TW202401085A - 顯示系統、顯示方法、顯示體及顯示體之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種可實現VR護目鏡之輕量化、高精細化之顯示系統。本發明實施形態之顯示系統係對使用者顯示影像,其具備:顯示元件,其具有顯示面,該顯示面係將顯示影像之光經由偏光構件朝前方射出;反射部,係配置於前述顯示元件之前方,且包含反射型偏光構件,該反射部係反射從前述顯示元件射出之光;第一透鏡部,係配置於前述顯示元件與前述反射部之間的光路上;半反射鏡,係配置於前述顯示元件與前述第一透鏡部之間,該半反射鏡係使從前述顯示元件射出之光透射,並使經前述反射部反射之光朝前述反射部反射;第1λ/4構件,係配置於前述顯示元件與前述半反射鏡之間的光路上;及,第2λ/4構件,係配置於前述半反射鏡與前述反射部之間的光路上。前述第1λ/4構件及前述第2λ/4構件各自滿足Re(450)/Re(550)<0.90。

Description

顯示系統、顯示方法、顯示體及顯示體之製造方法
本發明涉及顯示系統、顯示方法、顯示體及顯示體之製造方法。
以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置)為代表之影像顯示裝置急速普及。影像顯示裝置中,為了實現影像顯示、提高影像顯示之性能,一般係使用偏光構件、相位差構件等光學構件(例如參照專利文獻1)。
近年來,有開發出影像顯示裝置之新用途。例如,用以實現Virtual Reality(VR)之附顯示器之護目鏡(VR護目鏡)已開始產品化。有研討要將VR護目鏡利用在各種情況下,因而期望其輕量化、高精細化等。輕量化例如可藉由將用於VR護目鏡之透鏡予以薄型化來達成。另一方面,亦期望開發適於使用薄型透鏡之顯示系統的光學構件。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1:日本專利特開2021-103286號公報
發明欲解決之課題 鑑於上述,本發明主要目的在於提供一種可實現VR護目鏡之輕量化、高精細化之顯示系統。
用以解決課題之手段 根據本發明一面向,提供以下[1]~[7]之顯示系統。 [1]一種顯示系統,係對使用者顯示影像,其具備: 顯示元件,其具有顯示面,該顯示面係將顯示影像之光經由偏光構件朝前方射出; 反射部,係配置於上述顯示元件之前方,且包含反射型偏光構件,該反射部係反射從上述顯示元件射出之光; 第一透鏡部,係配置於上述顯示元件與上述反射部之間的光路上; 半反射鏡,係配置於上述顯示元件與上述第一透鏡部之間,該半反射鏡係使從上述顯示元件射出之光透射,並使經上述反射部反射之光朝上述反射部反射; 第1λ/4構件,係配置於上述顯示元件與上述半反射鏡之間的光路上;及 第2λ/4構件,係配置於上述半反射鏡與上述反射部之間的光路上; 上述第1λ/4構件及上述第2λ/4構件各自滿足Re(450)/Re(550)<0.90。 [2]如[1]之顯示系統,其中上述第1λ/4構件及上述第2λ/4構件各自滿足: Re(400)/Re(550)<0.85、 Re(650)/Re(550)>1.03、及 Re(750)/Re(550)>1.05。 [3]如[1]或[2]之顯示系統,其中上述顯示元件所含之上述偏光構件之吸收軸與上述第1λ/4構件之慢軸構成的角度為40°~50°,且 上述顯示元件所含之上述偏光構件之吸收軸與上述第2λ/4構件之慢軸構成的角度為40°~50°。 4]如[1]~[3]中任一項之顯示系統,其中上述第一透鏡部與上述半反射鏡為一體。 [5]如[1]~[4]中任一項之顯示系統,其具備配置於上述反射部之前方的第二透鏡部。 [6]如[1]~[5]中任一項之顯示系統,其中上述反射部包含配置於上述反射型偏光構件之前方的吸收型偏光構件。 [7]如[6]之顯示系統,其中上述反射型偏光構件之反射軸與上述吸收型偏光構件之吸收軸係配置成互相平行。
根據本發明另一面向,提供以下[8]~[9]之顯示方法。 [8]一種顯示方法,具有以下程序: 使經由偏光構件射出之顯示影像的光通過第1λ/4構件之程序; 使通過上述第1λ/4構件之光通過半反射鏡及第一透鏡部之程序; 使通過上述半反射鏡及上述第一透鏡部之光通過第2λ/4構件之程序; 使通過上述第2λ/4構件之光藉包含反射型偏光構件之反射部朝上述半反射鏡反射之程序;以及 使經上述反射部及上述半反射鏡反射之光可藉由上述第2λ/4構件而透射上述反射部之程序;且 上述第1λ/4構件及上述第2λ/4構件各自滿足Re(450)/Re(550)<0.90。 [9]如[8]之顯示方法,其中上述第1λ/4構件及上述第2λ/4構件各自滿足: Re(400)/Re(550)<0.85、 Re(650)/Re(550)>1.03、及 Re(750)/Re(550)>1.05。
根據本發明另一面向,提供一種顯示體,其具備如上述[1]~[7]中任一項之顯示系統。 根據本發明又另一面向,提供一種顯示體之製造方法,其係具備如上述[1]~[7]中任一項之顯示系統之顯示體之製造方法。
發明效果 根據本發明實施形態之顯示系統,可實現VR護目鏡之輕量化、高精細化。
以下參照圖式針對本發明實施形態進行說明,惟本發明不受該等實施形態所限。又,為了更明確說明圖式,相較於實施形態,有將各部分之寬度、厚度、形狀等示意顯示之情形,但僅為一例,非用以限定解釋本發明。
(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內折射率達最大之方向(亦即慢軸方向)的折射率,「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)的折射率,而「nz」為厚度方向的折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係在23℃下以波長λnm之光測定之面內相位差。例如,「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之面內相位差。Re(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時,藉由式:Re(λ)=(nx-ny)×d求出。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之厚度方向之相位差。例如,「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之厚度方向之相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)厚度為d(nm)時,藉由式:Rth(λ)=(nx-nz)×d求出。 (4)Nz係數 Nz係數可藉由Nz=Rth/Re求出。 (5)角度 本說明書中提及角度時,只要未特別言及,該角度包含相對於基準方向往順時針方向及逆時針方向兩方向。因此,例如「45°」係指±45°。
圖1係顯示本發明一實施形態之顯示系統之概略構成的示意圖。圖1中係示意圖示顯示系統2之各構成要素之配置及形狀等。顯示系統2具備有:顯示元件12、反射部14、第一透鏡部16、半反射鏡18、第一相位差構件20、第二相位差構件22及第二透鏡部24。反射部14係配置於顯示元件12之顯示面12a側即前方,其可反射從顯示元件12射出之光。第一透鏡部16係配置於顯示元件12與反射部14之間的光路上,半反射鏡18係配置於顯示元件12與第一透鏡部16之間。第一相位差構件20係配置於顯示元件12與半反射鏡18之間的光路上,第二相位差構件22係配置於半反射鏡18與反射部14之間的光路上。
從半反射鏡起往前方配置之構成要素(圖式例中,為半反射鏡18、第一透鏡部16、第二相位差構件22、反射部14及第二透鏡部24)有時統稱為透鏡部(透鏡部4)。
顯示元件12例如為液晶顯示器或有機EL顯示器,且具有用以顯示影像之顯示面12a。要從顯示面12a射出之光例如會通過顯示元件12可能包含之偏光構件(代表上為偏光薄膜)後射出,成為第1直線偏光。
第一相位差構件20係λ/4構件,其可將入射第一相位差構件20之第1直線偏光轉換成第1圓偏光(以下,有時將第一相位差構件稱為第1λ/4構件)。此外,第一相位差構件20亦可設於顯示元件12上而成一體。
半反射鏡18係使從顯示元件12射出之光透射,並使經反射部14反射之光朝反射部14反射。半反射鏡18係設於第一透鏡部16上而成一體。
第二相位差構件22係λ/4構件,其可使經反射部14及半反射鏡18反射之光透射包含反射型偏光構件之反射部14(以下有時將第二相位差構件稱為第2λ/4構件)。此外,第二相位差構件22亦可設於第一透鏡部16上而成一體。
從第1λ/4構件20射出之第1圓偏光會通過半反射鏡18及第一透鏡部16,並藉由第2λ/4構件22轉換成第2直線偏光。從第2λ/4構件22射出之第2直線偏光不會透射反射部14所含之反射型偏光構件而朝半反射鏡18反射。此時,入射反射部14所含之反射型偏光構件之第2直線偏光的偏光方向係與反射型偏光構件之反射軸同方向。因此,入射反射部之第2直線偏光會被反射型偏光構件反射。
經反射部14反射之第2直線偏光藉由第2λ/4構件22轉換成第2圓偏光,而從第2λ/4構件22射出之第2圓偏光則通過第一透鏡部16而被半反射鏡18反射。經半反射鏡18反射之第2圓偏光會通過第一透鏡部16,並藉由第2λ/4構件22轉換成第3直線偏光。第3直線偏光會透射反射部14所含之反射型偏光構件。此時,入射反射部14所含之反射型偏光構件之第3直線偏光的偏光方向係與反射型偏光構件之透射軸同方向。因此,入射反射部14之第3直線偏光會透射反射型偏光構件。
透射反射部14之光會通過第二透鏡部24入射使用者之眼睛26。
顯示元件12所含之偏光構件之吸收軸與反射部14所含之反射型偏光構件之反射軸可配置成互相大致平行或大致正交。顯示元件12所含之偏光構件之吸收軸與第一相位差構件20之慢軸構成的角度例如為40°~50°,可為42°~48°,亦可為約45°。顯示元件12所含之偏光構件之吸收軸與第二相位差構件22之慢軸構成的角度例如為40°~50°,可為42°~48°,亦可為約45°。
第一相位差構件20之面內相位差Re(550)例如為100nm~190nm,可為110nm~180nm,可為130nm~160nm,亦可為135nm~155nm。
第一相位差構件20宜展現相位差值隨測定光之波長而變大的逆色散波長特性。第一相位差構件20之Re(450)/Re(550)例如小於1,可為0.95以下,更可小於0.90,且更可為0.85以下。第一相位差構件20之Re(450)/Re(550)例如為0.75以上。藉由使用展現逆色散波長特性之第一相位差構件,可抑制透射光之著色。
在一實施形態中,第一相位差構件20滿足Re(400)/Re(550)<0.85、Re(650)/Re(550)>1.03及Re(750)/Re(550)>1.05全部。第一相位差構件20宜滿足選自下述中之至少1者,較宜滿足至少2者,更宜滿足全部:0.65<Re(400)/Re(550)<0.80(宜為0.7<Re(400)/Re(550)<0.75)、1.0<Re(650)/Re(550)<1.25(宜為1.05<Re(650)/Re(550)<1.20)、及1.05<Re(750)/Re(550)<1.40(宜為1.08<Re(750)/Re(550)<1.36)。藉由使用在整個廣泛波長區域中展現逆色散波長特性之第一相位差構件,可更適宜抑制透射光之著色。
第一相位差構件20宜為折射率特性展現nx>ny≧nz之關係。在此「ny=nz」不只ny與nz完全相同之情況,還包含實質上相同之情況。因此,在不損及本發明效果之範圍下可有成為ny<nz之情形。第一相位差構件20之Nz係數宜為0.9~3,較宜為0.9~2.5,更宜為0.9~1.5,尤宜為0.9~1.3。
第一相位差構件20係以可滿足上述特性之任意適當之材料形成。第一相位差構件20例如可為樹脂薄膜之延伸薄膜或液晶化合物之定向固化層。
上述樹脂薄膜所含之樹脂可列舉:聚碳酸酯系樹脂、聚酯碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚芳酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂等。該等樹脂可單獨使用,亦可組合(例如摻合、共聚)來使用。第一相位差構件20展現逆色散波長特性時,可適宜使用含聚碳酸酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下有時僅稱為聚碳酸酯系樹脂)之樹脂薄膜。
只要可獲得本發明之效果,上述聚碳酸酯系樹脂便可使用任意適當之聚碳酸酯系樹脂。例如,聚碳酸酯系樹脂包含:源自茀系二羥基化合物之結構單元;源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元;及,源自選自於由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺甘油所構成群組中之至少1種二羥基化合物之結構單元。聚碳酸酯系樹脂宜包含:源自茀系二羥基化合物之結構單元;源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元;源自脂環式二甲醇之結構單元;以及/或是,源自二、三或聚乙二醇之結構單元;更宜包含:源自茀系二羥基化合物之結構單元;源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元;及,源自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯系樹脂亦可視需要包含有源自其他二羥基化合物之結構單元。此外,可適宜用於第一相位差構件之聚碳酸酯系樹脂及第一相位差構件之形成方法的詳細內容,例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報、日本專利特開2015-212816號公報、日本專利特表2015-212817號公報、日本專利特表2015-212818號公報中,本說明書即援用該等公報之記載作為參考。
以樹脂薄膜之延伸薄膜構成之第一相位差構件20的厚度例如為10µm~100µm,宜為10µm~70µm,較宜為10µm~40µm,更宜為20µm~30µm。
上述液晶化合物之定向固化層係液晶化合物在層內於預定方向定向且其定向狀態經固定之層。此外,「定向固化層」之概念包含如後述使液晶單體硬化而得之定向硬化層。以第一相位差構件來說,代表上係棒狀液晶化合物沿第一相位差構件之慢軸方向排列之狀態下定向(沿面定向)。棒狀液晶化合物可舉例如液晶聚合物及液晶單體。液晶化合物宜可聚合。液晶化合物若可聚合,便可使液晶化合物於定向後進行聚合,藉此固定液晶化合物的定向狀態。
上述液晶化合物之定向固化層(液晶定向固化層)可藉由下述方式來形成:對預定基材之表面施行定向處理,並於該表面塗敷含液晶化合物的塗敷液,使該液晶化合物於對應上述定向處理之方向定向,並固定該定向狀態。定向處理可採用任意適當之定向處理。具體上可舉機械性定向處理、物理性定向處理、化學性定向處理。機械性定向處理的具體例可舉磨擦處理、延伸處理。物理性定向處理的具體例可舉磁場定向處理、電場定向處理。化學性定向處理的具體例可舉斜向蒸鍍法、光定向處理。各種定向處理的處理條件可按目的採用任意適當之條件。
液晶化合物的定向可因應液晶化合物的種類在可展現液晶相之溫度下進行處理來進行。藉由進行所述溫度處理,液晶化合物會變為液晶狀態,而該液晶化合物會因應基材表面之定向處理方向而定向。
在一實施形態中,定向狀態之固定係藉由冷卻依上述方式定向之液晶化合物來進行。當液晶化合物為聚合性或交聯性時,定向狀態之固定係藉由對依上述方式定向之液晶化合物施行聚合處理或交聯處理來進行。
上述液晶化合物可使用任意適當之液晶聚合物及/或液晶單體。液晶聚合物及液晶單體各自可單獨使用,亦可組合。液晶化合物之具體例及液晶定向固化層之製作方法記載於例如日本專利特開2006-163343號公報、日本專利特開2006-178389號公報、國際公開第2018/123551號公報中。本說明書即援用該等公報之記載作為參考。
以液晶定向固化層構成之第一相位差構件20的厚度例如為1µm~10µm,宜為1µm~8µm,較宜為1µm~6µm,更宜為1µm~4µm。
第二相位差構件22之面內相位差Re(550)例如為100nm~190nm,可為110nm~180nm,可為130nm~160nm,亦可為135nm~155nm。
第二相位差構件22宜展現相位差值隨測定光之波長而變大的逆色散波長特性。第二相位差構件22之Re(450)/Re(550)例如小於1,可為0.95以下,更可小於0.90,且更可為0.85以下。第二相位差構件22之Re(450)/Re(550)例如為0.75以上。藉由使用展現逆色散波長特性之第二相位差構件,可抑制透射光之著色。
在一實施形態中,第二相位差構件22滿足Re(400)/Re(550)<0.85、Re(650)/Re(550)>1.03及Re(750)/Re(550)>1.05全部。第二相位差構件22宜滿足選自下述中之至少1者,較宜滿足至少2者,更宜滿足全部:0.65<Re(400)/Re(550)<0.80(宜為0.7<Re(400)/Re(550)<0.75)、1.0<Re(650)/Re(550)<1.25(宜為1.05<Re(650)/Re(550)<1.20)、及1.05<Re(750)/Re(550)<1.40(宜為1.08<Re(750)/Re(550)<1.36)。藉由使用在整個廣泛波長區域中展現逆色散波長特性之第二相位差構件,可更適宜抑制透射光之著色。
第二相位差構件22宜為折射率特性展現nx>ny≧nz之關係。在此「ny=nz」不只ny與nz完全相同之情況,還包含實質上相同之情況。因此,在不損及本發明效果之範圍下可有成為ny<nz之情形。第二相位差構件22之Nz係數宜為0.9~3,較宜為0.9~2.5,更宜為0.9~1.5,尤宜為0.9~1.3。
第二相位差構件22係以可滿足上述特性之任意適當之材料形成。第二相位差構件22例如可為樹脂薄膜之延伸薄膜或液晶化合物之定向固化層。關於以樹脂薄膜之延伸薄膜或液晶化合物之定向固化層構成之第二相位差構件22,可應用與第一相位差構件20相同之說明。第一相位差構件20與第二相位差構件22可為相同構成(形成材料、厚度、光學特性等)之構件,亦可為不同構成之構件。
反射部14亦可包含有吸收型偏光構件(代表上為吸收型偏光薄膜)。此時,吸收型偏光構件可配置於反射型偏光構件之前方。反射型偏光構件之反射軸與吸收型偏光構件之吸收軸可配置成互相大致平行。舉例而言,反射型偏光構件與吸收型偏光構件係透過接著層積層,且反射部14亦可包含有具有反射型偏光構件與吸收型偏光構件之積層體。
實施例 以下,藉由實施例來具體說明本發明,惟本發明不受該等實施例所限。此外,實施例等中之試驗及評估方法如下。此外,記載為「份」時,只要無特別說明事項即指「重量份」,而記載為「%」時,只要無特別說明事項即指「重量%」。
(1)厚度 10µm以下的厚度係使用掃描型電子顯微鏡(日本電子公司製,製品名「JSM-7100F」)進行測定。大於10μm的厚度係使用數位測微器(Anritsu公司製,產品名「KC-351C」)進行測定。 (2)面內相位差Re(λ) 使λ/4構件之寬度方向中央部及兩端部中之一邊與該構件之寬度方向平行後裁切成寬度50mm、長度50mm之正方形狀,做成試料。將該試料使用穆勒矩陣偏光儀(Axometrics公司製之製品名「Axoscan」),在23℃下測定在各波長下之面內相位差。 (3)單體透射率及偏光度 使用光譜光度計(大塚電子公司製,「LPF-200」),測定偏光薄膜或積層體之單體透射率Ts、平行透射率Tp、正交透射率Tc。該等Ts、Tp及Tc係以JIS Z8701之2度視野(C光源)進行測定並進行視感度校正後之Y值。從所得之Tp及Tc利用下述式求算偏光薄膜之偏光度。 偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} 1/2×100 (4)色相 使來自光源的偏光光入射實施例及比較例製出之積層體的λ/4構件側表面,並使用光譜光度計(大塚電子公司製,「LPF-200」)測定從偏光薄膜側表面射出之光的正交色相(正交a *值、正交b *值)。此外,從光源側觀看時,λ/4構件之慢軸方向係相對於偏光薄膜(實質上為偏光薄膜中之偏光膜)之吸收軸方向往順時針方向構成45°角度的方向。
[製造例1:λ/4構件A之製作] 於由2台具備有攪拌葉片及控制成100℃之回流冷卻器的直立型反應器構成之批次聚合裝置中,饋入雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷29.60重量份(0.046mol)、異山梨醇(ISB)29.21重量份(0.200mol)、螺甘油(SPG)42.28重量份(0.139mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77重量份(0.298mol)及作為觸媒的乙酸鈣一水合物1.19×10 -2重量份(6.78×10 -5mol)。將反應器內進行減壓氮取代後,以熱介質加溫,並於內溫達100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內溫達到220℃,控制維持該溫度的同時開始減壓,在達到220℃後以90分鐘使其成為13.3kPa。將隨聚合反應副生成之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器,使苯酚蒸氣中所含些許量之單體成分返回反應器,並將未凝聚之苯酚蒸氣導入45℃的凝聚器中回收。將氮導入第1反應器暫時使其回復到大氣壓後,將第1反應器內之經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著,開始進行第2反應器內的升溫及減壓,並以50分鐘使內溫成為240℃、壓力成為0.2kPa。然後,進行聚合直到達到預定之攪拌功率。在達到預定功率之時間點將氮導入反應器中使壓力回復,並將所生成之聚酯碳酸酯系樹脂擠出至水中,裁切束狀物而獲得丸粒。 將所得聚酯碳酸酯系樹脂(丸粒)在80℃下真空乾燥5小時後,使用具備單軸擠製機(東芝機械公司製,缸筒設定溫度:250℃)、T型模(寬200mm,設定溫度:250℃)、冷卻輥(設定溫度:120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置,製作出厚度130μm之長條狀樹脂薄膜。將所得長條狀樹脂薄膜以延伸溫度140℃、延伸倍率2.7倍沿寬度方向延伸。藉此,獲得厚度為47µm、Re(590)為143nm且Nz係數為1.2之相位差薄膜(λ/4構件A)。
[製造例2:λ/4構件B之製作] 將展現平坦之色散波長特性的降𦯉烯系薄膜(日本ZEON公司製,商品名「ZEONOR」,厚度100µm)在延伸溫度130℃下以延伸倍率3倍沿寬度方向進行固定端延伸,而獲得厚度為30µm、Re(590)為140nm且Nz係數為1.6之相位差薄膜(λ/4構件B)。
[製造例3:偏光薄膜之製作] 熱塑性樹脂基材係使用長條狀且Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度:100µm),並對樹脂基材之單面施行了電暈處理。 在以9:1混合聚乙烯醇(聚合度4200,皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(Mitsubishi Chemical Co.製,商品名「GOHSENX Z410」)而成之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份,並將所得者溶於水中而調製出PVA水溶液(塗佈液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下乾燥,藉此形成厚度13μm之PVA系樹脂層,而製作出積層體。 將所得積層體於130℃之烘箱內往縱向(長邊方向)進行單軸延伸成2.4倍(空中輔助延伸處理)。 接著,使積層體浸漬於液溫40℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶解處理)。 接著,於液溫30℃的染色浴(相對於水100重量份,以1:7之重量比摻混碘與碘化鉀而得之碘水溶液)中調整濃度的同時使其浸漬於其中60秒鐘,以使最後所得吸收型偏光膜的單體透射率(Ts)成為所期望之值(染色處理)。 接著,使其浸漬於液溫40℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份之碘化鉀並摻混5重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。 然後,一邊使積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4重量%、碘化鉀濃度5重量%)中,一邊在周速相異之輥間往縱向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。 之後,使積層體浸漬於液溫20℃的洗淨浴(相對於水100重量份摻混4重量份之碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。 之後,一邊在保持於約90℃之烘箱中乾燥,一邊使其接觸表面溫度保持於約75℃之SUS製加熱輥(乾燥收縮處理)。積層體進行乾燥收縮處理所致之寬度方向之收縮率為5.2%。 經由以上程序,於樹脂基材上形成了厚度約5μm之吸收型偏光膜。 於所得吸收型偏光膜之表面(與樹脂基材為相反側之面),透過紫外線硬化型接著劑貼合作為保護層之環烯烴系樹脂薄膜(厚度:25µm)。具體而言,係塗敷成硬化型接著劑之總厚度成為約1µm,並使用輥軋機進行貼合。然後,從環烯烴系樹脂薄膜側照射UV光線使接著劑硬化。接著,剝離樹脂基材。 藉此,獲得具有環烯烴系樹脂薄膜/吸收型偏光膜之構成的偏光薄膜。偏光薄膜之單體透射率(Ts)為43.4%,偏光度為99.993%,正交a *值為0.1,正交b *值為-0.1。
[實施例1] 於製造例3所得之偏光薄膜之單側積層4個λ/4構件A而製出積層體1。各構件之積層係藉由透過丙烯酸系黏著劑層(日東電工公司製,厚度5µm)貼合來進行。此時,以使4個λ/4構件A的慢軸方向互相平行、且從偏光薄膜側觀看時相對於吸收型偏光膜的吸收軸方向(0°)往逆時針方向構成45°角度之方式,積層各構件。
[比較例1] 除了使用λ/4構件B取代λ/4構件A外,以與實施例1相同方式於製造例3所得之偏光薄膜之保護層側表面積層4個λ/4構件B,而製出積層體C1。
將上述實施例及比較例中所得之積層體之單體透射率及色相之測定結果與λ/4構件之光學特性一併顯示於表1。此外,實施例及比較例所製作之積層體為本發明實施形態之顯示系統的簡易評估模型。具體而言,入射積層體之λ/4構件側且從偏光薄膜側射出之光的色相係以下述光的色相進行評估:在本發明實施形態之顯示系統中,從顯示元件之顯示面朝前方射出之直線偏光光依序透射第一相位差構件及第二相位差構件後,藉由在反射部之反射及在半反射鏡之再反射而再透射第二相位差構件2次,並透射反射部而朝前方射出,然後以如此射出之光的色相來進行評估。 [表1]
如表1所示,藉由使用在整個廣泛波長區域中展現逆色散波長特性之λ/4構件作為第一相位差構件及第二相位差構件,即便在透射2個λ/4構件合計4次之情況下,仍可獲得已抑制著色之中性色相。
本發明不受上述實施形態所限,可進行各種變形。例如,可以實質上與上述實施形態所示構成相同之構成、可發揮相同作用效果之構成或可達成相同目的之構成作取代。
產業上之可利用性 本發明實施形態之顯示系統例如可用於VR護目鏡等之顯示體。
2:顯示系統 4:透鏡部 12:顯示元件 12a:顯示面 14:反射部 16:第一透鏡部 18:半反射鏡 20:第一相位差構件(第1λ/4構件) 22:第二相位差構件(第2λ/4構件) 24:第二透鏡部 26:使用者之眼睛
圖1係顯示本發明一實施形態之顯示系統之概略構成的示意圖。
2:顯示系統
4:透鏡部
12:顯示元件
12a:顯示面
14:反射部
16:第一透鏡部
18:半反射鏡
20:第一相位差構件(第1λ/4構件)
22:第二相位差構件(第2λ/4構件)
24:第二透鏡部
26:使用者之眼睛

Claims (11)

  1. 一種顯示系統,係對使用者顯示影像,其具備: 顯示元件,其具有顯示面,該顯示面係將顯示影像之光經由偏光構件朝前方射出; 反射部,係配置於前述顯示元件之前方,且包含反射型偏光構件,該反射部係反射從前述顯示元件射出之光; 第一透鏡部,係配置於前述顯示元件與前述反射部之間的光路上; 半反射鏡,係配置於前述顯示元件與前述第一透鏡部之間,該半反射鏡係使從前述顯示元件射出之光透射,並使經前述反射部反射之光朝前述反射部反射; 第1λ/4構件,係配置於前述顯示元件與前述半反射鏡之間的光路上;及 第2λ/4構件,係配置於前述半反射鏡與前述反射部之間的光路上; 前述第1λ/4構件及前述第2λ/4構件各自滿足Re(450)/Re(550)<0.90。
  2. 如請求項1之顯示系統,其中前述第1λ/4構件及前述第2λ/4構件各自滿足: Re(400)/Re(550)<0.85、 Re(650)/Re(550)>1.03、及 Re(750)/Re(550)>1.05。
  3. 如請求項1之顯示系統,其中前述顯示元件所含之前述偏光構件之吸收軸與前述第1λ/4構件之慢軸構成的角度為40°~50°,且 前述顯示元件所含之前述偏光構件之吸收軸與前述第2λ/4構件之慢軸構成的角度為40°~50°。
  4. 如請求項1之顯示系統,其中前述第一透鏡部與前述半反射鏡為一體。
  5. 如請求項1之顯示系統,其具備配置於前述反射部之前方的第二透鏡部。
  6. 如請求項1之顯示系統,其中前述反射部包含配置於前述反射型偏光構件之前方的吸收型偏光構件。
  7. 如請求項6之顯示系統,其中前述反射型偏光構件之反射軸與前述吸收型偏光構件之吸收軸係配置成互相平行。
  8. 一種顯示方法,具有以下程序: 使經由偏光構件射出之顯示影像的光通過第1λ/4構件之程序; 使通過前述第1λ/4構件之光通過半反射鏡及第一透鏡部之程序; 使通過前述半反射鏡及前述第一透鏡部之光通過第2λ/4構件之程序; 使通過前述第2λ/4構件之光藉包含反射型偏光構件之反射部朝前述半反射鏡反射之程序;以及 使經前述反射部及前述半反射鏡反射之光可藉由前述第2λ/4構件而透射前述反射部之程序;且 前述第1λ/4構件及前述第2λ/4構件各自滿足Re(450)/Re(550)<0.90。
  9. 如請求項8之顯示方法,其中前述第1λ/4構件及前述第2λ/4構件各自滿足: Re(400)/Re(550)<0.85、 Re(650)/Re(550)>1.03、及 Re(750)/Re(550)>1.05。
  10. 一種顯示體,具備如請求項1至7中任一項之顯示系統。
  11. 一種顯示體之製造方法,係具備如請求項1至7中任一項之顯示系統之顯示體之製造方法。
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