TW202400409A - 附反射防止膜之透明基體及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於一種附反射防止膜之透明基體，其包含具有兩個主面之透明基體、及於該透明基體之一主面上從上述透明基體側起依序具有擴散層與反射防止膜，且消除上述透明基體之另一主面之反射並使光源以45°之入射角入射至上述一主面側時，相對於正反射光為15°、25°及45°之各角度之擴散反射光之D65光源下之a ＊及b ＊滿足下述式(1)～(3)。 (1)-8≦a ＊≦1 (2)-2≦b ＊≦6 (3)b ＊≦-1×a ＊-1

Description

附反射防止膜之透明基體及圖像顯示裝置
本發明係關於一種附反射防止膜之透明基體及具備其之圖像顯示裝置。
近年來，就美觀性之觀點而言，使用有如液晶顯示器(LCD)般在圖像顯示裝置之前表面設置覆蓋玻璃等透明基體之方法。而且，已知為了防止外界光向該透明基體映入而具備反射防止膜之透明基體(以下，亦稱為附反射防止膜之透明基體)。例如專利文獻1中，揭示有具有光吸收能力且為絕緣性之附反射防止膜之透明基體。
又，亦已知為了防止外界光映入而於透明基體上設置擴散層之情況。擴散層藉由使入射光擴散而抑制外界光之映入。但是，若透明基體具備擴散層，則當用於圖像顯示裝置時擴散之光可能會導致熄滅時之畫面看上去發白。因此，藉由在擴散層上進而設置如上所述之反射防止膜，能夠抑制入射光之反射，從而能夠抑制發白。藉此，能夠在良好地抑制映入的同時，提高畫面熄滅時之發黑質感。
且說，作為圖像顯示裝置，以μ-LED(Micro Light Emitting Diode，微發光二極體)元件為光源之μ-LED顯示器近年來備受關注。其中，大型μ-LED顯示器可藉由將例如200片左右之A5尺寸(148 mm×210 mm)程度之小型LED面板無間隙地排列並連結(拼貼)而製造。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2018-115105號公報
[發明所欲解決之問題]
如專利文獻1所揭示之反射防止膜係利用光學干涉，因此存在光程長度因光之入射角度或出射角度而改變，從而導致反射色(色調)發生各種變化之情形。尤其是，若為擴散層上具備反射防止膜之構成，則光容易藉由擴散層而擴散反射，因此角度所引起之色調之變化容易變得相對顯著。而且，於製造大型μ-LED顯示器之情形時等，若將複數個LED面板拼貼時每個面板之擴散反射色(擴散反射光之色調)不同，則有特別是熄滅時之外觀變成各種顏色，品位大幅下降之擔憂。 因此，本發明之目的在於提供一種於拼貼時色偏差亦不易明顯之附反射防止膜之透明基體及具備其之圖像顯示裝置。 [解決問題之技術手段]
本發明人等實驗性地發現，藉由使光以指定角度入射至附反射防止膜之透明基體時之各種角度之擴散反射光之a ＊及b ＊滿足指定之要件，能獲得於拼貼時色偏差亦不易明顯之附反射防止膜之透明基體，從而完成了本發明。
即，本發明係關於以下之1～13。 1.一種附反射防止膜之透明基體，其包含具有兩個主面之透明基體、及於該透明基體之一主面上從上述透明基體側起依序具有擴散層與反射防止膜，且 消除上述透明基體之另一主面之反射並使光源以45°之入射角入射至上述一主面側時，相對於正反射光為15°、25°及45°之各角度之擴散反射光之D65光源下之a ＊及b ＊滿足下述式(1)～(3)。 (1)-8≦a ＊≦1 (2)-2≦b ＊≦6 (3)b ＊≦-1×a ＊-1 2.如上述1所記載之附反射防止膜之透明基體，其霧值為30%以上。 3.如上述1或2所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述15°之擴散反射光之L ＊為15～35，且上述25°之擴散反射光之L ＊為5～20。 4.如上述1或2所記載之附反射防止膜之透明基體，其視感透過率(Y)為20～90%。 5.如上述1或2所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述反射防止膜之薄片電阻為10 4Ω/□以上。 6.如上述1或2所記載之附反射防止膜之透明基體，其中D65光源下之透過色之b ＊為5以下。 7.如上述1或2所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述反射防止膜係使折射率互不相同之介電層積層至少2層而成之積層構造，上述介電層中之至少1層主要包含Si之氧化物，上述積層構造之層中之另外至少1層主要包含選自由Mo及W所組成之A群之至少1種氧化物、與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群之至少1種氧化物的混合氧化物，該混合氧化物所含之B群之元素相對於該混合氧化物所含之A群之元素與該混合氧化物所含之B群之元素之合計的含有率為65質量%以下。 8.如上述1或2所記載之附反射防止膜之透明基體，其於上述反射防止膜上進而具有防污膜。 9.如上述1或2所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體包含玻璃。 10.如上述1或2所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體包含選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、丙烯酸、矽酮及三乙醯纖維素之至少1種樹脂。 11.如上述1或2所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體為玻璃與選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、丙烯酸、矽酮及三乙醯纖維素之至少1種樹脂的積層體。 12.如上述11所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述玻璃進行了化學強化。 13.一種圖像顯示裝置，其具備如上述1或2所記載之附反射防止膜之透明基體。 [發明之效果]
根據本發明之一形態，可提供一種於拼貼時色偏差亦不易明顯之附反射防止膜之透明基體及具備其之圖像顯示裝置。藉由在拼貼時色偏差不易明顯，能夠提高附反射防止膜之透明基體及具備其之圖像顯示裝置之品位或美觀性。
以下，對本發明詳細地進行說明，但本發明並不限定於以下之實施方式，能夠在不脫離本發明之主旨之範圍內任意地變化來實施。又，表示數值範圍之「～」係以包含記載於其前後之數值作為下限值及上限值之含義來使用。 再者，本說明書中，所謂於透明基體等基體之主面上、或者擴散層等層上或反射防止膜等膜上具有另一層或膜等，並不限定於該另一層或膜等與上述主面、層或膜相接而設置之形態，只要為可於其上部方向設置層或膜等之形態即可。例如，所謂於透明基體之主面上具有擴散層，可以與透明基體之主面相接之方式設置擴散層，亦可於透明基體與擴散層之間設置有其他任意之層或膜等。
本發明之一形態之附反射防止膜之透明基體包含具有兩個主面之透明基體、及於該透明基體之一主面上從上述透明基體側起依序具有擴散層與反射防止膜，且消除上述透明基體之另一主面之反射並使光源以45°之入射角入射至上述一主面側時，相對於正反射光為15°、25°及45°之各角度之擴散反射光之D65光源下之a ＊及b ＊滿足下述式(1)～(3)。 (1)-8≦a ＊≦1 (2)-2≦b ＊≦6 (3)b ＊≦-1×a ＊-1
(附反射防止膜之透明基體) 圖1係模式性地表示本發明之一形態之附反射防止膜之透明基體之一構成例的剖視圖。圖1所例示之附反射防止膜之透明基體1具備透明基體10、擴散層31及反射防止膜30。圖1中，於透明基體10之一主面上形成有擴散層31，於擴散層31之上形成有反射防止膜30。反射防止膜例如為具有使折射率互不相同之介電層積層至少2層而成之積層構造之多層膜。圖1中，反射防止膜30係第1介電層32與第2介電層34積層而成之多層膜。再者，圖1中例示於透明基體10上進而形成有擴散層31之構成，但如下所述，亦可藉由對透明基體進行表面處理之方法等而於透明基體本身之表層形成有擴散層。
本發明之一形態之附反射防止膜之透明基體係於透明基體之一主面上從透明基體側起依序具有擴散層與反射防止膜。藉此，可獲得能夠抑制外界光之映入並且擴散反射光所引起之發白得到抑制之發黑質感優異之附反射防止膜之透明基。
關於本發明之一形態之附反射防止膜之透明基體，消除透明基體之另一主面之反射且使光源以45°之入射角入射至一主面側時，相對於正反射光為15°、25°及45°之各角度之擴散反射光之D65光源下之a ＊及b ＊滿足下述式(1)～(3)。 (1)-8≦a ＊≦1 (2)-2≦b ＊≦6 (3)b ＊≦-1×a ＊-1
本說明書中，藉由上述方法而獲得之「15°、25°及45°之各角度之擴散反射光」有時稱為「各角度之擴散反射光」。又，當稱為「15°之擴散反射光」時，係指「各角度之擴散反射光」中之15°之擴散反射光，當角度不同時亦同樣如此。又，只要未特別說明，則a ＊、b ＊及L ＊分別指D65光源下之a ＊、b ＊及L ＊。
圖2係例示各角度之擴散反射光之a ＊及b ＊之測定方法之模式圖。於圖2所示之附反射防止膜之透明基體1中，透明基體10具備一主面11與另一主面12。於一主面11上形成有擴散層31及反射防止膜30。於圖2所例示之測定方法中，附反射防止膜之透明基體1係藉由在另一主面12貼合黑色膠帶20，而消除另一主面之反射。從光源50使光以45°之入射角入射至該附反射防止膜之透明基體1之一主面11側。入射之光源使用在可見光全域發光者。作為該光源，例如可適宜地使用高演色性白色LED等白色光源。以該入射光60之正反射光61為基準(0°)，擴散反射光72、73及74分別為15°、25°及45°之擴散反射光。再者，此處將正反射光61設為0°，將向入射光60所在之側角度變大之方向設為+方向，將向與入射光60相反之側角度變大之方向設為-方向。針對該等各角度之擴散反射光，測定可見光波長之反射率，算出D65光源下之L ＊、a ＊及b ＊。該測定可使用例如柯尼卡美能達公司製造之CM-M6來進行。作為消除另一主面之反射之方法，如圖2所例示，可例舉例如於另一主面貼合黑色膠帶之方法。作為用以消除另一主面之反射的黑色膠帶，可例舉例如巴川製紙所公司製造之「Clear Meyer」，使用黑色膠帶本身之擴散反射率較低且具備透明基體之反射防止膜之面對擴散反射率測定之影響較少者。
本發明人等進行銳意研究，結果實驗性地發現藉由各角度之擴散反射光之a ＊及b ＊滿足上述式(1)～(3)，能獲得於拼貼時色偏差亦不易明顯之附反射防止膜之透明基體，從而完成了本發明。即，各角度之反射光之a ＊及b ＊互不相同係指色調根據觀察此種附反射防止膜之透明基體之角度而變化。如此，色調因觀察角度而變化，通常可能導致於拼貼時色偏差容易明顯。然而，本發明發現當各角度之擴散反射光之a ＊及b ＊滿足上述式(1)～(3)時，改變角度時之色調之變化不易明顯。其理由可推測如下。即，當各角度之擴散反射光之a ＊及b ＊滿足上述式(1)～(3)時，根據觀察之角度，色調大致會在無色～綠色之間變化。若為該等色調之範圍，則即便a ＊及b ＊因角度而變化，亦不易感受到其差，可推測為色偏差不易明顯者。又，藉由將a ＊及b ＊可能變化之區域設為限定性之範圍，色調因角度而產生之變化之大小相對變小，因此認為色偏差變得不易明顯。進而，藉由滿足上述式(1)～(3)而於拼貼時相鄰之兩面附反射防止膜之透明基體之色差受到限定，亦可期待使複數個基體之接縫不易明顯之效果。
各角度之擴散反射光之a ＊為-8≦a ＊≦1。就提高顯示器熄滅時之黑色感之觀點而言，a ＊為-8以上，較佳為-7以上，更佳為-6以上。另一方面，就將反射色保持為無色～綠色之觀點而言，a ＊為1以下，較佳為0.8以下，更佳為0.6以下。
各角度之擴散反射光之b ＊為-2≦b ＊≦6。就將反射色保持為無色～綠色之觀點而言，b ＊為-2以上，較佳為-1.5以上，更佳為-1以上。另一方面，就提高顯示器熄滅時之黑色感之觀點而言，b ＊為6以下，較佳為5以下，更佳為4以下。
各角度之擴散反射光之a ＊及b ＊滿足b ＊≦-1×a ＊-1。藉此，將反射色保持為無色～綠色，故而較佳。a ＊及b ＊較佳為滿足b ＊≦-1×a ＊-1.2，更佳為滿足b ＊≦-1×a ＊-1.5。
各角度之擴散反射光之中，接近入射光之正反射光之角度的擴散反射光、例如15°及25°之擴散反射光與45°之擴散反射光相比，有亮度(L ＊)較大之傾向。而且，亮度較大之擴散反射光之色與除此以外之擴散反射光之色相比，容易更強烈地感受到。就該觀點而言，較佳為15°及25°之擴散反射光之a ＊及b ＊為接近零之值、或者其等之L ＊為更小之值。藉此，擴散反射光之中，容易更強烈地感受到之角度之光之色調得到良好之控制，故能夠使色偏差更不易明顯。
15°之擴散反射光之D65光源下之L ＊較佳為15～35，更佳為20～30。15°之擴散反射光之D65光源下之L ＊較佳為15以上，更佳為20以上。又，15°之擴散反射光之D65光源下之L ＊較佳為35以下，更佳為30以下。藉由15°之擴散反射光之L ＊處於該範圍，而附反射防止膜之透明基體具有適度之光擴散性(防眩性)或低反射性，能夠良好地抑制外界光之映入。
25°之擴散反射光之D65光源下之L ＊較佳為5～20，更佳為7～15。25°之擴散反射光之D65光源下之L ＊較佳為5以上，更佳為7以上。25°之擴散反射光之D65光源下之L ＊較佳為20以下，更佳為15以下。藉由25°之擴散反射光之L ＊處於該範圍，而附反射防止膜之透明基體具有適度之光擴散性(防眩性)或低反射性，能夠良好地抑制外界光之映入。
又，較佳為上述15°之擴散反射光之L ＊為15～35，且上述25°之擴散反射光之L ＊為5～20。藉此，附反射防止膜之透明基體具有更良好之光擴散性(防眩性)或低反射性，能夠良好地抑制外界光之映入。各角度之擴散反射光之L ＊係藉由與a ＊及b ＊相同之方法，使用例如柯尼卡美能達公司製造之CM-M6進行測定及計算。
關於本發明之一形態之附反射防止膜之透明基體，就良好地防止映入之觀點而言，霧值較佳為30%以上，更佳為40%以上，進而較佳為50%以上。就提高用於圖像顯示裝置時之圖像之清晰度之觀點而言，霧值較佳為例如90%以下。霧值亦可為30%～90%。 具有如上所述之相對較高之霧值之附反射防止膜之透明基體可良好地用於大型μ-LED顯示器用途。其原因在於，第一，於顯示器為大型之情形時，更容易產生照明或外界光之映入，因此要求更良好地防止映入；而且，第二，於大型μ-LED顯示器中像素之間距相對較大，因此即便使霧值相對較高，亦容易成為高精細之顯示器。然而，於此種霧值相對較高之附反射防止膜之透明基體中，擴散反射之分量變得更多，因此色調因擴散反射光之角度而產生之變化容易變得特別顯著。相對於此，根據本發明，即便於霧值相對較高之情形時，亦能良好地抑制拼貼時之色偏差。
再者，於LCD顯示器等用途中，可適宜地使用例如霧值為0～30%左右之附反射防止膜之透明基體。只要為可獲得本發明之效果之範圍，則根據用途等，霧值可為例如30%以下或未達30%。 霧值可藉由例如擴散層之表面形狀進行調整。霧值可依據JIS K 7136：2000使用測霧計(須賀試驗機公司製造之HZ-V3)等進行測定。
(視感透過率：Y) 本形態之附反射防止膜之透明基體之視感透過率(Y)較佳為20～90%。若視感透過率(Y)為上述範圍，則具有適度之光吸收能力，因此當用作圖像顯示裝置之覆蓋玻璃時，能夠抑制光之反射。藉此，圖像顯示裝置之亮處對比度提高。上述視感透過率(Y)更佳為50～90%，進而較佳為60～90%。即，視感透過率(Y)較佳為20%以上，更佳為50%以上，進而較佳為60%以上。視感透過率(Y)較佳為90%以下。 再者，視感透過率(Y)可如下文所述之實施例所記載，藉由JIS Z 8701(1999年)所規定之方法進行測定。
關於本形態之附反射防止膜之透明基體，為了將視感透過率(Y)設為20～90%，較佳為主要使用選自由Mo及W所組成之A群之至少1種氧化物、與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群之至少1種氧化物的混合氧化物作為例如反射防止膜之第1介電層，而調整膜之氧化量。
本形態之附反射防止膜之透明基體之視感透過率(Y)例如可藉由在成膜上述反射防止膜中之作為高折射率層之第1介電層時，控制氧化源之照射時間、照射輸出、與基板之距離、氧化氣體量而進行調整。
(薄片電阻) 本形態之附反射防止膜之透明基體之反射防止膜之薄片電阻較佳為10 4Ω/□以上。由於反射防止膜之薄片電阻為上述範圍，且反射防止膜為絕緣性，故於用作圖像顯示裝置之覆蓋玻璃時，即便設置觸控面板，亦能維持靜電電容式觸控感測器所需之因手指接觸所產生之靜電電容變化，從而能夠使觸控面板發揮功能。上述薄片電阻更佳為10 6Ω/□以上，進而較佳為10 8Ω/□以上。 再者，薄片電阻可如下文所述之實施例所記載，藉由JIS K 6911(2006年)所規定之方法進行測定。
關於本形態之附反射防止膜之透明基體，為了將反射防止膜之薄片電阻設為10 4Ω/□以上，例如調整反射防止膜中之金屬含量。
(D65光源下之透過色之b ＊值) 本形態之附反射防止膜之透明基體之D65光源下之透過色之b ＊值較佳為5以下。因上述b ＊值為上述範圍，且透過光不帶黃色，故適宜用作圖像顯示裝置之覆蓋玻璃。上述b ＊值更佳為3以下，進而較佳為2以下。又，上述b ＊值之下限值較佳為-6以上，更佳為-4以上。b ＊值為上述範圍內，透過光變為無色，且不會阻礙透過之光，故而較佳。D65光源下之透過色之b ＊值亦可為-6～5。 再者，D65光源下之透過色之b ＊值可藉由JIS Z 8729(2004年)所規定之方法進行測定。
(透明基體) 本形態中之具有兩個主面之透明基體(以下，亦簡稱為透明基體)之折射率較佳為1.4以上1.7以下。若透明基體之折射率為上述範圍，則於光學接著顯示器、觸控面板等之情形時，能夠充分地抑制接著面處之反射。折射率更佳為1.45以上，進而較佳為1.47以上，且更佳為1.65以下，進而較佳為1.6以下。
透明基體較佳為包含玻璃及樹脂之至少一者。更佳為，透明基體包含玻璃及樹脂之兩者。藉由透明基體包含玻璃，能夠使附反射防止膜之透明基體之強度、平坦性及耐久性優異。又，藉由將下述之由樹脂基體-防眩層形成之積層體貼合於玻璃基體上，易於形成擴散層。於藉由該方法而形成有擴散層之附反射防止膜之透明基體中，透明基體包含玻璃及樹脂之兩者。
於透明基體包含玻璃之情形時，玻璃之種類並無特別限制，可使用具有各種組成之玻璃。其中，上述玻璃較佳為包含鈉，且較佳為能夠藉由成形、化學強化處理而進行強化之組成。作為該玻璃，具體而言，例如可例舉：鋁矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、硼矽酸玻璃、鉛玻璃、鹼鋇玻璃、鋁硼矽酸鹽玻璃等。 再者，本說明書中，於透明基體包含玻璃之情形時，該透明基體亦稱為玻璃基體。
玻璃基體之厚度並無特別限制，於對玻璃進行化學強化處理之情形時，為了有效地進行化學強化，例如較佳為5 mm以下，更佳為3 mm以下，進而較佳為1.5 mm以下。又，厚度例如為0.2 mm以上。玻璃基體之厚度亦可為0.2 mm～5 mm。
玻璃基體較佳為經化學強化之化學強化玻璃。藉此，作為附反射防止膜之透明基體之強度提高。再者，於對玻璃基體實施下文所述之防眩處理之情形時，化學強化較佳為於防眩處理之後且於形成反射防止膜(多層膜)之前進行。
於透明基體包含樹脂之情形時，樹脂之種類並無特別限制，可使用具有各種組成之樹脂。其中，上述樹脂較佳為熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂，例如可例舉：聚氯乙烯樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、聚酯樹脂、聚胺酯樹脂、纖維素系樹脂、丙烯酸樹脂、AS(丙烯腈-苯乙烯)樹脂、ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)樹脂、氟系樹脂、熱塑性彈性體、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚縮醛樹脂、聚碳酸酯樹脂、改性聚苯醚樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯樹脂、聚乳酸系樹脂、環狀聚烯烴樹脂、聚苯硫醚樹脂等。該等之中，較佳為纖維素系樹脂，可例舉：三乙醯纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂等。該等樹脂可單獨使用1種，亦可併用2種以上。 就可見光透明性優異之方面或獲取容易性之觀點而言，上述樹脂尤佳為包含選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、丙烯酸、矽酮及三乙醯纖維素之至少1種樹脂。 再者，本說明書中，於透明基體包含樹脂之情形時，該透明基體亦稱為樹脂基體。
樹脂基體之形狀較佳為膜狀。於樹脂基體為膜狀之情形時，即為樹脂膜之情形時，其厚度並無特別限制，較佳為20～300 μm，更佳為30～130 μm。
所謂透明基體包含玻璃及樹脂之兩者之情形，可例舉例如為將玻璃基體與樹脂基體積層而成之複合基體之情形。更具體而言，透明基體亦可為例如於上述玻璃基體上具備上述樹脂基體之形態。
(擴散層) 本形態之擴散層設置於透明基體之一主面上。所謂擴散層，係指具有使正反射光擴散而減少眩光及映入之功能之層，可例舉對硬塗層賦予使正反射光擴散之功能(防眩性)所得之防眩層等。
防眩層係藉由其單面具有凹凸形狀，而利用外部散射或內部散射，提高霧值，賦予防眩性。防眩層係由防眩層組合物形成，該防眩層組合物係使至少其本身具有防眩性之粒子狀之物質分散於溶解有作為黏合劑之高分子樹脂之溶液中而形成。防眩層可藉由將上述防眩層組合物塗佈於例如透明基體之一主面而形成。
作為上述具有防眩性之粒子狀之物質，例如可例舉氧化矽、黏土、滑石、碳酸鈣、硫酸鈣、硫酸鋇、矽酸鋁、氧化鈦、合成沸石、氧化鋁、膨潤石等無機微粒子，除此之外還可例舉包含苯乙烯樹脂、胺基甲酸酯樹脂、苯并胍胺樹脂、矽酮樹脂、丙烯酸樹脂、三聚氰胺樹脂等之有機微粒子。
又，作為上述硬塗層或上述防眩層之黏合劑之高分子樹脂例如可使用包含聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯酸胺基甲酸酯系樹脂、聚酯丙烯酸酯系樹脂、聚胺酯丙烯酸酯系樹脂、環氧丙烯酸酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂等之高分子樹脂。
本形態中，可將擴散層直接形成於透明基體上，亦可預先準備包含樹脂基體-防眩層之積層體，藉由將其貼合於玻璃基體等，而獲得於玻璃基體與樹脂基體之複合基體上具備擴散層之構成。該積層體較佳為於膜狀之樹脂基體上形成擴散層所得者。根據該方法，易於更簡便地形成擴散層。
作為包含樹脂基體-防眩層之積層體，具體而言，例如可例舉防眩PET(polyethylene terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)膜或防眩TAC(Triacetyl Cellulose，三醋酸纖維素)膜。作為防眩PET膜，可例舉：東山薄膜股份有限公司製造之商品名：BHC-III或EHC-30a、麗光股份有限公司所製造者等。又，作為防眩TAC膜，可使用防眩TAC膜(TOPPAN TOMOEGAWA OPTICAL FILMS公司製造，商品名VZ50)、防眩TAC膜(TOPPAN TOMOEGAWA OPTICAL FILMS公司製造，商品名VH66H)等。
又，亦可藉由對透明基體實施表面處理而於透明基體本身之表層形成擴散層。 例如，於使用玻璃基體之情形時，可利用對玻璃主面實施表面處理而形成所需之凹凸之方法。 具體而言，可例舉對玻璃基體之主面進行化學處理之方法、例如實施磨砂處理(frost treatment)之方法。磨砂處理例如可將被處理體即玻璃基體浸漬於氟化氫與氟化銨之混合溶液中，對浸漬面進行化學表面處理。 又，除了使用磨砂處理之類的化學處理之方法以外，亦可利用使用如下物理處理之方法，即，例如以加壓空氣將結晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等吹送至玻璃基體之表面之所謂噴砂處理、或藉由用水打濕後之附著有結晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等之刷進行摩擦等。
具備此種擴散層之附反射防止膜之透明基體係因擴散層所具有之凹凸形狀而於表面具有凹凸形狀。附反射防止膜之透明基體之Sa(算術平均表面粗糙度)較佳為0.05～0.6 μm，更佳為0.05～0.55 μm。藉由Sa為該範圍，變得容易抑制反射影像之映入，故而較佳。Sa係由ISO25178所規定，可使用例如基恩士公司製造之雷射顯微鏡VK-X3000進行測定。
附反射防止膜之透明基體之根據藉由使用基恩士公司製造之雷射顯微鏡VK-X3000等進行測定而獲得之表面積而算出之展開面積比Sdr(以下，亦簡稱為「Sdr」)較佳為0.001～0.4，更佳為0.0025～0.2。藉由Sdr為該範圍，變得容易抑制反射影像之映入，故而較佳。 Sdr係由ISO25178所規定，用下述式來表示。 展開面積比Sdr＝｛(A－B)/B｝ A：測定區域之反映了實際之凹凸的表面積(展開面積) B：測定區域之不包括凹凸在內之平面之面積
附反射防止膜之透明基體之Sdq(均方根斜率)較佳為0.03～0.50，更佳為0.07～0.49。藉由Sdq為該範圍，變得容易抑制反射影像之映入，故而較佳。Sdq係由ISO25178所規定，可利用例如基恩士公司製造之雷射顯微鏡VK-X3000進行測定。
附反射防止膜之透明基體之Spc(表面之頂點之主曲率之平均)較佳為150～6000(1/mm)。藉由Spc為該範圍，變得容易抑制反射影像之映入，故而較佳。Spc係由ISO25178所規定，可使用例如基恩士公司製造之雷射顯微鏡VK-X3000進行測定。
再者，上述Sa、Sdr、Sdq及Spc係指針對附反射防止膜之透明基體之具備擴散層及反射防止膜之側之主面所測得之值。
(障壁層) 於藉由將包含樹脂基體-防眩層之積層體貼合於玻璃基體等之方法而形成擴散層之情形時等、透明基體包含樹脂基體之情形時，較佳為於擴散層與反射防止膜之間具備障壁層。藉由將障壁層設置於樹脂透明基體與反射防止膜之間，能夠抑制欲從樹脂基體滲入至反射防止膜之水分或氧之影響，有光學特性變得不易改變等優點，故而較佳。作為障壁層，例如可例舉金屬氮化膜或金屬氧化膜等，具體而言可例舉：SiN x膜、SiO x膜等，但就更有效地抑制光學特性之變化之觀點而言，較佳為SiN x膜。就抑制水分等向反射防止膜滲入之觀點而言，障壁層之厚度較佳為2 nm以上，進而較佳為4 nm以上，尤佳為8 nm以上。另一方面，就抑制附反射防止膜之透明基體之反射率上升之觀點而言，厚度較佳為50 nm以下。障壁層可使用例如濺鍍法、真空蒸鍍法或塗佈法等公知之成膜方法而形成。
(反射防止膜) 本形態之反射防止膜係具有抑制光之反射之功能者，具有例如使折射率互不相同之介電層積層至少2層而成之積層構造。 圖1所示之反射防止膜(多層膜)30係使折射率互不相同之第1介電層32、第2介電層34積層2層而成之積層構造。藉由使折射率互不相同之第1介電層32、第2介電層34積層，而抑制光之反射。例如，圖1中，第1介電層32為高折射率層，第2介電層34為低折射率層。
反射防止膜係使折射率互不相同之介電層積層至少2層而成之積層構造，上述介電層中之至少1層主要包含Si之氧化物，上述積層構造之層中之另外至少1層主要包含選自由Mo及W所組成之A群之至少1種氧化物、與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群之至少1種氧化物的混合氧化物，該混合氧化物所含之B群之元素相對於該混合氧化物所含之A群之元素與該混合氧化物所含之B群之元素之合計的含有率較佳為65質量%以下。又，主要包含Si之氧化物之層亦可在不影響反射率之範圍內含有選自Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn、W、Mo及In之至少1種氧化物。藉由反射防止膜具有上述構成，可獲得於可見光下具有均勻之光吸收能力且為絕緣性之反射防止膜。藉由反射防止膜具有光吸收能力，而於例如擴散層上形成有反射防止膜之構成中，能夠以某種程度吸收經擴散層之表面(即，較反射防止膜更靠透明基體側)反射之光。藉此，能夠更有效地抑制因擴散層引起之擴散反射而導致之發白，因此能夠進一步提高用於圖像顯示裝置時之畫面熄滅時之發黑質感。又，藉由反射防止膜為絕緣性，亦能夠將附反射防止膜之透明基體良好地用於觸控面板等用途。又，藉由將介電層之含有成分設定為適當之範圍，而即便於例如溫度為80℃或95℃等高溫環境、或者溫度及濕度為65℃95%或85℃85%等高溫高濕環境、強UV(Ultraviolet，紫外線)光照射環境或淋雨環境等嚴酷之環境下，亦能夠獲得光學特性或外觀變化較少之反射防止膜。
於圖1所示之反射防止膜(多層膜)30中，第1介電層32(高折射率層)較佳為主要包含選自由Mo及W所組成之A群之至少1種氧化物、與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群之至少1種氧化物的混合氧化物。而且，該混合氧化物較佳為該混合氧化物所含之B群之元素相對於該混合氧化物所含之A群之元素與該混合氧化物所含之B群之元素之合計的含有率(以下，記為B群含有率)為65質量%以下。此處，「主要」係指第1介電層32中含量(質量基準)最多之成分，例如指含有70質量%以上之該成分而構成。
若包含選自由Mo及W所組成之A群之至少1種氧化物、與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群之至少1種氧化物之混合氧化物的第1介電層(A-B-O)32中之B群含有率為65質量%以下，則能抑制透過光發黃。
作為選自A群之至少1種氧化物，較佳為Mo、或Mo及W，作為選自B群之至少1種氧化物，較佳為Nb。即，第1介電層較佳為Mo及Nb之混合氧化物、或Mo、W及Nb之混合氧化物，更佳為Mo、W及Nb之混合氧化物。
如下所述，第2介電層亦可為例如產生氧缺陷之氧化矽層。此處，先前，產生氧缺陷之氧化矽層於可見光下發黃，但若第1介電層為Mo及Nb之混合氧化物或Mo、W及Nb之混合氧化物，則能夠抑制氧化矽層發黃，故而較佳。又，為了提高可靠性，氧化矽層可含有選自Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn、W、Mo及In之至少1種氧化物，各氧化物亦可產生氧缺陷。進而，當於如上所述之具有相對較高之霧度，即表面凹凸相對較大之擴散層上成膜第2介電層時，於成膜時要求較高之氧化穩定性。若第1介電層為Mo、W及Nb之混合氧化物，則易於使成膜時之氧化穩定性優異，故而更佳。
就與透明基體之透過率之觀點而言，上述第1介電層32之波長550 nm時之折射率較佳為1.8～2.3。
上述第1介電層32之消光係數較佳為0.005～3，更佳為0.04～0.38。若消光係數為0.005以上，則能以適當之層數實現所需之吸收率。又，若消光係數為3以下，則相對容易實現反射色調與透過率之兼顧。
第2介電層34(低折射率層)較佳為主要包含Si之氧化物(SiO x)。此處，「主要」係指第2介電層34中含量(質量基準)最多之成分，例如指包含70質量%以上之該成分而構成。藉由第2介電層34(低折射率層)主要包含Si之氧化物(SiO x)，而變為低折射率，反射率降低效果提高，故而較佳。再者，SiO x亦可為完全氧化之氧化矽(SiO 2)，但就提高光學可靠性或耐擦傷性之觀點而言，較佳為氧缺失之氧化矽。又，為了提高可靠性，氧化矽層亦可含有選自Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn、W、Mo及In之至少1種氧化物，各氧化物亦可產生氧缺陷。
圖1所示之反射防止膜(多層膜)30係使第1介電層32與第2介電層34積層而成之共2層之積層構造，但本形態之反射防止膜(多層膜)並不限定於此，亦可為使折射率互不相同之介電層積層3層以上而成之積層構造。於該情形時，無需使所有介電層之折射率均不同。即，積層構造可為以相鄰之層之折射率不同之方式使介電層積層2層以上而成之積層構造，積層數亦可為3層以上。例如，於三層積層構造之情形時，可設為低折射率層、高折射率層及低折射率層之三層積層構造、或高折射率層、低折射率層及高折射率層之三層積層構造。於前者之情形時，亦可使存在有2層之低折射率層彼此分別為相同之折射率，於後者之情形時，亦可使存在有2層之高折射率層彼此分別為相同之折射率。於四層積層構造之情形時，可設為低折射率層、高折射率層、低折射率層及高折射率層之四層積層構造、或高折射率層、低折射率層、高折射率層及低折射率層之四層積層構造。於該情形時，分別存在有2層之低折射率層彼此及高折射率層彼此之至少一方為相同之折射率。
於使折射率互不相同之層積層3層以上而成之積層構造之情形時，亦可包含除第1介電層(A-B-O)32及第2介電層(SiO x)34以外之介電層。於該情形時，以如下方式選擇各層，即，包含第1介電層(A-B-O)32及第2介電層(SiO x)34在內成為低折射率層、高折射率層、低折射率層之三層積層構造、或高折射率層、低折射率層、高折射率層之三層積層構造；或者低折射率層、高折射率層、低折射率層、高折射率層之四層積層構造、或高折射率層、低折射率層、高折射率層、低折射率層之四層積層構造。 但是，最表面之層較佳為第2介電層(SiO x)34。為了獲得低反射性，只要最表面之層為第2介電層(SiO x)，便能相對容易地製作。又，雖然反射率可能會稍微上升，但為了提高可靠性，第2介電層亦可含有選自Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn、W、Mo及In之至少1種氧化物。為了抑制反射率上升，除Si以外之金屬之含有率係除氧之外理想為30 at%以下，更佳為20 at%以下，進而較佳為15 at%以下。又，於在反射防止膜30形成下文所述之防污膜之情形時，就與防污膜之耐久性相關之結合性之觀點而言，防污膜較佳為形成於第2介電層(SiO x)上。
第1介電層(A-B-O)32較佳為非晶質。若為非晶質，便可於相對低溫下製成，從而於透明基體包含樹脂之情形時等，不會發生樹脂因熱而受損之情況，而可良好地應用。
再者，作為具有光吸收能力且為絕緣性之光透過膜，已知半導體製造領域所使用之半色調光罩。作為半色調光罩，可使用包含少量之Mo之Mo-SiO x膜之類的氧缺陷膜。又，作為具有光吸收能力且為絕緣性之光透過膜，已知半導體製造領域所使用之窄帶隙膜。然而，該等光透過膜對可見光線中之短波長側之光線之吸收能力較高，因此透過光發黃。因此，不適於圖像顯示裝置之覆蓋玻璃。
於本發明之較佳之形態中，藉由具有Mo或W之含有率提高之第1介電層32與包含SiO x等之第2介電層34，可獲得具有光線吸收能力、為絕緣性且密接性及強度優異之附反射防止膜之透明基體。
本形態之反射防止膜30可使用濺鍍法、真空蒸鍍法或塗佈法等公知之成膜方法形成於透明基體之主面上。即，將構成反射防止膜30之介電層根據其積層順序，而使用濺鍍法、真空蒸鍍法或塗佈法等公知之成膜方法形成於擴散層31之主面上。
作為濺鍍法，可例舉：磁控濺鍍、脈衝濺鍍、AC(Alternating Current，交流)濺鍍、數位濺鍍等方法。
例如，磁控濺鍍法係於作為母體之介電體材料之背面設置磁鐵而產生磁場，使氣體離子之原子碰撞上述介電體材料表面，介電體材料被擊出，藉此以數nm之厚度進行濺鍍成膜之方法，能夠形成作為介電體材料之氧化物或氮化物之介電體之連續膜。
又，例如，數位濺鍍法係與通常之磁控濺鍍法不同之方法，其係在同一腔室內反覆進行如下步驟而形成金屬氧化物之薄膜，即，首先藉由濺鍍而形成金屬之超薄膜，然後藉由照射氧電漿、或氧離子、氧自由基而進行氧化。於該情形時，由於成膜分子著膜於基體時為金屬，故可推測與以金屬氧化物之形式著膜之情形時相比具有延展性。因此，認為即便為相同之能量亦變得容易發生成膜分子之再配置，結果能形成緻密且平滑之膜。
再者，上述中，例舉了反射防止膜之較佳構成之一例，但反射防止膜之構成並不限定於此。例如於欲保持較高之顯示器之亮度時等，有時可良好地使用不具有光吸收能力、或透過相對較高且作為附反射防止膜之透明基體之視感透過率為90%以上之反射防止膜。關於包含此種高透過之反射防止膜之附反射防止膜之透明基體，同樣地若各角度之擴散反射光之a ＊及b ＊處於上述範圍內，則可獲得抑制拼貼時之色偏差之效果。作為高透過之反射防止膜之構成，例如可例示使低折射率層與上述第2介電層34相同，並且將高折射率層設為不具有光吸收能力或高透過之層之構成。作為該情形時之高折射率層，例如可例舉主要包含Ti之氧化物(TiO x)之層、或包含Nb之氧化物(NbO x)之層、包含Ta之氧化物(TaO x)之層等，就低反射化之觀點而言，較佳為主要包含Ti之氧化物(TiO x)之層。於該情形時，形成反射防止膜之各層亦可使用濺鍍法、真空蒸鍍法或塗佈法等公知之成膜方法而成膜。 具備高透過之反射防止膜之情形時之附反射防止膜之透明基體之視感透過率(Y)例如可為90～96%，較佳為93～96%。
(防污膜) 關於本形態之附反射防止膜之透明基體，就保護反射防止膜之最表面之觀點而言，亦可於上述反射防止膜上進而具有防污膜(亦稱為「防指紋(AFP，Anti Finger Print)膜」)。防污膜例如可含有含氟有機矽化合物。作為含氟有機矽化合物，只要能夠賦予防污性、撥水性、撥油性，則可無特別限定地使用，例如可例舉具有選自由全氟聚醚基、全氟伸烷基及全氟烷基所組成之群之1種以上基的含氟有機矽化合物。再者，全氟聚醚基係指具有全氟伸烷基與醚性氧原子交替鍵結而成之構造之二價基。
又，作為市售之具有選自由全氟聚醚基、全氟伸烷基及全氟烷基所組成之群之1種以上基的含氟有機矽化合物，較佳可使用KP-801(商品名，信越化學工業股份有限公司製造)、KY178(商品名，信越化學工業股份有限公司製造)、KY-130(商品名，信越化學工業股份有限公司製造)、KY-185(商品名，信越化學工業股份有限公司製造)、OPTOOL(註冊商標) DSX及OPTOOL AES(均為商品名，大金工業股份有限公司製造)等。
於本形態之附反射防止膜之透明基體具有防污膜之情形時，防污膜設置於反射防止膜上。於在透明基體之兩個主面二者之側設置反射防止膜之情形時，雖然亦可於兩反射防止膜上成膜防污膜，但亦可設為僅於任一主面側積層防污膜之構成。其原因在於，防污膜只要設置於人手等可能接觸之部位即可，可根據其用途等而進行選擇。
(附反射防止膜之透明基體之製造方法) 本形態之附反射防止膜之透明基體之製造方法並無特別限定，例如，可藉由包括於透明基體上依序形成擴散層及反射防止膜之方法來製造。又，視需要，亦可進而包括形成障壁層、防污膜等層。
形成各層之方法係如上所述，但為了使各角度之擴散反射光之a ＊及b ＊滿足上述式(1)～(3)，較佳為適當地調整反射防止膜之膜構成、附反射防止膜之透明基體之視感透過率(Y)等值。又，於高透過率之附反射防止膜之透明基體之情形時，難以利用透過率實現適配化，因此較佳為更嚴密地調整反射防止膜之各層膜厚。作為具體之調整方法，較佳為使對波長500 nm～550 nm之綠色光之正反射率於複數個光入射角下均較波長450 nm～500 nm之藍色光或波長600 nm～650 nm之紅色光高反射化。藉此，能夠將正反射色於複數個光入射角下保持為黑色(無色)至綠色，其結果呈現出複數個入射角下之擴散反射色亦能保持為無色～綠色之傾向。關於正反射色之角度依存性，可藉由使用薄膜模擬軟體而簡便地進行預測。又，不光是滿足(1)～(3)，以b ＊因擴散反射角度而產生之變化變小之方式調整各層膜厚對於減小反射色偏差之方面而言亦有利。
例如，於高折射率層為Mo、W及Nb之混合氧化物層，低折射率層為SiO x層之情形時，藉由滿足以下，而呈現出容易獲得各角度之擴散反射光之a ＊及b ＊滿足上述式(1)～(3)之附反射防止膜之透明基體之傾向。
例如，反射防止膜之總膜厚較佳為200 nm～250 nm，更佳為210 nm～245 nm。藉此，能夠抑制擴散反射色之角度依存性，即擴散反射光之色調因角度而產生之變化增大，而呈現出容易滿足式(1)～(3)之傾向。 又，反射防止膜之層數較佳為4～8層，更佳為4～6層。藉此，能夠在確保量產性的同時，抑制擴散反射色之角度依存性增大，而呈現出容易滿足式(1)～(3)之傾向。 又，關於各層之膜厚，第一層之高折射率層之膜厚最為重要，較佳為1～25 nm，更佳為2～15 nm。藉此，能夠抑制擴散反射色之角度依存性，即擴散反射光之色調因角度而產生之變化增大，而呈現出容易滿足式(1)～(3)之傾向。
(用途) 本形態之附反射防止膜之透明基體可良好地用於圖像顯示裝置之覆蓋玻璃、尤其是例如大型μ-LED顯示器等將複數個顯示器(例如，LED面板等)拼貼而獲得之顯示器之覆蓋玻璃。或者，本形態之附反射防止膜之透明基體亦可良好地用於附反射防止膜之透明基體所要求之霧度相對較高，且色調因角度而產生之變化容易變得更顯著之情形。又，除此之外，本形態之附反射防止膜之透明基體亦可良好地用於液晶顯示器、有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示器、電子紙顯示器等各種圖像顯示裝置之覆蓋玻璃。
(圖像顯示裝置) 本發明之一形態之圖像顯示裝置具備上述附反射防止膜之透明基體。作為圖像顯示裝置，可例舉：於可拼貼而使用之小型顯示器(例如，LED面板等)上具備上述附反射防止膜之透明基體之形態、或將其拼貼而獲得之大型顯示器、較佳為大型μ-LED顯示器之形態。又，可例舉於液晶顯示器、有機EL顯示器、電子紙顯示器等各種顯示器上設有上述附反射防止膜之透明基體之形態。 實施例
以下，例舉實施例對本發明具體地進行說明，但本發明並不限定於此。例1及例2為比較例，例3及例4為實施例。
(評價) 對各例之附反射防止膜之透明基體進行以下之評價。 (各角度之擴散反射光之a ＊b ＊L ＊) 於附反射防止膜之透明基體之不具有擴散層及反射防止膜之主面(另一主面)貼附黑色膠帶(巴川製紙所公司製造，Clear Meyer)。藉此，在消除另一主面之反射的同時，使光源以45°之入射角入射至具有擴散層及反射防止膜之主面(一主面)。針對相對於該正反射光之角度為15°、25°及45°之各擴散反射光，測定可見光波長之反射率，算出D65光源下之a ＊、b ＊及L ＊(擴散反射色)。再者，測定係使用柯尼卡美能達公司製造之CM-M6來進行。
(霧度) 製作之附反射防止膜之透明基體之霧值(透過霧度)係藉由JIS K 7136：2000使用測霧計(須賀試驗機公司製造之HZ-V3)進行測定。
(視感透過率：Y) 關於製作之附反射防止膜之透明基體，反射防止膜之最表面之視感透過率(Y)係藉由JIS Z 8701(1999年)所規定之方法進行測定。再者，於本說明書中，將反射防止膜之最表面之視感透過率(Y)設為附反射防止膜之透明基體之視感透過率(Y)。具體而言，在藉由將黑色膠帶貼於透明基體之兩個主面中之非反射防止膜側之主面之另一主面而消除背面反射的狀態下，利用分光光度計(島津製作所公司製造，商品名：SolidSpec-3700)測定分光透過率，藉由計算而求出視感透過率(JIS Z 8701(1999年)中所規定之刺激值Y)。
(附反射防止膜之透明基體之D65光源下之透過色(b ＊值)) 根據測定上述分光透過率而獲得之透過光譜，求出JIS Z 8729(2004年)中所規定之色指標(b ＊值)。光源使用D65光源。
(色偏差評價) 針對各例，準備16片以相同之條件製作之附反射防止膜之透明基體而進行試驗。例如，於例1之情形時，準備16片以例1之條件及由例1條件稍微改變各層之膜厚而製作之附反射防止膜之透明基體，將黑色膠帶(巴川製紙所公司製造，Clear Meyer)貼於不具有擴散層及反射防止膜之主面(另一主面)後，將其以縱4個×橫4個且無間隙地排列而配置(拼貼)。針對拼貼後之附反射防止膜之透明基體，利用下述基準以目視來評價色偏差。對於其他例亦同樣地進行試驗。將評價結果示於表1中。 良：使白色LED照明映入至附反射防止膜之透明基體之具有擴散層及反射防止膜之側之主面(一主面)，將照明相對於附反射防止膜之透明基體之位置設為0°之情形時，針對0°～45°之範圍，從各個角度進行觀察時，映入至附反射防止膜之透明基體之白色照明僅可看見無彩色(achromatic color)至綠色，為各基體之色差不明顯之結果。又，於前視下附反射防止膜之透明基體之黑色感較強，獲得作為顯示器之表面材非常良好之品位。 可：使白色LED照明映入至附反射防止膜之透明基體之具有擴散層及反射防止膜之側之主面(一主面)，將照明相對於附反射防止膜之透明基體之位置設為0°之情形時，針對0°～45°之範圍，從各個角度進行觀察時，映入至附反射防止膜之透明基體之白色照明僅可看見無彩色至綠色，為各基體之色差不明顯之結果。又，雖然於前視下附反射防止膜之透明基體之黑色感稍弱，可看見帶白綠色，但可獲得作為顯示器之表面材良好之品位。 不可：使白色LED照明映入至附反射防止膜之透明基體之具有擴散層及反射防止膜之側之主面(一主面)，將照明相對於附反射防止膜之透明基體之位置設為0°之情形時，針對0°～45°之範圍，從各個角度進行觀察時，映入至附反射防止膜之透明基體之白色照明可看見無彩色、紅色、藍色、綠色等各種顏色，為各基體之色差明顯之結果。
(例1) 藉由以下之方法，於透明基體之一主面上依序形成擴散層與反射防止膜，而製作附反射防止膜之透明基體。再者，作為透明基體，如下所述設為於玻璃基體上具備樹脂基體之形態。
(擴散層之形成) 於縱50 mm×橫50 mm×厚1.1 mm之化學強化玻璃基板(Dragontrail：註冊商標，AGC股份有限公司製造)之一主面上，利用丙烯酸黏著劑(透明黏著劑)貼合作為積層體(樹脂膜＋防眩層)之防眩PET膜(麗光股份有限公司製造，Sa：0.259 μm，Sdr：0.0620，Sdq：0.361，Spc：1703(1/mm)，霧值：60%)，藉此於透明基體上設置擴散層。再者，此處之Sa、Sdr、Sdq及Spc係於擴散層之上未形成反射防止膜之狀態下所測得之值，但形成反射防止膜後之附反射防止膜之透明基體之Sa、Sdr、Sdq及Spc與上述值相比變化較小，可認為處於上述較佳之範圍內。
(障壁層之成膜) 繼而，於擴散層上形成表1所示之膜厚之SiN層作為障壁層。例如，於例1中，障壁層之膜厚為15 nm。 障壁層係藉由快速地反覆進行如下步驟而成膜氮化矽膜，從而成膜指定之膜厚之包含氮化矽(SiN x)之層：利用數位濺鍍法，使用矽靶，一面利用氬氣將壓力保持在0.2 Pa，一面以頻率100 kHz、功率密度10.0 W/cm 2、反轉脈衝寬度3 μsec之條件進行脈衝濺鍍，成膜微小膜厚之矽膜，之後立即利用氮氣進行氮化。此處，利用氮氣進行氮化時之氮流量為800 sccm，氮化源之接通電力為600 W。
(反射防止膜之成膜) 繼而，藉由在障壁層上交替地成膜NMWO層(高折射率層)與SiO層(低折射率層)，而形成具有表1所示之膜構成之反射防止膜。再者，NMWO層係指Nb、Mo及W之混合氧化物層。例如，表1中之例1之反射防止膜之膜構成係指藉由在障壁層上成膜4 nm之NMWO層，繼而成膜33 nm之SiO層，繼而成膜110 nm之NMWO層，繼而成膜81 nm之SiO層，而成膜包含4層之膜構成之反射防止膜。SiO層及NMWO層之成膜方法分別如下所述。
(NMWO層之成膜) 藉由快速地反覆進行如下步驟而成膜氧化膜，從而成膜指定之膜厚之NMWO層：利用數位濺鍍法，使用將鈮、鉬及鎢以重量比計按45：30：25之比率加以混合後燒結而成之靶，一面利用氬氣將壓力保持在0.2 Pa，一面以頻率100 kHz、功率密度10.0 W/cm 2、反轉脈衝寬度3 μsec之條件進行脈衝濺鍍，成膜微小膜厚之金屬膜，之後立即利用氧氣進行氧化。再者，針對利用該方法成膜之NMWO層，藉由使用氬離子濺鍍之X射線光電子光譜法(XPS)深度方向組成分析對組成進行測定，結果除了氧以外，Nb為51.9 at%，Mo為33.5 at%，W為14.6 at%，B群元素含有率為45重量%。
(SiO層之成膜) 藉由快速地反覆進行如下步驟而成膜矽氧化膜，從而成膜指定之膜厚之包含氧化矽[silica(SiO x)]之層：利用數位濺鍍法，使用矽靶，一面利用氬氣將壓力保持在0.2 Pa，一面以頻率100 kHz、功率密度10.0 W/cm 2、反轉脈衝寬度3 μsec之條件進行脈衝濺鍍，成膜微小膜厚之矽膜，之後立即利用氧氣進行氧化。此處，利用氧氣進行氧化時之氧流量為500 sccm，氧化源之接通電力為1000 W。
(防污膜之成膜) 將作為含氟有機矽化合物之KY-185(商品名，信越化學工業股份有限公司製造)投入至金屬製坩堝(蒸發源)中，以230～350℃進行加熱蒸發。使蒸發所得之粒子向設有基板之真空狀態之腔室蒸發擴散而附著於基板表面。藉由利用石英晶體振子進行控制，而一面進行蒸鍍速率之監控，一面形成厚度為4 nm之防污膜。
(例2) 除了如表1所示般變更反射防止膜之膜構成，成膜包含6層之膜構成之反射防止膜之方面以外，以與例1相同之方式獲得附反射防止膜之透明基體。
(例3) 除了如表1所示般變更反射防止膜、障壁層之膜構成，且如下所述般變更NMWO層之成膜方法，而成膜包含6層之膜構成之反射防止膜之方面以外，以與例1相同之方式獲得附反射防止膜之透明基體。
(NMWO層之成膜) 藉由快速地反覆進行如下步驟而成膜氧化膜，從而成膜指定之膜厚之NMWO層：利用數位濺鍍法，使用將鈮、鉬及鎢以重量比計按24：30：46之比率加以混合後燒結而成之靶，一面利用氬氣將壓力保持在0.2 Pa，一面以頻率100 kHz、功率密度10.0 W/cm 2、反轉脈衝寬度3 μsec之條件進行脈衝濺鍍，成膜微小膜厚之金屬膜，之後立即利用氧氣進行氧化。再者，針對利用該方法成膜之NMWO層，藉由使用氬離子濺鍍之X射線光電子光譜法(XPS)深度方向組成分析對組成進行測定，結果除了氧以外，Nb為31.5 at%，Mo為38.1 at%，W為30.5 at%，B群元素含有率為24重量%。
(例4) 除了如表1所示般變更反射防止膜之膜構成，且將高折射率層設為TiO層，而成膜包含6層之膜構成之反射防止膜之方面以外，以與例1相同之方式獲得附反射防止膜之透明基體。TiO層之成膜方法如下所述。
(TiO層之成膜) 藉由快速地反覆進行如下步驟而成膜氧化膜，從而成膜指定之膜厚之包含氧化鈦[titania(TiO x)]之層：利用數位濺鍍法，使用鈦靶，一面利用氬氣將壓力保持在0.2 Pa，一面以頻率100 kHz、功率密度10.0 W/cm 2、反轉脈衝寬度3 μsec之條件進行脈衝濺鍍，成膜微小膜厚之金屬膜，之後立即利用氧氣進行氧化。此處，利用氧氣進行氧化時之氧流量為1000 sccm，氧化源之接通電力為1000 W。
將針對各例中獲得之附反射防止膜之透明基體進行上述評價所得之結果示於表1中。又，將針對各擴散反射光所測得之a ＊及b ＊示於圖3中。圖3中，(a)～(d)係分別表示例1～例4之各角度之擴散反射光之a ＊及b ＊之圖。各圖中，若曲線位於虛線所示之區域內，則表示a ＊及b ＊滿足式(1)～(3)之全部。
[表1]
表1
   例1 例2 例3 例4
反射防止膜-層數 4 6 6 6
視感透過率Y(D65)(%) 75 75 75 94
D65光源下之透過色之b* 1.1 1.8 0.1 0
透過霧度(%) 60 60 60 60
高折射率層 NMWO NMWO NMWO TiO
擴散反射色 綠色、藍色、紅色 綠色、藍色 綠色 綠色
防污膜 KY-185(nm) 4 4 4 4
反射防止膜 6 低折射率層(nm) - 80 87 102
5 高折射率層(nm) - 39 46 28
4 低折射率層(nm) 81 5 15 28
3 高折射率層(nm) 110 60 44 33
2 低折射率層(nm) 33 29 40 38
1 高折射率層(nm) 4 5 5 2
障壁層    SiN(nm) 15 15 9 15
基材 防眩PET膜/透明黏著劑/玻璃 防眩PET膜/透明黏著劑/玻璃 防眩PET膜/透明黏著劑/玻璃 防眩PET膜/透明黏著劑/玻璃
擴散反射色(D65) 相對於正反射光之角度 L* a* b* L* a* b* L* a* b* L* a* b*
15° 23.3 -2.5 2.5 25.0 -3.5 1.8 26.6 -6.3 0.7 29.5 -7.0 4.8
25° 10.0 -2.5 0.4 11.5 -3.7 -0.7 13.3 -6.4 0.4 14.8 -6.9 4.3
45° 2.2 -0.6 -1.0 2.6 -1.0 -2.5 2.9 -1.7 -0.5 3.9 -2.8 1.0
色偏差評價 不可 不可 良 可
根據表1之結果，於作為實施例之例3、例4中，確認到藉由針對各擴散反射光所測得之a ＊及b ＊滿足式(1)～(3)之全部，能夠抑制拼貼時之色偏差。
如以上所說明，本說明書中揭示了如下事項。 1.一種附反射防止膜之透明基體，其包含具有兩個主面之透明基體、及於該透明基體之一主面上從上述透明基體側起依序具有擴散層與反射防止膜，且 消除上述透明基體之另一主面之反射並使光源以45°之入射角入射至上述一主面側時，相對於正反射光為15°、25°及45°之各角度之擴散反射光之D65光源下之a ＊及b ＊滿足下述式(1)～(3)。 (1)-8≦a ＊≦1 (2)-2≦b ＊≦6 (3)b ＊≦-1×a ＊-1 2.如上述1所記載之附反射防止膜之透明基體，其霧值為30%以上。 3.如上述1或2所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述15°之擴散反射光之L ＊為15～35，且上述25°之擴散反射光之L ＊為5～20。 4.如上述1至3中任一項所記載之附反射防止膜之透明基體，其視感透過率(Y)為20～90%。 5.如上述1至4中任一項所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述反射防止膜之薄片電阻為10 4Ω/□以上。 6.如上述1至5中任一項所記載之附反射防止膜之透明基體，其中D65光源下之透過色之b ＊為5以下。 7.如上述1至6中任一項所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述反射防止膜係將折射率互不相同之介電層積層至少2層而成之積層構造，上述介電層中之至少1層主要包含Si之氧化物，上述積層構造之層中之另外至少1層主要包含選自由Mo及W所組成之A群之至少1種氧化物、與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群之至少1種氧化物的混合氧化物，該混合氧化物所含之B群之元素相對於該混合氧化物所含之A群之元素與該混合氧化物所含之B群之元素之合計的含有率為65質量%以下。 8.如上述1至7中任一項所記載之附反射防止膜之透明基體，其於上述反射防止膜上進而具有防污膜。 9.如上述1至8中任一項所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體包含玻璃。 10.如上述1至9中任一項所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體包含選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、丙烯酸、矽酮及三乙醯纖維素之至少1種樹脂。 11.如上述1至10中任一項所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體係玻璃與選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、丙烯酸、矽酮及三乙醯纖維素之至少1種樹脂之積層體。 12.如上述9或11所記載之附反射防止膜之透明基體，其中上述玻璃進行了化學強化。 13.一種圖像顯示裝置，其具備如上述1至12中任一項所記載之附反射防止膜之透明基體。
對本發明詳細地且參照特定之實施形態進行了說明，但本領域技術人員應明白能夠不脫離本發明之精神及範圍而施加各種變更或修正。本申請案係基於2022年4月8日提出申請之日本專利申請案(特願2022-064751)者，其內容以參照之形式被引入至本文中。
1:附反射防止膜之透明基體 10:透明基體 11:一主面 12:另一主面 20:黑色膠帶 30:反射防止膜 31:擴散層 32:第1介電層 34:第2介電層 50:光源 60:入射光 61:正反射光 72,73,74:擴散反射光
圖1係模式性地表示本發明之一形態之附反射防止膜之透明基體之一構成例的剖視圖。 圖2係例示各角度之擴散反射光之a ＊及b ＊之測定方法之模式圖。 圖3(a)～(d)係表示各例中之各角度之擴散反射光之a ＊及b ＊之測定結果之圖。
1:附反射防止膜之透明基體
10:透明基體
30:反射防止膜
31:擴散層
32:第1介電層
34:第2介電層

Claims (13)

  1. 一種附反射防止膜之透明基體，其包含具有兩個主面之透明基體、及於該透明基體之一主面上從上述透明基體側起依序具有擴散層與反射防止膜，且 消除上述透明基體之另一主面之反射並使光源以45°之入射角入射至上述一主面側時，相對於正反射光為15°、25°及45°之各角度之擴散反射光之D65光源下之a ＊及b ＊滿足下述式(1)～(3)； (1)-8≦a ＊≦1 (2)-2≦b ＊≦6 (3)b ＊≦-1×a ＊-1。
  2. 如請求項1之附反射防止膜之透明基體，其霧值為30%以上。
  3. 如請求項1或2之附反射防止膜之透明基體，其中上述15°之擴散反射光之L ＊為15～35且上述25°之擴散反射光之L ＊為5～20。
  4. 如請求項1或2之附反射防止膜之透明基體，其視感透過率(Y)為20～90%。
  5. 如請求項1或2之附反射防止膜之透明基體，其中上述反射防止膜之薄片電阻為10 4Ω/□以上。
  6. 如請求項1或2之附反射防止膜之透明基體，其中D65光源下之透過色之b ＊為5以下。
  7. 如請求項1或2之附反射防止膜之透明基體，其中上述反射防止膜係使折射率互不相同之介電層積層至少2層而成之積層構造，上述介電層中之至少1層主要包含Si之氧化物，上述積層構造之層中之另外至少1層主要包含選自由Mo及W所組成之A群之至少1種氧化物、與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群之至少1種氧化物的混合氧化物，該混合氧化物所含之B群之元素相對於該混合氧化物所含之A群之元素與該混合氧化物所含之B群之元素之合計的含有率為65質量%以下。
  8. 如請求項1或2之附反射防止膜之透明基體，其於上述反射防止膜上進而具有防污膜。
  9. 如請求項1或2之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體包含玻璃。
  10. 如請求項1或2之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體包含選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、丙烯酸、矽酮及三乙醯纖維素之至少1種樹脂。
  11. 如請求項1或2之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體係玻璃與選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、丙烯酸、矽酮及三乙醯纖維素之至少1種樹脂之積層體。
  12. 如請求項11之附反射防止膜之透明基體，其中上述玻璃進行了化學強化。
  13. 一種圖像顯示裝置，其具備如請求項1或2之附反射防止膜之透明基體。
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