TW202314265A - 用於測試多個可調諧射頻傳輸元件的層佈置和方法 - Google Patents
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Abstract
針對相位陣列天線的層佈置（1）包括：相移單元（4），其被佈置在至少兩個堆疊介電層（5、6）上或之間，其中可調諧介電材料（12）的層夾在該至少兩個堆疊介電層（5、6）之間。每個相移單元（4）包括具有相移能力的至少一個傳輸線（3），該至少一個傳輸線（3）與到至少一個偏置電路的偏置線（10、11）導電連接。至少一個介電層（10、11）由光學透明的材料製成，並且相移單元（4）中的每一個的偏置線（10、11）的至少重疊區段由光學透明且導電的材料製成。可調諧介電材料是從材料組中選擇，該材料組中的材料按照可調諧介電材料的相應調諧狀態來影響對可調諧介電材料進行照明的光的透射或反射。用於測試該層佈置（1）的方法包括測試步驟，在測試步驟期間，層佈置（1）由光照明，在測試步驟期間，預定偏置電勢被應用於相移單元（4）中的至少一些，並且在測試步驟期間，檢測取決於所應用的偏置電勢從層佈置（1）的光發射，並且藉此，將所檢測到的光發射與針對適當工作狀況中的偏置線（10、11）而期望的光發射進行比較。
Description
本發明涉及用於測試整合到層佈置中的多個可調諧射頻傳輸元件的方法，藉此，層佈置包括相移單元，該相移單元被佈置在至少兩個堆疊介電層上或之間，其中可調諧介電材料的層夾在該至少兩個堆疊介電層之間，其中每個可調諧射頻傳輸元件包括具有可調諧能力的至少一個傳輸線，該至少一個傳輸線與到至少一個偏置電路的偏置線導電連接。
相位陣列天線通常包括：大量輻射單元，其必須利用從不同輻射單元發射的電磁輻射之間的預設相移發射電磁輻射。如果針對所有輻射單元的相移是以合適方式預設，則可以指定和改變從相位陣列天線發射的電磁輻射的最大強度的方向，例如根據電磁輻射的發送器和接收器的位置。
類似地，如果相位陣列天線用於接收電磁輻射且用於創建作為從所有輻射單元接收到的電磁輻射的疊加的信號，則可以指定和改變最大接收靈敏度的方向，例如也根據電磁輻射的發送器和接收器的位置。
通常，適於發射和接收無線電波的相位陣列天線包括：數千個輻射單元，其被佈置在天線面板上，且連接到對從該數千個輻射單元發射或接收的無線電波進行控制的控制單元。每個輻射單元經由相移設備連接到控制單元，該相移設備允許預設利用相應輻射單元發射或接收的電磁輻射的個體相移。對於許多應用，相移單元整合到層佈置中，該層佈置包括至少兩個堆疊介電層，其中至少一個傳輸線具有相移能力，並且其中可調諧介電材料的層夾在鄰近的兩個堆疊介電層之間。通過將電場應用於傳輸線旁邊的可調諧介電材料，可以指定和修改可調諧介電材料的介電性質，這將影響由相移單元的傳輸線創建的相移。被應用於可調諧介電材料的電場可以是通過下述操作來預設的：將偏置電壓應用於偏置電極，偏置電極以在與兩個堆疊介電層中的每一個垂直的方向上彼此相對且彼此重疊的方式在兩個堆疊介電層處被佈置在可調諧介電材料的全部兩側上。通常，全部兩個介電層上的傳輸線的重疊區段是偏置電極的一部分，藉此，經由導電偏置線將偏置電壓應用於傳輸線。例如在EP 2 761 693 B1或EP 3 609 018 A1中描述了具有傳輸線和可調諧介電材料的這種相移設備，其可能受由經由偏置線而應用的偏置電壓預設的電場影響。
這種相位陣列天線的適當工作狀況要求所有子部分的適當功能，該子部分包括控制單元、相移單元和偏置線，針對相移單元中的每一個而要求的偏置電壓可以被應用於偏置線。在製造相位陣列天線之後，測試相移單元和針對相應相移單元的偏置線的適當工作狀況是繁重的。通常，這種測試要求：將許多不同偏置電壓應用於所有相移單元；以及測量和評估已經在分別將不同偏置電壓應用於相移設備的情況下執行的輻射發射的空間分佈。甚至在測量和評估被應用於相位陣列天線的許多不同偏置電壓模式之後，難以檢測或者根本不能檢測被應用於相應相移單元的對應偏置電壓和偏置線的一些誤差或損傷。
存在包括可調諧射頻傳輸元件（像例如具有可調諧能力的相移元件或傳輸線）的其他已知設備。所討論的能力可以是影響信號傳輸的電氣特性。能力的調諧可以是通過例如下述操作來執行的：將偏置電壓應用於傳輸線或作為傳輸線的一部分或與傳輸線接近地佈置的電極。驗證和確認這種可調諧射頻傳輸元件的適當工作狀況可能是繁贅的且通常要求時間和人工勞動，特別是在設備包括大量這種可調諧射頻傳輸元件（像例如包括數千個相移單元的相位陣列天線）的情況下。
因此，下述內容被視為本發明的目的：提供一種用於測試多個可調諧射頻傳輸元件的方法，其要求僅小努力和時間，但允許偏置線和可利用相應偏置線而應用的偏置電壓的任何誤差或損傷的容易檢測。
本發明因而涉及如上所描述的方法，藉此，至少一個介電層由光學透明的材料製成，其中可調諧射頻傳輸元件中的每一個的偏置線的至少重疊區段由光學透明且導電的材料製成，並且其中可調諧介電材料是從材料組中選擇，該材料組中的材料按照可調諧介電材料的相應調諧狀態來影響對可調諧介電材料進行照明的光的透射或反射，該方法包括測試步驟，在測試步驟期間，層佈置由光照明，在測試步驟期間，預定偏置電勢被應用於可調諧射頻傳輸元件中的至少一些，並且在測試步驟期間，檢測取決於所應用的偏置電勢從層佈置的光發射，並且藉此，將所檢測到的光發射與針對適當工作狀況中的偏置線而期望的光發射進行比較。因此，不存在下述需要：測量在將許多不同偏置電壓的測試模式應用於相應可調諧射頻傳輸元件且特別地應用於相位陣列天線的相移單元期間創建的空間輻射發射模式。可以通過在將預定偏置電勢應用於相移單元期間對從層佈置的光發射進行光學測量，來執行被應用於可調諧射頻傳輸元件的一些或所有偏置電壓的測試。存在許多已知導電材料，其可以用於製造對於可見光而言或者對於透射通過導電材料的紅外或紫外光而言光學透明的傳輸線和偏置線。對於許多應用，也被加標簽為ITO的氧化銦錫可以被用作用於製造偏置線的光學透明電極材料，其允許執行偏置電壓的應用在可調諧介電材料上且因而在相移單元上施加的影響的光學測量。其他光學透明且導電的材料也是公知且可用的，以及適於在這種佈置中製造偏置線。如果傳播通過材料層的光束的強度減少小於輻照強度的75%、優選地小於輻照強度的50%以及最優選地小於輻照強度的25%，則材料被視為光學透明的，藉此，材料層充分厚，足以使層被操作為具有與ITO類似的導電性質的導電材料。
可以通過拍攝由光照明的偏置線的圖片，來執行偏置電壓的光學測量，該光學測量創建影響可調諧介電材料且因而影響傳輸線的傳輸特性（例如，利用相應相移單元而創建的相移）的電場。取決於可調諧射頻傳輸元件的配置和利用光對可調諧射頻傳輸元件的照明，如果被應用於可調諧介電材料的偏置電壓更高或更低，則透射通過可調諧介電材料且因而可由相機或某個其他合適光學測量設備測量的光強度更明亮或更減弱。因此，通過拍攝圖片，在測試期間示出所有可調諧射頻傳輸元件允許可調諧射頻傳輸元件中的一個或一些從預設測試模式的個體偏離的容易識別，這是由於相應可調諧射頻傳輸元件的光強度不匹配於與已經被應用於相應偏置線和可調諧射頻傳輸元件的偏置電壓相對應的光強度。
可以預先確定可利用測試裝備針對可出於測試目的或在對應設備的操作期間被應用於偏置線和對應可調諧射頻傳輸元件的偏置電壓的所有可能值而檢測到的光發射。然後，已利用適當工作的偏置線和可調諧射頻傳輸元件預先檢測和測量的光發射等於要在利用具有仍然未知的工作狀況的多個偏置線和可調諧射頻傳輸元件執行測試方法時檢測到的期望光發射。藉此，測試完整設備的工作狀況不要求執行許多不同偏置電壓以及射頻傳輸特性的對應測量和評估，或者例如相位陣列天線的輻射發射模式，但可以是通過下述操作來執行的：將偏置電壓的單個測試模式應用於偏置線；以及取得從可調諧射頻傳輸元件的光發射的單個光學測量結果。
因此，在穿過設備的可調諧射頻傳輸元件至少一次之後甚至簡單地對光的光發射進行視覺監視或檢查允許檢測大量可調諧射頻傳輸元件內的單個可調諧射頻傳輸元件的不適當工作狀況。
根據本發明的方法可以有利地用於測試設備的故障的若干方面和潛在原因。可以測試偏置線的連接性和電阻。可以測試芯片的正確接合和工作狀況。此外，還可以測試各種電子部件以及用於操作設備的軟件的工作狀況。因此，例如，可以驗證信號傳輸和偏置電壓對相位陣列天線的每個相移單元的尋址、正確映射和精確應用，而沒有針對測量從相位陣列天線的所得信號發射或者針對將測量設備連接到相位陣列天線的每個相移單元或輻射元件的任何需要。
儘管在測試週期期間對光發射的視覺檢查是可能的，但更定量的光檢測和光發射測量是可能的且可能導致更精確的測試結果。根據本發明的有利方面，光發射由光記錄設備檢測，且隨後由評估設備評估。數位相機或光學掃描設備可以被用作光記錄設備。已利用這種數位設備記錄的光發射的評估可以是利用商業上可得的計算機或者利用智慧電話設備執行，只要可以在相應設備上運行合適評估程序即可。可以在沒有任何顯著時間延遲的情況下評估和顯示測試的結果。因此，可以在短時間段內且利用非常有成本收益的測試裝備執行針對相位陣列天線的適當工作狀況的評估而要求的測試。此外，可以自動地（即，在沒有用戶的任何干預的情況下）執行由數位相機或光學掃描裝置進行的這種光發射檢測。該方法還可以是在對應設備或電子部件的製造期間或之後作為附加步驟執行的。通過將所要求的測試裝備（像例如用於出於測試目的而操作設備的控制單元、光源和光檢測裝置）整合到針對這些設備的製造工廠中，測試方法的完全自動化執行和評估是可能的。
在本發明的又一實施例中，所有至少兩個堆疊介電層由光學透明的材料製成，並且在測試步驟期間，從層佈置的第一側對層佈置進行照明，並且在層佈置的與第一側相對的第二側處檢測透射通過層佈置的光。因此，例如從背側對兩個堆疊介電層進行照明，並且可以從兩個堆疊介電層的正側拍攝透射通過層佈置的光發射的圖片。光通過由兩個介電層夾著的可調諧介電材料的透射取決於由偏置線之間的偏置電壓應用的電場。越多偏置電壓被應用於偏置線，則越多或越少光透射通過可調諧介電材料。因此，偏置線的對應圖像示出了與偏置線相對應的更明亮或更減弱的區。
還可以利用來自於堆疊層的一側的光對兩個堆疊介電層進行照明以及測量從堆疊層反射的光。為了提供針對反射光的這種測量的有利條件，兩個介電層中的一個由光學透明的材料（像例如玻璃）製成，藉此，兩個介電層中的另一個由光學不透明的材料製成，且優選地由光反射材料製成。光照明設備和光學測量設備被佈置在光學透明介電層的側處。因此，來自光照明設備的光穿過光學透明層和可調諧介電材料且由光反射介電層反射，從而在被光學測量設備捕獲之前再次穿過可調諧介電材料和光學透明介電層。
進一步的選項是：在將利用光學測量設備視覺監視或檢測的光的光學路徑內佈置偏振器。光通過可調諧介電材料的透射通常導致透射光的更顯著或更不顯著的偏振。常常可以在偏振器的幫助下更容易且準確地確定在測試操作期間對可調諧介電材料的影響。
根據本發明的有利方面，在測試步驟期間，將相同偏置電勢應用於相移單元中的至少一些。具有相同偏置電勢的所有相移單元應當關於相同光強度而可見。因此，期望的相同光強度的任何偏離可以被解釋為被應用於相應偏置線和對應相移單元的偏置電壓的對應偏離。可以通過查看示出許多可調諧射頻傳輸元件的同時光學測量的圖片來容易地檢測光強度的偏離。
為了允許被應用於對應可調諧射頻傳輸元件（例如，相移單元）的偏置電壓的光學測量的自動化評估，測量所檢測到的光發射的強度。光強度的這種測量可以是在短時間段內且利用商業上可得的軟件和硬件執行的。取決於光學測量的質量，可以檢測從預設偏置電壓的小於1%的偏離，而無需高成本測試裝備。因此，相位陣列天線的非常精確測試在非常短時間段內是可能的，這顯著地降低了用於製造和測試相位陣列天線的總成本。還可以計算參數以及生成校正表，該校正表允許校正在包括一個或多個可調諧射頻傳輸元件（例如，相位陣列天線）的設備的操作期間應用的偏置電壓，這允許隨後校正由相位陣列天線的不適當製造導致的相位陣列天線的一些缺陷或損傷。
可以在測試步驟期間依序地將預定偏置電勢應用於可調諧射頻傳輸元件中的每一個。因此，每個可調諧射頻傳輸元件可以是在測試步驟期間分離地測量和評估的。然而，根據本發明的另一實施例，在測試步驟期間，同時將預定偏置電勢應用於可調諧射頻傳輸元件中的至少一些。關於該測試方法，同時的含義不應限於無限小的時刻，而是還包括允許在測試方法期間預設操作狀況的小持續時間，例如，對被應用於相應相移單元的所有相移單元的偏置電壓進行修改所需的時間。如果拍攝從若干相移單元的光發射的圖片，則應當完成偏置電壓的預設改變並且應當在拍攝圖片時在預設操作狀況的情況下操作每個相移單元。對於大多數應用和設備，所要求的持續時間將顯著小於一秒。
因此，測試所有可調諧射頻傳輸元件所需的時間可以顯著減少。優選地，同時將預定偏置電勢應用於所有可調諧射頻傳輸元件，並且拍攝從所有可調諧射頻傳輸元件的光發射的單個圖像，以用於隨後評估被應用於可調諧射頻傳輸元件中的每一個的對應偏置電壓。
如果可調諧射頻傳輸元件中的一些或全部的光學光發射的更個體測量被視為適當的或有利的，則還可以在測試步驟期間按預定順序一個接一個地將預定偏置電勢應用於可調諧射頻傳輸元件中的至少一些。因此，可以個體地記錄和評估可調諧射頻傳輸元件中的每一個對偏置電勢的應用的對應響應。
為了提供甚至更精確的結果和可調諧射頻傳輸元件中的每一個的更透徹測試，可選地可以在測試步驟期間檢測偏置電勢的變化對可調諧射頻傳輸元件的應用與光發射的所得變化之間的時間差。被應用於可調諧射頻傳輸元件的偏置電壓的預設改變與處於偏置線之間的可調諧介電材料的光學性質的所得改變之間的時間差提供與被應用於可調諧射頻傳輸元件的偏置電勢的控制和操作的適當工作狀況或可能缺陷和缺點有關的附加信息。例如，偏置電壓的類似改變與光學性質的所得改變之間的時間延遲應當對於相位陣列天線內的相同相移單元和相應偏置線而言是相同的。如果在針對相同相移單元或偏置線的響應時間中存在不能被解釋（例如，被相應相移單元和偏置線的設計或操作模式所解釋）的顯著差異，則這種差異可以指示可能的缺點，儘管在某個時間之後相應相移單元或對應偏置線的光學性質變得與運轉良好的相移單元和偏置線的光學性質相同。
根據本發明的又一方面，可調諧射頻傳輸元件中的至少一些的傳輸線的至少區段由光學透明的材料製成，並且其中在測試步驟期間，檢測從可調諧射頻傳輸元件中的至少一些的傳輸線的該區段的光發射。因此，可以基於適當工作狀況的光學驗證將一些或所有可調諧射頻傳輸元件的傳輸線的至少區段包括到測試方法中。來自於傳輸線的光學透明區段的光發射可以被容易地檢測到，並且光強度可以被測量，這實現了傳輸線和對應可調諧射頻傳輸元件的簡單且可靠功能測試。傳輸線的光學透明區段可以例如由氧化銦錫或任何其他合適材料製造。
還可以添加附加導電且光學透明測試線，其與偏置線重疊且不與偏置電壓源連接，但與傳輸線連接。因此，被應用於偏置線和傳輸線的偏置電壓應當導致測試線與重疊偏置線之間的相同偏置電壓。如果在偏置線內不存在缺陷但在可調諧射頻傳輸元件的傳輸線內存在缺陷，則測試線與重疊偏置線之間的電場應當偏離於兩個偏置線之間的電場。
如上所描述的根據本發明的方法尤其非常適於測試相移單元，且特別地非常適於測試包括必須以精確協調的方式操作的大量相移單元和輻射元件的相位陣列天線。
本發明還涉及一種用於在相位陣列天線內使用的層佈置，藉此，層佈置包括：多個相移單元，其被佈置在至少兩個堆疊介電層上或之間，其中可調諧介電材料的層夾在該至少兩個堆疊介電層之間，其中每個相移單元包括具有相移能力的至少一個傳輸線，該至少一個傳輸線與到至少一個偏置電路的偏置線導電連接。
這種層佈置通常包括：大量相移單元，其連接到偏置電路且由控制單元控制。所有偏置線的適當測試以及偏置線和對應相移單元的適當工作狀況是繁重的，且通常要求測試時間和高成本測試裝備。
因此，下述內容被視為本發明的進一步目的：提供一種層佈置，其允許在短時間中且利用有成本收益的測試裝備執行可靠測試方法。
此處，本發明還涉及如上所描述的層佈置，藉此，兩個堆疊介電層中的至少一個介電層由光學透明的材料製成，藉此，相移單元中的每一個的偏置線的至少部分由光學透明且導電的材料製成，並且其中可調諧介電材料是從材料組中選擇，該材料組中的材料按照可調諧介電材料的相應調諧狀態來影響對可調諧介電材料進行照明的光的透射或反射。通過執行如上所描述的測試方法，可以檢測光學透明偏置線的光發射，並且通過評估所檢測到的光發射性質，可以驗證適當工作狀況。非常快速且簡單的檢測模式可以是由測試人在將預設偏置電壓應用於偏置線期間對層佈置的視覺檢查。如果例如相同偏置電壓被應用於若干相移單元的類似偏置線，但光發射的光學性質不同，則這可能由於偏置線或對應相移單元內的缺陷或缺點所致。
為了促進在偏置線的測試期間對光發射的檢測和評估，可選地可能是，相移單元中的每一個的偏置線的重疊區段包括測試區域，其中測試區域的寬度大於測試區域外的偏置線的寬度。測試區域可以是矩形或圓形或橢圓形形狀的。測試區域的大小可以足夠大以允許由測試人進行的快速視覺檢查。還可以提供下述測試區域：該測試區域足夠大以允許關於清楚地處於甚至小或非常有成本收益的測試裝備的任何統計噪聲以上的強度值的光強度檢測和測量。
根據本發明的另一實施例，相移單元中的至少一些的傳輸線的至少區段由光學透明的材料製成。因此，適當工作狀況的光學測量和測試不限於偏置線的功能，而是還可以包括相移單元中的一些或全部的傳輸線的工作狀況。
圖1圖示了根據本發明的層佈置1上的頂視圖，並且圖2圖示了圖1中所示的層佈置1的小區的截面圖，藉此，圖2中所示的小區被限於連接相移單元4的傳輸線3的單個偏置線2的橫截面。層佈置1包括由玻璃或另一光學透明介電材料製成的兩個堆疊介電層5、6。兩個介電層5、6是平行地且向著彼此一定距離地佈置的。每個介電層5、6包括表面7、8，其面向另一介電層6、5的表面8、7，並且全部兩個表面7、8限制兩個介電層5、6之間的容積9。兩個偏置線10、11的兩個重疊區段被佈置在面向彼此的兩個表面7、8處。兩個偏置線10、11的重疊區段由導電但光學透明的材料（像例如氧化銦錫）製成。
兩個堆疊介電層5、6之間的容積9被填充有可調諧介電材料12，其可以是例如具有介電性質的可調諧液晶材料，該介電性質取決於被應用於可調諧液晶材料的電場。通過改變電場的幅度，可以影響和改變可調諧液晶材料的介電和光學性質。在圖2中，可調諧介電材料12的分子的對準由電場預定，該電場是通過在兩個偏置線10、11之間應用偏置電壓來創建，從而導致兩個偏置線10、11的重疊區段之間的區外的分子的主導地隨機的對準，且進一步導致兩個偏置線10、11的重疊區段之間的區內的分子的主導地統一的對準。
圖1中所示的兩個偏置線10、11包括測試區域13，其中測試區域13的寬度大於測試區域13外的偏置線10、11的寬度。圖2的截面圖示出了連接到相移單元4的傳輸線3的偏置線10、11的測試區域13的橫截面。在圖1中，示出了包括僅五個相移單元4的相位陣列天線的層佈置1的小區，藉此，相位陣列天線包括數千個相移單元4。
在執行根據本發明的測試方法期間，照明設備14被佈置在層佈置1的一側處，該側在圖1中被示作處於層佈置1以下。在層佈置1的與照明設備14相對的另一側處，存在光學圖像記錄設備15，其能夠記錄即從照明設備14發射且透射通過層佈置1的光從層佈置1的光發射的圖像。對於層佈置1的工作狀況的定性驗證，測試人可以在執行測試方法期間對從層佈置1的光發射進行視覺檢查。對於層佈置1的工作狀況的更詳盡且定量驗證，光學圖像記錄設備15可以是允許光強度的空間分佈的精確測量的數位相機或電荷耦合設備。
測試方法包括測試步驟，在測試步驟期間，預定偏置電勢被應用於相移單元4的偏置線10、11，並且利用光學圖像記錄設備15檢測從層佈置1的光發射。因此，如果預定偏置電勢被同時應用於相移單元4中的許多或全部，並且如果相移單元4中的許多或全部的光發射被同時檢測到和評估，則可以測試並在單個時刻內且同時驗證相移單元中的許多或全部的適當工作狀況。
圖3示出了沿與層佈置1的邊界16平行的線佈置的重疊偏置線10、11的八個測試區域13的光發射的圖像。為了測試偏置線10、11的工作狀況，將相同偏置電壓應用於所有測試區域13。所有測試區域13的光發射的圖像示出了具有相同光發射（即，具有相等大小和強度的光發射）的八個區，藉此，圖像內的光發射的每個區與對應測試區域13相關。因此，所有偏置線10、11起作用且處於適當工作狀況中。
圖4示出了在圖3中所示的偏置線10、11旁邊佈置的重疊偏置線10、11的另外八個測試區域13的光發射的圖像。在該圖3中，在從左側計數時的第三測試區域17和第五測試區域18的光發射偏離於偏置線10、11的所有其他測試區域13的光發射，從而指示相應第三和第五偏置線10、11的缺陷或損傷，其導致相應相移單元4的不適當工作狀況。
圖5示出了也沿層佈置1的邊界16佈置的重疊偏置線10、11的另外八個測試區域13的光發射的圖像。為了測量偏置線10、11對被應用於相應偏置線10、11的改變的偏置電壓的依賴於時間的響應時間，將交流偏置電壓的序列應用於測試區域13，藉此，下下一個測試區域13始終受制於大偏置電壓，並且每個鄰近測試區域13同時受制於零偏置電壓。因此，下下一個測試區域13始終應當示出明亮光發射，藉此，每個鄰近測試區域13應當在層佈置1的光發射的所記錄的圖像內相對暗。然而，如可以在圖5中看出的那樣，在從左側計數時的第六測試區域19和第八測試區域20偏離於偏置線10、11的所有其他測試區域13的光發射，每一個指示了缺陷或損傷，儘管針對第六測試區19而記錄的光發射的強度與兩個鄰近測試區13相同但由於偏置電壓的交流設置而應當為零。
1:層佈置
2:偏置線
3:傳輸線
4:相移單元
5:介電層
6:介電層
7:表面
8:表面
9:容積
10:偏置線
11:偏置線
12:可調諧介電材料
13:測試區域
14:照明設備
15:光學圖像記錄設備
16:邊界
17:第三測試區域
18:第五測試區域
19:第六測試區域
20:第八測試區域
II-II:線
當參考以下詳細描述和附圖時，將更充分地理解本發明，並且進一步的特徵將變得明顯。附圖僅是代表性的，而不意在限制申請專利範圍的範疇。事實上，本領域技術人員可以在閱讀以下說明書且查看本文附圖後領會到，在不脫離本發明的創新構思的情況下，可以對本發明作出各種修改和變形。附圖中描繪的相似部分由相同附圖標記指代。
[圖1]圖示了具有被佈置在至少兩個堆疊介電層上或之間的相移單元的層佈置的示意頂視圖，其中可調諧介電材料的層夾在該至少兩個堆疊介電層之間，其中每個相移單元包括具有相移能力的至少一個傳輸線，該至少一個傳輸線與到至少一個偏置電路的偏置線導電連接，
[圖2]圖示了沿圖1中的線II-II的相移單元的偏置線的截面圖，連同用於執行根據本發明的測試方法的照明設備和光學記錄設備的示意表示一起，
[圖3]圖示了在處於適當工作狀況中的若干偏置線的測試方法期間檢測到的光學性質的示意表示，
[圖4]圖示了在若干偏置線的測試方法期間檢測到的光學性質的示意表示，藉此，相同偏置電壓已經被應用於所有偏置線，但兩個偏置線示出了指示所述兩個偏置線的故障的偏離光學性質，以及
[圖5]圖示了在若干偏置線的測試方法期間檢測到的光學性質的示意表示，藉此，交流偏置電壓的序列被應用於鄰近偏置線，但兩個偏置線示出了指示所述兩個偏置線的故障的偏離光學性質。
1:層佈置
2:偏置線
3:傳輸線
4:相移單元
10:偏置線
11:偏置線
13:測試區域
16:邊界
II-II:線
Claims (13)
- 一種用於測試整合到層佈置（1）中的多個可調諧射頻傳輸元件（4）的方法，藉此所述層佈置（1）包括：可調諧射頻傳輸元件（4），其被佈置在至少兩個堆疊介電層（5、6）上或之間，其中可調諧介電材料（12）的層夾在所述至少兩個堆疊介電層（5、6）之間，其中每個可調諧射頻傳輸元件（4）包括具有可調諧能力的至少一個傳輸線（3），所述至少一個傳輸線（3）與到至少一個偏置電路的偏置線（10、11）導電連接，其中，至少一個介電層（10、11）由光學透明的材料製成，其中所述可調諧射頻傳輸元件（4）中的每一個的偏置線（10、11）的至少重疊區段由光學透明且導電的材料製成，並且其中所述可調諧介電材料（12）是從材料組中選擇，所述材料組中的材料按照所述可調諧介電材料的相應調諧狀態來影響對所述可調諧介電材料（12）進行照明的光的透射或反射，所述方法包括測試步驟，在所述測試步驟期間，所述層佈置（1）由光照明，在所述測試步驟期間，預定偏置電勢被應用於所述可調諧射頻傳輸元件（4）中的至少一些，並且在所述測試步驟期間，檢測取決於所應用的偏置電勢從所述層佈置（1）的光發射，並且藉此，將所檢測到的光發射與針對適當工作狀況中的偏置線（10、11）而期望的光發射進行比較。
- 根據請求項1所述的方法，其中，所述光發射由光記錄設備（15）檢測且隨後由評估設備評估。
- 根據請求項1或2所述的方法，其中，所有所述至少兩個堆疊介電層（5、6）由光學透明的材料製成，並且其中在所述測試步驟期間，所述層佈置（1）是從所述層佈置（1）的第一側照明，並且，在所述層佈置（1）的與所述第一側相對的第二側處檢測透射通過所述層佈置（1）的光。
- 根據請求項1至3中任一項所述的方法，其中，在所述測試步驟期間，相同偏置電勢被應用於所述可調諧射頻傳輸元件（4）中的所述至少一些。
- 根據請求項1至4中任一項所述的方法，其中，測量所檢測到的光發射的強度。
- 根據請求項1至5中任一項所述的方法，其中，在所述測試步驟期間，所述預定偏置電勢被同時應用於所述可調諧射頻傳輸元件（4）中的所述至少一些。
- 根據請求項1至5中任一項所述的方法，其中，在所述測試步驟期間，所述預定偏置電勢按預定順序一個接一個地被應用於所述可調諧射頻傳輸元件（4）中的所述至少一些。
- 根據請求項1至7中任一項所述的方法，其中，在所述測試步驟期間，檢測所述偏置電勢的變化對可調諧射頻傳輸元件（4）的應用與所述光發射的所得變化之間的時間差。
- 根據請求項1至8中任一項所述的方法，其中，所述可調諧射頻傳輸元件（4）中的至少一些的傳輸線（3）的至少區段由光學透明的材料製成，並且其中在所述測試步驟期間，檢測從所述可調諧射頻傳輸元件（4）中的至少一些的傳輸線（3）的該區段的光發射。
- 一種用於在相位陣列天線內使用的層佈置（1），藉此所述層佈置（1）包括：多個可調諧射頻傳輸元件（4），其被佈置在至少兩個堆疊介電層（5、6）上或之間，其中可調諧介電材料（12）的層夾在所述至少兩個堆疊介電層（5、6）之間，其中每個可調諧射頻傳輸元件（4）包括具有可調諧能力的至少一個傳輸線（3），所述至少一個傳輸線（3）與到至少一個偏置電路的偏置線（10、11）導電連接，其中，至少一個介電層（5、6）由光學透明的材料製成，其中所述可調諧射頻傳輸元件（4）中的每一個的偏置線（10、11）的至少部分由光學透明且導電的材料製成，並且其中所述可調諧介電材料（12）是從材料組中選擇，所述材料組中的材料按照所述可調諧介電材料（12）的相應調諧狀態來影響對所述可調諧介電材料（12）進行照明的光的透射或反射。
- 根據請求項10所述的層佈置（1），其中，所述可調諧射頻傳輸元件（4）中的每一個的偏置線（10、11）的重疊區段包括測試區域（13），其中所述測試區域（13）的寬度大於所述測試區域（13）外的偏置線（10、11）的寬度。
- 根據請求項10或請求項11所述的層佈置（1），其中，所述傳輸線（3）的至少區段由光學透明的材料製成。
- 根據請求項10至12中任一項所述的層佈置（1），其中，所述可調諧射頻傳輸元件（4）是相移單元或者包括一個或多個相移單元。
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