜伸芳基);自包含2個以上芳香環之芳香族化合物(例如聯苯、茀等)去除2個氫原子之基;自前述芳香族烴環或芳香族雜環去除1個氫原子之基(芳基或雜芳基)之1個氫原子經伸烷基取代之基(例如自苄基、苯乙基、1-萘基甲基、2-萘基甲基、1-萘基乙基、2-萘基乙基等之芳基烷基中之芳基進而去除1個氫原子之基)等。鍵結於前述芳基或雜芳基之伸烷基之碳原子數為1~4較佳,為碳原子數1~2再較佳,為碳原子數1特別佳。
前述芳香族烴基中,該芳香族烴基所具有之氫原子亦可經取代基取代。例如鍵結於該芳香族烴基中之芳香環之氫原子亦可經取代基取代。作為該取代基,有舉例如烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基、羥基等。
作為前述取代基之烷基,為碳原子數1~5之烷基較佳,為甲基、乙基、丙基、n-丁基、tert-丁基最佳。
作為前述取代基之烷氧基、鹵原子及鹵化烷基,有舉出作為取代前述環狀之脂肪族烴基具有之氫原子之取代基所例示者。
上述中,Ra
050為構造中包含環之脂肪族烴基較佳,為環構造中亦可包含包含雜原子之取代基之環狀脂肪族烴基再較佳,為多環式基或單環式基且亦可具有取代基之脂環式烴基更較佳。
前述式(a5-1)中,La
0為2價連結基。
作為La
0中之2價連結基,有舉例如氧原子(醚鍵結:-O-)、酯鍵結(-C(=O)-O-)、氧基羰基(-O-C(=O)-)、醯胺鍵結 (-C(=O)-NH-)、羰基(-C(=O)-)、碳酸酯鍵結(-O-C(=O)-O-)等之非烴系之含氧原子之連結基;該非烴系之含氧原子之連結基與伸烷基之組合等。此組合中亦可進一步連結磺醯基(-SO
2-)。
作為相關之2價連結基,有舉例如各自以下述一般式(L-al-1)~(L-al-8)表示之連結基。且,下述一般式(L-al-1)~(L-al-8)中,與上述式(a5-1)中之Ra
050鍵結的為下述一般式(L-al-1)~(L-al-8)中之V’
101。
[式中,V’
101為單鍵或碳原子數1~5之伸烷基,V’
102為碳原子數1~30之2價飽和烴基。]
V’
102中之2價飽和烴基為碳原子數1~30之伸烷基較佳,為碳原子數1~10之伸烷基再較佳,為碳原子數1~5之伸烷基更較佳。
作為V’
101及V’
102中之伸烷基,亦可為直鏈狀之伸烷基或分支鏈狀之伸烷基,為直鏈狀之伸烷基較佳。
作為V’
101及V’
102中之伸烷基,具體來說有舉出亞甲基[-CH
2-];-CH(CH
3)-、-CH(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)
2-、-C(CH
3)(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)(CH
2CH
2CH
3)-、-C(CH
2CH
3)
2-等之烷基伸甲基;伸乙基[-CH
2CH
2-];-CH(CH
3)CH
2-、-CH(CH
3)CH(CH
3)-、-C(CH
3)
2CH
2-、-CH(CH
2CH
3)CH
2-等之烷基伸乙基;三伸甲基(n-伸丙基)[-CH
2CH
2CH
2-];-CH(CH
3)CH
2CH
2-、 -CH
2CH(CH
3)CH
2-等之烷基三伸甲基;四伸甲基[-CH
2CH
2CH
2CH
2-];-CH(CH
3)CH
2CH
2CH
2-、-CH
2CH(CH
3)CH
2CH
2-等之烷基四伸甲基;五伸甲基[-CH
2CH
2CH
2CH
2CH
2-]等。
且,V’
101或V’
102中,前述伸烷基中之一部份亞甲基亦可經碳原子數5~10之2價脂肪族環式基取代。該脂肪族環式基為自前述式(a1-r-1)中之Ra’
3之環狀之脂肪族烴基(單環式之脂肪族烴基、多環式之脂肪族烴基)進而去除1個氫原子之2價基較佳,為環伸環己基、1,5-伸金剛基或2,6-伸金剛基再較佳。
作為La
0,為包含酯鍵結之2價連結基,或包含醚鍵結之2價連結基較佳,為各自以上述式(L-al-1)~(L-al-5)、(L-al-8)表示之連結基再較佳,為(L-al-3)或(L-al-8)表示之連結基更較佳。
前述式(a5-1)中,Ya
0為亦可具有雜原子之2價連結基,或單鍵。
作為Ya
0中之2價連結基,並無特別限定,但有適當地舉出亦可具有取代基之2價烴基、包含雜原子之2價連結基等。
關於Ya
0中之亦可具有取代基之2價烴基、包含雜原子之2價連結基,與作為上述Ya
x1中之2價連結基所例示之亦可具有取代基之2價烴基、包含雜原子之2價連結基相同。
上述中,作為Ya
0,為直鏈或分支鏈狀之伸烷基,或單鍵較佳,為單鍵再較佳。
前述式(a5-1)中,Ra
051及Ra
052各自獨立為氫原子、氟原子或氟化烷基。
作為Ra
051及Ra
052中之氟化烷基,各自為碳數1~5之直鏈狀或分支鏈狀之氟化烷基較佳,為三氟甲基再較佳。
前述式(a5-1)中,鍵結在與SO
3 -相鄰之碳原子上的Ra
051及Ra
052中,至少一者為氟原子,以酸強度之觀點較佳。
前述式(a5-1)中,n0為1~4之整數,為1、2或3較佳。
{陽離子部}
前述式(a5-1)中,M’
m+表示m價之鎓鹽陽離子。其中,M’
m+為鋶陽離子、錪陽離子較佳。m為1以上之整數。
作為較佳之陽離子部((M’
m+)
1/m),有舉出各自以下述一般式(ca-1)~(ca-3)表示之有機陽離子。
[式中,R
201~R
207各自獨立表示亦可具有取代基之芳基、亦可具有取代基之烷基或亦可具有取代基之烯基。R
201~R
203、R
206~R
207亦可互相鍵結並與式中之硫原子一起形成環。R
208~R
209各自獨立表示氫原子或碳原子數1~5之烷基。R
210表示亦可具有取代基之芳基、亦可具有取代基之烷基、亦可具有取代基之烯基,或亦可具有取代基之含-SO
2-之環式基。L
201表示-C(=O)-或-C(=O)-O-。]
上述一般式(ca-1)~(ca-3)中,作為R
201~R
207中之芳基,有舉出碳原子數6~20之無取代之芳基,為苯基、萘基較佳。
作為R
201~R
207,為鏈狀或環狀之烷基且為碳原子數1~30較佳。
作為R
201~R
207中之烯基,為碳原子數2~10較佳。
作為R
201~R
207、及R
210所亦可具有之取代基,有舉例如烷基、鹵原子、鹵化烷基、羰基、氰基、胺基、芳基、各自以下述一般式(ca-r-1)~(ca-r-8)表示之基等,此等中,以高感度化之點,為鹵原子、鹵化烷基較佳,為氟原子、氟化烷基再較佳。
[式中,R’
201各自獨立為氫原子、亦可具有取代基之環式基、亦可具有取代基之鏈狀之烷基,或亦可具有取代基之鏈狀之烯基。]
亦可具有取代基之環式基:
該環式基為環狀之烴基較佳,該環狀之烴基亦可為芳香族烴基或脂肪族烴基。脂肪族烴基意指不具有芳香族性之烴基。且,脂肪族烴基亦可為飽和或不飽和,通常為飽和較佳。
R’
201中之芳香族烴基為具有芳香環之烴基。該芳香族烴基之碳原子數為3~30較佳,為碳原子數5~30再較佳,為碳原子數5~20更較佳,為碳原子數6~15特別佳,為碳原子數6~10最佳。惟,該碳原子數中不包含取代基中之碳原子數。
作為R’
201中之芳香族烴基所具有之芳香環,具體來說有舉出苯、茀、萘、蒽、菲、聯苯,或構成此等之芳香環之碳原子之一部份經雜原子取代之芳香族雜環等。作為芳香族雜環中之雜原子,有舉出氧原子、硫原子、氮原子等。
作為R’
201中之芳香族烴基,具體來說有舉出自前述芳香環去除1個氫原子之基(芳基:例如苯基、萘基等)、前述芳香環之1個氫原子經伸烷基取代之基(例如苄基、苯乙基、1-萘基甲基、2-萘基甲基、1-萘基乙基、2-萘基乙基等之芳基烷基等)等。前述伸烷基(芳基烷基中之烷基鏈)之碳原子數為1~4較佳,為碳原子數1~2再較佳,為碳原子數1特別佳。
R’
201中之環狀之脂肪族烴基有舉出構造中包含環之脂肪族烴基。
作為此構造中包含環之脂肪族烴基,有舉出脂環式烴基(自脂肪族烴環去除1個氫原子之基)、脂環式烴基鍵結於直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基之末端之基、脂環式烴基介在直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基之中間之基等。
前述脂環式烴基為碳原子數3~20較佳,為3~12再較佳。
前述脂環式烴基亦可為多環式基或單環式基。作為單環式之脂環式烴基,為自單環烷烴去除1個以上氫原子之基較佳。作為該單環烷烴,有舉出碳原子數3~6者較佳,具體來說有舉出環戊烷、環己烷等。作為多環式之脂環式烴基,為自聚環烷烴去除1個以上氫原子之基較佳,作為該聚環烷烴,為碳原子數7~30較佳。其中,作為該聚環烷烴,為金剛烷、降烷、異烷、三環癸烷、四環十二烷等之具有交聯環系之多環式骨架之聚環烷烴;具有類固醇骨架之環式基等之具有縮合環系之多環式骨架之聚環烷烴再較佳。
其中,作為R’
201中之環狀之脂肪族烴基,為自單環烷烴或聚環烷烴去除1個以上氫原子之基較佳,為自聚環烷烴去除1個氫原子之基再較佳,為金剛烷基、降基特別佳,為金剛烷基最佳。
亦可鍵結於脂環式烴基之直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基為碳原子數1~10較佳,為碳原子數1~6再較佳,為碳原子數1~4更較佳,為碳原子數1~3特別佳。
作為直鏈狀之脂肪族烴基,為直鏈狀之伸烷基較佳,具體來說,有舉出亞甲基[-CH
2-]、伸乙基[-(CH
2)
2-]、三伸甲基[-(CH
2)
3-]、四伸甲基[-(CH
2)
4-]、五伸甲基[-(CH
2)
5-]等。
作為分支鏈狀之脂肪族烴基,為分支鏈狀之伸烷基較佳,具體來說有舉出-CH(CH
3)-、-CH(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)
2-、-C(CH
3)(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)(CH
2CH
2CH
3)-、-C(CH
2CH
3)
2-等之烷基伸甲基;-CH(CH
3)CH
2-、-CH(CH
3)CH(CH
3)-、 -C(CH
3)
2CH
2-、-CH(CH
2CH
3)CH
2-、-C(CH
2CH
3)
2-CH
2-等之烷基伸乙基;-CH(CH
3)CH
2CH
2-、-CH
2CH(CH
3)CH
2-等之烷基三伸甲基;-CH(CH
3)CH
2CH
2CH
2-、-CH
2CH(CH
3)CH
2CH
2-等之烷基四亞甲基等之烷基伸烷基等。作為烷基伸烷基中之烷基,為碳原子數1~5之直鏈狀之烷基較佳。
且,R’
201中之環狀之烴基亦可如雜環等包含雜原子。具體來說,有舉出各自以後述一般式(a2-r-1)~(a2-r-7)表示之含內酯之環式基、各自以後述一般式(b5-r-1)~(b5-r-4)表示之含-SO
2-之環式基、各自以其他下述化學式(r-hr-1)~(r-hr-16)表示之雜環式基。
作為R’
201之環式基中之取代基,有舉例如烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基、羥基、羰基、硝基等。
作為取代基之烷基,為碳原子數1~5之烷基較佳,為甲基、乙基、丙基、n-丁基、tert-丁基最佳。
作為取代基之烷氧基,為碳原子數1~5之烷氧基較佳,為甲氧基、乙氧基、n-丙氧基、iso-丙氧基、n-丁氧基、tert-丁氧基再較佳,為甲氧基、乙氧基最佳。
作為取代基之鹵原子,為氟原子較佳。
作為取代基之鹵化烷基,為碳原子數1~5之烷基,有舉例如甲基、乙基、丙基、n-丁基、tert-丁基等之氫原子之一部份或全部經前述鹵原子取代之基。
作為取代基之羰基,為取代構成環狀之烴基之亞甲基(-CH
2-)之基。
亦可具有取代基之鏈狀之烷基:
作為R’
201之鏈狀之烷基,亦可為直鏈狀或分支鏈狀之任一者。
作為直鏈狀之烷基,為碳原子數1~20較佳,為碳原子數1~15再較佳,為碳原子數1~10最佳。
作為分支鏈狀之烷基,為碳原子數3~20較佳,為碳原子數3~15再較佳,為碳原子數3~10最佳。具體來說有舉例如1-甲基乙基、1-甲基丙基、2-甲基丙基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、1-乙基丁基、2-乙基丁基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、3-甲基戊基、4-甲基戊基等。
亦可具有取代基之鏈狀之烯基:
作為R’
201之鏈狀之烯基,亦可為直鏈狀或分支鏈狀之任一者,為碳原子數2~10較佳,為碳原子數2~5再較佳,為碳原子數2~4更較佳,為碳原子數3特別佳。作為直鏈狀之烯基,有舉例如乙烯基、丙烯基(烯丙基)、丁烯基等。作為分支鏈狀之烯基,有舉例如1-甲基乙烯基、2-甲基乙烯基、1-甲基丙烯基、2-甲基丙烯基等。
作為鏈狀之烯基,上述中,為直鏈狀之烯基較佳,為乙烯基、丙烯基再較佳,為乙烯基特別佳。
作為R’
201之鏈狀之烷基或烯基中之取代基,有舉例如烷氧基、鹵原子、鹵化烷基、羥基、羰基、硝基、胺基、上述R’
201中之環式基等。
R’
201之亦可具有取代基之環式基、亦可具有取代基之鏈狀之烷基,或亦可具有取代基之鏈狀之烯基,除了上述之外,作為亦可具有取代基之環式基或亦可具有取代基之鏈狀之烷基,有舉出與上述式(a1-r-2)表示之酸解離性基相同者。
其中,R’
201為亦可具有取代基之環式基較佳,為亦可具有取代基之環狀之烴基再較佳。更具體來說有舉例如自苯基、萘基、聚環烷烴去除1個以上氫原子之基;各自以後述一般式(a2-r-1)~(a2-r-7)表示之含內酯之環式基;各自以後述一般式(b5-r-1)~(b5-r-4)表示之含-SO
2-之環式基等較佳。
上述一般式(ca-1)~(ca-3)中,R
201~R
203、R
206~R
207互相鍵結並與式中之硫原子一起形成環時,亦可介隔於硫原子、氧原子、氮原子等之雜原子,或羰基、 -SO-、-SO
2-、-SO
3-、-COO-、-CONH-或-N(R
N)-(該R
N為碳原子數1~5之烷基)等之官能基來鍵結。作為形成之環,為包含式中之硫原子於其環骨架中之1個環包含硫原子為3~10員環較佳,為5~7員環特別佳。作為形成之環之具體例,有舉例如噻吩環、噻唑環、苯并噻吩環、二苯并噻吩環、9H-噻噸環、噻噸酮環噻蒽環、吩噻噁環、四氫噻吩嗡環、四氫硫哌喃環等。
R
208~R
209各自獨立表示氫原子或碳原子數1~5之烷基,為氫原子或碳原子數1~3之烷基較佳,成為烷基時,亦可互相鍵結形成環。
R
210表示亦可具有取代基之芳基、亦可具有取代基之烷基、亦可具有取代基之烯基,或亦可具有取代基之含-SO
2-之環式基。
作為R
210中之芳基,有舉出碳原子數6~20之無取代之芳基,為苯基、萘基較佳。
作為R
210,為鏈狀或環狀之烷基且為碳原子數1~30較佳。
作為R
210中之烯基,為碳原子數2~10較佳。
作為R
210中之亦可具有取代基之含-SO
2-之環式基,為「含-SO
2-之多環式基」較佳,為後述一般式(b5-r-1)表示之基再較佳。
作為前述式(ca-1)表示之適合陽離子,具體來說,有舉出各自以下述化學式(ca-1-1)~(ca-1-76)表示之陽離子。
以高感度化之點,作為前述式(ca-1)表示之適合陽離子,為具有氟原子或氟化烷基作為取代基者較佳,為例如選自各自以下述化學式(ca-1-69)~(ca-1-75)表示之陽離子所成群之陽離子特別佳。
[式中,g1、g2、g3表示重複數,g1為1~5之整數,g2為0~20之整數,g3為0~20之整數。]
[式中,R”
201為氫原子或取代基,作為該取代基,為與作為前述R
201~R
207及R
210~R
212所亦可具有之取代基所舉出者相同。]
作為前述式(ca-2)表示之適當的陽離子,具體來說有舉出二苯基錪陽離子、雙(4-tert-丁基苯基)錪陽離子等。
作為前述式(ca-3)表示之適當的陽離子,具體來說有舉出各自以下述式(ca-3-1)~(ca-3-6)表示之陽離子。
上述中,作為陽離子部((M’
m+)
1/m),為上述一般式(ca-1)表示之有機陽離子再較佳。
以下表示構成單位(a5)之較佳具體例。
以下式中,R
α表示氫原子、甲基或三氟甲基。m及M’
m+與上述一般式(a5-1)中之m及M’
m+相同。
(A1)成分所具有之構成單位(a5)亦可為1種或2種以上。
(A1)成分具有構成單位(a5)時,(A1)成分中之構成單位(a5)之比例相對於構成(A1)成分之全構成單位之合計(100莫耳%),為1~20莫耳%較佳,為2~15莫耳%再較佳,為5~15莫耳%更較佳。
構成單位(a5)之比例藉由在前述較佳範圍之下限值以上,容易更提高感度。另一方面,藉由在前述較佳範圍之上限值以下,容易與其他構成單位取得平衡。
關於構成單位(a2):
(A1)成分中,除了構成單位(a0)以外,進而具有包含含內酯之環式基之構成單位(a2)(但,去除相當於構成單位(a0)及(a1))。
構成單位(a2)之含內酯之環式基在將(A1)成分使用於阻劑膜之形成時,對提高阻劑膜對基板之密著性上較有效。且,藉由具有構成單位(a2),例如藉由適當地調整酸擴散長度、提高阻劑膜對基板之密著性、適當地調整顯像時之溶解性等之效果,微影特性等會變得良好。
「含內酯之環式基」意指其環骨架中含有包含-O-C(=O)-之環(內酯環)之環式基。將內酯環作為第一個環來計數,僅有內酯環時稱為單環式基,進一步具有其他環構造時,無論其構造皆稱作多環式基。含內酯之環式基亦可為單環式基或多環式基。
作為構成單位(a2)中之含內酯之環式基,並無特別限定,能夠使用任意者。具體來說,有舉出各自以下述一般式(a2-r-1)~(a2-r-7)表示之基。
[式中,複數Ra’
21各自獨立為氫原子、烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基、羥基、-COOR”、-OC(=O)R”、羥基烷基或氰基;R”為氫原子、烷基或含內酯之環式基;A”為亦可包含氧原子(-O-)或硫原子(-S-)之碳原子數1~5之伸烷基、氧原子或硫原子,n’為0~2之整數,m’為0或1。*表示鍵結處。]
前述一般式(a2-r-1)~(a2-r-7)中,作為Ra’
21之烷基,為碳原子數1~6之烷基較佳。該烷基為直鏈狀或分支鏈狀較佳。具體來說,有舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、tert-丁基、戊基、異戊基、新戊基、己基等。此等中,為甲基或乙基較佳,為甲基特別佳。
作為Ra’
21中之烷氧基,為碳原子數1~6之烷氧基較佳。該烷氧基為直鏈狀或分支鏈狀較佳。具體來說有舉出作為前述Ra’
21中之烷基所舉出之烷基與氧原子(-O-)連結之基。
作為Ra’
21中之鹵原子,為氟原子較佳。
作為Ra’
21中之鹵化烷基,有舉出前述Ra’
21中之烷基之氫原子之一部份或全部經前述鹵原子所取代之基。作為該鹵化烷基,為氟化烷基較佳,尤其是全氟烷基較佳。
Ra’
21中之-COOR”、-OC(=O)R”中,R”皆為氫原子、烷基或含內酯之環式基。
作為R”中之烷基,亦可為直鏈狀、分支鏈狀、環狀之任一者,碳原子數為1~15較佳。
R”為直鏈狀或分支鏈狀之烷基時,為碳原子數1~10較佳,為碳原子數1~5更較佳,為甲基或乙基特別佳。
R”為環狀之烷基時,為碳原子數3~15較佳,為碳原子數4~12更較佳,為碳原子數5~10最佳。具體來說,能例示自亦可經氟原子或氟化烷基取代或不取代之單環烷烴去除1個以上氫原子之基;自雙環烷烴、三環烷烴、四環烷烴等之聚環烷烴去除1個以上氫原子之基等。更具體來說,有舉出自環戊烷、環己烷等之單環烷烴去除1個以上氫原子之基;自金剛烷、降烷、異烷、三環癸烷、四環十二烷等之聚環烷烴去除1個以上氫原子之基等。
作為R”中之含內酯之環式基,有舉出與各自以前述一般式(a2-r-1)~(a2-r-7)表示之基相同者。
作為Ra’
21中之羥基烷基,為碳原子數1~6者較佳,具體來說,有舉出前述Ra’
21中之烷基之氫原子之至少1個經羥基取代之基。
作為Ra’
21,上述中,各自獨立為氫原子或氰基較佳。
前述一般式(a2-r-2)、(a2-r-3)、(a2-r-5)中,作為A”中之碳原子數1~5之伸烷基,為直鏈狀或分支鏈狀之伸烷基較佳,有舉出亞甲基、伸乙基、n-伸丙基、異伸丙基等。該伸烷基包含氧原子或硫原子時,作為其具體例,有舉出前述伸烷基之末端或碳原子間有介在-O-或-S-之基,有舉例如-O-CH
2-、-CH
2-O-CH
2-、-S-CH
2-、-CH
2-S-CH
2-等。作為A”,為碳原子數1~5之伸烷基或-O-較佳,為碳原子數1~5之伸烷基再較佳,為伸甲基最佳。
下述舉出各自以一般式(a2-r-1)~(a2-r-7)表示之基之具體例。
作為構成單位(a2),其中,為由鍵結於α位碳原子之氫原子亦可經取代基取代之丙烯酸酯衍生之構成單位較佳。
相關之構成單位(a2)為下述一般式(a2-1)表示之構成單位較佳。
[式中,R為氫原子、碳原子數1~5之烷基或碳原子數1~5之鹵化烷基,Ya21為單鍵或2價連結基。Ya
21為單鍵或2價連結基。La
21為-O-、-COO-、-CON(R’)-、-OCO-、-CONHCO-或 -CONHCS-,R’表示氫原子或甲基。但,La
21為-O-時,Ya
21不會成為-CO-。Ra
21為含內酯之環式基。]
前述式(a2-1)中,R與前述相同。作為R,為氫原子、碳原子數1~5之烷基或碳原子數1~5之氟化烷基較佳,以工業上之取得容易度來說,為氫原子或甲基特別佳。
前述式(a2-1)中,作為Ya
21中之2價連結基,並無特別限定,但有適當地舉出亦可具有取代基之2價烴基、包含雜原子之2價連結基等,且各自與述Ya
x1中之2價連結基所例示之亦可具有取代基之2價烴基、包含雜原子之2價連結基相同。
作為Ya
21,為單鍵、酯鍵結[-C(=O)-O-]、醚鍵結 (-O-)、直鏈狀或分支鏈狀伸烷基,或此等之組合較佳,單鍵特別佳。
前述式(a2-1)中,Ya
21為單鍵,La
21為-COO-或-OCO-較佳。
前述式(a2-1)中,Ra
21為含內酯之環式基。
作為Ra
21中之含內酯之環式基,有適當地舉出各自以前述一般式(a2-r-1)~(a2-r-7)表示之基。
其中,各自以前述一般式(a2-r-1)或(a2-r-2)表示之基較佳。具體來說,為各自以前述化學式(r-lc-1-1)~(r-lc-1-7)、(r-lc-2-1)~(r-lc-2-18)表示之基較佳,為各自以前述化學式(r-lc-1-1)、(r-lc-2-1)或(r-lc-2-7)表示之基更較佳。
(A1)成分所具有之構成單位(a2)亦可為1種或2種以上。
(A1)成分具有構成單位(a2)時,構成單位(a2)之比例相對於構成該(A1)成分之全構成單位之合計(100莫耳%),為超過0莫耳%且20莫耳%以下較佳。
構成單位(a2)之比例藉由在前述較佳範圍之下限值以上,能夠充分得到含有構成單位(a2)所得之效果,另一方面,若在前述較佳範圍之上限值以下,則能夠取得與其他構成單位之平衡,各種微影特性會變得良好。
關於構成單位(a8):
構成單位(a8)為由下述一般式(a8-1)表示之化合物衍生之構成單位。
[式中,W
2為含聚合性基之基。Ya
x2與W
2亦可形成縮合環。R
1為碳數1~12之氟化烷基。R
2為亦可具有氟原子之碳數1~12之有機基或氫原子。R
2及Ya
x2亦可互相鍵結形成環構造。n
ax2為1~3之整數。]
前述式(a8-1)中,W
2為含聚合性基之基。
W
2中之「聚合性基」意指具有聚合性基之化合物能夠藉由自由基聚合等來聚合之基,例如乙烯性雙鍵等之包含碳原子間之多重鍵結之基。
構成單位(a0)中,該聚合性基中的多重鍵結會開裂並形成主鏈。
作為W
2中之聚合性基,有舉例如乙烯基、烯丙基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、氟乙烯基、二氟乙烯基、三氟乙烯基、二氟三氟甲基乙烯基、三氟烯丙基、全氟烯丙基、三氟甲基丙烯醯基、壬基氟丁基丙烯醯基、乙烯基醚基、含氟乙烯基醚基、烯丙基醚基、含氟烯丙基醚基、苯乙烯基、乙烯基萘基、含氟苯乙烯基、含氟乙烯基萘基、降基、含氟降基、矽烷基等。
作為W
2中之「含聚合性基之基」,亦可為僅由聚合性基構成之基,或聚合性基與該聚合性基以外之其他基構成之基。
作為該聚合性基以外之其他基,有舉出亦可具有取代基之2價烴基、包含雜原子之2價連結基等,各自與作為上述Ya
x1中之2價連結基所例示之亦可具有取代基之2價烴基、包含雜原子之2價連結基之說明相同。
作為W
2(含聚合性基之基),有適當地舉例如化學式:C(R
X11)(R
X12)=C(R
X13)-Ya
x0-表示之基。
此化學式中,R
X11、R
X12及R
X13各自為氫原子、碳數1~5之烷基或碳數1~5之鹵化烷基,Ya
x0為單鍵或2價連結基。
R
X11、R
X12及R
X13中之碳原子數1~5之烷基為碳原子數1~5之直鏈狀或分支鏈狀之烷基較佳,有舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、tert-丁基、戊基、異戊基、新戊基等。碳原子數1~5之鹵化烷基為前述碳原子數1~5之烷基之氫原子之一部份或全部經鹵原子取代之基。作為該鹵原子,特別是氟原子較佳。
此等中,作為R
X11及R
X12,各自為氫原子、碳原子數1~5之烷基或碳原子數1~5之氟化烷基較佳,以工業上之取得容易度來看,為氫原子、甲基更較佳,為氫原子特別佳。
且,作為R
X13,為氫原子、碳原子數1~5之烷基或碳原子數1~5之氟化烷基較佳,以工業上之取得容易度來看,為氫原子、甲基更較佳,為氫原子特別佳。
作為Ya
x0中之2價連結基,並無特別限定,但有舉出適當作為亦可具有取代基之2價烴基、包含雜原子之2價連結基等者,各自與作為上述Ya
x1中之2價連結基所例示之亦可具有取代基之2價烴基、包含雜原子之2價連結基之說明相同。
上述中,作為Ya
x0,為酯鍵結[-C(=O)-O-、 -O-C(=O)-]、醚鍵結(-O-)、直鏈狀或分支鏈狀之伸烷基、芳香族烴基或此等之組合或者單鍵較佳。
此等中,作為Ya
x0,為酯鍵結[-C(=O)-O-、-O-C(=O)-]、為單鍵再較佳,為單鍵更較佳。
以下表示構成單位(a8)之具體例。
下述式中,R
α表示氫原子、甲基或三氟甲基。
(A1)成分所具有之構成單位(a8)亦可為1種或2種以上。
(A1)成分具有構成單位(a8)時,構成單位(a8)之比例相對於構成該(A1)成分之全構成單位之合計(100莫耳%),為超過0莫耳%且20莫耳%以下較佳。
阻劑組成物所含有之(A1)成分亦可單獨使用1種,亦可併用2種以上。
本實施形態之阻劑組成物中,(A1)成分包含具有構成單位(a0)之重複構造之高分子化合物。
作為(A1)成分,在上述中,有適當地舉出包含具有構成單位(a0)與構成單位(a10)之重複構造之高分子化合物。
更具體來說,作為(A1)成分所包含之高分子化合物,有適當地舉出含有構成單位(a0)與構成單位(a10)之重複構造之高分子化合物;含有構成單位(a0)與構成單位(a10)與構成單位(a5)之重複構造之高分子化合物;含有構成單位(a0)與構成單位(a10)與構成單位(a2)之重複構造之高分子化合物。
含有構成單位(a0)與構成單位(a10)之重複構造之高分子化合物中,構成單位(a0)之比例相對於構成該高分子化合物之全構成單位之合計(100莫耳%),為10~90莫耳%較佳,為20~80莫耳%再較佳,為30~70莫耳%更較佳,為40~65莫耳%特別佳。
且,該高分子化合物中之構成單位(a10)之比例,相對於構成該高分子化合物之全構成單位之合計(100莫耳%),為10~90莫耳%較佳,為20~80莫耳%再較佳,為30~70莫耳%更較佳,為35~60莫耳%特別佳。
含有構成單位(a0)與構成單位(a10)與構成單位(a5)之重複構造之高分子化合物中,構成單位(a0)之比例相對於構成該高分子化合物之全構成單位之合計(100莫耳%),為20~80莫耳%較佳,為30~70莫耳%再較佳,為40~60莫耳%更較佳。
且,該高分子化合物中之構成單位(a10)之比例,相對於構成該高分子化合物之全構成單位之合計(100莫耳%),為5~60莫耳%較佳,為10~50莫耳%再較佳,為20~40莫耳%更較佳。
且,該高分子化合物中,構成單位(a5)之比例相對於構成該高分子化合物之全構成單位之合計(100莫耳%),為超過0莫耳%且20莫耳%以下較佳,為5~20莫耳%再較佳,為5~15莫耳%更較佳。
含有構成單位(a0)與構成單位(a10)與構成單位(a2)之重複構造之高分子化合物中,構成單位(a0)之比例相對於構成該高分子化合物之全構成單位之合計(100莫耳%),為20~80莫耳%較佳,為30~70莫耳%再較佳,為40~60莫耳%更較佳。
且,該高分子化合物中之構成單位(a10)之比例,相對於構成該高分子化合物之全構成單位之合計(100莫耳%),為5~60莫耳%較佳,為10~50莫耳%再較佳,為20~40莫耳%更較佳。
且,該高分子化合物中之構成單位(a2)之比例相對於構成該高分子化合物之全構成單位之合計(100莫耳%),為超過0莫耳%且20莫耳%以下較佳,為5~20莫耳%再較佳,為5~15莫耳%更較佳。
相關之(A1)成分係能夠藉由將衍生各構成單位之單體溶解於聚合溶媒,於此,例如添加偶氮雙異丁腈(AIBN)、偶氮雙異酪酸二甲基(例如V-601等)等之自由基聚合起始劑,並聚合來製造。
或相關之(A1)成分,能夠藉由將衍生構成單位(a0)之單體與因應必要之衍生構成單位(a0)以外之構成單位(例如構成單位(a10)等)之單體溶解於聚合溶媒中,於此,添加如上述之自由基聚合起始劑進行聚合,之後,藉由進行去保護反應來製造。
且,聚合時,例如藉由倂用如HS-CH
2-CH
2-CH
2-C(CF
3)
2-OH之連鎖移動劑來使用,亦可於末端導入-C(CF
3)
2-OH基。如此,有導入烷基之氫原子之一部份經氟原子取代之羥基烷基之共聚合物對顯像缺陷之降低或LER(線邊緣粗糙:線側壁之不均勻之凹凸)較有效。
(A1)成分之重量平均分子量(Mw)(凝膠滲透層析法(GPC)所得之聚乙烯換算基準)並無特別限定,為1000~50000較佳,為2000~30000再較佳,為3000~25000更較佳。
(A1)成分之Mw若在此範圍之較佳上限值以下,則作為阻劑使用時,具有充分之對阻劑溶劑之溶解性,若在此範圍之較佳下限值以上,則耐乾蝕刻性或阻劑圖型剖面形狀較良好。
(A1)成分之分散度(Mw/Mn)並無特別限定,為1.0~3.0較佳,為1.0~2.5再較佳,為1.0~2.0特別佳。且,Mn表示數平均分子量。
・關於(A2)成分
本實施形態之阻劑組成物中,作為(A)成分,亦可併用不相當於前述(A1)成分且因酸之作用而對顯像液之溶解性有變化之基材成分(以下稱作「(A2)成分」)。
作為(A2)成分,並無特別限定,任意地自以往熟知作為化學增幅型阻劑組成物用之基材成分之多數者中選擇來使用即可。
(A2)成分亦可單獨使用1種高分子化合物或低分子化合物,或亦可組合2種以上來使用。
(A)成分中之(A1)成分之比例相對於(A)成分之總質量,為25質量%以上較佳,為50質量%以上再較佳,為75質量%以上更較佳,亦可為100質量%。該比例若為25質量%以上,則容易形成高感度化、高解像性、減膜抑制性、粗糙改善等之各種微影特性優異之阻劑圖型。
本實施形態之阻劑組成物中,(A)成分之含量因應欲形成之阻劑膜厚等來調整。
<其他成分>
本實施形態之阻劑組成物中,除了上述(A)成分以外,亦可進而含有其他成分。作為其他成分,有舉例如以下所示之(B)成分、(D)成分、(E)成分、(F)成分、(S)成分等。
≪酸產生劑成分(B)≫
本實施形態之阻劑組成物進而含有因曝光而產生酸之酸產生劑成分(B)較佳。
作為(B)成分,並無特別限定,能夠使用目前為止作為化學增幅型阻劑組成物用之酸產生劑所提案者。
作為如此之酸產生劑,有舉出錪鹽或鋶鹽等之鎓鹽系酸產生劑、肟基磺酸酯系酸產生劑;雙烷基或雙芳基磺醯基重氮甲烷類、聚(雙磺醯基)重氮甲烷類等之重氮甲烷系酸產生劑;硝基苄基磺酸酯系酸產生劑、亞胺基磺酸酯系酸產生劑、二磺酸酯系酸產生劑等多種。
作為鎓鹽系酸產生劑,有舉例如下述一般式(b-1)表示之化合物(以下亦稱作「(b-1)成分」)、一般式(b-2)表示之化合物(以下亦稱作「(b-2)成分」)或一般式(b-3)表示之化合物(以下亦稱作「(b-3)成分」)。
[式中,R
101及R
104~R
108各自獨立為亦可具有取代基之環式基、亦可具有取代基之鏈狀之烷基,或亦可具有取代基之鏈狀之烯基。R
104與R
105亦可互相鍵結形成環構造。R
102為碳數1~5之氟化烷基或氟原子。Y
101為包含氧原子之2價連結基或單鍵。V
101~V
103各自獨立為單鍵、伸烷基或氟化伸烷基。L
101~L
102各自獨立為單鍵或氧原子L
103~L
105各自獨立為單鍵、-CO-或-SO
2-。m為1以上之整數,M’
m+為m價鎓鹽陽離子。]
{陰離子部}
・(b-1)成分中之陰離子
式(b-1)中,R
101為亦可具有取代基之環式基、亦可具有取代基之鏈狀之烷基,或亦可具有取代基之鏈狀之烯基。
亦可具有取代基之環式基:
該環式基為環狀之烴基較佳,該環狀之烴基亦可為芳香族烴基或脂肪族烴基。脂肪族烴基意指不具有芳香族性之烴基。且,脂肪族烴基亦可為飽和或不飽和,通常為飽和較佳。
R
101中之芳香族烴基為具有芳香環之烴基。該芳香族烴基之碳原子數為3~30較佳,為5~30再較佳,為5~20更較佳,為6~15特別佳,為6~10最佳。但,該碳原子數中不包含取代基中之碳原子數。
作為R
101中之芳香族烴基所具有之芳香環,具體來說有舉出苯、茀、萘、蒽、菲、聯苯或構成此等之芳香環之碳原子之一部份經雜原子取代之芳香族雜環等。作為芳香族雜環中之雜原子,有舉出氧原子、硫原子、氮原子等。
作為R
101中之芳香族烴基,具體來說有舉出自前述芳香環去除1個氫原子之基(芳基:例如苯基、萘基等)、前述芳香環之1個氫原子經伸烷基取代之基(例如苄基、苯乙基、1-萘基甲基、2-萘基甲基、1-萘基乙基、2-萘基乙基等之芳基烷基等)等。前述伸烷基(芳基烷基中之烷基鏈)之碳原子數為1~4較佳,為1~2再較佳,為1特別佳。
R
101中之環狀之脂肪族烴基有舉出構造中包含環之脂肪族烴基。
作為此構造中包含環之脂肪族烴基,有舉出脂環式烴基(自脂肪族烴環去除1個氫原子之基)、脂環式烴基鍵結於直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基之末端之基、脂環式烴基介在直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基之中間之基等。
前述脂環式烴基為碳原子數3~20較佳,為3~12再較佳。
前述脂環式烴基亦可為多環式基或單環式基。作為單環式之脂環式烴基,為自單環烷烴去除1個以上氫原子之基較佳。作為該單環烷烴,有舉出碳原子數3~6者較佳,具體來說有舉出環戊烷、環己烷等。作為多環式之脂環式烴基,為自聚環烷烴去除1個以上氫原子之基較佳,作為該聚環烷烴,為碳原子數7~30較佳。其中,作為該聚環烷烴,為金剛烷、降烷、異烷、三環癸烷、四環十二烷等之具有交聯環系之多環式骨架之聚環烷烴;具有類固醇骨架之環式基等之具有縮合環系之多環式骨架之聚環烷烴再較佳。
其中,作為R
101中之環狀之脂肪族烴基,為自單環烷烴或聚環烷烴去除1個以上氫原子之基較佳,為自聚環烷烴去除1個氫原子之基再較佳,為金剛烷基、降基更較佳,為金剛烷基最佳。
亦可鍵結於脂環式烴基之直鏈狀之脂肪族烴基為碳原子數1~10較佳,為1~6再較佳,為1~4更較佳,為1~3最佳。作為直鏈狀之脂肪族烴基,為直鏈狀之伸烷基較佳,具體來說,有舉出亞甲基[-CH
2-]、伸乙基[-(CH
2)
2-]、三亞甲基[-(CH
2)
3-]、四亞甲基[-(CH
2)
4-]、五亞甲基[-(CH
2)
5-]等。
亦可鍵結於脂環式烴基之分支鏈狀之脂肪族烴基為碳原子數2~10較佳,為3~6再較佳,為3或4更較佳,為3最佳。作為分支鏈狀之脂肪族烴基,為分支鏈狀之伸烷基較佳,具體來說有舉出-CH(CH
3)-、-CH(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)
2-、 -C(CH
3)(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)(CH
2CH
2CH
3)-、-C(CH
2CH
3)
2-等之烷基伸甲基;-CH(CH
3)CH
2-、-CH(CH
3)CH(CH
3)-、 -C(CH
3)
2CH
2-、-CH(CH
2CH
3)CH
2-、-C(CH
2CH
3)
2-CH
2-等之烷基伸乙基;-CH(CH
3)CH
2CH
2-、-CH
2CH(CH
3)CH
2-等之烷基三伸甲基;-CH(CH
3)CH
2CH
2CH
2-、-CH
2CH(CH
3)CH
2CH
2-等之烷基四亞甲基等之烷基伸烷基等。作為烷基伸烷基中之烷基,為碳原子數1~5之直鏈狀之烷基較佳。
且,R
101中之環狀之烴基亦可如雜環等包含雜原子。具體來說,有舉出各自以上述一般式(a2-r-1)~(a2-r-7)表示之含內酯之環式基、各自以上述化學式(r-hr-1)~(r-hr-16)表示之雜環式基、各自以下述一般式(b5-r-1)~(b5-r-4)表示之含-SO
2-之環式基。
式中*為式(b-1)中之Y
101之鍵結處。
[式中,Rb’
51各自獨立為氫原子、烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基、羥基、-COOR”、-OC(=O)R”、羥基烷基或氰基;R”為氫原子、烷基、含內酯之環式基,或、含 -SO
2-之環式基;B”為亦可包含氧原子或硫原子之碳原子數1~5之伸烷基、氧原子或硫原子,n’為0~2之整數。*表示鍵結處。]
前述一般式(b5-r-1)~(b5-r-2)中,B”為亦可含有氧原子或硫原子之碳原子數1~5之伸烷基、氧原子或硫原子。
作為B”,為碳原子數1~5之伸烷基或-O-較佳,為碳原子數1~5之伸烷基再較佳,為伸甲基更較佳。
前述一般式(b5-r-1)~(b5-r-4)中,Rb’
51各自獨立為氫原子、烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基、羥基、-COOR”、-OC(=O)R”、羥基烷基或氰基,在上述中,各自獨立為氫原子或氰基較佳。
下述舉出各自以一般式(b5-r-1)~(b5-r-4)表示之基之具體例。式中之「Ac」表示乙醯基。
作為R
101之環式基中之取代基,有舉例如烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基、羥基、羰基、硝基等。
作為取代基之烷基,為碳原子數1~5之烷基較佳,為甲基、乙基、丙基、n-丁基、tert-丁基最佳。
作為取代基之烷氧基,為碳原子數1~5之烷氧基較佳,為甲氧基、乙氧基、n-丙氧基、iso-丙氧基、n-丁氧基、tert-丁氧基再較佳,為甲氧基、乙氧基最佳。
作為取代基之鹵原子,有舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等,為溴原子、碘原子較佳,為碘原子再較佳。
作為取代基之鹵化烷基,為碳原子數1~5之烷基,有舉例如甲基、乙基、丙基、n-丁基、tert-丁基等之氫原子之一部份或全部經前述鹵原子取代之基。
作為取代基之羰基,為取代構成環狀之烴基之亞甲基(-CH
2-)之基。
R
101中之環狀烴基亦可為包含脂肪族烴基環與芳香環縮合之縮合環之縮合環式基。作為前述縮合環,有舉例如具有交聯環系之多環式骨架之聚環烷烴與1個以上芳香環縮合者等。作為前述交聯環系聚環烷烴之具體例,有舉出雙環[2.2.1]庚烷(降烷)、雙環[2.2.2]辛烷等之雙環烷烴。作為前述縮合環式,為雙環烷烴上包含縮合2個或3個芳香環之縮合環之基較佳,為雙環[2.2.2]辛烷上包含縮合2個或3個芳香環之縮合環之基再較佳。作為R
101中之縮合環式基之具體例,有適當地舉出下述式(r-br-1)~(r-br-2)表示之基。
式中*為式(b-1)中之Y
101之鍵結處。
作為R
101中之縮合環式基所亦可具有之取代基,有舉例如烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基、羥基、羰基、硝基、芳香族烴基、脂環式烴基等。
作為前述縮合環式基之取代基之烷基、烷氧基、鹵原子、鹵化烷基,有舉出與作為上述R
101中之環式基之取代基所舉出者相同者。
作為前述縮合環式基之取代基之芳香族烴基,有舉出自芳香環去除1個氫原子之基(芳基:例如苯基、萘基等)、前述芳香環之1個氫原子經伸烷基取代之基(例如苄基、苯乙基、1-萘基甲基、2-萘基甲基、1-萘基乙基、2-萘基乙基等之芳基烷基等)、各自以上述化學式(r-hr-1)~(r-hr-6)表示之雜環式基等。
作為前述縮合環式基之取代基之脂環式烴基,有舉出自環戊烷、環己烷等之單環烷烴去除1個氫原子之基;自金剛烷、降烷、異烷、三環癸烷、四環十二烷等之聚環烷烴去除1個氫原子之基;各自以前述一般式(a2-r-1)~(a2-r-7)表示之含內酯之環式基;各自以前述一般式(b5-r-1)~(b5-r-4)表示之含-SO
2-之環式基;各自以前述化學式(r-hr-7)~(r-hr-16)表示之雜環式基等。
亦可具有取代基之鏈狀之烷基:
作為R
101之鏈狀之烷基,亦可為直鏈狀或分支鏈狀之任一者。
作為直鏈狀之烷基,為碳原子數1~20較佳,為1~15再較佳,為1~10最佳。
作為分支鏈狀之烷基,為碳原子數3~20較佳,為3~15再較佳,為3~10最佳。具體來說有舉例如1-甲基乙基、1-甲基丙基、2-甲基丙基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、1-乙基丁基、2-乙基丁基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、3-甲基戊基、4-甲基戊基等。
亦可具有取代基之鏈狀之烯基:
作為R
101之鏈狀之烯基,亦可為直鏈狀或分支鏈狀之任一者,為碳原子數2~10較佳,為2~5再較佳,為2~4更較佳,為3特別佳。作為直鏈狀之烯基,有舉例如乙烯基、丙烯基(烯丙基)、丁烯基等。作為分支鏈狀之烯基,有舉例如1-甲基乙烯基、2-甲基乙烯基、1-甲基丙烯基、2-甲基丙烯基等。
作為鏈狀之烯基,上述中,為直鏈狀之烯基較佳,為乙烯基、丙烯基再較佳,為乙烯基特別佳。
作為R
101之鏈狀之烷基或烯基中之取代基,有舉例如烷氧基、鹵原子、鹵化烷基、羥基、羰基、硝基、胺基、上述R
101中之環式基等。
上述中,R
101為亦可具有取代基之環式基較佳,為亦可具有取代基之環狀之烴基再較佳。
作為環狀之烴基,更具體來說,為自芳香族烴基、聚環烷烴去除1個以上氫原子之基;各自以前述一般式(a2-r-1)~(a2-r-7)表示之含內酯之環式基;各自以前述一般式(b5-r-1)~(b5-r-4)表示之含-SO
2-之環式基、包含脂肪族烴環與芳香環縮合之縮合環之縮合環式基較佳,包含芳香族烴基、脂肪族烴環與芳香環縮合之縮合環之縮合環式基再較佳。
其中,R
101為具有選自碳原子數1~5之烷基、溴原子及碘原子所成群中之取代基之芳基、上述式(r-br-1)~(r-br-2)表示之基更較佳。
式(b-1)中,Y
101為包含氧原子之2價連結基或單鍵。
Y
101為包含氧原子之2價連結基時,該Y
101亦可含有氧原子以外之原子。作為氧原子以外之原子,有舉例如碳原子、氫原子、硫原子、氮原子等。
作為包含氧原子之2價連結基,有舉例如氧原子(醚鍵結:-O-)、酯鍵結(-C(=O)-O-)、氧基羰基(-O-C(=O)-)、醯胺鍵結(-C(=O)-NH-)、羰基(-C(=O)-)、碳酸酯鍵結(-O-C(=O)-O-)等之非烴系之含氧原子之連結基;該非烴系之含氧原子之連結基與伸烷基之組合等。此組合中亦可進一步連結磺醯基(-SO
2-)。作為相關之包含氧原子之2價連結基,有舉例如各自以下述一般式(y-al-1)~(y-al-7)表示之連結基。
且,下述一般式(y-al-1)~(y-al-7)中,上述式(b-1)中之R
101鍵結的是下述一般式(y-al-1)~(y-al-7)中之V’
101。
[式中,V’
101為碳原子數1~5之伸烷基或單鍵,V’
102為碳原子數1~30之2價飽和烴基或單鍵。]
V’
102中之2價飽和烴基為碳原子數1~30之伸烷基較佳,為碳原子數1~10之伸烷基再較佳,為碳原子數1~5之伸烷基更較佳。
作為V’
101及V’
102中之伸烷基,亦可為直鏈狀之伸烷基或分支鏈狀之伸烷基,為直鏈狀之伸烷基較佳。
作為V’
101及V’
102中之伸烷基,具體來說有舉出亞甲基[-CH
2-];-CH(CH
3)-、-CH(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)
2-、 -C(CH
3)(CH
2CH
3)-、-C(CH
3)(CH
2CH
2CH
3)-、-C(CH
2CH
3)
2-等之烷基伸甲基;伸乙基[-CH
2CH
2-];-CH(CH
3)CH
2-、 -CH(CH
3)CH(CH
3)-、-C(CH
3)
2CH
2-、-CH(CH
2CH
3)CH
2-等之烷基伸乙基;三伸甲基(n-伸丙基)[-CH
2CH
2CH
2-]; -CH(CH
3)CH
2CH
2-、-CH
2CH(CH
3)CH
2-等之烷基三伸甲基;四伸甲基[-CH
2CH
2CH
2CH
2-];-CH(CH
3)CH
2CH
2CH
2-、 -CH
2CH(CH
3)CH
2CH
2-等之烷基四伸甲基;五伸甲基 [-CH
2CH
2CH
2CH
2CH
2-]等。
且,V’
101或V’
102中,前述伸烷基中之一部份亞甲基亦可經碳原子數5~10之2價脂肪族環式基取代。該脂肪族環式基為自前述式(a1-r-1)中之Ra’
3之環狀之脂肪族烴基(單環式之脂肪族烴基、多環式之脂肪族烴基)進而去除1個氫原子之2價基較佳,為環伸環己基、1,5-伸金剛基或2,6-伸金剛基再較佳。
作為Y
101,為包含酯鍵結之2價連結基,或包含醚鍵結之2價連結基較佳,為各自以酯鍵結(-C(=O)-O-)、氧基羰基(-O-C(=O)-)、上述式(y-al-1)~(y-al-5)表示之連結基再較佳。
式(b-1)中,V
101為單鍵、伸烷基或氟化伸烷基。V
101中之伸烷基、氟化伸烷基為碳原子數1~4較佳。作為V
101中之氟化伸烷基,有舉出V
101中之伸烷基之氫原子之一部份或全部經氟原子取代之基。其中,V
101為單鍵,或碳原子數1~4之氟化伸烷基較佳。
式(b-1)中,R
102為氟原子或碳原子數1~5之氟化烷基。R
102為氟原子或碳原子數1~5之全氟烷基較佳,為氟原子再較佳。
作為前述式(b-1)表示之陰離子部之具體例,有舉例如Y
101為單鍵時,為三氟甲烷磺酸酯陰離子或全氟丁烷磺酸酯陰離子等之氟化烷基磺酸酯陰離子;Y
101為包含氧原子之2價連結基時,有舉出下述式(an-1)~(an-3)中任一者表示之陰離子。
[式中,R”
101為亦可具有取代基之脂肪族環式基、各自以上述一般式(b5-r-1)~(b5-r-4)表示之含-SO
2-之環式基、各自以上述化學式(r-hr-1)~(r-hr-6)表示之1價雜環式基、亦可具有取代基之芳基、上述化學式(r-br-1)或(r-br-2)表示之縮合環式基,或亦可具有取代基之鏈狀之烷基。R”
102為亦可具有取代基脂肪族環式基、前述式(r-br-1)或(r-br-2)表示之縮合環式基、各自以前述一般式(a2-r-1)、(a2-r-3)~(a2-r-7)表示之含內酯之環式基,或各自以前述一般式(b5-r-1)~(b5-r-4)表示之含-SO
2-之環式基。R”
103為亦可具有取代基之芳香族環式基、亦可具有取代基之脂肪族環式基,或亦可具有取代基之鏈狀之烯基。V”
101為單鍵、碳原子數1~4之伸烷基,或碳原子數1~4之氟化伸烷基,R
102為氟原子或碳原子數1~5之氟化烷基,v”各自獨立為0~3之整數,q”各自獨立為0~20之整數,n”為0或1。]
R”
101、R”
102及R”
103之亦可具有取代基之脂肪族環式基為作為前述式(b-1)中之R
101中之環狀之脂肪族烴基所例示之基較佳。作為前述取代基,有舉出與亦可取代前述式(b-1)中之R
101中之環狀之脂肪族烴基之取代基相同者。
R”
101中亦可具有取代基之芳基,為具有選自碳原子數1~5之烷基、溴原子及碘原子所成群中之取代基之芳基較佳,以高感度化之點,為具有選自溴原子及碘原子所成群中之取代基之芳基再較佳,為具有作為取代基之碘原子之芳基更較佳。
R”
103中之亦可具有取代基之芳香族環式基為作為前述式(b-1)中之R
101中之環狀之烴基中之芳香族烴基所例示之基較佳。作為前述取代基,有舉出與亦可取代前述式(b-1)中之R
101中之該芳香族烴基之取代基相同者。
R”
101中之亦可具有取代基之鏈狀之烷基為作為前述式(b-1)中之R
101中之鏈狀之烷基所例示之基較佳。
R”
103中之亦可具有取代基之鏈狀之烯基為作為前述式(b-1)中之R
101中之鏈狀之烯基所例示之基較佳。
・(b-2)成分中之陰離子
式(b-2)中,R
104及R
105各自獨立為亦可具有取代基之環式基、亦可具有取代基之鏈狀之烷基,或亦可具有取代基之鏈狀之烯基,各自舉出與式(b-1)中之R
101相同。惟,R
104與R
105亦可相互鍵結並形成環。
R
104、R
105亦可具有取代基之鏈狀之烷基較佳,為直鏈狀或分支鏈狀之烷基,或直鏈狀或分支鏈狀之氟化烷基再較佳。
該鏈狀之烷基之碳原子數為1~10較佳,再較佳為碳原子數1~7、更較佳為碳原子數1~3。R
104、R
105之鏈狀之烷基之碳原子數在上述碳原子數之範圍內,由於對阻劑用溶劑之溶解性亦良好等之理由,較小較佳。
R
104、R
105之鏈狀之烷基中,經氟原子取代之氫原子之數量越多,酸之強度越強,且,對250nm以下之高能量光或電子線之透明性會提升,故較佳。前述鏈狀之烷基中之氟原子之比例,亦即氟化率較佳為70~100%,更較佳為90~100%,最佳為所有氫原子經氟原子取代之全氟烷基。
式(b-2)中,V
102、V
103各自獨立為單鍵、伸烷基,或氟化伸烷基,各自舉出與式(b-1)中之V
101相同者。
式(b-2)中,L
101、L
102各自獨立為單鍵或氧原子
・(b-3)成分中之陰離子
式(b-3)中,R
106~R
108各自獨立為亦可具有取代基之環式基、亦可具有取代基之鏈狀之烷基,或亦可具有取代基之鏈狀之烯基,各自舉出與式(b-1)中之R
101相同者。
式(b-3)中,L
103~L
105各自獨立為單鍵、-CO-或 -SO
2-。
上述中,作為(B)成分之陰離子部,為(b-1)成分陰離子較佳。
{陽離子部}
前述式(b-1)、式(b-2)、式(b-3)中,M’
m+表示m價之鎓鹽陽離子。其中,M’
m+為鋶陽離子、錪陽離子較佳。m為1以上之整數。
作為較佳之陽離子部((M’
m+)
1/m),有舉出各自以上述一般式(ca-1)~(ca-3)表示之有機陽離子。
作為上述式(ca-1)表示之適合之陽離子,具體來說,有舉出各自以上述化學式(ca-1-1)~(ca-1-76)表示之陽離子。
以高感度化之點,作為前述式(ca-1)表示之適合陽離子,為具有作為取代基之氟原子或氟化烷基較佳,例如選自各自以上述化學式(ca-1-69)~(ca-1-75)表示之陽離子所成群中之陽離子特別佳。
作為上述式(ca-2)表示之適當的陽離子,具體來說有舉出二苯基錪陽離子、雙(4-tert-丁基苯基)錪陽離子等。
作為上述式(ca-3)表示之適合陽離子,具體來說,有舉出各自以上述式(ca-3-1)~(ca-3-6)表示之陽離子。
上述中,作為陽離子部((M’
m+)
1/m),為上述一般式(ca-1)表示之有機陽離子再較佳。
以下表示本實施形態之阻劑組成物中適合之(B)成分之具體例。
本實施形態之阻劑組成物中,作為(B)成分,使用選自各自以上述化學式(B-1)~(B-11)表示之化合物所成群中至少一種較佳,此等中,以高感度化、高解像性之觀點,使用選自各自以上述化學式(B-1)~(B-3)表示之化合物所成群中至少一種再較佳。
本實施形態之阻劑組成物中,(B)成分亦可單獨使用1種,亦可併用2種以上。
阻劑組成物含有(B)成分時,阻劑組成物中,(B)成分之含量相對於(A1)成分100質量份,為未滿60質量份較佳,為8~50質量份再較佳,為20~50質量份更較佳。
藉由將(B)成分之含量設在前述較佳範圍,能充分進行圖型形成。且,將阻劑組成物之各成分溶解於有機溶劑時,容易得到均勻之溶液,作為阻劑組成物之保存安定性較良好,故較佳。
≪鹼基成分(D)≫
本實施形態之阻劑組成物中,除了(A1)成分以外,或除了(A1)成分與(B)成分以外,進而含有抑止因曝光而產生之酸(亦即抑制酸之擴散)之鹼基成分((D)成分)較佳。相關之(D)成分在阻劑組成物中,是作為抑止因曝光而產生之酸之淬滅劑(酸擴散抑制劑)之作用。
作為(D)成分,有舉例如會因曝光分解而失去酸擴散抑制性之光崩解性鹼基(D1)(以下稱作「(D1)成分」)、不相當於該(D1)成分之含氮有機化合物(D2)(以下稱作「(D2)成分」)等。此等之中,以容易提高粗糙降低性來看,為光崩解性鹼基((D1)成分)較佳。且,藉由含有(D1)成分,容易提高高感度化、塗布缺陷之發生之抑制特性之任一者。
・關於(D1)成分
藉由含有(D1)成分之阻劑組成物,形成阻劑圖型時,能夠更提升阻劑膜之曝光部與未曝光部之對比。
作為(D1)成分,只要是會因曝光分解而失去酸擴散抑制性者即可,並無特別限定,為選自下述一般式(d1-1)表示之化合物(以下稱作「(d1-1)成分」)、下述一般式(d1-2)表示之化合物(以下稱作「(d1-2)成分」)及下述一般式(d1-3)表示之化合物(以下稱作「(d1-3)成分」)所成群中1種以上之化合物較佳。
(d1-1)~(d1-3)成分由於在阻劑膜之曝光部中會分解而失去酸擴散抑制性(鹼基性),因此不作為淬滅劑,在阻劑膜之未曝光部中作為淬滅劑來使用。
[式中,Rd
1~Rd
4為亦可具有取代基之環式基、亦可具有取代基之鏈狀之烷基,或亦可具有取代基之鏈狀之烯基。但,式(d1-2)中之Rd
2上,與S原子相鄰之碳原子不與氟原子鍵結。Yd
1為2價連結基或單鍵,m為1以上之整數,M
m+各自獨立為m價之有機陽離子。]
{(d1-1)成分}
・・陰離子部
式(d1-1)中,Rd
1為亦可具有取代基之環式基、亦可具有取代基之鏈狀之烷基,或亦可具有取代基之鏈狀之烯基,且分別舉出與前述R’
201相同者。
此等之中,作為Rd
1,為亦可具有取代基之芳香族烴基、亦可具有取代基之脂肪族環式基或亦可具有取代基之鏈狀之烷基較佳,為亦可具有取代基之芳香族烴基再較佳。
作為此等之基所亦可具有之取代基,有舉出羥基、側氧基、烷基、芳基、氟原子、溴原子、碘原子、氟化烷基、各自以上述一般式(a2-r-1)~(a2-r-7)表示之含內酯之環式基、醚鍵結、酯鍵結,或此等之組合。
包含醚鍵結或酯鍵結作為取代基時,亦可介隔著伸烷基,作為此時之取代基,為各自以上述式(y-al-1)~(y-al-5)表示之連結基較佳。且,Rd
1中之芳香族烴基、脂肪族環式基,或鏈狀之烷基具有各自以上述一般式(y-al-1)~(y-al-7)表示之連結基作為取代基時,上述一般式(y-al-1)~(y-al-7)中,與構成式(d1-1)中之Rd
1中之芳香族烴基、脂肪族環式基,或鏈狀之烷基之碳原子鍵結的為上述一般式(y-al-1)~(y-al-7)中之V’
101。
作為前述芳香族烴基,有適當地舉出苯基、萘基、包含雙環辛烷骨架之多環構造(雙環辛烷骨架與此等以外之環構造而成之多環構造)。
作為前述脂肪族環式基,為自金剛烷、降烷、異烷、三環癸烷、四環十二烷等之聚環烷烴去除1個以上氫原子之基再較佳。
作為前述鏈狀之烷基,為碳原子數1~10較佳,具體來說有舉出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基等之直鏈狀之烷基;1-甲基乙基、1-甲基丙基、2-甲基丙基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、1-乙基丁基、2-乙基丁基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、3-甲基戊基、4-甲基戊基等之分支鏈狀之烷基。
前述鏈狀之烷基具有作為取代基之氟原子或氟化烷基之氟化烷基時,氟化烷基之碳原子數為1~11較佳,為1~8再較佳,為1~4更較佳。該氟化烷基亦可含有氟原子以外之原子。作為氟原子以外之原子,有舉例如氧原子、硫原子、氮原子等。
以下表示(d1-1)成分之陰離子部之較佳具體例。
・・陽離子部
式(d1-1)中,M
m+為m價之有機陽離子。
作為M
m+之有機陽離子,有適當地舉出與各自以前述一般式(ca-1)~(ca-3)表示之陽離子相同者,為前述一般式(ca-1)表示之陽離子再較佳,為各自以前述化學式(ca-1-1)~(ca-1-76)表示之陽離子更較佳。以高感度化之點,具有氟原子或氟化烷基作為取代基較佳,例為選自各自以前述化學式(ca-1-69)~(ca-1-75)表示之陽離子所成群中之陽離子特別佳。
(d1-1)成分亦可單獨使用1種,亦可組合2種以上來使用。
{(d1-2)成分}
・・陰離子部
式(d1-2)中,Rd
2為亦可具有取代基之環式基、亦可具有取代基之鏈狀之烷基,或亦可具有取代基之鏈狀之烯基,有舉出與前述R’
201相同者。
但,Rd
2中,相鄰於S原子之碳原子上沒有鍵結氟原子(無經氟化取代)。藉此,(d1-2)成分之陰離子成為適度之弱酸陰離子,並提升作為(D)成分之淬滅能。
作為Rd
2,為亦可具有取代基之鏈狀之烷基,或亦可具有取代基之脂肪族環式基較佳,亦可具有取代基之脂肪族環式基再較佳。
作為該鏈狀之烷基,為碳原子數1~10較佳,為3~10再較佳。
作為該脂肪族環式基,為自金剛烷、降莰烷、異莰烷、三環癸烷、四環十二烷等去除1個以上之氫原子之基(亦可具有取代基之);為自樟腦去除1個以上之氫原子之基再較佳。
Rd
2之烴基亦可具有取代基,作為該取代基,有舉出與前述式(d1-1)之Rd
1中之烴基(芳香族烴基、脂肪族環式基、鏈狀之烷基)所亦可具有之取代基相同者。
以下表示(d1-2)成分之陰離子部之較佳具體例。
・・陽離子部
式(d1-2)中,M
m+為m價有機陽離子,與前述式(d1-1)中之Mm+相同。
(d1-2)成分亦可單獨使用1種,亦可組合2種以上來使用。
{(d1-3)成分}
・・陰離子部
式(d1-3)中,Rd
3為亦可具有取代基之環式基、亦可具有取代基之鏈狀之烷基,或亦可具有取代基之鏈狀之烯基,有舉出與前述R’
201相同者,為包含氟原子之環式基、鏈狀之烷基,或鏈狀之烯基較佳。其中,為氟化烷基較佳,為與前述Rd
1之氟化烷基相同者再較佳。
式(d1-3)中,Rd
4為亦可具有取代基之環式基、亦可具有取代基之鏈狀之烷基,或亦可具有取代基之鏈狀之烯基,有舉出與前述R’
201相同者
其中,為亦可具有取代基之烷基、烷氧基、烯基、環式基較佳。
Rd
4中之烷基為碳原子數1~5之直鏈狀或分支鏈狀之烷基較佳,具體來說,有舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、tert-丁基、戊基、異戊基、新戊基等。Rd
4之烷基之氫原子之一部份亦可經羥基、氰基等取代。
Rd
4中之烷氧基為碳原子數1~5之烷氧基較佳,作為碳原子數1~5之烷氧基,具體來說有舉出甲氧基、乙氧基、n-丙氧基、iso-丙氧基、n-丁氧基、tert-丁氧基。其中,為甲氧基、乙氧基較佳。
Rd
4中之烯基有舉出與前述R’
201中之烯基相同者,為乙烯基、丙烯基(烯丙基)、1-甲基丙烯基、2-甲基丙烯基較佳。此等之基進而作為取代基,亦可具有碳原子數1~5之烷基或碳原子數1~5之鹵化烷基。
Rd
4中之環式基有舉出與前述R’
201中之環式基相同者,為自環戊烷、環己烷、金剛烷、降烷、異烷、三環癸烷、四環十二烷等之環烷烴去除1個以上氫原子之脂環式基,或苯基、萘基等之芳香族基較佳。Rd
4為脂環式基時,由於阻劑組成物會良好地溶解於有機溶劑,微影特性會較良好。且,Rd
4為芳香族基時,將EUV等作為曝光光源之微影中,該阻劑組成物之光吸收效率較優異,感度或微影特性較良好。
式(d1-3)中,Yd
1為單鍵或2價連結基。
作為Yd
1中之2價連結基,並無特別限定,但有舉出亦可具有取代基之2價烴基(脂肪族烴基、芳香族烴基)、包含雜原子之2價連結基等。此等各自與作為上述Ya
x1中之2價連結基所例示之亦可具有取代基之2價烴基、包含雜原子之2價連結基相同。
作為Yd
1,為羰基、酯鍵結、醯胺鍵結、伸烷基或此等之組合較佳。作為伸烷基,為直鏈狀或分支鏈狀之伸烷基再較佳,為亞甲基或伸乙基更較佳。
以下表示(d1-3)成分之陰離子部之較佳具體例。
・・陽離子部
式(d1-3)中,M
m+為m價有機陽離子,與前述式(d1-1)中之M
m+相同。
(d1-3)成分亦可單獨使用1種,亦可組合2種以上來使用。
(D1)成分亦可僅使用上述(d1-1)~(d1-3)成分中之任1種,亦可組合2種以上來使用。
阻劑組成物含有(D1)成分時,阻劑組成物中,(D1)成分之含量相對於(A1)成分100質量份,為0.5~25質量份較佳,為1~20質量份再較佳,為3~15質量份更較佳。
(D1)成分之含量若在前述較佳範圍之下限值以上,則能夠容易得到特別良好之微影特性及阻劑圖型形狀。另一方面,若在前述較佳範圍之上限值以下,則能夠良好地維持感度,產出量亦較優異。
本實施形態之阻劑組成物中,(D1)成分包含上述(d1-1)成分較佳。
本實施形態之阻劑組成物所含有之(D)成分全體中,(d1-1)成分之含量為50質量%以上較佳,為70質量%以上再較佳,為90質量%以上更較佳,(D)成分亦可僅含有化合物(d1-1)成分(100質量%)。
(D1)成分之製造方法:
前述(d1-1)成分、(d1-2)成分之製造方法並無特別限定,能夠藉由公知方法來製造。
且,(d1-3)成分之製造方法並無特別限定,能夠與例如US2012-0149916號公報所記載之方法同樣地來製造。
・關於(D2)成分
作為(D)成分,亦可含有不相當於上述(D1)成分之含氮有機化合物成分(以下稱作「(D2)成分」)。
作為(D2)成分,只要是作為酸擴散抑制劑而作用,且不相當於(D1)成分者,並無特別限定,亦可自公知者中任意地使用。其中,為脂肪族胺較佳,其中,特別是2級脂肪族胺或三級脂肪族胺再較佳。
脂肪族胺意指具有1個以上脂肪族基之胺,該脂肪族基為碳原子數1~12較佳。
作為脂肪族胺,有舉出氨NH
3之氫原子中至少1個經碳原子數12以下之烷基或羥基烷基取代之胺(烷基胺或烷基醇胺)或環式胺。
作為烷基胺及烷基醇胺之具體例,有舉出n-己基胺、n-庚基胺、n-辛基胺、n-壬基胺、n-癸基胺等之單烷基胺;二乙基胺、二-n-丙基胺、二-n-庚基胺、二-n-辛基胺、二環己基胺等之二烷基胺;三甲基胺、三乙基胺、三-n-丙基胺、三-n-丁基胺、三-n-戊基胺、三-n-己基胺、三-n-庚基胺、三-n-辛基胺、三-n-壬基胺、三-n-癸基胺、三-n-十二基胺等之三烷基胺;二乙醇胺、三乙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺、二-n-辛醇胺、三-n-辛醇胺等之烷基醇胺。此等中,為碳原子數6~30之三烷基胺更較佳,三-n-戊基胺或三-n-辛基胺特別佳。
作為環式胺,有舉例如包含作為雜原子之氮原子之雜環化合物。作為該雜環化合物,亦可為單環式者(脂肪族單環式胺)或多環式者(脂肪族多環式胺)。
作為脂肪族單環式胺,具體來說有舉出吡啶、哌嗪等。
作為脂肪族多環式胺,為碳原子數6~10者較佳,具體來說有舉出1,5-二氮雙環[4.3.0]-5-壬烯、1,8-二氮雙環[5.4.0]-7-十一烯、六亞甲基四胺、1,4-二氮雙環[2.2.2]辛烷等。
作為其他脂肪族胺,有舉出參(2-甲氧基甲氧基乙基)胺、參{2-(2-甲氧基乙氧基)乙基}胺、參{2-(2-甲氧基乙氧基甲氧基)乙基}胺、參{2-(1-甲氧基乙氧基)乙基}胺、參{2-(1-乙氧基乙氧基)乙基}胺、參{2-(1-乙氧基丙氧基)乙基}胺、參[2-{2-(2-羥基乙氧基)乙氧基}乙基]胺、三乙醇胺三乙酸酯等,為三乙醇胺三乙酸酯較佳。
且,作為(D2)成分,亦可使用芳香族胺。
作為芳香族胺,有舉出4-二甲基胺基吡啶、2,6-二-tert-丁基吡啶、吡咯、吲哚、吡唑、咪唑或此等之衍生物、三苄基胺、2,6-二異丙基苯胺、N-tert-丁氧基羰基吡咯啶等。
上述中,(D2)成分為烷基胺較佳,為碳原子數6~30之三烷基胺再較佳。
(D2)成分亦可單獨使用1種,亦可組合2種以上來使用。
阻劑組成物含有(D2)成分時,阻劑組成物中,(D2)成分之含量相對於(A1)成分100質量份,為0.01~5質量份較佳,為0.1~5質量份再較佳,為0.5~5質量份更較佳。
(D2)成分之含量若在前述較佳範圍之下限值以上,則能夠容易得到特別良好之微影特性及阻劑圖型形狀。另一方面,若在前述較佳範圍之上限值以下,則能夠良好地維持感度,產出量亦較優異。
≪選自有機羧酸,以及磷之含氧酸及其衍生物所成群中至少1種化合物(E)≫
本實施形態之阻劑組成物中,以感度惡化之防止,或阻劑圖型形狀、延長經時安定性等之提升之目的,作為任意成分,能夠使其含有選自有機羧酸,以及磷之含氧酸及其衍生物所成群中至少1種化合物(E)(以下稱作「(E)成分」)。
作為有機羧酸,具體來說為乙酸、丙二酸、檸檬酸、蘋果酸、琥珀酸、安息香酸、水楊酸等,其中為水楊酸較佳。
作為磷之含氧酸,有舉出磷酸、亞磷酸、膦酸等,此等之中,尤其是亞磷酸較佳。
本實施形態之阻劑組成物中,(E)成分亦可單獨使用1種,亦可併用2種以上。
阻劑組成物含有(E)成分時,(E)成分之含量相對於(A1)成分100質量份,為0.01~5質量份較佳,為0.05~3質量份再較佳。藉由設定在上述範圍,微影特性會更提升。
≪氟添加劑成分(F)≫
本實施形態之阻劑組成物中,作為疎水性樹脂,亦可含有氟添加劑成分(以下亦稱作「(F)成分」)。(F)成分係為了對阻劑膜賦予撥水性而使用,藉由作為有別於(A)成分之樹脂來使用,能夠提升微影特性。
作為(F)成分,能夠使用例如日本特開2010-002870號公報、日本特開2010-032994號公報、日本特開2010-277043號公報、日本特開2011-13569號公報、日本特開2011-128226號公報中記載之含氟高分子化合物。
作為(F)成分,更具體來說有舉出具有下述一般式(f1-1)表示之構成單位(f1)之聚合物。作為此聚合物,為僅由下述式(f1-1)表示之構成單位(f1)構成之聚合物(均聚合物);該構成單位(f1)與前述構成單位(a1)之共聚合物;由該構成單位(f1)與丙烯酸或甲基丙烯酸衍生之構成單位與前述構成單位(a1)之共聚合物較佳,為該構成單位(f1)與前述構成單位(a1)之共聚合物再較佳。於此,作為與該構成單位(f1)共聚合之前述構成單位(a1),為由1-乙基-1-環辛基(甲基)丙烯酸酯衍生之構成單位、由1-甲基-1-金剛烷(甲基)丙烯酸酯衍生之構成單位較佳,為由1-乙基-1-環辛基(甲基)丙烯酸酯衍生之構成單位再較佳。
[式中,R與前述相同,Rf
102及Rf
103各自獨立表示氫原子、鹵原子、碳原子數1~5之烷基或碳原子數1~5之鹵化烷基,Rf
102及Rf
103亦可相同或相異。nf
1為0~5之整數,Rf
101為包含氟原子之有機基。]
式(f1-1)中,鍵結於α位碳原子之R與前述相同。作為R,為氫原子或甲基較佳。
式(f1-1)中,作為Rf
102及Rf
103之鹵原子,為氟原子較佳。作為Rf
102及Rf
103之碳原子數1~5之烷基,有舉出與上述R之碳原子數1~5之烷基相同者,為甲基或乙基較佳。作為Rf
102及Rf
103之碳原子數1~5之鹵化烷基,具體來說,有舉出碳原子數1~5之烷基之氫原子之一部份或全部經鹵原子取代之基。作為該鹵原子,為氟原子較佳。其中,作為Rf
102及Rf
103,為氫原子、氟原子,或碳原子數1~5之烷基較佳,為氫原子、氟原子、甲基或乙基再較佳,為氫原子更較佳。
式(f1-1)中,nf
1為0~5之整數,為0~3之整數較佳,為1或2再較佳。
式(f1-1)中,Rf
101為包含氟原子之有機基,為包含氟原子之烴基較佳。
作為包含氟原子之烴基,亦可為直鏈狀、分支鏈狀或環狀之任一者,為碳原子數1~20較佳,為碳原子數1~15再較佳,為碳原子數1~10更較佳。
且,包含氟原子之烴基為該烴基中之氫原子的25%以上經氟化較佳,為50%以上經氟化再較佳,為60%以上經氟化以浸漬曝光時之阻劑膜之疏水性提高來看,特別佳。
其中,作為Rf
101,為碳原子數1~6之氟化烴基再較佳,為三氟甲基、-CH
2-CF
3、-CH
2-CF
2-CF
3、-CH(CF
3)
2、-CH
2-CH
2-CF
3、-CH
2-CH
2-CF
2-CF
2-CF
2-CF
3特別佳。
(F)成分之重量平均分子量(Mw)(凝膠滲透層析所得之聚苯乙烯換算基準)為1000~50000較佳,為5000~ 40000再較佳,為10000~30000最佳。若在此範圍之上限值以下,則作為阻劑使用時對阻劑用溶劑具有充分之溶解性,若在此範圍之下限值以上,則阻劑膜之撥水性較良好。
(F)成分之分散度(Mw/Mn)為1.0~5.0較佳,為1.0~3.0再較佳,為1.0~2.5最佳。
本實施形態之阻劑組成物中,(F)成分亦可單獨使用1種,亦可併用2種以上。
阻劑組成物含有(F)成分時,(F)成分之含量相對於(A1)成分100質量份,為0.5~10質量份較佳,為1~10質量份再較佳。
≪有機溶劑成分(S)≫
本實施形態之阻劑組成物能夠使阻劑材料溶解於有機溶劑成分(以下稱作「(S)成分」)來製造。
作為(S)成分,只要是能夠溶解使用之各成分且作為均勻之溶液者即可,能夠自以往作為化學增幅型阻劑組成物之溶劑之公知者中適當地選自任意者來使用。
作為(S)成分,有舉例如γ-丁內酯等之內酯類;丙酮、甲基乙基酮、環己酮、甲基-n-戊基酮、甲基異戊基酮、2-庚酮等之酮類;乙二醇、二乙二醇、丙二醇、二丙二醇等之多元醇類;乙二醇單乙酸酯、二乙二醇單乙酸酯、丙二醇單乙酸酯,或二丙二醇單乙酸酯等之具有酯鍵結之化合物、前述多元醇類或具有前述酯鍵結之化合物之單甲基醚、單乙基醚、單丙基醚、單丁基醚等之單烷基醚或單苯基醚等之具有醚鍵結之化合物等之多元醇類之衍生物[此等中,為丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇單甲基醚(PGME)較佳];如二氧陸圜之環式醚類,或乳酸甲酯、乳酸乙酯(EL)、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯等之酯類;苯甲醚、乙基苄基醚、甲苯酚基甲基醚、二苯基醚、二苄基醚、苯乙醚、丁基苯基醚、乙基苯、二乙基苯、戊基苯、異丙基苯、甲苯、二甲苯、異丙基甲苯、均三甲苯等之芳香族系有機溶劑、二甲基亞碸(DMSO)等、均三甲苯等之芳香族系有機溶劑、二甲基亞碸(DMSO)等。
本實施形態之阻劑組成物中,(S)成分亦可單獨使用1種,亦可作為2種以上之混合溶劑來使用。其中,為PGMEA、PGME、γ-丁內酯、EL、環己酮較佳。
且,作為(S)成分,混合PGMEA與極性溶劑之混合溶劑較佳。其摻混比(質量比)只要考慮PGMEA與極性溶劑之相溶性等來適當地決定即可,較佳為1:9~9:1,再較佳為在2:8~8:2之範圍內較佳。
更具體來說,摻混EL或環己酮作為極性溶劑時,PGMEA:EL或環己酮之質量比較佳為1:9~9:1,再較佳為2:8~8:2。且,摻混PGME作為極性溶劑時,PGMEA:PGME之質量比較佳為1:9~9:1,再較佳為2:8~8:2,更較佳為3:7~7:3。進而,PGMEA與PGME與環己酮之混合溶劑較佳。
且,作為(S)成分,其他為選自PGMEA及EL中至少1種與γ-丁內酯之混合溶劑亦較佳。此時,作為混合比例,前者與後者之質量比較佳為70:30~95:5。
(S)成分之使用量並無特別限定,以能夠塗布在基板等之濃度並因應塗布膜厚來適當地設定。一般來說,以阻劑組成物之固形分濃度為0.1~20質量%,較佳為0.2~15質量%之範圍內來使用(S)成分。
本實施形態之阻劑組成物亦可使上述阻劑材料溶解於(S)成分後,使用聚醯亞胺多孔質膜、聚醯胺醯亞胺多孔質膜等,進行雜質等之去除。例如亦可使用聚醯亞胺多孔質膜而成之過濾器、聚醯胺醯亞胺多孔質膜而成之過濾器、聚醯亞胺多孔質膜及聚醯胺醯亞胺多孔質膜而成之過濾器等,進行阻劑組成物之過濾。作為前述聚醯亞胺多孔質膜及前述聚醯胺醯亞胺多孔質膜,有例示例如日本特開2016-155121號公報中所記載者等報中所記載者等。
如以上說明,本實施形態之阻劑組成物中含有具有一般式(a0-1)表示之化合物所衍生之構成單位(a0)之樹脂成分(A1)。
前述構成單位(a0)在側鏈具有特定酸解離性基(R
a0)。特定之酸解離性基(R
a0)包含三鍵結且具有複數之碳-碳多重鍵結,故在樹脂成分(A1)中,在酸解離反應時能夠達到共鳴效果,且藉此提高酸解離性。
除此之外,前述構成單位(a0)具有複數之碳-碳多重鍵結,故樹脂成分(A1)中,碳比率會提高(能將CH鍵結之數壓得較低)。
因此等之理由,藉由含有具有前述構成單位(a0)之樹脂成分(A1)之本實施形態之阻劑組成物,在更提高耐蝕刻性的同時,也能夠追求高感度化。
(阻劑圖型形成方法)
本發明之第2型態相關之阻劑圖型形成方法係具有在支持體上使用上述本發明之第1型態相關之阻劑組成物,形成阻劑膜之步驟、將前述阻劑膜曝光之步驟,及將前述曝光後之阻劑膜顯像,形成阻劑圖型之步驟之方法。
作為相關之阻劑圖型形成方法之一實施形態,有舉例如以下來進行之阻劑圖型形成方法。
首先,將上述實施形態之阻劑組成物以旋轉器等塗布於支持體上,將烘培(後使用烘培(PAB))處理以例如80~150℃之溫度條件施予40~120秒鐘,較佳為60~90秒鐘,形成阻劑膜。
接著,對該阻劑膜,使用例如電子線描繪裝置、ArF曝光裝置等之曝光裝置,進行介隔著有形成特定圖型之光罩(光罩圖型)之曝光,或不介隔著光罩圖型之電子線之直接照射之描繪等之選擇性曝光後,將烘培(後曝光烘培(PEB))處理以例如80~150℃之溫度條件施予40~120秒鐘,較佳為60~90秒鐘。
接著,顯像處理前述阻劑膜。顯像處理為鹼顯像製程時,使用鹼顯像液,為溶劑顯像製程時,使用含有有機溶劑之顯像液(有機系顯像液)來進行。
顯像處理後,較佳為進行清洗處理。清洗處理為鹼顯像製程時,使用純水之水清洗較佳,為溶劑顯像製程時,使用含有有機溶劑之清洗液較佳。
溶劑顯像製程時,前述顯像處理或輕洗處理後,將附著於圖型上之顯像液或清洗液以超臨界流體來進行去除處理。
顯像處理後或清洗處理後,進行乾燥。且,依照狀況之不同,亦可在上述顯像處理後進行烘培處理(後烘培)。
如此,能夠形成阻劑圖型。
作為支持體,並無特別限定,能夠使用以往公知者,有舉例如電子零件用之基板,或於此有形成特定配線圖型者等。更具體來說,有舉出矽晶圓、銅、鉻、鐵、鋁等之金屬製之基板,或玻璃基板等。作為配線圖型之材料,能夠使用例如銅、鋁、鎳、金等。
曝光所使用之波長並無特別限定,能夠使用ArF準分子雷射、KrF準分子雷射、F
2準分子雷射、EUV(極端紫外線)、VUV(真空紫外線)、EB(電子線)、X線、軟X線等之放射線來進行。
上述實施形態之阻劑組成物作為KrF準分子雷射、ArF準分子雷射、EB或EUV用之有用性較高,作為ArF準分子雷射、EB或EUV用之有用性再較高,作為EB或EUV用之有用性特別高。亦即,本實施形態之阻劑圖型形成方法中,將阻劑膜曝光之步驟包含對前述阻劑膜進行EUV(極端紫外線)或EB(電子線)之操作時,為有用之方法。
阻劑膜之曝光方法亦可為在空氣或氮等之惰性氣體中進行之一般的曝光(乾燥曝光),亦可為液浸曝光(Liquid Immersion Lithography)。
液浸曝光係預先將阻劑膜與曝光裝置之最下位置之鏡片間充滿具有比空氣之折射率大之折射率之溶媒(液浸溶媒),以此狀態進行曝光(浸漬曝光)之曝光方法。
作為液浸溶媒體,為具有比空氣之折射率大,且比經曝光之阻劑膜之折射率小之折射率之溶媒較佳,有舉例如水、氟系惰性液體、矽系溶劑、烴系溶劑等。作為液浸媒體,適合使用水。
作為鹼顯像製程中顯像處理所使用之鹼顯像液,有舉例如0.1~10質量%四甲基羥化銨(TMAH)水溶液。
溶劑顯像製程中顯像處理所使用之有機系顯像液中之有機溶劑脂含量,相對於有機系顯像液支全量,通常為90質量%以上,亦可為95質量%以上,亦可為98質量%以上,亦可為100質量%,較佳為100質量%。
作為相關之有機系顯像液所含有之有機溶劑,只要是能夠溶解(A)成分(曝光前之(A)成分)即可,能夠從公知有機溶劑中適當地選擇。具體來說有舉出酮系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑、腈系溶劑、醯胺系溶劑、醚系溶劑等之極性溶劑、烴系溶劑等。
作為酯系溶劑,有舉例如乙酸甲酯、乙酸丁酯、乙酸乙酯、乙酸異丙酯、乙酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸戊酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、二乙二醇單丁基醚乙酸酯、二乙二醇單乙基醚乙酸酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丁酯、甲酸丙酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、乳酸丙酯、丁酸丁酯、2-羥基異酪酸甲酯、乙酸異戊酯、異酪酸異丁酯及丙酸丁酯。
作為腈系溶劑,有舉例如乙醯腈、丙腈、戊腈、丁腈等。
有機系顯像液中因應必要能夠添加公知之添加劑。作為該添加劑,有舉例如界面活性劑。作為界面活性劑,並無特別限定,但能夠使用例如離子性或非離子性之氟化系及/或矽氧系界面活性劑等。作為界面活性劑,為非離子性之界面活性劑較佳,為非離子性之氟化系界面活性劑,或非離子性之矽氧系界面活性劑再較佳。
摻混界面活性劑時,其摻混量相對於有機系顯像液之全量,通常為0.001~5質量%,為0.005~2質量%較佳,為0.01~0.5質量%再較佳。
顯像處理能夠藉由公知之顯像方法來實施,有舉例如在顯像液中浸漬支持體一定時間之方法(浸漬法)、在支持體表面,利用表面張力將顯像液抬高一定時間並靜止之方法(攪拌法)、對支持體表面噴霧顯像液之方法(噴霧法)、在以一定速度旋轉之支持體上,一邊以一定速度掃描顯像液塗布噴嘴,一邊繼續塗布顯像液之方法(動態實施法)等。
作為溶劑顯像製程中顯像處理後之清洗處理所使用之清洗液所含有之有機溶劑,例如作為使用為前述有機系顯像液之有機溶劑所舉出之有機溶劑中,能夠適當地選擇難以溶解阻劑圖型者。通常使用選自烴系溶劑、酮系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑、醯胺系溶劑及醚系溶劑中至少1種類之溶劑。此等之中,為選自烴系溶劑、酮系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑及醯胺系溶劑中至少1種類較佳,為選自醇系溶劑及酯系溶劑中至少1種類再較佳,為醇系溶劑特別佳。
清洗液所使用之醇系溶劑為碳原子數6~8之1元醇較佳,該1元醇亦可為直鏈狀、分支狀或環狀之任一者。具體來說有舉出1-己醇、1-庚醇、1-辛醇、2-己醇、2-庚醇、2-辛醇、3-己醇、3-庚醇、3-辛醇、4-辛醇、苄基醇等。此等之中,為1-己醇、2-庚醇、2-己醇較佳,為1-己醇、2-己醇再較佳。
此等之有機溶劑,任一者亦可單獨使用1種,亦可併用2種以上。且,亦可混合上述以外之有機溶劑或水來使用。但,若考慮顯像特性,清洗液中之水之摻混量相對於清洗液之全量,為30質量%以下較佳,為10質量%以下再較佳,為5質量%以下更較佳,為3質量%以下特別佳。
清洗液中能夠因應必要摻混公知之添加劑。作為該添加劑,有舉例如界面活性劑。界面活性劑有舉出與前述相同者,為非離子性之界面活性劑較佳,為非離子性之氟化系界面活性劑,或非離子性之矽氧系界面活性劑再較佳。
摻混界面活性劑時,其摻混量相對於清洗液之全量,通常為0.001~5質量%,為0.005~2質量%較佳,為0.01~0.5質量%再較佳。
使用清洗液之清洗處理(洗淨處理)能夠藉由公知之清洗方法來實施。作為該清洗處理之方法,有舉例如在以一定速度旋轉之支持體上,繼續塗布清洗液之方法(旋轉塗布法)、清洗液中浸漬支持體一定時間之方法(浸漬法)、對支持體表面噴霧清洗液之方法(噴霧法)等。
藉由以上說明本實施形態之阻劑圖型形成方法,由於有使用上述阻劑組成物,故能夠形成企圖高感度化,且,耐蝕刻性更提高之阻劑圖型。
上述實施形態之阻劑組成物及上述實施形態之圖型形成方法中所使用之各種材料(例如阻劑溶劑、顯像液、清洗液、反射防止膜形成用組成物、上塗層形成用組成物等)中,不包含金屬、含鹵素之金屬鹽、酸、鹼、含硫原子或磷原子之成分等雜質較佳。
於此,作為包含金屬原子之雜質,能夠舉出Na、K、Ca、Fe、Cu、Mn、Mg、Al、Cr、Ni、Zn、Ag、Sn、Pb、Li,或此等之鹽等。作為此等材料中包含之雜質之含量,為200ppb以下較佳,為1ppb以下再較佳,為100ppt(parts per trillion)以下更較佳,為10ppt以下特別佳,實質上不含(測定裝置之檢測極限以下)最佳。
(化合物)
本發明之第3型態相關之化合物為下述一般式(a0-1)表示。
[式(a0-1)中,R
m為碳數1~5之烷基、碳數1~5之鹵化烷基、鹵原子或氫原子。L
1為亦可具有取代基之脂肪族烴基,構成該脂肪族烴基之碳原子之一部份亦可經雜原子取代,n為0~2之整數,R
a0為上述一般式(a0-r-1)表示之酸解離性基,R
a01為脂肪族烴基,R
a02、R
a03及R
a04各自獨立為亦可具有取代基之烴基或氫原子,R
a01與R
a02亦可相互鍵結並形成脂環構造,R
a03與R
a04亦可相互鍵結並形成芳香環構造或脂環構造,或R
a01及R
a02相互鍵結所形成之脂環構造與R
a03及R
a04相互鍵結所形成之芳香環構造或脂環構造亦可縮合,R
a05為鏈狀或脂環式之烴基,或氫原子,*表示與R
a0所鍵結之氧基(-O-)之鍵結處。]
相關之一般式(a0-1)表示之化合物與上述實施形態之阻劑組成物中之一般式(a0-1)表示之化合物相同。
前述式(a0-1)中,R
m中之碳數1~5之烷基為碳數1~5之直鏈狀或分支鏈狀之烷基較佳,有舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、tert-丁基、戊基、異戊基、新戊基等。碳數1~5之鹵化烷基為經前述碳數1~5之烷基之氫原子之一部份或全部經鹵原子取代之基。作為該鹵原子,尤其是氟原子較佳。
作為R
m,為氫原子、碳數1~5之烷基或碳數1~5之氟化烷基較佳,以工業上之取得容易度來看,為氫原子或甲基最佳。
前述式(a0-1)中,作為L
1,有舉出亦可具有取代基之直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基,或構造中包含環之脂肪族烴基等。
此等中,作為L
1,為直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族烴基較佳,為直鏈狀之脂肪族烴基再較佳,為碳原子數1~10更較佳,具體來說,有舉出伸甲基[-CH
2-]、伸乙基[-(CH
2)
2-]、三伸甲基[-(CH
2)
3-]、四伸甲基[-(CH
2)
4-]、五伸甲基 [-(CH
2)
5-],為伸甲基[-CH
2-]、伸乙基[-(CH
2)
2-]特別佳。
前述式(a0-1)中,n為0~2之整數,較佳為0或1。
前述式(a0-r-1)中,作為R
a01以及R
a02、R
a03及R
a04,R
a01為直鏈狀之烴基,有適當地舉出R
a02、R
a03及R
a04皆為氫原子之情形;R
a03與R
a04相互鍵結並形成芳香環構造之情形;R
a01與R
a02會相互鍵結並形成脂環構造之情形。
關於R
a01與R
a02會相互鍵結並形成脂環構造之情形,有適當地舉例如R
a01與R
a02相互鍵結並形成脂環構造,R
a03及R
a04各自為直鏈狀或分支鏈狀之烷基或氫原子之情形;R
a01及R
a02相互鍵結所形成之脂環構造與R
a03及R
a04相互鍵結所形成之芳香環構造會縮合,並形成縮合環構造之情形。
前述式(a0-r-1)中,R
a05在上述中,為直鏈狀或分支鏈狀之飽和烴基(烷基),或氫原子較佳。
將本實施形態之化合物之較佳具體例表示於以下。
以下各式中,R
α表示氫原子、甲基或三氟甲基。
[化合物(a0-1)之製造方法]
本實施形態之化合物能夠藉由包含例如使下述式(C0-1)表示之化合物與下述式(Alc-1)表示之化合物反應(酯化),得到化合物(a0-1)之步驟(P)之製造方法來製造。
[式(a0-1)中,R
m為碳數1~5之烷基、碳數1~5之鹵化烷基、鹵原子或氫原子。L
1為亦可具有取代基之脂肪族烴基,構成該脂肪族烴基之碳原子之一部份亦可經雜原子取代,Xh為鹵原子。n為0~2之整數,R
a0為上述一般式(a0-r-1)表示之酸解離性基,R
a01為脂肪族烴基,R
a02、R
a03及R
a04各自獨立為亦可具有取代基之烴基或氫原子,R
a01與R
a02亦可相互鍵結並形成脂環構造,R
a03與R
a04亦可相互鍵結並形成芳香環構造或脂環構造,或R
a01及R
a02相互鍵結所形成之脂環構造與R
a03及R
a04相互鍵結所形成之芳香環構造或脂環構造亦可縮合,R
a05為鏈狀或脂環式之烴基,或氫原子,*表示與R
a0所鍵結之氧基(-O-)之鍵結處。]
前述化學式中之R
m、L
1、R
a0、R
a01、R
a02、R
a03、R
a04及R
a05與上述說明相同。
前述式(C0-1)中,Xh為鹵原子,為氯原子較佳。
n為0~2之整數,較佳為0或1。
步驟(P):
步驟(P)之反應溫度條件並無特別限定,例如為0~120 ℃左右。
步驟(P)之反應時間並無特別限定,例如為1~72小時左右。
作為步驟(P)中使用之反應溶媒,有舉例如二氯甲烷(CH
2Cl
2)、二氯乙烷、三氯甲烷、四氫呋喃(THF)、N,N-二甲基甲醯胺、乙腈、丙腈、N,N’-二甲基乙醯胺、二甲基亞碸等。
且,步驟(P)之反應中,亦可適當地選擇鹼基性觸媒及縮合劑來使用。
作為鹼基性觸媒,具體來說,有舉出三甲基胺、三乙基胺(Et
3N)、三丁基胺等之三級胺類;吡啶、二甲基胺基吡啶、吡咯啶基吡啶等之芳香族胺類;二氮雙環壬烯(DBN)、二氮雙環十一烯(DBU)等。
作為縮合劑,具體來說,有舉出N,N’-二環己基碳二醯亞胺、N,N’-二異丙基碳二醯亞胺、1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二醯亞胺鹽酸鹽、羰基二咪唑(CDI)等。
上述化合物(a0-1)之製造方法中,在各反應結束後,亦可將反應液中之化合物分離、純化。分離、純化時能夠利用公知方法,例如能夠適當地組合濃縮、溶媒萃取、蒸餾、結晶化、再結晶、層析法等來使用。
如上述所得之化合物之構造能夠藉由
1H-核磁氣共鳴(NMR)光譜法、
13C-NMR光譜法、
19F-NMR光譜法、紅外線吸收(IR)光譜法、質量分析(MS)法、元素分析法、X線結晶折射法等一般的有機分析法來鑑定。
各步驟中使用之原料亦可使用市售者,亦可使用合成者。
以上說明之本實施形態之化合物為有用於製造後述第4型態相關之高分子化合物之單體。
(高分子化合物)
本發明之第4型態相關之高分子化合物具有由下述一般式(a0-1)表示之化合物所衍生之構成單位。
[式(a0-1)中,R
m為碳數1~5之烷基、碳數1~5之鹵化烷基、鹵原子或氫原子。L
1為亦可具有取代基之脂肪族烴基,構成該脂肪族烴基之碳原子之一部份亦可經雜原子取代,n為0~2之整數,R
a0為上述一般式(a0-r-1)表示之酸解離性基,R
a01為脂肪族烴基,R
a02、R
a03及R
a04各自獨立為亦可具有取代基之烴基或氫原子,R
a01與R
a02亦可相互鍵結並形成脂環構造,R
a03與R
a04亦可相互鍵結並形成芳香環構造或脂環構造,或R
a01及R
a02相互鍵結所形成之脂環構造與R
a03及R
a04相互鍵結所形成之芳香環構造或脂環構造亦可縮合,R
a05為鏈狀或脂環式之烴基,或氫原子,*表示與R
a0所鍵結之氧基(-O-)之鍵結處。]
前述式(a0-1)中之R
m、L
1、n、R
a0、R
a01、R
a02、R
a03、R
a04及R
a05與上述說明相同。
本發明之第4型態相關之高分子化合物有適當地舉例如具有上述構成單位(a0)與構成單位(a10)之重複構造之高分子化合物。
相關之高分子化合物作為阻劑組成物之基材成分較有用。
[實施例]
以下,以實施例進而詳細地說明,但本發明不限定於此等之例。
<化合物之合成例>
藉由以下所示之合成方法,分別製造化合物(a0-1-1)~化合物(a0-1-7)。
[化合物(a0-1-1)之合成]
將乙炔基甲基乙烯基原醇15.0g與三乙基胺23.7g溶解於二氯甲烷180g中,於此溶液中,在5℃以下滴入使異丁烯酸氯化物19.6g溶解於四氫呋喃(THF)40g之溶液。冰浴下進而攪拌1小時後,於此反應液中滴入純水210g,攪拌後,去除水層。接著,將有機層之溶媒餾去,進而藉由進行蒸餾純化,得到化合物(a0-1-1)。
關於所得之化合物(a0-1-1),進行NMR測定,並藉由以下數據來鑑定其構造。
1H-NMR(DMSO-d6、400MHz):δ(ppm)=6.05(d, =CH2, 1H), 5.89(t, -CH=, 1H), 5.71(d, =CH2, 1H),5.25-5.30(m, =CH2, 2H), 3.61(s, ≡CH, 1H), 1.90(t, -CH3, 3H), 1.64(s, -CH3, 3H)
[化合物(a0-1-2)~化合物(a0-1-7)之合成]
化合物(a0-1-2)~化合物(a0-1-7)為使用各自所對應之原料醇類,並以與上述[化合物(a0-1-1)之合成]相同之合成方法所得。
關於所得之化合物(a0-1-2)~化合物(a0-1-7)之構造及其NMR測定數據表示於以下。
關於所得之化合物(a0-1-2),進行NMR測定,並藉由以下數據來鑑定其構造。
1H-NMR(DMSO-d6、400MHz):δ(ppm)=7.28-7.33(m, -Ar, 5H), 6.02(d, =CH2, 1H), 5.73(d, =CH2, 1H), 3.59(s, ≡CH, 1H), 2.00(s, -CH3, 3H), 1.91(s, -CH3, 3H)
關於所得之化合物(a0-1-3),進行NMR測定,並藉由以下數據來鑑定其構造。
1H-NMR(DMSO-d6、400MHz):δ(ppm)=6.21(d, -CH=CH-, 1H), 6.00(d, =CH2, 1H), 5.81(d, -CH=CH-, 1H), 5.72(d, =CH2, 1H),3.62(s, ≡CH, 1H), 2.23-2.58(m, -CH2-CH2-, 4H), 1.89(s, -CH3, 3H)
關於所得之化合物(a0-1-4),進行NMR測定,並藉由以下數據來鑑定其構造。
1H-NMR(DMSO-d6、400MHz):δ(ppm)=5.96(d, =CH2, 1H), 5.70(d, =CH2, 1H), 5.59-5.65(m, -CH=CH-, 2H),3.58(s, ≡CH, 1H), 1.60-2.33(m, -(CH2)3-, -CH3, 9H)
關於所得之化合物(a0-1-5),進行NMR測定,並藉由以下數據來鑑定其構造。
1H-NMR(DMSO-d6、400MHz):δ(ppm)=6.00(d, =CH2, 1H), 5.71(d, =CH2, 1H ), 5.60-5.68(m, =CH2, 2H), 1.62-2.35(m, -(CH2)3-, -CH3, 12H)
關於所得之化合物(a0-1-6),進行NMR測定,並藉由以下數據來鑑定其構造。
1H-NMR(DMSO-d6、400MHz):δ(ppm)=6.03(d, =CH2, 1H), 5.90(t, -CH=, 1H), 5.73(d, =CH2, 1H),5.26-5.31(m, =CH2, 2H),4.60(s, -CH2-, 2H), 3.60(s, ≡CH, 1H), 1.92(s, -CH3, 3H), 1.62(s, -CH3, 3H)
關於所得之化合物(a0-1-7),進行NMR測定,並藉由以下數據來鑑定其構造。
1H-NMR(DMSO-d6、400MHz):δ(ppm)=7.25-7.34(m, -Ar, 5H), 6.01(d, =CH2, 1H), 5.71(d, =CH2, 1H), 4.62(s, -CH2-, 2H), 3.61(s, ≡CH, 1H), 2.04(s, -CH3, 3H), 1.90(s, -CH3, 3H)
<高分子化合物之合成例>
使用上述化合物(a0-1-1)~化合物(a0-1-7)、下述化合物(a10-1pre)、化合物(a10-2pre)、化合物(a10-3pre)、化合物(a5-1)、化合物(a1-1)、化合物(a1-2)、化合物(a1-3)、化合物(a6-1)及化合物(a6-2),藉由以下所示之合成方法,分別製造高分子化合物(A1-1)~高分子化合物(A1-10)、高分子化合物(A2-1)~高分子化合物(A2-5)。
[高分子化合物(A1-1)之合成]
使化合物(a10-1pre)10.0g與化合物(a0-1-1)10.9g與作為聚合起始劑之偶氮雙(異酪酸)二甲酯(V-601)2.7g溶解於甲基乙基酮(MEK)50g,在氮環境下,以70℃攪拌5小時。之後,將反應液冷卻至室溫,得到包含高分子化合物(A1-1pre)之聚合液。
接著,於所得之聚合液中添加乙酸3.0g與甲醇60g,於30℃進行8小時之去保護反應。反應結束後,將所得之反應液沉澱於甲醇與水之混合溶媒1200g中,進行洗淨。將所得之白色固形物過濾,藉由減壓乾燥一整晩,得到目的物之高分子化合物(A1-1)。
關於所得之高分子化合物(A1-1),以GPC測定所求出之標準聚乙烯換算之重量平均分子量(Mw)為6000,分子量分散度(Mw/Mn)為1.54。
且,藉由碳13核磁氣共鳴光譜(
13C-NMR)所求出之共聚合組成比(構造式中之各構成單位之比例(莫耳比))為l/m=40/60。
[高分子化合物(A1-2)~高分子化合物(A1-10)、高分子化合物(A2-1)~高分子化合物(A2-5)之合成]
高分子化合物(A1-2)~高分子化合物(A1-10)、高分子化合物(A2-1)~高分子化合物(A2-5)為使用各自所對應之原料單體,並以與上述[高分子化合物(A1-1)之合成]相同之合成方法(自由基聚合、去保護反應)所得。關於所得之各高分子化合物,將其構造表示於以下。
關於所得之各高分子化合物,將以
13C-NMR所求出之該高分子化合物之共聚合組成比(由各單體之化合物所衍生之構成單位之比例(莫耳比))、以GPC測定所求出之標準聚乙烯換算之重量平均分子量(Mw)及分子量分散度(Mw/Mn)一併記載於表1。
<阻劑組成物之調製>
(實施例1~10、比較例1~5)
將表2~3所示之各成分混合並溶解,各自調製各例之阻劑組成物。
表2~3中,各簡稱各自具有以下意義。[ ]內之數值為摻混量(質量份)。
(A)-1~(A)-10:上述高分子化合物(A1-1)~(A1-10)。
(A)-11~(A)-15:上述高分子化合物(A2-1)~(A2-5)。
(B)-1:含有下述化學式(B-1)表示之化合物之酸產生劑。
(B)-2:含有下述化學式(B-2)表示之化合物之酸產生劑。
(B)-3:含有下述化學式(B-3)表示之化合物之酸產生劑。
(D)-1:含有下述化學式(D1-1)表示之化合物之酸擴散抑制劑。
(D)-2:含有下述化學式(D1-2)表示之化合物之酸擴散抑制劑。
(D)-3:含有下述化學式(D1-3)表示之化合物之酸擴散抑制劑。
(S)-1:丙二醇單甲基醚乙酸酯/丙二醇單甲基醚=60/40(質量比)之混合溶劑。
<評價>
以以下所示之阻劑圖型形成方法,形成線間圖型(以下稱作「LS圖型」),針對感度、耐蝕刻性來進行評價。
≪阻劑圖型之形成≫
在施予六甲基二矽氮烷(HMDS)處理之8吋矽氧基板上,各自將各例之阻劑組成物使用旋轉器來塗布,在熱盤上,以溫度110℃進行60秒鐘之預烘培(PAB)處理,藉由乾燥,形成膜厚50nm之阻劑膜。
接著,對前述阻劑膜,使用電子線描繪裝置JEOL JBX-9300FS(日本電子股份公司製),並以加速電壓100 kV,進行將目標大小設為線寬50nm、節距寬度100nm之LS圖型之描繪(曝光)。
之後,以100℃進行60秒鐘之曝光後加熱(PEB)處理。
接著,於23℃下,使用2.38質量%四甲基羥化銨(TMAH)水溶液「NMD-3」(商品名,東京應化工業股份公司製),進行60秒鐘之鹼顯像。
之後,使用純水,進行15秒鐘水清洗。
其結果,在所有例中,皆形成線寬50nm且間距寬度50nm之1:1之LS圖型。
[感度之評價]
藉由上述≪阻劑圖型之形成≫,求出形成目標大小之LS圖型之最適曝光量Eop(μC/cm
2)。將此作為「Eop(μC/ cm
2)」而表示於表4。
[耐蝕刻性之評價]
上述≪阻劑圖型之形成≫中,進行PAB處理,對藉由乾燥所得之膜厚50nm之各阻劑膜,使用乾蝕刻裝置TCA-3822(商品名,東京應化工業股份公司製),以CF
4氣體進行60秒之乾蝕刻處理。
自此乾蝕刻處理前後之阻劑膜之膜厚求出殘膜量。
且,將使用各例之阻劑組成物所形成之阻劑膜之殘膜量,作為將使用比較例1之阻劑組成物所形成之阻劑膜之殘膜量作為1.00時之相對值來表示,將此作為「耐蝕刻性」表示於表4。
此相對值越大,殘膜量相對地越多,意指抑制膜減少,且耐蝕刻性較高。
由表4所示之結果可得知,使用本發明之實施例1~10之阻劑組成物中,相較於比較例1~3之阻劑組成物,耐蝕刻性更能夠提高,且同時更追求高感度化。
關於比較例4~5之阻劑組成物,進行描繪(曝光)、曝光後加熱(PEB)處理及鹼顯像後也不會解像,無法形成特定之LS圖型(解像不良)。
以上說明本發明較佳實施例,但本發明不限定於此等實施例。在不超出本發明主旨之範圍內,能夠進行構成之付加、省略、取代及其他變更。本發明並不限定於前述說明,僅限定在記載之申請專利範圍之範圍。
Claims (6)
- 一種阻劑組成物,其係因曝光產生酸,且因酸之作用而對顯像液之溶解性有變化之阻劑組成物, 且含有因酸之作用而對顯像液之溶解性有變化之樹脂成分(A1), 前述樹脂成分(A1)具有由下述一般式(a0-1)表示之化合物所衍生之構成單位(a0), [式(a0-1)中,R m為碳數1~5之烷基、碳數1~5之鹵化烷基、鹵原子或氫原子,L 1為亦可具有取代基之脂肪族烴基,構成該脂肪族烴基之碳原子之一部份亦可經雜原子取代,n為0~2之整數,R a0為上述一般式(a0-r-1)表示之酸解離性基,R a01為脂肪族烴基,R a02、R a03及R a04各自獨立為亦可具有取代基之烴基或氫原子,R a01與R a02亦可相互鍵結並形成脂環構造,R a03與R a04亦可相互鍵結並形成芳香環構造或脂環構造,或R a01及R a02相互鍵結所形成之脂環構造與R a03及R a04相互鍵結所形成之芳香環構造或脂環構造亦可縮合,R a05為鏈狀或脂環式之烴基或氫原子,*表示與R a0所鍵結之氧基(-O-)之鍵結處]。
- 如請求項1之阻劑組成物,其中,前述一般式(a0-r-1)中之R a01與R a02會相互鍵結並形成脂環構造。
- 如請求項1或2之阻劑組成物,其中,前述一般式(a0-r-1)中之R a05為鏈狀或脂環式之烴基。
- 一種阻劑圖型形成方法,其係具有: 於支持體上使用如請求項1之阻劑組成物,形成阻劑膜之步驟、 將前述阻劑膜曝光之步驟,及 將前述曝光後之阻劑膜顯像,形成阻劑圖型之步驟。
- 一種下述一般式(a0-1)表示之化合物, [式(a0-1)中,R m為碳數1~5之烷基、碳數1~5之鹵化烷基、鹵原子或氫原子,L 1為亦可具有取代基之脂肪族烴基,構成該脂肪族烴基之碳原子之一部份亦可經雜原子取代,n為0~2之整數,R a0為上述一般式(a0-r-1)表示之酸解離性基,R a01為脂肪族烴基,R a02、R a03及R a04各自獨立為亦可具有取代基之烴基或氫原子,R a01與R a02亦可相互鍵結並形成脂環構造,R a03與R a04亦可相互鍵結並形成芳香環構造或脂環構造,或R a01及R a02相互鍵結所形成之脂環構造與R a03及R a04相互鍵結所形成之芳香環構造或脂環構造亦可縮合,R a05為鏈狀或脂環式之烴基或氫原子,*表示與R a0所鍵結之氧基(-O-)之鍵結處]。
- 一種具有由下述一般式(a0-1)表示之化合物所衍生之構成單位之高分子化合物, [式(a0-1)中,R m為碳數1~5之烷基、碳數1~5之鹵化烷基、鹵原子或氫原子,L 1為亦可具有取代基之脂肪族烴基,構成該脂肪族烴基之碳原子之一部份亦可經雜原子取代,n為0~2之整數,R a0為上述一般式(a0-r-1)表示之酸解離性基,R a01為脂肪族烴基,R a02、R a03及R a04各自獨立為亦可具有取代基之烴基或氫原子,R a01與R a02亦可相互鍵結並形成脂環構造,R a03與R a04亦可相互鍵結並形成芳香環構造或脂環構造,或R a01及R a02相互鍵結所形成之脂環構造與R a03及R a04相互鍵結所形成之芳香環構造或脂環構造亦可縮合,R a05為鏈狀或脂環式之烴基,或氫原子,*表示與R a0所鍵結之氧基(-O-)之鍵結處]。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022036439A JP2023131588A (ja) | 2022-03-09 | 2022-03-09 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 |
JP2022-036439 | 2022-03-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202401151A true TW202401151A (zh) | 2024-01-01 |
Family
ID=87935214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW112108732A TW202401151A (zh) | 2022-03-09 | 2023-03-09 | 阻劑組成物、阻劑圖型形成方法、化合物及高分子化合物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2023131588A (zh) |
TW (1) | TW202401151A (zh) |
WO (1) | WO2023171739A1 (zh) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5407941B2 (ja) * | 2009-03-09 | 2014-02-05 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 |
CN106554280B (zh) * | 2016-03-29 | 2019-05-10 | 四川大学 | 含炔基的化合物、制备方法及用途 |
JP7400677B2 (ja) * | 2019-10-21 | 2023-12-19 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
-
2022
- 2022-03-09 JP JP2022036439A patent/JP2023131588A/ja active Pending
-
2023
- 2023-03-09 WO PCT/JP2023/009003 patent/WO2023171739A1/ja unknown
- 2023-03-09 TW TW112108732A patent/TW202401151A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2023171739A1 (ja) | 2023-09-14 |
JP2023131588A (ja) | 2023-09-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102395341B1 (ko) | 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법, 그리고 고분자 화합물 | |
JP2022067056A (ja) | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び樹脂 | |
WO2023140231A1 (ja) | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び、化合物 | |
US11829068B2 (en) | Resist composition, method of forming resist pattern, compound, and resin | |
TW202124478A (zh) | 阻劑組成物、阻劑圖型形成方法、高分子化合物及化合物 | |
KR102333842B1 (ko) | 고분자 화합물의 제조 방법 | |
TW202401151A (zh) | 阻劑組成物、阻劑圖型形成方法、化合物及高分子化合物 | |
TW202401152A (zh) | 阻劑組成物、阻劑圖型形成方法、化合物及高分子化合物 | |
JP7446352B2 (ja) | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び、酸発生剤 | |
JP7433394B1 (ja) | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 | |
JP7376632B2 (ja) | レジスト組成物、及び、レジストパターン形成方法 | |
TWI828918B (zh) | 阻劑組成物及阻劑圖型形成方法 | |
TW202401155A (zh) | 阻劑組成物、阻劑圖型形成方法、化合物及高分子化合物 | |
TW202401150A (zh) | 阻劑組成物、阻劑圖型形成方法、化合物及高分子化合物 | |
TW202400552A (zh) | 阻劑組成物、阻劑圖型形成方法、化合物及酸產生劑 | |
TW202347039A (zh) | 阻劑組成物、阻劑圖型形成方法、化合物及高分子化合物 | |
WO2024014462A1 (ja) | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び高分子化合物 | |
WO2023210520A1 (ja) | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物 | |
WO2023145535A1 (ja) | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び、化合物 | |
WO2022225019A1 (ja) | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸発生剤 | |
WO2023223865A1 (ja) | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤 | |
WO2023223897A1 (ja) | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物 | |
WO2024043121A1 (ja) | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、並びに、化合物及びその中間体 | |
TW202417988A (zh) | 阻劑組成物、阻劑圖型形成方法、化合物及高分子化合物 |