TW202345963A - 流體輸送模組 - Google Patents

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沃格特曼 邁克爾
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美商艾克爾系統公司
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Abstract

控制流體流動的裝置是半導體製造的輸送處理流體的重要構件。這些控制流體流動的裝置形成有多種流體流動構件，包括混合流體流的流體流動構件。混合流動的流體流動構件利用混合元件，其經配置而經由流體入口承接二個以上處理流體流，在混合元件內混合流體流，以及輸送混合的流體至下游的流體流動構件或是控制流體流動的裝置的出口。

Description

流體輸送模組
［相關申請案對照參考］ 本申請主張2022年1月28日所申請的美國臨時申請案63/304,171號以及2022年12月29日所申請的美國非臨時申請案18/147,965號的優惠，其全文內容茲以提述方式納入。
流動控制已為半導體晶片製造中的關鍵技術之一。控制流體流動的裝置對於輸送半導體製造及其他工業處理的處理流體的流動是重要的。這類裝置用於測量及準確控制各種應用的流體之流動。此種控制依賴設計用於增加包裝密度及改進功能性能的裝置。
隨著晶片製造技術的改進，控制流動的裝置的構件尺寸減小且包裝要求變得更加嚴格。功能性能的改善及空間需求的減少驅使了各種流動控制裝置的改善。為了改善流動控制裝置的功能性能，需要有改進的方法及設備。
本發明針對一種流體輸送模組，包含控制流動的裝置。該控制流動的裝置包括流動構件，其包括混合元件以混合二種以上的流體以及輸送所得的流體混合物至處理室。控制流動的裝置可結合大量的流體流動構件以執行混合以外的廣泛的控制功能。在需要混合的情況，希望實現盡可能完全的混合，以確保如此輸送的流體混合物是均勻的並且以可預測的方式表現。這類裝置可用於廣泛的處理中，諸如半導體晶片製造、太陽能面板製造等。
在一個實施方式中，本發明為一種處理製品的系統。該系統具有經配置而供應第一處理流體的第一流體供應、經配置而供應第二處理流體的第二流體供應、經配置而處理製品的處理室、以及流體輸送模組。該流體輸送模組具有流體耦接於該第一流體供應的第一入口、流體耦接於該第二流體供應的第二入口、流體耦接於該處理室的出口、自該第一入口及該第二入口延伸至該出口的流動通道、以及第一流動構件。該第一流動構件具有構件體、第一埠、第二埠、及第三埠。該第一埠、該第二埠、及該第三埠的各個形成於該構件體中，第一流動路徑自該第一埠延伸至接合部，第二流動路徑自該第二埠延伸至該接合部，以及第三流動路徑自該接合部延伸至該第三埠。該第一流動路徑、該第二流動路徑、及該第三流動路徑各形成一部分的該流動通道。該第一流動構件更具有混合元件，該混合元件位在該第一流動構件的該接合部。該混合元件具有第一流體入口、第二流體入口、及流體出口，該第一流體入口流體耦接於該第一埠，該第二流體入口流體耦接於該第二埠，以及該流體出口流體耦接於該第三埠。
在另一實施方式中，本發明為一種流體流動構件。該流體流動構件具有構件體、第一埠、第二埠、及第三埠。該第一埠、該第二埠、及該第三埠的各個形成於該構件體中。第一流動路徑自該第一埠延伸至接合部。第二流動路徑自該第二埠延伸至該接合部。第三流動路徑自該接合部延伸至該第三埠。混合元件位在該接合部。該混合元件具有流體耦接於該第一埠的第一流體入口、流體耦接於該第二埠的第二流體入口、以及流體耦接於該第三埠的流體出口。
在又另一實施方式中，本發明為一種混合元件。該混合元件具有沿該混合元件的縱軸線自開放端延伸至封閉端的管狀體。該管狀體包含外表面及內表面。該混合元件更包括自該外表面通過該管狀體至該內表面而形成的第一流體入口、以及自該外表面通過該管狀體至該內表面而形成的第二流體入口。流體出口藉由該管狀體的該開放端而形成。
在另一實施方式中，本發明為一種混合處理流體的方法。第一流體供應經配置而供應第一處理流體以及第二流體供應經配置而供應第二處理流體。該第一處理流體及該第二處理流體被流動至該第一流動構件的混合元件。該第一處理流體及該第二處理流體被流動通過該混合元件的管狀體中形成的第一流體入口及第二流體入口。該第一流體入口及該第二流體入口沿垂直於該混合元件的縱軸線的第一入口軸線及第二入口軸線延伸。該第一處理流體及該第二處理流體在該混合元件的該管狀體內混合而形成流體混合物。該流體混合物被流動通過該管狀體的開放端，該開放端形成該混合元件的出口。
本技術的進一步可應用領域從下文提供的詳細說明將變得清楚明瞭。當知詳細說明及具體範例，雖表明較佳實施方式，但僅旨在說明之目的而非限制本技術的範圍。
根據本發明原理的說明性實施例的說明旨在結合伴隨的圖式來閱讀，這些圖式被認為是整個書面說明的一部分。在本文所揭露的本發明的實施例的說明中，對於方向或指向的參考僅旨在方便說明且並非旨在以任何方式限制本發明的範圍。相對性用詞諸如「下部」、「上部」、「水平」、「垂直」、「之上」、「之下」、「上」、「下」、「左」、「右」、「頂」及「底」以及彼等之派生詞（例，「水平地」、「向下地」、「向上地」等）應被解釋為是指所要說明或在所討論的圖式中所示的指向。這些相對性用詞僅為了方便說明而並不要求裝置以特定指向建構或操作，除非明確指出。諸如「附接」、「貼附」、「連接」、「耦接」、「互連」等用詞是指一種關係，其中結構直接或間接地經由中間結構而彼此緊固或附接，以及皆為可移動或剛性附接或關係，除非另有明確說明。此外，本發明的特徵及益處藉由參閱較佳實施例而描述。因此，本發明不應特意被限制於描述可單獨存在或以其他特徵組合存在的特徵的某些可能的非限制的組合的這些較佳實施例；本發明的範圍由隨附的申請專利範圍所定義。
本發明針對用於流體輸送模組及系統的混合元件及相關的流動構件。半導體製造是一種需要高性能的流體流控制的工業。隨著半導體製造技術的進步，客戶認識到需要具改善的功能性能的流量控制裝置。從而，流體的混合必須對於廣泛的流動有效率地執行且所得的流體混合物有高度均勻。本發明能夠在半導體及類似處理中實現優秀的流體混合。
圖1顯示範例處理系統1000的示意圖。處理系統1000可利用流體耦接於處理室1300的複數個控制流動的裝置100。複數個控制流動的裝置100用於供應一個以上不同的處理流體至處理室1300。流體是由複數個流體供應所供應。如所能見，二個以上的流體供應1010能夠連接於單一控制流動的裝置100。總體而言，複數個控制流動的裝置100屬於流體輸送模組1400。可選地，在處理系統1000中可利用不只一個流體輸送模組1400。複數個控制流動的裝置100藉由出口歧管400連接至處理室1300。諸如半體體及積體電路之類的製品可在處理室1300內處理。
閥1100將各個控制流動的裝置100與處理室1300隔離，使得各個控制流動的裝置100能夠選擇性地與處理室1300連接或隔離，有利於各式各樣的不同處理步驟。處理室1300可含有施用器，以施加由複數個控制流動的裝置100所輸送的處理流體，使得由複數個控制流動的裝置100所供應的流體能夠選擇性或擴散分布。可選地，處理室1300可為真空室或可為槽或缸，以用於將製品浸入由複數個控制流動的裝置100所供應的流體中。流體供應線藉由自各個各自的流體供應至處理室1300的流路所形成。
此外，處理系統1000可進一步包含真空源或排出器1200，其藉由閥1100而與處理室1300隔離，以能夠排出處理流體或是有利於清洗一個以上的控制流動的裝置100。這使得在相同的控制流動的裝置100中能夠進行處理流體之間的切換、維護或其他任務。可選地，排出器1200可為液體排出器，經配置以自處理室1300移除液體。或者，排出器1200可為用於移除氣體的真空源。可選地，控制流動的裝置100可為質流控制器、分流器、合流器、或是控制處理系統中的處理流體的流動的任何其他裝置。再者，如果需要，閥1100可整合入控制流動的裝置100。處理室1300可容納用於處理的半導體晶圓及其他製品。
在處理系統1000中可執行的處理可包括：濕洗、微影、離子植入、乾蝕刻、原子層蝕刻、濕蝕刻、電漿灰化、快速熱退火、爐退火、熱氧化、化學氣相沉積、原子層沉積、物理氣相沉積、分子束磊晶、雷射剝離、電化學沉積、化學機械研磨、晶圓測試、電鍍、或利用氣體或液體的任何其他處理。
圖2顯示包含有複數個控制流動的裝置100的範例流體輸送模組1400的示意圖。流體輸送模組1400包含支撐結構1402。支撐結構1402可被稱為基底基板或基底板且一般為平板或片，其上裝設有一個以上的控制流動的裝置100。在本例中，複數個控制流動的裝置100裝設於支撐結構。各個控制流動的裝置100在設計上為模組化，且包含大量單獨的流體流動構件110、120，彼等各直接地或間接地附接於支撐結構1402。支撐結構1402具有頂面1403，其上裝設有控制流動的裝置100。
流體流動構件110、120包括主動流動構件120及被動流動構件110。被動流動構件110並不改變流體的流動，而是僅將一個主動構件連接至另一個或是將主動構件連接至入口或出口。主動流動構件120可改變流體的流動，監測流體的態樣，或是以其他方式執行超出單純流體運輸的功能。主動流動構件120可包括溫度感測器、壓力傳感器、質流控制器、閥等。然而其他構件可皆為主動及被動，取決於彼等在控制流動的裝置100中的目前用途。舉例而言，溫度感測器可用作被動流體流動構件，將流體自一個主動流動構件120運輸至另一個，以及可實際上不被利用來測量溫度感測器。如所能見，能夠設想出流體流動構件110、120的大量變化，且這些流體流動構件110、120能夠用於裝配廣泛的控制流體的裝置100。
流體輸送模組1400包含複數個入口102，彼等自上面討論的流體供應1010承接流體。流體輸送模組亦具有至少一個出口104，其輸送流體至處理室1300。各控制流動的裝置100可具有一個入口102及一個出口104或可具有複數個入口102或複數個出口104。從而，流體可流動通過複數個入口102並經由單一出口104而輸送或是可流動通過單一入口102並經由複數個出口104而輸送。相同的流體可輸送至複數個入口102或是不同的流體可輸送至各入口102。相同的入口102或出口104可由複數個控制流動的裝置100所共用或者各控制流動的裝置100可具有一個以上的專用入口102及出口104。
轉至圖3至圖5，繪示有流體流動構件130。在本實施例中，流體流動構件130為流體混合器，用來混合二個以上的流體並輸出流體混合物。如所示，流體流動構件130為被動構件，但在其他配置中可配置為能夠主動改變流體流動的主動構件。構件130具有構件體132，構件體132具有頂面133、底面134、前側面135、後側面136、左側面137、及右側面138。如所能見，後側面136不是平面的，而是包含自後側面136的相鄰部分延伸的突起。
構件體132的頂面133包含第一埠141、第二埠142、及第三埠143。第一埠141及第二埠142經配置而承接流體，而第三埠143經配置而輸出流體。然而，在一些實施例中，第一埠141、第二埠142、及第三埠143中的不同者可用作入口及出口。此外，設想可有不只三個埠，以有利於組合不只二個流體或是分離一個以上的流體。第一埠141、第二埠142、及第三埠143的各個包含密封腔，其經配置而承接密封，以有利於與其他構件的連接。構件體132更包含複數個緊固件通路145，有利於構件體132對於支撐結構1402的附接。此外，緊固件通路145能夠有利於其他流動構件110、120對於構件體132的附接。緊固件通路145可為通孔、螺孔、或可以以任何允許附接的方式形成。
構件體132的底面134經配置而在流體流動構件130裝設於支撐結構1402時與支撐結構1402的頂面1403物理接觸。然而，在其他實施例中，若流體流動構件130附接於另一流體流動構件110、120，頂面1403可面向頂面133，此流體流動構件110、120為直接耦接於支撐結構1402。
前側面135及左側面137總體包含複數個組件埠147。各個組件埠147包含保持構件148，其對組件埠147提供流密密封以及保持組件埠147中安裝的任何構件。舉例而言，圖4繪示自構件體132移除的保持構件的爆炸圖。亦顯示有混合元件200，其由保持構件148所保持。
圖5繪示處於裝配狀態中的流體流動構件130的剖面。流體流動構件130具有自第一埠141、第二埠142、及第三埠143延伸至接合部155的第一流動路徑151、第二流動路徑152、及第三流動路徑153。混合元件200位在接合部155。從而，流體能夠自第一埠141流動通過第一流動路徑151至接合部155。流體也能夠自第二埠142流動通過第二流動路徑152至接合部155。流體能夠自接合部155流動通過第三流動路徑153至第三埠143。第一流動路徑151、第二流動路徑152、及第三流動路徑153在接合部155交會形成T形。
更具體而言，第一流動路徑151具有第一導管156，第一導管156緊鄰接合部155。第二流動路徑152具有第二導管157，第二導管157緊鄰接合部155。第三流動路徑153具有第三導管158，第三導管158緊鄰接合部155。第一流動路徑151及第二流動路徑152的第一導管156及第二導管157共線，而第三流動路徑153的第三導管158垂直於第一流動路徑151及第二流動路徑152的第一導管156及第二導管157。從而，流體沿第一流動路徑151及第二流動路徑152流動且在接合部155交會。流體接著自接合部155經由第三流動路徑153的第三導管158，與第一流動路徑151及第二流動路徑152的第一導管156及第二導管157二者成直角前進。
止回閥157位於第一流動路徑151及第二流動路徑152中以防止供應至第一埠141及第二埠142的流體的回流。然而，止回閥157可省略或者可使用不同構件代替止回閥157，取決於流體流動構件130的具體應用。止回閥157的各個經由組件埠147而安裝且由保持構件148保持。保持構件148可帶螺紋以及組件埠147可具有對應的螺紋以允許止回閥157及混合元件200的保持。或者，視需要可利用其他已知的保持手段。
位在構件體132的左側面137上的組件埠147不具有插入其中的構件，而是包括密封159以防止洩漏。密封159除了密封組件埠147之外沒有用作其他用途。然而，利用一個以上的組件埠147以實現額外的流體連接是可能的。如所能見，混合元件200、止回閥157、及密封159的各個接合組件埠147內的環形肋149。此環形肋149確保密封實現且對於混合元件200、止回閥157、及密封159提供軸向約束。從而，環形肋149及對應的環形溝槽150確保構件將適當保持在組件埠147內且將密封以防止流體洩漏。
轉至圖6至圖9，更詳細繪示有混合元件200。混合元件200具有凸緣202及管狀體204。管狀體204沿縱軸線A-A自封閉端206延伸至開放端208。管狀體204更包含外表面210及內表面212。外表面210及內表面212的各個自封閉端206延伸至開放端208。內表面212沿縱軸線A-A具有固定的直徑。在一些實施例中，內表面212的直徑可變化。管狀體204的外表面210具有靠近封閉端206的第一密封表面214以及靠近開放端208的第二密封表面218。第一密封表面214及第二密封表面218可具有不同直徑或可具有相同直徑。
溝槽表面216在第一密封表面214與第二密封表面218之間延伸。溝槽表面216可具有小於第一密封表面214及第二密封表面218的直徑的直徑。溝槽表面216不需要具有固定直徑，且可具有相對於縱軸線的直徑變化。在一些實施例中，溝槽表面216可具有與第一密封表面214或第二密封表面218之一相同直徑的部分。在又其他實施例中，溝槽表面216可完全省略。
混合元件200包含第一流體入口220、第二流體入口230、及流體出口240。第一流體入口220及第二流體入口230自外表面210通過管狀體204至內表面212而形成。更具體而言，第一流體入口220及第二流體入口230形成於外表面210的溝槽表面216中。流體出口240藉由開放端208而形成。從而，流體流動通過第一流體入口220及第二流體入口230，沿管狀體204的內部，並流出流體出口240。
第一流體入口220及第二流體入口230形成為沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸的槽。槽於平行於縱軸線A-A的方向伸長且於平行於縱軸線A-A的方向的長度大於其垂直於縱軸線A-A的高度。槽形成為具有第一入口表面221及第二入口表面231。第一入口表面221及第二入口表面231具有沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸通過管狀體204的固定輪廓。從而，第一入口表面221及第二入口表面231的輪廓是固定的，因為它們沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸。第一流體入口220及第二流體入口230具有相同的輪廓。在其他實施例中，第一流體入口220及第二流體入口230的輪廓可不相同。反之，第一流體入口220及第二流體入口230可具有不同的輪廓，以針對諸如不同流體的不同流率或其他因素之類的因素而最佳化混合。
第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A相間隔，使得它們不與縱軸線A-A相交。第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C彼此平行且垂直於縱軸線A-A。然而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C位於縱軸線A-A的相反側。從而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A垂直但不相交。在其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C並不互相平行。在又其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可垂直於縱軸線A-A且互相不平行。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A但可彼此平行也是可能的。
第一流體入口220及第二流體入口230如上所述具有第一入口表面221及第二入口表面231。在此實施例中，第一流體入口220及第二流體入口230相同且繞縱軸線A-A旋轉對稱。第一流體入口220及第二流體入口230沿縱軸線A-A延伸小於溝槽表面216的長度的一半，並且具有小於沿縱軸線的寬度的高度。如圖9所最佳能見，第一入口表面221的頂面222與內表面212相接。更具體而言，第一入口表面221的頂面222與內表面212在切點223交會。第一入口表面221的頂面222與內表面212相切，二個表面在切點223交會。換言之，在第一入口表面221的頂面222與內表面212之間沒有不連續，因為頂面222與內表面212相接。
第二入口表面231亦具有頂面232，其與內表面212相切地相接，有對應的切點。第一入口表面221亦具有底面224、開放端表面225、及封閉端表面226。相似地，第二入口表面231具有頂面232、底面234、開放端表面235、及封閉端表面236。混合元件200的凸緣202更包含凸緣溝槽252及凸緣表面254。凸緣溝槽252形成於凸緣表面254，以允許混合元件200與組件埠147的裝配以及提供組件埠147的有效密封。更具體而言，凸緣溝槽252經配置而承接環形肋149於各組件埠147內。
轉至圖10至圖13，茲說明混合元件300的另一實施例。混合元件300相似於混合元件200，除了下面提到的特徵。混合元件300具有凸緣302及管狀體304。管狀體304沿縱軸線A-A自封閉端306延伸至開放端308。管狀體304更包含外表面310及內表面312。外表面310及內表面312的各個自封閉端306延伸至開放端308。內表面312沿縱軸線A-A具有固定的直徑。在一些實施例中，內表面312的直徑可變化。管狀體304的外表面310具有靠近封閉端306的第一密封表面314以及靠近開放端308的第二密封表面318。第一密封表面314及第二密封表面318可具有不同直徑或可具有相同直徑。
溝槽表面316在第一密封表面314與第二密封表面318之間延伸。溝槽表面316可具有小於第一密封表面314及第二密封表面318的直徑的直徑。溝槽表面316不需要具有固定直徑，且可具有相對於縱軸線的直徑變化。在一些實施例中，溝槽表面316可具有與第一密封表面314或第二密封表面318之一相同直徑的部分。在又其他實施例中，溝槽表面316可完全省略。
混合元件300包含第一流體入口320、第二流體入口330、及流體出口340。第一流體入口320及第二流體入口330自外表面310通過管狀體304至內表面312而形成。更具體而言，第一流體入口320及第二流體入口330形成於外表面310的溝槽表面316中。流體出口340藉由開放端308而形成。從而，流體流動通過第一流體入口320及第二流體入口330，沿管狀體304的內部，並流出流體出口340。
第一流體入口320及第二流體入口330形成為沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸的槽。槽於平行於縱軸線A-A的方向伸長且於平行於縱軸線A-A的方向的長度大於其垂直於縱軸線A-A的高度。槽形成為具有第一入口表面321及第二入口表面331。第一入口表面321及第二入口表面331具有沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸通過管狀體304的固定輪廓。從而，第一入口表面321及第二入口表面331的輪廓是固定的，因為它們沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸。第一流體入口320及第二流體入口330具有相同的輪廓。在其他實施例中，第一流體入口320及第二流體入口330的輪廓可不相同。反之，第一流體入口320及第二流體入口330可具有不同的輪廓，以針對諸如不同流體的不同流率或其他因素之類的因素而最佳化混合。
第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A相間隔，使得它們不與縱軸線A-A相交。第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C彼此平行且垂直於縱軸線A-A。然而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C位於縱軸線A-A的相反側。從而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A垂直但不相交。在其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C並不互相平行。在又其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可垂直於縱軸線A-A且互相不平行。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A但可彼此平行也是可能的。
第一流體入口320及第二流體入口330如上所述具有第一入口表面321及第二入口表面331。在此實施例中，第一流體入口320及第二流體入口330相同且繞縱軸線A-A旋轉對稱。第一流體入口320及第二流體入口330沿縱軸線A-A延伸大於溝槽表面316的長度的一半，並且具有小於沿縱軸線的寬度的高度。第一入口表面321的頂面322與內表面312相接。更具體而言，第一入口表面321的頂面322與內表面312在切點323交會。第一入口表面321的頂面322與內表面312相切，二個表面在切點323交會。換言之，在第一入口表面321的頂面222與內表面312之間沒有不連續，因為頂面322與內表面312相接。
第二入口表面331亦具有頂面332，其與內表面312相切地相接，有對應的切點。第一入口表面321亦具有底面324、開放端表面325、及封閉端表面326。相似地，第二入口表面331具有頂面332、底面334、開放端表面335、及封閉端表面336。混合元件300的凸緣302更包含凸緣溝槽352及凸緣表面354。凸緣溝槽352形成於凸緣表面354，以允許混合元件300與組件埠147的裝配以及提供組件埠147的有效密封。更具體而言，凸緣溝槽352經配置而承接環形肋149於各組件埠147內。
轉至圖14至圖17，茲說明混合元件400的另一實施例。混合元件400相似於混合元件200，除了下面提到的特徵。混合元件400具有凸緣402及管狀體404。管狀體404沿縱軸線A-A自封閉端406延伸至開放端408。管狀體404更包含外表面410及內表面412。外表面410及內表面412的各個自封閉端406延伸至開放端408。內表面412沿縱軸線A-A具有固定的直徑。在一些實施例中，內表面412的直徑可變化。管狀體404的外表面410具有靠近封閉端406的第一密封表面414以及靠近開放端408的第二密封表面418。第一密封表面414及第二密封表面418可具有不同直徑或可具有相同直徑。
溝槽表面416在第一密封表面414與第二密封表面418之間延伸。溝槽表面416可具有小於第一密封表面414及第二密封表面418的直徑的直徑。溝槽表面416不需要具有固定直徑，且可具有相對於縱軸線的直徑變化。在一些實施例中，溝槽表面416可具有與第一密封表面414或第二密封表面418之一相同直徑的部分。在又其他實施例中，溝槽表面416可完全省略。
混合元件400包含第一流體入口420、第二流體入口430、及流體出口440。第一流體入口420及第二流體入口430自外表面410通過管狀體404至內表面412而形成。更具體而言，第一流體入口420及第二流體入口430形成於外表面410的溝槽表面416中。流體出口440藉由開放端408而形成。從而，流體流動通過第一流體入口420及第二流體入口430，沿管狀體404的內部，並流出流體出口440。
第一流體入口420及第二流體入口430形成為沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸的槽。槽於平行於縱軸線A-A的方向伸長且於平行於縱軸線A-A的方向的長度大於其垂直於縱軸線A-A的高度。槽形成為具有第一入口表面421及第二入口表面431。第一入口表面421及第二入口表面431具有沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸通過管狀體404的固定輪廓。從而，第一入口表面421及第二入口表面431的輪廓是固定的，因為它們沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸。第一流體入口420及第二流體入口430具有相同的輪廓。在其他實施例中，第一流體入口420及第二流體入口430的輪廓可不相同。反之，第一流體入口420及第二流體入口430可具有不同的輪廓，以針對諸如不同流體的不同流率或其他因素之類的因素而最佳化混合。
第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A相間隔，使得它們不與縱軸線A-A相交。第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C彼此平行且垂直於縱軸線A-A。然而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C位於縱軸線A-A的相反側。從而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A垂直但不相交。在其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C並不互相平行。在又其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可垂直於縱軸線A-A且互相不平行。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A但可彼此平行也是可能的。
第一流體入口420及第二流體入口430如上所述具有第一入口表面421及第二入口表面431。在此實施例中，第一流體入口420及第二流體入口430相同且繞縱軸線A-A旋轉對稱。第一流體入口420及第二流體入口430沿縱軸線A-A延伸溝槽表面416的整個長度，並且具有小於沿縱軸線的寬度的高度。第一入口表面421的頂面422與內表面412相接。更具體而言，第一入口表面421的頂面422與內表面412在切點423交會。第一入口表面421的頂面422與內表面412相切，二個表面在切點423交會。換言之，在第一入口表面421的頂面422與內表面412之間沒有不連續，因為頂面422與內表面412相接。
第二入口表面431亦具有頂面432，其與內表面412相切地相接，有對應的切點。第一入口表面421亦具有底面424、開放端表面425、及封閉端表面426。相似地，第二入口表面431具有頂面432、底面434、開放端表面435、及封閉端表面436。混合元件400的凸緣402更包含凸緣溝槽452及凸緣表面454。凸緣溝槽452形成於凸緣表面454，以允許混合元件400與組件埠147的裝配以及提供組件埠147的有效密封。更具體而言，凸緣溝槽452經配置而承接環形肋149於各組件埠147內。
轉至圖18至圖21，茲說明混合元件500的另一實施例。混合元件500相似於混合元件200，除了下面提到的特徵。混合元件500具有凸緣502及管狀體504。管狀體504沿縱軸線A-A自封閉端506延伸至開放端508。管狀體504更包含外表面510及內表面512。外表面510及內表面512的各個自封閉端506延伸至開放端508。內表面512沿縱軸線A-A具有固定的直徑。在一些實施例中，內表面512的直徑可變化。管狀體504的外表面510具有靠近封閉端506的第一密封表面514以及靠近開放端508的第二密封表面518。第一密封表面514及第二密封表面518可具有不同直徑或可具有相同直徑。
溝槽表面516在第一密封表面514與第二密封表面518之間延伸。溝槽表面516可具有小於第一密封表面514及第二密封表面518的直徑的直徑。溝槽表面516不需要具有固定直徑，且可具有相對於縱軸線的直徑變化。在一些實施例中，溝槽表面516可具有與第一密封表面514或第二密封表面518之一相同直徑的部分。在又其他實施例中，溝槽表面516可完全省略。
混合元件500包含第一流體入口520、第二流體入口530、及流體出口540。第一流體入口520及第二流體入口530自外表面510通過管狀體504至內表面412而形成。更具體而言，第一流體入口520及第二流體入口530形成於外表面510的溝槽表面516中。流體出口540藉由開放端508而形成。從而，流體流動通過第一流體入口520及第二流體入口530，沿管狀體504的內部，並流出流體出口540。
第一流體入口520及第二流體入口530各形成為沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸的成列的孔洞522、532。成列的孔洞522、532於平行於縱軸線A-A的方向佈置成列。第一流體入口520的各個孔洞522具有不同的直徑且於圓周方向彼此偏移，而使各個孔洞522的圓周523與軸線D-D相切，軸線D-D平行於縱軸線A-A。第二流體入口530的各個孔洞532具有不同的直徑且於圓周方向彼此偏移，而使各個孔洞532的圓周533與軸線E-E相切。
孔洞522、532具有自內表面512延伸至管狀體504的外表面510的第一入口表面521及第二入口表面531。第一入口表面521及第二入口表面531具有沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸通過管狀體504的固定輪廓。從而，第一入口表面521及第二入口表面531的輪廓是固定的，因為它們沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸。第一流體入口520及第二流體入口530具有相同的輪廓，包括孔洞522、532的佈置及直徑。在其他實施例中，第一流體入口520及第二流體入口530的輪廓可不相同。反之，第一流體入口520及第二流體入口530可具有不同的輪廓，以針對諸如不同流體的不同流率或其他因素之類的因素而最佳化混合。
第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A相間隔，使得它們不與縱軸線A-A相交。第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C彼此平行且垂直於縱軸線A-A。然而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C位於縱軸線A-A的相反側。從而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A垂直但不相交。在其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C並不互相平行。在又其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可垂直於縱軸線A-A且互相不平行。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A但可彼此平行也是可能的。
第一流體入口520及第二流體入口530如上所述具有第一入口表面521及第二入口表面531。在此實施例中，第一流體入口520及第二流體入口530相同且繞縱軸線A-A旋轉對稱。第一流體入口520及第二流體入口530沿縱軸線A-A延伸溝槽表面516的大部分長度。各個孔洞522的第一入口表面421的一部分與內表面512相接。更具體而言，第一入口表面521的該部分與內表面512在切點523交會。從而，第一入口表面521的該部分與內表面512相切，二個表面在切點523交會。換言之，在第一入口表面521的該部分與內表面512之間沒有不連續，因為該部分與內表面512相接。
第二入口表面531亦具有一部分，其與內表面512相切地相接，有對應的切點。混合元件500的凸緣502更包含凸緣溝槽552及凸緣表面554。凸緣溝槽552形成於凸緣表面554，以允許混合元件500與組件埠147的裝配以及提供組件埠147的有效密封。更具體而言，凸緣溝槽552經配置而承接環形肋149於各組件埠147內。
轉至圖22至圖25，茲說明混合元件600的另一實施例。混合元件600相似於混合元件200，除了下面提到的特徵。混合元件600具有凸緣602及管狀體604。管狀體604沿縱軸線A-A自封閉端606延伸至開放端608。管狀體604更包含外表面610及內表面612。外表面610及內表面612的各個自封閉端606延伸至開放端608。內表面612沿縱軸線A-A具有固定的直徑。在一些實施例中，內表面612的直徑可變化。管狀體604的外表面610具有靠近封閉端606的第一密封表面614以及靠近開放端608的第二密封表面618。第一密封表面614及第二密封表面618可具有不同直徑或可具有相同直徑。
溝槽表面616在第一密封表面614與第二密封表面618之間延伸。溝槽表面616可具有小於第一密封表面614及第二密封表面618的直徑的直徑。溝槽表面616不需要具有固定直徑，且可具有相對於縱軸線的直徑變化。在本實施例中，溝槽表面616包含複數個溝槽617，沿第一密封表面614與第二密封表面618之間的溝槽表面616而佈置。如所能見，溝槽617具有半圓形狀且溝槽617之間的空間具有固定直徑。溝槽617之間的空間與第一密封表面614的直徑相同，但可為任何所需的直徑。
混合元件600包含第一流體入口620、第二流體入口630、及流體出口640。第一流體入口620及第二流體入口630自外表面610通過管狀體604至內表面612而形成。更具體而言，第一流體入口620及第二流體入口630形成為位於溝槽表面616的溝槽617中的複數個孔洞。流體出口640藉由開放端608而形成。從而，流體流動通過第一流體入口620及第二流體入口630，沿管狀體604的內部，並流出流體出口640。
第一流體入口620及第二流體入口630各形成為複數列的孔洞622、632。第一流體入口620的其中一列的孔洞622沿第一入口軸線B-B延伸，而第一流體入口620的其他列的孔洞622沿繞第一入口軸線B-B而旋轉對稱的軸線而延伸。相似地，第二流體入口630的其中一列的孔洞632沿第二入口軸線C-C延伸，而第二流體入口630的其他列的孔洞632沿繞第二入口軸線C-C而旋轉對稱的軸線而延伸。成列的孔洞622、632於平行於縱軸線A-A的方向佈置成列。第一流體入口620及第二流體入口630的各個孔洞622、632具有相等的直徑。在其他實施例中，孔洞622、632可為不同直徑或者該些列可繞縱軸線A-A而不等距地間隔。在又其他實施例中，第一流體入口620的孔洞622可與第二流體入口630的孔洞632不同。
孔洞622、632具有自內表面612延伸至管狀體604的外表面610的第一入口表面621及第二入口表面631。第一入口表面621及第二入口表面631具有自外表面610通過管狀體604至內表面612而延伸的固定輪廓。從而，第一入口表面621及第二入口表面631的輪廓是固定的，因為它們延伸通過管狀體604。第一流體入口620及第二流體入口630具有相同的輪廓，包括孔洞622、632的佈置及直徑。在其他實施例中，第一流體入口620及第二流體入口630的輪廓可不相同。反之，第一流體入口620及第二流體入口630可具有不同的輪廓，以針對諸如不同流體的不同流率或其他因素之類的因素而最佳化混合。在又其他實施例中，孔洞622、632可不佈置在溝槽617中，但可與溝槽617重疊。孔洞622、632沿縱軸線A-A而等距地間隔，但在其他實施例中，它們可不等距地間隔。
第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A相間隔，使得它們不與縱軸線A-A相交。第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C彼此平行且垂直於縱軸線A-A。然而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C位於縱軸線A-A的相反側。從而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A垂直但不相交。在其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C並不互相平行。在又其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可垂直於縱軸線A-A且互相不平行。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A但可彼此平行也是可能的。
第一流體入口620及第二流體入口630如上所述具有第一入口表面621及第二入口表面631。在此實施例中，第一流體入口620及第二流體入口630相同且繞縱軸線A-A旋轉對稱。第一流體入口620及第二流體入口630沿縱軸線A-A延伸跨越溝槽表面616的實質整體長度。混合元件600的凸緣602更包含凸緣溝槽652及凸緣表面654。凸緣溝槽652形成於凸緣表面654，以允許混合元件600與組件埠147的裝配以及提供組件埠147的有效密封。更具體而言，凸緣溝槽652經配置而承接環形肋149於各組件埠147內。
轉至圖26至圖29，茲說明混合元件700的另一實施例。混合元件700相似於混合元件200，除了下面提到的特徵。混合元件700具有凸緣702及管狀體704。管狀體704沿縱軸線A-A自封閉端706延伸至開放端708。管狀體704更包含外表面710及內表面712。外表面710及內表面712的各個自封閉端706延伸至開放端708。內表面712沿縱軸線A-A具有非固定的直徑。換言之，內表面712的直徑是變化的。內表面712具有第一直徑D1及第二直徑D2，第一直徑D1大於第二直徑D2，在其他實施例中，內表面712可具有不只二個的不同直徑，可在至少一部分連續變化，或者可視需要具有其他內部形狀。管狀體704的外表面710具有靠近封閉端706的第一密封表面714以及靠近開放端708的第二密封表面718。第一密封表面714及第二密封表面718可具有不同直徑或可具有相同直徑。
溝槽表面716在第一密封表面714與第二密封表面718之間延伸。溝槽表面716可具有小於第一密封表面714及第二密封表面718的直徑的直徑。溝槽表面716不需要具有固定直徑，且可具有相對於縱軸線的直徑變化。在一些實施例中，溝槽表面716可具有與第一密封表面714或第二密封表面718之一相同直徑的部分。在又其他實施例中，溝槽表面716可完全省略。
混合元件700包含第一流體入口720、第二流體入口730、及流體出口740。第一流體入口720及第二流體入口730自外表面710通過管狀體704至內表面712而形成。更具體而言，第一流體入口720及第二流體入口730形成於外表面710的溝槽表面716。流體出口740藉由開放端708而形成。從而，流體流動通過第一流體入口720及第二流體入口730，沿管狀體704的內部，並流出流體出口740。
第一流體入口720及第二流體入口730各形成為沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸的成列的孔洞722、732。成列的孔洞722、732於平行於縱軸線A-A的方向佈置成列。第一流體入口720的各個孔洞722具有不同的直徑且於圓周方向彼此偏移，而使各個孔洞722的圓周723與軸線D-D相切，軸線D-D平行於縱軸線A-A。第二流體入口730的各個孔洞732具有不同的直徑且於圓周方向彼此偏移，而使各個孔洞732的圓周733與軸線E-E相切。
孔洞722、732具有自內表面712延伸至管狀體704的外表面710的第一入口表面721及第二入口表面731。第一入口表面721及第二入口表面731具有沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸通過管狀體704的固定輪廓。從而，第一入口表面721及第二入口表面731的輪廓是固定的，因為它們沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸。第一流體入口720及第二流體入口730具有相同的輪廓，包括孔洞722、732的佈置及直徑。在其他實施例中，第一流體入口720及第二流體入口730的輪廓可不相同。反之，第一流體入口720及第二流體入口730可具有不同的輪廓，以針對諸如不同流體的不同流率或其他因素之類的因素而最佳化混合。
第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A相間隔，使得它們不與縱軸線A-A相交。第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C彼此平行且垂直於縱軸線A-A。然而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C位於縱軸線A-A的相反側。從而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A垂直但不相交。在其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C並不互相平行。在又其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可垂直於縱軸線A-A且互相不平行。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A但可彼此平行也是可能的。
第一流體入口720及第二流體入口730如上所述具有第一入口表面721及第二入口表面731。在此實施例中，第一流體入口720及第二流體入口730相同且繞縱軸線A-A旋轉對稱。第一流體入口720及第二流體入口730沿縱軸線A-A延伸溝槽表面716的實質整體長度。各個孔洞722的第一入口表面721的一部分與內表面712相接。更具體而言，第一入口表面721的該部分與內表面712在切點723交會。從而，第一入口表面721的該部分與內表面712相切，二個表面在切點723交會。換言之，在第一入口表面721的該部分與內表面712之間沒有不連續，因為該部分與內表面712相接。
第二入口表面731亦具有一部分，其與內表面712相切地相接，有對應的切點。混合元件700的凸緣702更包含凸緣溝槽752及凸緣表面754。凸緣溝槽752形成於凸緣表面754，以允許混合元件700與組件埠147的裝配以及提供組件埠147的有效密封。更具體而言，凸緣溝槽752經配置而承接環形肋149於各組件埠147內。
轉至圖30至圖33，茲說明混合元件800的另一實施例。混合元件800相似於混合元件200，除了下面提到的特徵。混合元件800具有凸緣802及管狀體804。管狀體804沿縱軸線A-A自封閉端806延伸至開放端808。管狀體804更包含外表面810及內表面812。外表面810及內表面812的各個自封閉端806延伸至開放端808。內表面812沿縱軸線A-A具有非固定的直徑。換言之，內表面812的直徑是變化的。內表面812具有複數個溝槽817，各溝槽817具有第一直徑D1。在溝槽817之間，內表面812具有第二直徑D2，第一直徑D1大於第二直徑D2。在其他實施例中，內表面812可具有不只二個的不同直徑，可在至少一部分連續變化，或者可視需要具有其他內部形狀。管狀體804的外表面810具有靠近封閉端806的第一密封表面814以及靠近開放端808的第二密封表面818。第一密封表面814及第二密封表面818可具有不同直徑或可具有相同直徑。
溝槽表面816在第一密封表面814與第二密封表面818之間延伸。溝槽表面816可具有小於第一密封表面814及第二密封表面818的直徑的直徑。溝槽表面816不需要具有固定直徑，且可具有相對於縱軸線的直徑變化。在一些實施例中，溝槽表面816可具有與第一密封表面814或第二密封表面818之一相同直徑的部分。在又其他實施例中，溝槽表面816可完全省略。
混合元件800包含第一流體入口820、第二流體入口830、及流體出口840。第一流體入口820及第二流體入口830自外表面810通過管狀體804至內表面812而形成。更具體而言，第一流體入口820及第二流體入口830形成於外表面810的溝槽表面816。流體出口840藉由開放端808而形成。從而，流體流動通過第一流體入口820及第二流體入口830，沿管狀體804的內部，並流出流體出口840。
第一流體入口820及第二流體入口830各形成為沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸的成列的孔洞822、832。成列的孔洞822、832於平行於縱軸線A-A的方向佈置成列。第一流體入口820的各個孔洞822具有相同的直徑。第二流體入口830的各個孔洞832具有相同的直徑。各個孔洞822、823與內表面812上的溝槽817對齊。在其他實施例中，孔洞822、823可偏移於溝槽817。
孔洞822、832具有自內表面812延伸至管狀體804的外表面810的第一入口表面821及第二入口表面831。第一入口表面821及第二入口表面831具有沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸通過管狀體804的固定輪廓。從而，第一入口表面821及第二入口表面831的輪廓是固定的，因為它們沿第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C延伸。第一流體入口820及第二流體入口830具有相同的輪廓，包括孔洞822、832的佈置及直徑。在其他實施例中，第一流體入口820及第二流體入口830的輪廓可不相同。反之，第一流體入口820及第二流體入口830可具有不同的輪廓，以針對諸如不同流體的不同流率或其他因素之類的因素而最佳化混合。
第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A相間隔，使得它們不與縱軸線A-A相交。第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C彼此平行且垂直於縱軸線A-A。然而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C位於縱軸線A-A的相反側。從而，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C與縱軸線A-A垂直但不相交。在其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C並不互相平行。在又其他實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可垂直於縱軸線A-A且互相不平行。在這些實施例中，第一入口軸線B-B及第二入口軸線C-C可不垂直於縱軸線A-A但可彼此平行也是可能的。
第一流體入口820及第二流體入口830如上所述具有第一入口表面821及第二入口表面831。在此實施例中，第一流體入口820及第二流體入口830相同且繞縱軸線A-A旋轉對稱。第一流體入口820及第二流體入口830沿縱軸線A-A延伸溝槽表面816的實質整體長度。各個孔洞822的第一入口表面821的一部分與內表面812相接。更具體而言，第一入口表面821的該部分與內表面812在切點交會。從而，第一入口表面821的該部分與內表面812相切，二個表面在切點交會。換言之，在第一入口表面821的該部分與內表面812之間沒有不連續，因為該部分與內表面812相接。
第二入口表面831亦具有一部分，其與內表面812相切地相接，有對應的切點。混合元件800的凸緣802更包含凸緣溝槽852及凸緣表面854。凸緣溝槽852形成於凸緣表面854，以允許混合元件800與組件埠147的裝配以及提供組件埠147的有效密封。更具體而言，凸緣溝槽852經配置而承接環形肋149於各組件埠147內。
轉至圖34至圖36，繪示有流體流動構件900的另一實施例。流體流動構件900與上述的流體流動構件130相似。流體流動構件900具有構件體932，構件體932具有頂面933、底面934、前側面935、後側面936、左側面937、及右側面938。如所能見，後側面936不是平面的，而是包含自後側面936的相鄰部分延伸的突起。
構件體932的頂面933包含第一埠941、第二埠942、及第三埠943。第一埠941及第二埠942經配置而承接流體，而第三埠943經配置而輸出流體。然而，在一些實施例中，第一埠941、第二埠942、及第三埠943中的不同者可用作入口及出口。此外，設想可有不只三個埠，以有利於組合不只二個流體或是分離一個以上的流體。第一埠941、第二埠942、及第三埠943的各個包含密封腔，其經配置而承接密封，以有利於與其他構件的連接。構件體932更包含複數個緊固件通路945，有利於構件體932對於支撐結構1402的附接。此外，緊固件通路945能夠有利於其他流動構件110、120對於構件體932的附接。緊固件通路945可為通孔、螺孔、或可以以任何允許附接的方式形成。
構件體932的底面934經配置而在流體流動構件930裝設於支撐結構1402時與支撐結構1402的頂面1403物理接觸。然而，在其他實施例中，若流體流動構件930附接於另一流體流動構件110、120，頂面1403可面向頂面933，此流體流動構件110、120為直接耦接於支撐結構1402。
前側面935及左側面937總體包含複數個組件埠947。各個組件埠947藉由諸如保持構件148的保持構件而緊固。保持構件對組件埠947提供流密密封以及保持組件埠947中安裝的任何構件。圖34繪示混合元件980、流動控制元件990、及偏置元件970。混合元件980藉由保持構件而緊固於組件埠947。混合元件980套入流動控制元件990，以及偏置元件970接合流動控制元件990。
圖35繪示處於裝配狀態中的流體流動構件900的剖面。流體流動構件900具有自第三埠143延伸至接合部955的第三流動路徑953。混合元件980位在接合部955。從而，流體能夠自接合部955流動通過第三流動路徑953至第三埠143。如所示，流動控制元件990處於第一狀態。在第一狀態中，流動控制元件990部分地阻塞混合元件980的流體入口981。這導致低流量條件下的混合改善。偏置元件970將流動控制元件990維持在第一狀態。在第一狀態中，流動控制元件990軸向偏置於混合元件980，流動控制元件990充當滑閥以阻塞混合元件980的流體入口981。混合元件980的開放端982與流動控制元件990的座面992接觸，限制能夠流動通過流體入口981的流體體積。
圖36繪示處於第二狀態中的流體流動構件900的剖面。在第二狀態中，流動控制元件990軸向調移，以使混合元件980的開放端982不再與流動控制元件990的座面992接觸。這壓縮偏置元件970並減少流體入口981的阻塞，允許通過流體入口981的流量增加。此流量增加是藉由增加的流動實現的。藉由輸送至流體流動構件900的高流率所造成的增加的壓降而迫使流動控制元件990進入第二狀態。在流動控制元件990及混合元件980之間的增加的壓降迫使流動控制元件990抵抗偏置元件970並開放流體入口981。
轉至圖37至圖39B，揭示有流體流動構件1500的又另一實施例。流體流動構件1500為主動構件，能夠經由外部控制輸入主動改變流體流動。流體流動構件1500具有構件體1532，構件體1532具有頂面1533、底面1534、前側面1535、後側面1536、左側面1537、及右側面1538。如所能見，後側面1536不是平面的，而是包含自後側面1536的相鄰部分延伸的突起。
構件體1532更包含複數個緊固件通路1545，有利於構件體1532對於支撐結構1402的附接。此外，緊固件通路1545能夠有利於其他流動構件110、120對於構件體1532的附接。緊固件通路1545可為通孔、螺孔、或可以以任何允許附接的方式形成。
構件體1532的底面1534經配置而在流體流動構件1530裝設於支撐結構1402時與支撐結構1402的頂面1403物理接觸。然而，在其他實施例中，若流體流動構件1530附接於另一流體流動構件110、120，頂面1403可面向頂面1533，此流體流動構件110、120為直接耦接於支撐結構1402。
前側面1535及左側面1537總體包含複數個組件埠1547。組件埠1547可藉由保持構件1548而封閉。保持構件1548有助於確保對於組件埠1547的流密密封以及保持組件埠1547中安裝的任何構件。流體流動構件1500也包含混合元件1580、流動控制元件1590、及致動器1570、及轉接器1560。混合元件1580首先被插入組件埠1547，接著流動控制元件1590被插入混合元件1580的第二端1583。由於流動控制元件1590蓋住混合元件1580的第二端1583，所以混合元件1580的第二端1583被封閉。第一端1582為開放且形成混合元件1580的流體出口。在第一端1582與第二端1583之間，通過混合元件1580形成流體入口1581。
流動控制元件1590藉由轉接器1560而緊固於組件埠1547，以及致動器1570耦接於轉接器1560。致動器1570可為螺線管、線性致動器、或回應於控制輸入而移動的其他裝置。此控制輸入可經由氣或液壓、電力、或任何其他已知手段而施加。在一個範例中，致動器1570可為線性致動器，其致動器桿1571經配置而接合流動控制元件1590中的致動器承座1591。流動控制元件1590經配置而由於致動器桿1571施加在致動器承座1591上的力而選擇性地阻塞流體入口1581。
圖38繪示處於裝配狀態中的流體流動構件1500的剖面。圖39A及圖39B顯示處於第一狀態及第二狀態的流體流動構件1500的詳細視圖。在第一狀態中，流動控制元件1590如所示般不阻塞流體入口1581。致動器桿1571耦接於致動器承座1591以允許沿混合元件1580的內表面1584的活塞1593的移動。活塞1593經由隔膜1592而耦接於外環1595。隔膜1592允許活塞1593的線性移動，而外環1595固定於組件埠1547內。
在第一狀態中，活塞1593藉由致動器桿1571而縮回。流體入口1581未阻塞。流體入口1581允許流體流動及混合發生，如上所述。當流體流動要求降低時，能夠藉由將流體入口1581部分阻塞而實現改善的混合。從而，在第二狀態中，當活塞1593在混合元件1580的內表面1584軸向調移時，其阻塞流體入口1581。
揭示一種混合處理流體的方法，在混合方法中，第一流體經配置而供應第一處理流體。第二流體供應經配置而供應第二處理流體。使第一處理流體通過流動通道流動至位在第一流動構件的接合部的混合元件。使第二處理流體也通過流動通道流動至第一流動構件的混合元件。使第一處理流體及第二處理流體流動通過混合元件的管狀體中形成的第一流體入口及第二流體入口。第一處理流體及第二處理流體流動通過垂直於混合元件的縱軸線的第一流體入口軸線及第二流體入口軸線。第一處理流體及第二處理流體在通過管狀體時混合，以形成流體混合物。接著使流體混合物流動通過管狀體的開放端，開放端形成混合元件的出口。
可選地，流體入口可基於諸如流體流率的參數而被選擇性地阻塞，以有利於改善混合。第一處理流體及第二處理流體可為亦可不為不同。
雖然本發明已將關於包括實施本發明的當前較佳模式的特定範例進行說明，所屬技術領域中具有通常知識者將理解上述系統及技術有多種變化及排列。當知可利用其他實施例，以及可在不脫離本發明的範圍的情況下進行結構性及功能性修改。因此，本發明的精神及範圍應廣泛地解釋為如隨附申請專利範圍中所述。
1000:處理系統 1010:流體供應 1100:閥 1200:排出器 1300:處理室 1400:流體輸送模組 400:出口歧管 1402:支撐結構 1403:頂面 100:控制流動的裝置 102:入口 104:出口 110:流動構件 120:流動構件 130:構件 132:構件體 133:頂面 134:底面 135:前側面 136:後側面 137:左側面 138:右側面 141:第一埠 142:第二埠 143:第三埠 145:緊固件通路 147:組件埠 148:保持構件 149:環形肋 150:環形溝槽 151:第一流動路徑 152:第二流動路徑 153:第三流動路徑 155:接合部 156:第一導管 157:止回閥 157:第二導管 158:第三導管 159:密封 200:混合元件 202:凸緣 204:管狀體 206:封閉端 208:開放端 210:外表面 212:內表面 214:第一密封表面 216:溝槽表面 218:第二密封表面 220:第一流體入口 221:第一入口表面 222:頂面 223:切點 224:底面 225:開放端表面 226:封閉端表面 230:第二流體入口 231:第二入口表面 232:頂面 234:底面 235:開放端表面 236:封閉端表面 240:流體出口 252:凸緣溝槽 254:凸緣表面 300:混合元件 302:凸緣 304:管狀體 306:封閉端 308:開放端 310:外表面 312:內表面 314:第一密封表面 316:溝槽表面 318:第二密封表面 320:第一流體入口 321:第一入口表面 322:頂面 323:切點 324:底面 325:開放端表面 326:封閉端表面 330:第二流體入口 331:第二入口表面 332:頂面 334:底面 335:開放端表面 336:封閉端表面 340:流體出口 352:凸緣溝槽 354:凸緣表面 400:混合元件 402:凸緣 404:管狀體 406:封閉端 408:開放端 410:外表面 412:內表面 414:第一密封表面 416:溝槽表面 418:第二密封表面 420:第一流體入口 421:第一入口表面 422:頂面 423:切點 424:底面 425:開放端表面 426:封閉端表面 430:第二流體入口 431:第二入口表面 432:頂面 434:底面 435:開放端表面 436:封閉端表面 440:流體出口 452:凸緣溝槽 454:凸緣表面 500:混合元件 502:凸緣 504:管狀體 506:封閉端 508:開放端 510:外表面 512:內表面 514:第一密封表面 516:溝槽表面 518:第二密封表面 520:第一流體入口 521:第一入口表面 522:孔洞 523:切點 523:圓周 530:第二流體入口 531:第二入口表面 532:孔洞 533:圓周 540:流體出口 552:凸緣溝槽 554:凸緣表面 600:混合元件 602:凸緣 604:管狀體 606:封閉端 608:開放端 610:外表面 612:內表面 614:第一密封表面 616:溝槽表面 617:溝槽 618:第二密封表面 620:第一流體入口 621:第一入口表面 622:孔洞 630:第二流體入口 631:第二入口表面 632:孔洞 640:流體出口 652:凸緣溝槽 654:凸緣表面 700:混合元件 702:凸緣 704:管狀體 706:封閉端 708:開放端 710:外表面 712:內表面 714:第一密封表面 716:溝槽表面 718:第二密封表面 720:第一流體入口 721:第一入口表面 722:孔洞 723:圓周 723:切點 730:第二流體入口 731:第二入口表面 732:孔洞 733:圓周 740:流體出口 752:凸緣溝槽 754:凸緣表面 800:混合元件 802:凸緣 804:管狀體 806:封閉端 808:開放端 810:外表面 812:內表面 814:第一密封表面 816:溝槽表面 817:溝槽 818:第二密封表面 820:第一流體入口 821:第一入口表面 822:孔洞 823:孔洞 830:第二流體入口 831:第二入口表面 832:孔洞 840:流體出口 852:凸緣溝槽 854:凸緣表面 900:流體流動構件 930:流體流動構件 932:構件體 933:頂面 934:底面 935:前側面 936:後側面 937:左側面 938:右側面 941:第一埠 942:第二埠 943:第三埠 945:緊固件通路 947:組件埠 953:第三流動路徑 955:接合部 970:偏置元件 980:混合元件 981:流體入口 982:開放端 990:流動控制元件 992:座面 1500:流體流動構件 1530:流體流動構件 1532:構件體 1533:頂面 1534:底面 1535:前側面 1536:後側面 1537:左側面 1538:右側面 1545:緊固件通路 1547:組件埠 1548:保持構件 1560:轉接器 1570:致動器 1571:致動器桿 1580:混合元件 1581:流體入口 1582:第一端 1583:第二端 1584:內表面 1590:流動控制元件 1591:致動器承座 1592:隔膜 1593:活塞 1595:外環 A-A:縱軸線 B-B:第一入口軸線 C-C:第二入口軸線 D-D:軸線 E-E:軸線 D1:第一直徑 D2:第二直徑
本揭露之發明將從詳細說明及伴隨的圖式得到更充分理解，其中：
圖1為利用一個以上的控制流動的裝置以製造半導體裝置的系統的示意圖。
圖2為包含有可用於圖1的處理中的複數個控制流動的裝置的流體輸送模組的立體圖。
圖3為可用於圖2的流體輸送模組中的流動構件的立體圖。
圖4為圖3的流動構件的立體爆炸圖。
圖5為沿線段5-5的圖3的流動構件的剖視圖。
圖6為可用於圖3的流動構件中的混合元件的立體圖。
圖7為圖6的混合元件的後視立體圖。
圖8為圖6的混合元件的左側視圖。
圖9為沿圖7的線段9-9的混合元件的剖視圖。
圖10為可用於圖3的流動構件中的混合元件的另一實施例的立體圖。
圖11為圖10的混合元件的後視立體圖。
圖12為圖10的混合元件的左側視圖。
圖13為沿圖11的線段13-13的混合元件的剖視圖。
圖14為可用於圖3的流動構件中的混合元件的另一實施例的立體圖。
圖15為圖14的混合元件的後視立體圖。
圖16為圖14的混合元件的左側視圖。
圖17為沿圖15的線段17-17的混合元件的剖視圖。
圖18為可用於圖3的流動構件中的混合元件的另一實施例的立體圖。
圖19為圖18的混合元件的後視立體圖。
圖20為圖18的混合元件的左側視圖。
圖21為沿圖19的線段21-21的混合元件的剖視圖。
圖22為可用於圖3的流動構件中的混合元件的另一實施例的立體圖。
圖23為圖22的混合元件的後視立體圖。
圖24為圖22的混合元件的左側視圖。
圖25為沿圖23的線段25-25的混合元件的剖視圖。
圖26為可用於圖3的流動構件中的混合元件的另一實施例的立體圖。
圖27為圖26的混合元件的後視立體圖。
圖28為圖26的混合元件的左側視圖。
圖29為沿圖28的線段29-29的混合元件的剖視圖。
圖30為可用於圖3的流動構件中的混合元件的另一實施例的立體圖。
圖31為圖30的混合元件的後視立體圖。
圖32為圖30的混合元件的左側視圖。
圖33為沿圖31的線段33-33的混合元件的剖視圖。
圖34為可用於圖2的流體輸送模組中的流動構件的另一實施例的立體爆炸圖。
圖35為在第一狀態的圖34的流動構件的剖視圖。
圖36為在第二狀態的圖34的流動構件的剖視圖。
圖37為可用於圖2的流體輸送模組中的流動構件的另一實施例的仰視立體爆炸圖。
圖38為在圖37的流動構件的剖視圖。
圖39A為如圖38所示的區域39A的詳細視圖，流動構件處於第一狀態。
圖39B為如圖38所示的區域39A的詳細視圖，流動構件處於第二狀態。
所有圖式為示意性的且不一定按比例繪製。除非本文另有說明，否則在某些圖中顯示有標號而在其他圖中可能未標號而出現的特徵，為相同的特徵。
130:構件
132:構件體
133:頂面
134:底面
135:前側面
136:後側面
137:左側面
138:右側面
142:第二埠
143:第三埠
145:緊固件通路
147:組件埠
148:保持構件

Claims (112)

  1. 一種處理製品的系統，該系統包含： 第一流體供應，經配置而供應第一處理流體； 第二流體供應，經配置而供應第二處理流體； 處理室，經配置而處理製品； 流體輸送模組，該流體輸送模組包含： 第一入口，流體耦接於該第一流體供應； 第二入口，流體耦接於該第二流體供應； 出口，流體耦接於該處理室； 流動通道，自該第一入口及該第二入口延伸至該出口； 第一流動構件，該第一流動構件包含： 構件體； 第一埠、第二埠、及第三埠，該第一埠、該第二埠、及該第三埠的各個形成於該構件體中，第一流動路徑自該第一埠延伸至接合部，第二流動路徑自該第二埠延伸至該接合部，以及第三流動路徑自該接合部延伸至該第三埠，該第一流動路徑、該第二流動路徑、及該第三流動路徑各形成一部分的該流動通道；以及 混合元件，該混合元件位在該第一流動構件的該接合部，該混合元件包含第一流體入口、第二流體入口、及流體出口，該第一流體入口流體耦接於該第一埠，該第二流體入口流體耦接於該第二埠，以及該流體出口流體耦接於該第三埠。
  2. 如請求項1所述之系統，其中該混合元件包含管狀體，該管狀體沿該混合元件的縱軸線自開放端延伸至封閉端。
  3. 如請求項2所述之系統，其中該管狀體包含外表面及內表面。
  4. 如請求項3所述之系統，其中該外表面及該內表面皆自該開放端延伸至該封閉端。
  5. 如請求項3或4所述之系統，其中該混合元件的該第一流體入口及該第二流體入口自該外表面延伸至該內表面。
  6. 如請求項2至5中任一項所述之系統，其中該管狀體的該開放端形成該混合元件的該流體出口。
  7. 如請求項3至6中任一項所述之系統，其中該外表面包含：靠近該封閉端的第一密封表面、靠近該開放端的第二密封表面、以及自該第一密封表面延伸至該第二密封表面的溝槽表面。
  8. 如請求項7所述之系統，其中該第一流體入口及該第二流體入口形成於該溝槽表面。
  9. 如請求項3至8中任一項所述之系統，其中該第一流體入口沿第一入口軸線延伸，該第一入口軸線垂直於該縱軸線。
  10. 如請求項9所述之系統，其中該第一入口軸線與該縱軸線相間隔。
  11. 如請求項9或10所述之系統，其中該第一入口軸線不與該縱軸線相交。
  12. 如請求項9至11中任一項所述之系統，其中該第二流體入口沿第二入口軸線延伸，該第二入口軸線平行於該第一入口軸線且垂直於該縱軸線。
  13. 如請求項12所述之系統，其中該第二入口軸線不與該縱軸線相交。
  14. 如請求項3至13中任一項所述之系統，其中該第一流體入口具有第一入口表面，該第一入口表面自該外表面延伸至該內表面。
  15. 如請求項14所述之系統，其中該第一入口表面在切點與該內表面交會，該第一入口表面在該切點與該內表面相切。
  16. 如請求項3至15中任一項所述之系統，其中該第一流體入口包含槽，該槽沿該縱軸線伸長。
  17. 如請求項16所述之系統，其中該槽具有高度及寬度，該高度小於該寬度。
  18. 如請求項3至15中任一項所述之系統，其中該第一流體入口包含複數個孔洞。
  19. 如請求項18所述之系統，其中複數個該孔洞的各個該孔洞具有直徑，複數個該孔洞的各個該孔洞的該直徑為相異。
  20. 如請求項19所述之系統，其中複數個該孔洞的該直徑隨著沿該縱軸線的與該管狀體的該封閉端的距離增加而減少。
  21. 如請求項3至15中任一項所述之系統，其中該第一流體入口包含佈置成列的複數個孔洞。
  22. 如請求項21所述之系統，其中該第一流體入口包含複數列的孔洞。
  23. 如請求項21所述之系統，其中複數個該孔洞的各個係相對於該縱軸線而等間隔。
  24. 如請求項21所述之系統，其中複數個該孔洞的各個係相對於該縱軸線而不等間隔。
  25. 如請求項3至13中任一項所述之系統，其中複數個溝槽形成於該管狀體的該外表面。
  26. 如請求項25所述之系統，其中複數個該溝槽的各個該溝槽包含複數個孔洞。
  27. 如請求項3至26中任一項所述之系統，其中該管狀體的該內表面為圓柱形且具有固定的直徑。
  28. 如請求項3至15中任一項所述之系統，其中該管狀體的該內表面包含具有不同直徑的複數個圓柱形表面。
  29. 如請求項3至24中任一項所述之系統，其中該管狀體的該內表面包含複數個溝槽。
  30. 如請求項2至29中任一項所述之系統，其中該混合元件包含位在該封閉端的凸緣。
  31. 如請求項30所述之系統，其中該凸緣包含凸緣溝槽。
  32. 如請求項1至31中任一項所述之系統，其中該第一流動構件的該接合部係藉由第一導管、第二導管、及第三導管而形成，該第一導管形成一部分的該第一流動路徑，該第二導管形成一部分的該第二流動路徑，以及該第三導管形成一部分的該第三流動路徑，該第一導管及該第二導管垂直於該第三導管。
  33. 如請求項1至32中任一項所述之系統，其中該第一流動構件包含第一組件埠、該混合元件、以及安裝在該第一組件埠中的保持構件。
  34. 如請求項33所述之系統，其中該第一流動構件的該第一組件埠包含環形肋以及該混合元件包含位在該封閉端的凸緣，該凸緣包含凸緣溝槽，經配置而承接該第一流動構件的該環形肋。
  35. 如請求項1至34中任一項所述之系統，其中該第一埠、該第二埠、及該第三埠的各個係形成於該第一流動構件的該構件體的上表面。
  36. 如請求項1至35中任一項所述之系統，其中該流體輸送模組更包含支撐結構，該第一流動構件耦接於該支撐結構且該第一埠、該第二埠、及該第三埠背向該支撐結構。
  37. 如請求項1至36中任一項所述之系統，其中該第一流動構件包含偏置元件及封閉元件，該封閉元件阻塞該第一流體入口及該第二流體入口之一的至少一部分。
  38. 如請求項37所述之系統，其中該混合元件包含縱軸線，該封閉元件相對於該混合元件而沿該縱軸線為可移動的。
  39. 如請求項1至36中任一項所述之系統，其中該第一流動構件包含致動器及封閉元件，該致動器經配置而移動該封閉元件以阻塞該第一流體入口及該第二流體入口之一的至少一部分。
  40. 如請求項39所述之系統，其中該封閉元件包含隔膜。
  41. 如請求項1至40中任一項所述之系統，其中該第一處理流體及該第二處理流體不同。
  42. 一種流體流動構件，該流體流動構件包含： 構件體； 第一埠、第二埠、及第三埠，該第一埠、該第二埠、及該第三埠的各個形成於該構件體中； 第一流動路徑，自該第一埠延伸至接合部； 第二流動路徑，自該第二埠延伸至該接合部； 第三流動路徑，自該接合部延伸至該第三埠； 混合元件，位在該接合部，該混合元件包含： 第一流體入口，流體耦接於該第一埠； 第二流體入口，流體耦接於該第二埠；以及 流體出口，流體耦接於該第三埠。
  43. 如請求項42所述之流體流動構件，其中該混合元件包含管狀體，該管狀體沿該混合元件的縱軸線自開放端延伸至封閉端。
  44. 如請求項43所述之流體流動構件，其中該管狀體包含外表面及內表面。
  45. 如請求項44所述之流體流動構件，其中該外表面及該內表面皆自該開放端延伸至該封閉端。
  46. 如請求項44或45所述之流體流動構件，其中該混合元件的該第一流體入口及該第二流體入口自該外表面延伸至該內表面。
  47. 如請求項43至46中任一項所述之流體流動構件，其中該管狀體的該開放端形成該混合元件的該流體出口。
  48. 如請求項44至47中任一項所述之流體流動構件，其中該外表面包含：靠近該封閉端的第一密封表面、靠近該開放端的第二密封表面、以及自該第一密封表面延伸至該第二密封表面的溝槽表面。
  49. 如請求項48所述之流體流動構件，其中該第一流體入口及該第二流體入口形成於該溝槽表面。
  50. 如請求項44至49中任一項所述之流體流動構件，其中該第一流體入口沿第一入口軸線延伸，該第一入口軸線垂直於該縱軸線。
  51. 如請求項50所述之流體流動構件，其中該第一入口軸線與該縱軸線相間隔。
  52. 如請求項50或51所述之流體流動構件，其中該第一入口軸線不與該縱軸線相交。
  53. 如請求項50至52中任一項所述之流體流動構件，其中該第二流體入口沿第二入口軸線延伸，該第二入口軸線平行於該第一入口軸線且垂直於該縱軸線。
  54. 如請求項53所述之流體流動構件，其中該第二入口軸線不與該縱軸線相交。
  55. 如請求項44至54中任一項所述之流體流動構件，其中該第一流體入口具有第一入口表面，該第一入口表面自該外表面延伸至該內表面。
  56. 如請求項55所述之流體流動構件，其中該第一入口表面在切點與該內表面交會，該第一入口表面在該切點與該內表面相切。
  57. 如請求項44至56中任一項所述之流體流動構件，其中該第一流體入口包含槽，該槽沿該縱軸線伸長。
  58. 如請求項57所述之流體流動構件，其中該槽具有高度及寬度，該高度小於該寬度。
  59. 如請求項44至56中任一項所述之流體流動構件，其中該第一流體入口包含複數個孔洞。
  60. 如請求項59所述之流體流動構件，其中複數個該孔洞的各個該孔洞具有直徑，複數個該孔洞的各個該孔洞的該直徑為相異。
  61. 如請求項60所述之流體流動構件，其中複數個該孔洞的該直徑隨著沿該縱軸線的與該管狀體的該封閉端的距離增加而減少。
  62. 如請求項44至56中任一項所述之流體流動構件，其中該第一流體入口包含佈置成列的複數個孔洞。
  63. 如請求項62所述之流體流動構件，其中該第一流體入口包含複數列的孔洞。
  64. 如請求項62所述之流體流動構件，其中複數個該孔洞的各個係相對於該縱軸線而等間隔。
  65. 如請求項62所述之流體流動構件，其中複數個該孔洞的各個係相對於該縱軸線而不等間隔。
  66. 如請求項44至54中任一項所述之流體流動構件，其中複數個溝槽形成於該管狀體的該外表面。
  67. 如請求項66所述之流體流動構件，其中複數個該溝槽的各個該溝槽包含複數個孔洞。
  68. 如請求項44至67中任一項所述之流體流動構件，其中該管狀體的該內表面為圓柱形且具有固定的直徑。
  69. 如請求項44至56中任一項所述之流體流動構件，其中該管狀體的該內表面包含具有不同直徑的複數個圓柱形表面。
  70. 如請求項44至64中任一項所述之流體流動構件，其中該管狀體的該內表面包含複數個溝槽。
  71. 如請求項43至70中任一項所述之流體流動構件，其中該混合元件包含位在該封閉端的凸緣。
  72. 如請求項71所述之流體流動構件，其中該凸緣包含凸緣溝槽。
  73. 如請求項42至72中任一項所述之流體流動構件，其中該第一流動構件的該接合部係藉由第一導管、第二導管、及第三導管而形成，該第一導管形成一部分的該第一流動路徑，該第二導管形成一部分的該第二流動路徑，以及該第三導管形成一部分的該第三流動路徑，該第一導管及該第二導管垂直於該第三導管。
  74. 如請求項42至73中任一項所述之流體流動構件，其中該第一流動構件包含第一組件埠、該混合元件、以及安裝在該第一組件埠中的保持構件。
  75. 如請求項74所述之流體流動構件，其中該第一流動構件的該第一組件埠包含環形肋以及該混合元件包含位在該封閉端的凸緣，該凸緣包含凸緣溝槽，經配置而承接該第一流動構件的該環形肋。
  76. 如請求項42至75中任一項所述之流體流動構件，其中該第一埠、該第二埠、及該第三埠的各個係形成於該第一流動構件的該構件體的上表面。
  77. 如請求項42至76中任一項所述之流體流動構件，其中該第一流動構件包含偏置元件及封閉元件，該封閉元件阻塞該第一流體入口及該第二流體入口之一的至少一部分。
  78. 如請求項77所述之流體流動構件，其中該混合元件包含縱軸線，該封閉元件相對於該混合元件而沿該縱軸線為可移動的。
  79. 如請求項42至78中任一項所述之流體流動構件，其中該第一流動構件包含致動器及封閉元件，該致動器經配置而移動該封閉元件以阻塞該第一流體入口及該第二流體入口之一的至少一部分。
  80. 一種混合元件，該混合元件包含： 管狀體，沿該混合元件的縱軸線自開放端延伸至封閉端，該管狀體包含外表面及內表面； 第一流體入口，自該外表面通過該管狀體至該內表面而形成； 第二流體入口，自該外表面通過該管狀體至該內表面而形成； 流體出口，藉由該管狀體的該開放端而形成。
  81. 如請求項80所述之混合元件，其中該外表面及該內表面皆自該開放端延伸至該封閉端。
  82. 如請求項80或81所述之混合元件，其中該外表面包含：靠近該封閉端的第一密封表面、靠近該開放端的第二密封表面、以及自該第一密封表面延伸至該第二密封表面的溝槽表面。
  83. 如請求項82所述之混合元件，其中該第一流體入口及該第二流體入口形成於該溝槽表面。
  84. 如請求項80至83中任一項所述之混合元件，其中該第一流體入口沿第一入口軸線延伸，該第一入口軸線垂直於該縱軸線。
  85. 如請求項84所述之混合元件，其中該第一入口軸線與該縱軸線相間隔。
  86. 如請求項84或85所述之混合元件，其中該第一入口軸線不與該縱軸線相交。
  87. 如請求項84至86中任一項所述之混合元件，其中該第二流體入口沿第二入口軸線延伸，該第二入口軸線平行於該第一入口軸線且垂直於該縱軸線。
  88. 如請求項87所述之混合元件，其中該第二入口軸線不與該縱軸線相交。
  89. 如請求項80至88中任一項所述之混合元件，其中該第一流體入口具有第一入口表面，該第一入口表面自該外表面延伸至該內表面。
  90. 如請求項89所述之混合元件，其中該第一入口表面在切點與該內表面交會，該第一入口表面在該切點與該內表面相切。
  91. 如請求項80至90中任一項所述之混合元件，其中該第一流體入口包含槽，該槽沿該縱軸線伸長。
  92. 如請求項91所述之混合元件，其中該槽具有高度及寬度，該高度小於該寬度。
  93. 如請求項80至90中任一項所述之混合元件，其中該第一流體入口包含複數個孔洞。
  94. 如請求項93所述之混合元件，其中複數個該孔洞的各個該孔洞具有直徑，複數個該孔洞的各個該孔洞的該直徑為相異。
  95. 如請求項94所述之混合元件，其中複數個該孔洞的該直徑隨著沿該縱軸線的與該管狀體的該封閉端的距離增加而減少。
  96. 如請求項80至90中任一項所述之混合元件，其中該第一流體入口包含佈置成列的複數個孔洞。
  97. 如請求項96所述之混合元件，其中該第一流體入口包含複數列的孔洞。
  98. 如請求項96所述之混合元件，其中複數個該孔洞的各個係相對於該縱軸線而等間隔。
  99. 如請求項96所述之混合元件，其中複數個該孔洞的各個係相對於該縱軸線而不等間隔。
  100. 如請求項80至99中任一項所述之混合元件，其中複數個溝槽形成於該管狀體的該外表面。
  101. 如請求項100所述之混合元件，其中複數個該溝槽的各個該溝槽包含複數個孔洞。
  102. 如請求項80至101中任一項所述之混合元件，其中該管狀體的該內表面為圓柱形且具有固定的直徑。
  103. 如請求項80至90中任一項所述之混合元件，其中該管狀體的該內表面包含具有不同直徑的複數個圓柱形表面。
  104. 如請求項80至98中任一項所述之混合元件，其中該管狀體的該內表面包含複數個溝槽。
  105. 如請求項80至104中任一項所述之混合元件，其中該混合元件包含位在該封閉端的凸緣。
  106. 如請求項105所述之混合元件，其中該凸緣包含凸緣溝槽。
  107. 一種混合處理流體的方法，該方法包含： (a) 提供經配置而供應第一處理流體的第一流體供應以及經配置而供應第二處理流體的第二流體供應； (b) 使該第一處理流體流動至第一流動構件的混合元件以及該第二處理流體流動至該第一流動構件的該混合元件； (c) 使該第一處理流體通過該混合元件的管狀體中形成的第一流體入口，該第一流體入口沿垂直於該混合元件的縱軸線的第一入口軸線延伸； (d) 使該第二處理流體通過該混合元件的該管狀體中形成的第二流體入口，該第二流體入口沿垂直於該縱軸線的第二入口軸線延伸； (e) 在該混合元件的該管狀體內混合該第一處理流體及該第二處理流體而形成流體混合物； (f) 使該流體混合物流動通過該管狀體的開放端，該開放端形成該混合元件的出口。
  108. 如請求項107所述之方法，其中該混合元件的該管狀體沿該縱軸線自該開放端延伸至該封閉端。
  109. 如請求項107或108所述之方法，其中該第一入口軸線及該第二入口軸線為平行且該第一入口軸線及該第二入口軸線不與該縱軸線相交。
  110. 如請求項107至109中任一項所述之方法，其中該第一入口沿該縱軸線伸長。
  111. 如請求項107至110中任一項所述之方法，更包含在步驟(f)之後的步驟(g)，步驟(g)包含：響應於該第一處理流體或該第二處理流體之一的流體流率，阻塞該第一流體入口及該第二流體入口之一的至少一部分。
  112. 如請求項107至111中任一項所述之方法，其中該第一處理流體及該第二處理流體不同。
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