TW202304367A - 基站及清潔機器人系統 - Google Patents
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Abstract
本公開涉及智能家居技術領域,提出了一種基站及清潔機器人系統。基站用於清洗清潔機器人的清潔系統,包括基站本體和清洗組件,基站本體包括清潔槽;清洗組件可移動地設置在基站本體上,清洗組件包括出液裝置,由出液裝置排出的清洗液體用於清洗清潔系統並進入清潔槽。清洗組件與清潔系統位置相對後,通過移動清洗組件,且出液裝置會隨著清洗組件移動,清洗組件能夠將清潔系統上的雜物移除,即清潔機器人能夠在清洗組件上實現自動清潔。
Description
本公開涉及智能家居技術領域,尤其涉及一種基站及清潔機器人系統
相關技術中的清潔機器人,在清潔機器人執行濕式清潔任務後,通常情況下需要對濕式清潔部進行清潔,現階段多通過人工清潔,或者直接更換新的清潔部,使用極其不便。
本公開提供一種基站及清潔機器人系統,用於清潔系統的自動清洗。
根據本公開的第一個方面,提供了一種基站,用於清洗清潔機器人的清潔系統,包括:
基站本體,基站本體包括清潔槽;
清洗組件,清洗組件可移動地設置在基站本體上,清洗組件包括出液裝置,由出液裝置排出的清洗液體用於清洗清潔系統並進入清潔槽。
在本公開的一個實施例中,清洗組件還包括:
清洗組件支架,出液裝置設置在清洗組件支架上。
在本公開的一個實施例中,清洗組件還包括驅動部,驅動部分別與基站本體和清洗組件支架相連接,以驅動清洗組件支架相對於基站本體移動。
在本公開的一個實施例中,基站還包括:
送液通道,送液通道的一端用於連通供液部,送液通道的另一端連通出液裝置,以使供液部通過送液通道將清洗液體送入出液裝置;
其中,送液通道的至少部分隨清洗組件支架可移動地設置。
在本公開的一個實施例中,出液裝置上間隔設置有多個出液口。
在本公開的一個實施例中,清洗組件還包括:
清潔件,清潔件設置在清洗組件支架上,且清潔件與出液裝置相平行。
在本公開的一個實施例中,清潔件包括第一清洗件和第二清洗件,第一清洗件和第二清洗件通過與清潔系統相干涉將清潔系統的雜物移除。
在本公開的一個實施例中,第一清洗件包括清洗輥筒,且清洗輥筒相對於清洗組件支架可轉動地設置。
在本公開的一個實施例中,第二清洗件包括清洗刮片。
在本公開的一個實施例中,出液裝置上設置有出液口,出液口設置為朝向第一清洗件和第二清洗件中的至少一者,由出液口排出的清洗液體噴灑至第一清洗件和第二清洗件中的至少一者。
在本公開的一個實施例中,出液裝置上設置有出液口,出液口設置為朝向清潔系統,由出液口排出的清洗液體噴灑至清潔系統。
在本公開的一個實施例中,基站還包括:送液通道,送液通道的一端用於連通供液部,送液通道的另一端連通出液裝置,送液通道設置泵體,供液部內的清洗液體在泵體的作用下輸送至出液裝置。
根據本公開的第二個方面,提供了一種清潔機器人系統,包括上述的基站和清潔機器人。
根據本公開的第三個方面,提供了一種基站,用於清洗清潔機器人的清潔系統,基站包括:
基站本體;
清洗組件,清洗組件可以動地設置在基站本體上,清洗組件包括第一清洗件和不同於第一清洗件的第二清洗件;
其中,第一清洗件和第二清洗件通過與清潔系統的干涉,將清潔系統上的雜物移除。
在本公開的一個實施例中,清洗組件還包括:
清洗組件支架,第一清洗件和第二清洗件平行設置在清洗組件支架上。
在本公開的一個實施例中,第一清洗件包括清洗輥筒,且清洗輥筒相對於清洗組件支架可轉動地設置。
在本公開的一個實施例中,清洗輥筒外表面設置毛刷和/或葉片。
在本公開的一個實施例中,第二清洗件包括清洗刮片。
在本公開的一個實施例中,當清潔機器人移動至基站本體,清洗組件被配置為相對於基站本體移動;其中,
清洗輥筒被配置為在轉動過程中利用外表面設置的毛刷和/或葉片與清潔機器人的清潔系統相干涉;
清洗刮片被配置為在相對於基站本體移動過程中與清潔機器人的清潔系統相干涉。
在本公開的一個實施例中,清洗組件還包括驅動部,驅動部分別與基站本體和清洗組件支架相連接,以驅動清洗組件支架相對於基站本體移動。
在本公開的一個實施例中,驅動部還與第一清洗件驅動連接,以驅動第一清洗件相對於清洗組件支架轉動。
在本公開的一個實施例中,驅動部同時驅動清洗組件支架相對於基站本體移動和第一清洗件相對於清洗組件支架轉動。
在本公開的一個實施例中,驅動部驅動清洗組件支架相對於基站本體向左移動,同時驅動第一清洗件相對於清洗組件支架順時針轉動;
驅動部驅動清洗組件支架相對於基站本體向右移動,同時驅動第一清洗件相對於清洗組件支架逆時針轉動。
在本公開的一個實施例中,清洗組件包括多個第一清洗件,多個第一清洗件設置於第二清洗件兩側。
在本公開的一個實施例中,清洗組件還包括:
出液裝置,出液裝置排出的清洗液體用於清洗清潔機器人的清潔系統。
根據本公開的第四個方面,提供了一種清潔機器人系統,包括上述的基站和清潔機器人。
根據本公開的第五個方面,提供了一種基站,用於清洗清潔機器人的清潔系統,基站包括:
基站本體,基站本體包括清潔槽;
清洗組件,清洗組件近似水平地設置於基站本體上,清洗組件包括出液裝置和清潔件;
其中,由出液裝置排出的清洗液體用於通過清潔件清洗清潔系統並進入清潔槽。
在本公開的一個實施例中,清洗組件可移動地設置在基站本體上。
在本公開的一個實施例中,清洗組件還包括:
清洗組件支架,出液裝置和清潔件設置在清洗組件支架上,且出液裝置與清潔件相平行。
在本公開的一個實施例中,清洗組件還包括驅動部,驅動部分別與基站本體和清洗組件支架相連接,以驅動清洗組件支架相對於基站本體移動。
在本公開的一個實施例中,基站還包括:
送液通道,送液通道的一端用於連通供液部,送液通道的另一端連通出液裝置,以使供液部通過送液通道將清洗液體送入出液裝置;
其中,送液通道的至少部分隨清洗組件支架可移動地設置。
在本公開的一個實施例中,出液裝置上間隔設置多個出液口。
在本公開的一個實施例中,清潔件包括第一清洗件和第二清洗件,第一清洗件和第二清洗件通過與清潔系統相干涉將清潔系統的雜物移除。
在本公開的一個實施例中,第一清洗件包括清洗輥筒,且清洗輥筒相對於清洗組件支架可以轉動地設置。
在本公開的一個實施例中,第二清洗件包括清洗刮片。
在本公開的一個實施例中,出液口設置為朝向第一清洗件和第二清洗件中的至少一者,由出液口排出的清洗液體噴灑至第一清洗件和第二清洗件中的至少一者。
在本公開的一個實施例中,當清潔機器人移動至基站本體,清洗組件被配置為相對於基站本體移動;其中,
清洗輥筒被配置為在轉動過程中利用外表面設置的毛刷和/或葉片與清潔機器人的清潔系統相干涉;
清洗刮片被配置為在相對於基站本體移動過程中與清潔機器人的清潔系統相干涉。
在本公開的一個實施例中,驅動部還與第一清洗件驅動連接,以驅動第一清洗件相對於清洗組件支架轉動。
在本公開的一個實施例中,驅動部同時驅動清洗組件支架相對於基站本體移動和第一清洗件相對於清洗組件支架轉動。
在本公開的一個實施例中,
驅動部驅動清洗組件支架相對於基站本體向左移動,同時驅動第一清洗件相對於清洗組件支架順時針轉動;
驅動部驅動清洗組件支架相對於基站本體向右移動,同時驅動第一清洗件相對於清洗組件支架逆時針轉動。
在本公開的一個實施例中,清洗組件包括多個第一清洗件,多個第一清洗件設置於第二清洗件兩側。
根據本公開的第六個方面,提供了一種清潔機器人系統,包括上述的基站和清潔機器人。
本公開實施例中的基站在清洗組件與清潔系統位置相對後,通過移動清洗組件,且出液裝置會隨著清洗組件移動,清洗組件能夠將清潔系統上的雜物移除,即清潔機器人能夠在基站上實現自動清潔。
體現本公開特徵與優點的典型實施例將在以下的說明中詳細敘述。應理解的是本公開能夠在不同的實施例上具有各種的變化,其皆不脫離本公開的範圍,且其中的說明及附圖在本質上是作說明之用,而非用以限制本公開。
在對本公開的不同示例性實施方式的下面描述中,參照附圖進行,附圖形成本公開的一部分,並且其中以示例方式顯示了可實現本公開的多個方面的不同示例性結構,系統和步驟。應理解的是,可以使用部件,結構,示例性裝置,系統和步驟的其他特定方案,並且可在不偏離本公開範圍的情況下進行結構和功能性修改。而且,雖然本說明書中可使用術語“之上”,“之間”,“之內”等來描述本公開的不同示例性特徵和元件,但是這些術語用於本文中僅出於方便,例如根據附圖中的示例的方向。本說明書中的任何內容都不應理解為需要結構的特定三維方向才落入本公開的範圍內。
如圖1至圖23所示,本公開實施例的清潔機器人系統可以包括清潔機器人10和基站。
在本公開實施例中,如圖3和圖4所示,清潔機器人10可以包括機器主體110、感測系統120、控制模組130、驅動系統140、清潔系統150、能源系統160和人機互動系統170。
如圖3所示,機器主體110包括前向部分111和後向部分112,具有近似圓形形狀(前後都為圓形),也可具有其他形狀,包括但不限於前方後圓的近似D形形狀及前方後方的矩形或正方形形狀。
如圖3所示,感測系統120包括位於機器主體110上的位置確定裝置121、設置於機器主體110的前向部分111的緩衝器122上的碰撞感測器、近距離感測器,設置於機器主體下部的懸崖感測器,以及設置於機器主體內部的磁力計、加速度計、陀螺儀、里程計等感測裝置,用於向控制模組130提供機器的各種位置資訊和運動狀態資訊。位置確定裝置121包括但不限於攝像頭、鐳射測距裝置(LDS,全稱Laser Distance Sensor)。
如圖3所示,機器主體110的前向部分111可承載緩衝器122,在清潔過程中驅動輪模組141推進清潔機器人10在地面行走時,緩衝器122經由設置在其上的感測器系統,例如紅外線感測器,檢測清潔機器人10的行駛路徑中的一個或多個事件,清潔機器人10可通過由緩衝器122檢測到的事件,例如障礙物、牆壁,而控制驅動輪模組141使清潔機器人10來對事件做出回應,例如遠離障礙物。
控制模組130設置在機器主體110內的電路主板上,包括與非暫時性記憶體,例如硬碟、快閃記憶體、隨機存取記憶體,通信的計算處理器,例如中央處理單元、應用處理器,應用處理器根據鐳射測距裝置反饋的障礙物資訊利用定位算法,例如即時定位與地圖構建(SLAM,全稱Simultaneous Localization And Mapping),繪製清潔機器人10所在環境中的即時地圖。並且結合緩衝器122上所設置感測器、懸崖感測器、磁力計、加速度計、陀螺儀、里程計等感測裝置反饋的距離資訊、速度資訊綜合判斷清潔機器人10當前處於何種工作狀態、位於何位置,以及清潔機器人10當前位姿等,如過門檻,上地毯,位於懸崖處,上方或者下方被卡住,塵盒滿,被拿起等等,還會針對不同情況給出具體的下一步動作策略,使得清潔機器人10有更好的清掃性能和用戶體驗。
如圖4所示,驅動系統140可基於具有距離和角度資訊(例如x、y及θ分量)的驅動命令而操縱機器主體110跨越地面行駛。驅動系統140包含驅動輪模組141,驅動輪模組141可以同時控制左輪和右輪,為了更為精確地控制機器的運動,優選驅動輪模組141分別包括左驅動輪模組和右驅動輪模組。左、右驅動輪模組沿著由機器主體110界定的橫向軸設置。為了清潔機器人10能夠在地面上更為穩定地運動或者更強的運動能力,清潔機器人10可以包括一個或者多個從動輪142,從動輪包括但不限於萬向輪。驅動輪模組包括行走輪和驅動馬達以及控制驅動馬達的控制電路,驅動輪模組還可以連接測量驅動電流的電路和里程計。驅動輪模組141可以可拆卸地連接到機器主體110上,方便拆裝和維修。驅動輪可具有偏置下落式懸掛系統,以可移動方式緊固,例如以可旋轉方式附接,到機器主體110,且接收向下及遠離機器主體110偏置的彈簧偏置。彈簧偏置允許驅動輪以一定的著地力維持與地面的接觸及牽引,同時清潔機器人10的清潔元件也以一定的壓力接觸地面。
能源系統包括充電電池,例如鎳氫電池和鋰電池。充電電池可以連接有充電控制電路、電池組充電溫度檢測電路和電池欠壓監測電路,充電控制電路、電池組充電溫度檢測電路、電池欠壓監測電路再與單片機控制電路相連。主機通過設置在機身側方或者下方的充電電極與充電樁連接進行充電。
人機互動系統170包括主機面板上的按鍵,按鍵供用戶進行功能選擇;還可以包括顯示螢幕和/或指示燈和/或喇叭,顯示螢幕、指示燈和喇叭向用戶展示當前機器所處狀態或者功能選擇項;還可以包括手機客戶端程式。對於路徑導航型清潔機器人,在手機客戶端可以向用戶展示設備所在環境的地圖,以及機器所處位置,可以向用戶提供更為豐富和人性化的功能項。
清潔系統可為乾式清潔系統151和/或濕式清潔系統400。
如圖4所示,本公開實施例所提供的乾式清潔系統151可以包括滾刷、塵盒、風機、出風口。與地面具有一定干涉(或交互作用)的滾刷將地面上的垃圾掃起並捲帶到滾刷與塵盒之間的吸塵口前方,然後被風機產生並經過塵盒的有吸力的氣體吸入塵盒。清潔機器人10的除塵能力可用垃圾的清掃效率(DPU,全稱Dust PickUp efficiency)進行表徵,清掃效率DPU受滾刷結構和材料影響,受吸塵口、塵盒、風機、出風口以及四者之間的連接部件所構成的風道的風力利用率影響,受風機的類型和功率影響,是個複雜的系統設計問題。相比於普通的插電吸塵器,除塵能力的提高對於能源有限的清潔機器人來說意義更大。因為除塵能力的提高直接有效降低了對於能源要求,也就是說原來充一次電可以清掃80平方公尺地面的機器,可以進化為充一次電清掃180平方公尺甚至更多。並且減少充電次數的電池的使用壽命也會大大增加,使得用戶更換電池的頻率也會增加。更為直觀和重要的是,除塵能力的提高是最為明顯和重要的用戶體驗,用戶會直接得出掃得是否乾淨/擦得是否乾淨的結論。乾式清潔模組還可包含具有旋轉軸的邊刷152,旋轉軸相對於地面成一定角度,以用於將碎屑移動到清潔系統150的滾刷區域中。
如圖4至圖8,本公開實施例所提供的濕式清潔系統400可以包括:清潔頭410、驅動單元420、送水機構、儲液箱13等。其中,清潔頭410可以設置於儲液箱13下方,儲液箱13內部的清潔液通過送水機構傳輸至清潔頭410,以使清潔頭410對待清潔平面進行濕式清潔。在本公開其他實施例中,儲液箱13內部的清潔液也可以直接噴灑至待清潔平面,清潔頭410通過將清潔液塗抹均勻實現對平面的清潔。
其中,清潔頭410用於清潔待清潔表面,驅動單元420用於驅動清潔頭410沿著目標面基本上往復運動的,目標面為待清潔表面的一部分。清潔頭410沿待清潔表面做往復運動,清潔頭410與待清潔表面的接觸面表面設有清潔布或清潔板,通過往復運動與待清潔表面產生高頻摩擦,從而去除待清潔表面上的污漬。
摩擦頻率越高,代表單位時間內的摩擦次數越多,高頻往復運動,也叫往復震動,清潔能力要遠大於普通的往復運動,比如轉動,摩擦清洗,可選地,摩擦頻率接近聲波,清潔效果會遠高於每分鐘幾十圈的轉動摩擦清洗。另一方面,清潔頭410表面的毛簇會在高頻震動的抖動下更加整齊劃一朝同一方向延展,因此整體清潔效果更加均勻,而不是在低頻率轉動的情況下僅僅被施加下壓力增大摩擦力而提高清潔效果,僅僅下壓力並不會使毛簇們朝接近同一方向延展,在效果上的體現就是高頻震動清潔後的待清潔表面水痕更加均勻,不會留下混亂的水漬。
往復運動可以是沿待清潔表面內任意一個或多個方向的反復運動,也可以是垂直於待清潔表面的震動,對此不做嚴格限制。可選地,清潔模組的往復運動方向與機器行進方向大致垂直,因為平行於機器行進方向的往復運動方向會對行進中的機器本身帶來不穩定,因為行進方向上的推力和阻力會使驅動輪容易打滑,在包含濕式清潔模組的情況下打滑的影響更為明顯,因為待清潔表面的濕滑增加了打滑的可能性,而打滑除了影響機器的平穩行進清潔外,更會造成里程計、陀螺儀等感測器測距不準,從而導致導航型清潔機器人不能準確定位和畫地圖,在打滑頻發的情況下,對SLAM的影響將不能忽略,因此需要儘量避免打滑的機器行為。除了打滑之外,在機器行進方向上的清潔頭410運動分量使得機器在行進時不停地受向前向後的推動,因此機器的行走會一頓一頓地不穩定平順。
在本公開實施例中,如圖5所示,驅動單元420還可以包括:驅動平臺421,連接於機器主體110底面,用於提供驅動力;支撐平臺422,可拆卸的連接於驅動平臺421,用於支撐清潔頭410,且可以在驅動平臺421的驅動下實現升降。
作為本公開的可選實施例,濕式清潔系統400可以通過主動式升降模組與機器主體110相連接。當濕式清潔系統400暫時不參與工作,例如,清潔機器人10停靠基站對濕式清潔系統400的清潔頭410進行清洗、對儲液箱13進行注水;或者遇到無法採用濕式清潔系統400進行清潔的待清潔表面時,通過主動式升降模組將濕式清潔系統400升起。
在本公開實施例所提供的濕式清潔系統400中,清潔頭410、驅動平臺421、支撐平臺422、送水機構以及儲液箱13等可以通過一個電機或多個電機提供動力。能源系統160為該電機提供動力和能源,並由控制模組130進行整體控制。
其中,本公開實施例中的送水機構可以包括出水裝置,出水裝置可以與儲液箱13的出液口直接或間接相連接,其中,如圖10所示,清潔液可以經儲液箱13的清潔液出口流向出水裝置4217,並可以通過出水裝置均勻地塗在待清潔表面上。出水裝置上可以設有連接件,出水裝置通過連接件與儲液箱13的清潔液出口連接。出水裝置上設有分配口,分配口可以是連續的開口,也可以由若干斷開的小開口組合而成,分配口處可以設有若干噴嘴。清潔液經儲液箱13的清潔液出口和出水裝置的連接件流向分配口,經分配口均勻地塗在待清潔表面上。
如圖5和圖10所示,送水機構還可以包括清水泵4219和/或清水泵管4218,清水泵4219與儲液箱13的清潔液出口可以直接連通,也可以通過清水泵管4218連通。
清水泵4219可以同出水裝置的連接件連接,並且可以被配置為從儲液箱13中抽取清潔液至出水裝置。清水泵可為齒輪泵、葉片泵、柱塞泵、蠕動泵等等。
送水機構通過清水泵4219和清水泵管4218將儲液箱13中的清潔液抽出,並運送到出水裝置,出水裝置4217可以為噴頭、滴水孔、浸潤布等,並將水均勻散佈在清潔頭410上,從而濕潤清潔頭410與待清潔表面。濕潤後的待清潔表面上的污漬能夠更容易的被清潔乾淨。在濕式清潔系統400中,清水泵的功率/流量可以調整。
在本公開實施例中,儲液箱13還包括補水口16,如圖7至圖9所示,補水口16可以位於儲液箱13側壁,當清潔機器人10停靠基站時,基站可以通過該補水口16向清潔機器人10的儲液箱13注水。
在本公開實施例中,如圖7所示,儲液箱13上設置有第二定位部14,第二定位部14用於與基站相連接,以此使得基站可以通過該補水口16向清潔機器人10的儲液箱13注水。
在本公開實施例中,如圖8所示,儲液箱13的補水口16上設置有閥門17,閥門17可打開和閉合地設置,以控制補水口16與儲液箱13的連通與斷開。儲液箱13內設置有管路18,管路18的一端設置有閥門17。
在本公開實施例中,閥門17可以是電子閥,也可以是手動閥,通過相應的控制來確保其處於打開或者閉合。在本公開其他實施例中,閥門17還可以是止逆閥,當儲液箱13完成補液,補水口16與儲液箱13的連接斷開之後,閥門17自動閉合,防止儲液箱13中清潔液流出。例如,閥門17可以是十字閥、升降式逆止閥、旋啟式逆止閥等。
在本公開實施例中,洗清潔機器人10還包括第一充電接觸極片12,第一充電接觸極片12可以設置在機器主體110上,並與清潔機器人10的能源系統相連接,清潔機器人10停靠基站時,基站可以通過第一充電接觸極片12向清潔機器人10的能源系統充電。在本公開實施例中,第一充電接觸極片12可以位於清潔機器人10機身側面,此設置可以防止地面積水污染第一充電接觸極片12,還可以在清潔機器人10停靠基站進行儲液箱13注水或清洗清潔機器人10的清潔系統150時防止充電接觸極片遇水造成對清潔機器人10的損害。
在本公開實施例中,如圖11所示,基站包括基站本體20和清洗組件30,清洗組件30可移動地設置在基站本體20上,基站本體20包括清潔槽21,清洗組件30包括出液裝置36,由出液裝置36排出的清洗液體用於清洗清潔機器人10清潔系統150並進入清潔槽21。
在本公開實施例中,基站的出液裝置36移動設置,可以將清洗液更為均勻地噴灑或塗抹至清潔機器人10的清潔系統150,使清洗組件30在清洗清潔機器人10的清潔系統150時,可以保證清洗液及時浸濕清潔系統150。
另外,從而在實現對清潔系統150清洗的基礎上,避免清洗液體溢出而流入外部環境,或者流入到清潔機器人10的相關電力部件上而引發安全問題。
在本公開實施例中,當清潔機器人10停靠至基站本體20並固定不動,清洗組件30與清潔機器人10的清潔系統150相接觸,並相對於基站本體20以及清潔機器人10移動,出液裝置36排出的清洗液將清潔機器人10的清潔系統150浸濕,可以有效清洗清潔機器人10的清潔系統150。
需要說明的是,基站的清洗組件30移動時,由出液裝置36排出的清潔液體可以用於對清潔機器人10的清潔系統150進行清潔,即清潔機器人10的清潔系統150上的雜物可以在清潔液體的幫助下移除,在出液裝置36移動過程中實現對清潔系統150的均勻浸潤。
在本公開實施例中,如圖11所示,清洗組件30還包括:清洗組件支架33,清洗組件支架33可移動地設置在基站本體20上,出液裝置36設置在清洗組件支架33上,即清洗組件支架33作為一個移動部件,保證出液裝置36能夠隨之移動,以此保證清潔液體由不同位置處排出,均勻浸濕被清洗物體。
在本公開實施例中,基站還包括:送液通道,送液通道的一端用於連通供液部70,送液通道的另一端連通出液裝置36,以使供液部70通過送液通道將清洗液體送入出液裝置36;其中,送液通道的至少部分隨清洗組件支架33可移動地設置。供液部70實現了對清洗液體的存儲,而送液通道為一個傳輸部件,以此隨清洗組件支架33移動。
在本公開實施例中,送液通道為送液管,送液管與清洗組件支架33相連接,即在清洗組件支架33上設置有出液裝置36,送液管的兩端分別連通供液部70和出液裝置36,以此實現供液。
可選的,送液通道設置泵體,供液部70內的清洗液體在泵體的作用下輸送至出液裝置36,可以保證清洗液體具有一定的衝擊力,以此提高清洗能力。
在本公開實施例中,出液裝置36上間隔設置有多個出液口35,清洗液體通過出液口35排出,並能夠實現多個位置處的出液,提高清洗效率。
可選的,出液裝置36屬於清洗組件支架33的一部分,多個出液口35間隔地設置在清洗組件支架33上,以此實現對多個位置處的出液。
在本公開實施例中,如圖13所示,設置於清洗組件30下方的清潔槽21上可以設置有抽液口211,清潔槽21內的清洗液體能夠由抽液口211排出,以此保證清潔槽21內的清洗液體及時進行更換。
在本公開實施例中,結合圖14所示,基站還包括收集箱71,收集箱71通過抽液口211與清潔槽21相連通,從而使得清潔槽21內的污水流入到收集箱71內。
具體的,結合圖14所示,基站還包括供液部70,供液部70與出液口35之間通過送液管道相連通,用於提供清洗清潔機器人10的清潔系統150的清潔液。
在本公開實施例中,基站還包括:第一泵體和第二泵體,第一泵體用於向清潔槽21內送入清洗液體;第二泵體用於抽走清潔槽21內的清洗液體。第一泵體和第二泵體分別實現對清洗液體的送入和抽出,以此保證清潔槽21內的清洗液體的更換,保證清洗效果。
第一泵體與供液部70相連通,從而通過出液口35將供液部70內的清洗液體送入清潔槽21內。第二泵體與收集箱71相連通,從而通過抽液口211將清潔槽21內的清洗液體抽入到收集箱71內。
在本公開實施例中,第一泵體和第二泵體能夠同時工作,第一泵體將清洗液體噴入清潔槽21,第二泵體將清洗液體抽出清潔槽21,即清洗液體在清潔槽21內實現快速流動。
在本公開實施例中,如圖12和圖15A所示,清洗組件30還包括:清潔件,清潔件設置在清洗組件支架33上,清潔件可以與出液裝置36相平行,該設置可以保證清洗組件30的結構緊湊,並且該緊湊結構可以保證清洗件在執行清洗操作時,清潔機器人10的清潔系統150被出液裝置36排出的清潔液及時浸潤,幫助清潔件對清潔機器人10的清潔系統150的清潔。
需要說明的是,清潔件與出液裝置36相平行,即清潔件的延伸方向與出液裝置36的多個出液口35的中心點相連接形成的直線相平行。
在本公開實施例中,清洗組件30可以近似水平設置於基站本體20上,如圖11和圖12所示。在該種設置方式下,清潔機器人可以近似水平的方式停靠基站並進行清洗,減小清潔機器人因為過度傾斜造成脫樁的風險。另外,由於清洗組件30上設置有出液裝置36和清洗件,清洗組件30近似水平設置可以較好控制清洗液體順利落入清潔槽21,避免清洗液體沿著傾斜的清洗組件30滑至水槽以外。
在本公開實施例中,如圖15A所示,清潔件可以包括:第一清洗件31,第一清洗件31設置在清洗組件支架33上,第一清洗件31通過與清潔系統150之間的接觸以及相對運動將清潔機器人10清潔系統150的雜物移除。另外,出液裝置36上的出液口35可以朝向第一清洗件31設置,在該設置方式下,出液口35排出的清洗液可以首先噴至第一清洗件31,以便於第一清洗件31將清洗液均勻塗抹至清潔機器人10的清潔系統150。在本公開其他實施例中,出液口35排出的清潔液也可以直接噴灑至清潔機器人10的清潔系統150,本公開對此不做限制。在本公開實施例中,第一清洗件31可以是繞平行於出液裝置36的軸線自轉的清洗輥筒等,例如毛刷輥筒或軟膠輥筒等。
在本公開實施例中,如圖15A所示,清潔件還可以包括:第二清洗件32,第二清洗件32設置在清洗組件支架33上,第二清洗件32通過與清潔系統150之間的接觸以及相對運動,並配合第一清洗件31將清潔系統150上的雜物移除。第二清洗件32可以平行設置於第一清洗件31的任何一側,如存在多個第二清洗件32,第二清洗件32可以平行分佈於第一清洗件31的任何一側或兩側。如圖15A所示,第二清洗件32設置於第一清洗件31的一側,且位於出液裝置36的上方。在本公開實施例中,第二清洗件32可以是軟膠刮片等。
具體的,當清潔機器人10至基站本體20時,清洗組件30與清潔系統150位置相對,清洗組件30相對於基站本體20移動,第一清洗件31和/或第二清洗件32均能夠與清潔系統150相接觸,以將清潔系統150上的雜物移除,即清潔機器人10能夠在清洗組件30上實現自動清潔。
在本公開實施例中,如前所述,清潔機器人10的清潔系統150可以包括乾式清潔系統151和濕式清潔系統400。下面具體介紹基站的清洗組件30對清潔機器人10的濕式清潔系統400的清洗過程。
如圖1所示,當清潔機器人10移動至基站本體20上時,清潔機器人10的濕式清潔系統400相對於基站本體20固定設置。基站的清洗組件30與清潔機器人10的濕式清潔系統400的清潔頭410相接觸。在本公開其他實施例中,清潔機器人10的濕式清潔系統400可以通過主動升降模組實現上下方向的運動。因此,當清潔機器人10停靠基站進行清洗操作時,可以調節主動升降模組,實現基站清洗組件30與清潔機器人10濕式清潔系統400的清潔頭410的較好接觸。例如,在本公開一個實施例中,可以在清潔機器人10的濕式清潔系統400完全升起時對其進行清洗。在本公開的其他實施例中,也可以在清潔機器人10的濕式清潔系統400的其他升降狀態對其進行清洗。其中,濕式清潔系統400的升降狀態可以根據濕式清潔系統400的清潔頭410的材質調節,例如,當需要清洗的清潔頭410的摩擦係數較小時,可以使清潔頭410和清洗組件30之間的接觸更為緊密,保證清洗組件30相對於基站本體20移動時,清潔頭410和清洗組件30之間的摩擦力在一定範圍之內,促使清洗工作可以進行;反之同理。另外,濕式清潔系統400的升降狀態可以根據濕式清潔系統400的清潔頭410的髒汙程度調節,例如,當需要清洗的清潔頭410較為髒汙時,可以使清潔頭410和清洗組件30之間的接觸更為緊密,使清潔頭410和清洗組件30之間產生較大摩擦力,以保證清潔頭410上的雜物被有效移除;反之同理。在本公開實施例中,濕式清潔系統400的升降狀態可以由用戶根據實際情況進行調節,也可以在特定位置,如濕式清潔系統400的清潔頭410等,設置感測器,感測器輸出特定信號至清潔機器人10的控制模組130,控制模組130根據感測器的反饋結果自動調節濕式清潔系統400的升降狀態。在本公開其他實施例中,還可以通過其他方式調節濕式清潔系統400的升降狀態,本公開對此不作限制。
在清潔機器人10固定於基站本體20上,清潔機器人10的濕式清潔系統400的清潔頭410與基站的清洗組件30實現較好接觸時,清洗組件30可以執行對清潔機器人10的濕式清潔系統400的清洗。在本公開實施例中,如圖15A所示,清洗組件30包括結構為輥筒的第一清洗件31和結構為刮片的第二清洗件32。在清洗組件30對清潔機器人10的濕式清潔系統400進行清洗過程中,清洗組件30的出水裝置可以同時工作,將清洗液噴灑至第一清洗件31上,第一清洗件31通過與清潔機器人10濕式清潔系統400的清潔頭410的接觸以及自身的轉動,將清潔液均勻塗抹至濕式清潔系統400的清潔頭410上。另外,第一清洗件31可以是毛刷輥筒或具有葉片的軟膠輥筒,清潔機器人10濕式清潔系統400的清潔頭410可以是由纖維材質或棉質的軟布、或海綿等構成。在執行清洗過程中,第一清洗件31的刷毛或葉片可以深入清潔頭410內部並與之充分接觸,並將濕式清潔系統400清潔頭410內雜物帶出。另外,第一清洗件31可以在左右移動的同時進行轉動,其刷毛或葉片在轉動過程中可以對濕式清潔系統400清潔頭410產生拍打效應,導致藏納於清潔頭410內的雜物在拍打效應產生的震動中被抖出並被刮除。同時,配合於第一清洗件31的工作,第二清洗件32的刮片對濕式清潔系統400的清潔頭410中被帶出或被抖出的雜物、以及清潔頭410上的污水進行刮除。在本公開其他實施例中,第一清洗件31可以在左右移動的同時伴隨著不同方向的轉動。例如,當第一清洗件31相對於基站本體20向左移動時,同時可以做順時針的轉動;當第一清洗件31相對於基站本體20向右移動時,同時可以做逆時針的轉動。
如前文所述,清潔系統150的濕式清潔系統400可以相對於基站本體20進行往復運動。在本公開實施例中,清洗組件30相對於基站本體20移動過程中,清潔機器人10的濕式清潔系統400可以是固定不動的,或者濕式清潔系統400也可以進行相對應的往復運動,以此配合清洗組件30的運動,保證快速實現對濕式清潔系統400的清洗。例如,當清洗組件30相對於基站本體20向左移動時,清潔機器人10的濕式清潔系統400可以進行相對於基站本體20向右的移動,以增加清洗組件30和濕式清潔系統400之間的相對運動速度,提高清潔效率。反之同理。
在本公開實施例中,第一清洗件31和第二清洗件32同步可移動地設置。
如圖15A所示,第一清洗件31和第二清洗件32均設置在清洗組件30的清洗組件支架33上,從而使得清洗組件支架33帶動第一清洗件31和第二清洗件32同步移動,且移動方向相一致,以此使得第一清洗件31和第二清洗件32依次完成對清潔系統150的清潔。在本公開其他實施例中,第一清洗件31和第二清洗件32可分別設置於不同支架上,在該種設置方式下,通過分別控制支架的運動,實現分別控制第一清洗件31和第二清洗件32的運動,實現第一清洗件31和第二清洗件32的非同步移動。例如,可以實現第一清洗件31或第二清洗件32的單獨工作;或者,可以實現第一清洗件31和第二清洗件32在對清潔頭410的同一位置進行清洗時根據實際情況形成時間差。本公開對此不做限制。
如前文所述,清洗組件30可以包括一個或多個第一清洗件31和第二清洗件32。例如,在本公開一個實施例中,清洗組件30可以包括兩個第一清洗件31和一個第二清洗件32,其中第一清洗件31分別設置於第二清洗件32兩側,如圖15C所示。在本實施例中,清洗組件30在進行往復運動過程中,第一清洗件31可以始終處於第二清洗件32的前方。該設置可以使清洗組件30在對清潔機器人10的濕式清潔系統400清潔頭410的清潔過程中,可以使第一清洗件31首先對清潔頭410的待清洗部位進行清洗,即第一清洗件31的刷毛或葉片在第一清洗件31的轉動過程中對清潔頭410產生拍打效應,導致藏納於清潔頭410內的雜物在拍打效應產生的震動中被抖出並被刮除;隨後,第二清洗件32的刮片對清潔頭410中被帶出或被抖出的雜物、以及清潔頭410上的污水進行刮除,保證清潔頭410可以被較為徹底地清洗。
在本公開一些實施例中,可以通過控制清潔槽21內水面的高度實現第一清洗件31和第二清洗件32部分浸沒於清潔槽21內清洗液中,完全浸沒於清洗液中,或完全不浸沒於清洗液內。
其中,當第一清洗件31和第二清洗件32的部分浸沒於清潔槽21內的清洗液體內,第一清洗件31在往復運動的過程中還伴隨有轉動,第一清洗件31在轉動過程中可以將清潔槽21內的清洗液帶出並塗抹至清潔機器人10的濕式清潔系統400的清潔頭410上,可以實現在基站的出水裝置不工作的情況下對清潔頭410的清洗。另外,在第一清洗件31和第二清洗件32在往復運動過程中,其上的雜質在水流的沖刷下得以祛除。
當第一清洗件31和第二清洗件32全部浸沒於清潔槽21內的清洗液體內,即清潔機器人10的濕式清潔系統400的清潔頭410可以浸沒於清潔槽21內的清洗液體內,從而使得清潔頭410可以在基站的出水裝置不工作的情況下,利用清潔槽21內的清洗液實現清洗。另外,在第一清洗件31和第二清洗件32在往復運動過程中,其上的雜質在水流的沖刷下得以祛除。
當第一清洗件31和第二清洗件32完全不浸沒於清潔槽21內的清洗液體內,清潔機器人10的濕式清潔系統400的清潔頭410完全利用基站出水裝置所噴灑出的清洗液進行清洗,可以保證清潔頭410不被清潔槽21內的雜物二次污染,因此可以適用於清潔頭410髒汙程度嚴重的情況,也可以適用於清潔槽21內的清洗液已經多次使用未更換的情況。
在本公開實施例中,如圖15A和圖16所示,基站還包括:驅動部34,驅動部34與清洗組件支架33相連接,驅動部34與基站本體20相連接,以驅動清洗組件支架33相對於基站本體20移動。
可選的,如圖15A和15B所示,驅動部34與清洗組件支架33同步相對於基站本體20移動,即在驅動部34可以包括電機和齒輪341,電機驅動齒輪341轉動,而基站本體20上可以設置有齒條342,從而使得齒輪341沿著齒條342的延伸方向移動,以此使得驅動部34與清洗組件支架33同步在基站本體20上移動。可選的,清洗組件支架33的兩側均設置有齒條342,相應的,齒輪341可以為至少兩個,該至少兩個齒輪341分別與兩個齒條342相嚙合。
另外,如前文所述,在清洗組件30相對於基站本體20移動時,清洗組件30的第一清洗件31還伴隨有自轉運動,在本公開一個實施例中,可以使用一個電機同時驅動清洗組件30相對於基站本體20的移動以及第一清洗件31的自轉運動。具體的,電機的輸出軸通過齒輪傳動組件與所述齒輪341以及第一清洗件31相連接,以在電機運行時,電機同時驅動齒輪341和第一清洗件31轉動,此時,齒輪341沿著齒條的延伸方向移動,而第一清洗件31進行自轉。齒輪傳動組件根據實際的轉速需求進行配置,此處不作限定。齒輪傳動組件包括齒輪和連接軸,進一步地,齒輪傳動組件還可以包括傳送帶或者鏈條等,此處不作限定,只要能夠保證電機同時驅動齒輪341和第一清洗件31轉動即可。在本公開的某些實施例中,不排除利用兩個電機分別驅動清洗組件30相對於基站本體20的移動以及第一清洗件31的自轉運動。
可選的,驅動部34可以固定於基站本體20上,而驅動部34可以是氣缸或油缸,驅動部34的伸縮杆與清洗組件支架33相連接,從而通過伸縮杆的伸出與縮回驅動清洗組件支架33在基站本體20上移動。在本公開其他實施例中,驅動部34也可以是電缸,或電機和傳送帶相配合的方式,只要能夠驅動清洗組件支架33移動即可,本公開對此不做限制。如前文所述,本公開實施例中的第一清洗件31和第二清洗件32可以位於不同的支架上以實現兩者的異非同步運動,為此,設置第一清洗件31和第二清洗件32的支架可以設置獨立的驅動部。本公開對此不做限制。
在本公開一個實施例中,清洗組件30相對於基站本體20的左右移動和第一清洗件31的轉動由同一驅動部驅動,如圖15D所示。在本實施例中,清洗組件30的左右移動以及第一清洗件31的轉動通過驅動部34配合多級齒輪實現。在本實施例中,驅動部34可以是電機,清洗組件30還可以包括齒輪傳動組件,電機通過齒輪傳動組件驅動清洗組件支架33移動的同時第一清洗件31轉動,即驅動齒輪341和第一清洗件31同步轉動。
如圖15D所示,齒輪傳動組件包括第一齒輪371、第二齒輪372、第三齒輪373、第四齒輪374、第五齒輪375、第六齒輪376、第七齒輪377、第八齒輪378以及第九齒輪379。電機與第一齒輪371相連接,第一齒輪371與第二齒輪372相嚙合,第二齒輪372與第三齒輪373相嚙合,且第二齒輪372位於第一齒輪371和第三齒輪373之間,從而在電機驅動第一齒輪371轉動時,第一齒輪371通過第二齒輪372驅動第三齒輪373轉動。第四齒輪374與第三齒輪373相連接,且第四齒輪374與第三齒輪373同軸設置,從而使得第三齒輪373帶動第四齒輪374同步轉動。第四齒輪374與第五齒輪375相嚙合,以此驅動第五齒輪375轉動。第六齒輪376與第五齒輪375相連接,且第六齒輪376與第五齒輪375同軸設置,從而使得第五齒輪375帶動第六齒輪376同步轉動,而連接於第六齒輪376與第五齒輪375上的第一轉軸311帶動第一清洗件31進行轉動。第六齒輪376與第七齒輪377相嚙合,從而驅動第七齒輪377轉動。第八齒輪378與第七齒輪377相連接,且第八齒輪378與第七齒輪377同軸設置,從而使得第七齒輪377帶動第八齒輪378同軸轉動。第八齒輪378與第九齒輪379相嚙合,從而驅動第九齒輪379轉動,而連接於第九齒輪379的第二轉軸343會帶動設置在其上的齒輪341轉動,以此使得齒輪341沿著齒條342進行移動。
在本實施例中,電機可以實現正轉與反轉,因此可以驅動清洗組件支架33沿兩個相反的方向進行移動,同時會驅動第一清洗件31沿兩個方向進行轉動(即順時針的轉動以及逆時針的轉動)。例如,電機可以驅動清洗組件支架33相對於基站本體20向左移動的同時,驅動第一清洗件31順時針轉動;電機也可以驅動清洗組件支架33相對於基站本體20向右移動的同時,驅動第一清洗件31逆時針轉動。需要說明的是,對於上述各個齒輪的類型和大小此處不作限定,可以根據實際需求進行相應的選擇。
在本公開實施例中,出液裝置36的出液口35可以朝向第一清洗件31和第二清洗件32中的至少一者,由出液口35排出的清洗液體能夠衝擊第一清洗件31和第二清洗件32中的至少一者。即出液口35不僅作為清洗液體進入清潔槽21的通道,且出液口35還能夠使得水流衝擊第一清洗件31、第二清洗件32以及清潔機器人10濕式清潔系統400的清潔頭410中的至少一者,以此實現對其相應的清潔。
在本公開實施例中,第一清洗件31和第二清洗件32並列設置,出液裝置36的出液口35位於第二清洗件32下方並朝向第一清洗件31,出液口35將供液部70中的清洗液體噴至第一清洗件31,並通過第一清洗件31的自轉與清潔機器人10的濕式清潔系統400的清潔頭410產生干涉(或交互作用),將清洗液塗抹至清潔頭410。在本公開其他實施例中,出液裝置36的出液口35的出液方向可以朝向清潔頭410,直接將清洗液的噴灑至清潔頭410,利用清洗液對清潔頭410的衝擊,並配合第一清洗件31和第二清洗件32,實現對清潔頭410的清洗。
另外,在本公開其他實施例中,出液裝置36還可以和清洗組件30,即第一清洗件31和第二清洗件32,分別獨立設置。該設置可以在有些部件無法工作的情況下不影響其他部件的工作。例如,基站可以僅僅利用出液裝置36完成對清潔頭410的清洗,即完全利用清洗液對清潔頭410的衝擊實現對清潔頭410的清洗。
在本公開實施例中,出液裝置36上可以排布多個出液口35,該多個出液口35可以同時工作,也可以按照按預設規則依次排出清洗液體,即多個出液口35並非是同時排出清洗液體。例如,可以通過由不同水泵或閥門實現對不同出液口35出水時間以及頻率的控制。該設置可以使基站的使用適配不同形狀以及大小的清潔頭410,例如當清潔頭410清洗面積較小時,可以控制多個出液口35中的一部分工作,避免清洗液的浪費。
以上主要針對清潔機器人10的濕式清潔系統400的清潔頭410的清洗,在本公開其他實施例中,基站還可以對清潔機器人10的其他元件進行清洗,本公開不做限制。
在本公開實施例中,如圖11和圖12所示,基站還包括:補水接頭50,補水接頭50設置在基站本體20上,補水接頭50用於與清潔機器人10的儲液箱13的補水口16相連接,從而實現向清潔機器人10的儲液箱13注水。
在本公開實施例中,清潔機器人10可以移動並停靠至基站本體20上,如圖1所示,以進行後續的補液。
本實施例中的基站在清潔機器人10移動至基站本體20時,基站的補水接頭50能夠與清潔機器人10的補水口16相連接,以使基站通過補水接頭50向儲液箱13供液。
在本公開實施例中,由於清潔機器人10在停靠基站的過程中,會存在微小的左右擺動,為使基站補水接頭50可以較好對準清潔機器人10儲液箱13的補水口16,基站的補水接頭50的至少部分可活動地設置,例如,補水接頭50由柔性材料構成,或將補水接頭50設置於柔性材料之上。
在本公開實施例中,如圖17和圖18所示,補水接頭50包括:主體部51,主體部51與基站本體20相連接;密封部52,密封部52的一端與主體部51相連接;接頭部53,接頭部53與密封部52遠離主體部51的另一端相連接,接頭部53用於與儲液箱13相連接;其中,密封部52由柔性材料製備而成。
具體的,主體部51是液體的主流道,接頭部53為硬質的接口部,用於與清潔機器人10的儲液箱13的補水口16相連接,密封部52為軟質結構,通過設置軟質的密封部52,可以使補水接頭50產生徑向和軸向的運動,利於與儲液箱13的補水口16對齊對準。
在本公開實施例中,如圖17所示,補水口16用於與補水接頭50相適配,即補水接頭50的一端可以插設在補水口16內,進一步地,補水接頭50的接頭部53插設在補水口16內。如前文所述,清潔機器人10的補水口16處設置有閥門,例如補水口16處設置有十字閥,當基站的補水接頭50與清潔機器人10的補水口16對準後,基站開始通過補水口16向儲液箱13補水,十字閥在來自補水接頭50方向的水壓的作用下打開,使得補水口16與儲液箱13導通,清潔液流入儲液箱13,當補水完成後,補水口16處來自補水接頭50方向的水壓消失,十字閥閉合,使得補水口16與儲液箱13斷開,避免儲液箱13中清潔液流出。
在本公開實施例中,還可以在清潔機器人10停靠基站為儲液箱13補水時,為清潔機器人10的驅動輪增加一個向前的驅動力。由於在為儲液箱13補水過程中,基站的補水接頭50在出水過程中會對清潔機器人10產生一個向後的推力,導致清潔機器人10產生一個向後的運動趨勢。而增加在驅動輪上的向前的驅動力可至少抵消一部分該推力,保證清潔機器人10在為儲液箱13補水時更為穩定。在本公開其他實施例中,該向前的驅動力的增加與否,以及驅動力的大小,可以由補水接頭50的出水速度、清潔機器人10自身的質量、或者清潔機器人10停靠基站時驅動輪與基站停靠面之間的摩擦力等因素確定,本公開對此不做限制。
為使清潔機器人10的儲液箱13可以及時補充清潔液,可以在清潔機器人10上設置感測器,以檢測儲液箱13中的液面變化。例如,可以在儲液箱13中設置包含磁性元件的浮漂,並在儲液箱13或清潔機器人10本體上設置一個或多個磁感應元件,以檢測儲液箱13中的液面變化。當儲液箱13中液面低於預定閾值時,清潔機器人10可以自動返回基站補水,或清潔機器人10可以通過app或語音等向用戶發出提醒,由用戶控制清潔機器人10返回基站補水。在本公開其他實施例中,還可以通過其他方式檢測儲液箱13中液面變化,例如紅外線感測器等。在本公開其他實施例中,也可以通過其他控制方式實現清潔機器人10返回基站補水,例如清潔機器人10完成指定清潔面積的任務或指定區域的任務後,可自動返回基站補水。本公開對此不作限制。另外,結合前文,還可以在對清潔機器人10的濕式清潔系統400的清潔頭410進行清洗的同時對儲液箱13補水。
在本公開實施例中,如圖17和圖18所示,基站還包括:第一定位部60,第一定位部60設置在基站本體20上。第一定位部60用於與儲液箱13上的第二定位部14相連接。
具體的,當清潔機器人10移動至基站本體20上後,且第一定位部60與第二定位部14相連接時,補水接頭50與儲液箱13相連接,此時可以通過補水接頭50向儲液箱13補液。
在本公開實施例中,如圖18所示,第一定位部60形成有容納空間61,補水接頭50用於與儲液箱13相連接的一端位於容納空間61內。在第一定位部60與第二定位部14相連接時,位於容納空間61內的補水接頭50能夠與儲液箱13的補水口16可靠連接。
在本公開實施例中,如圖17所示,第二定位部14為凹槽,凹槽用於與第一定位部60相適配。即第一定位部60插設在凹槽內,以使得補水接頭50與補水口16可靠連接。第一定位部60的外表面可以是斜面,從而方便插入到凹槽內,而且在清潔機器人10和基站本體20不完全對準的情況下,也可以將第一定位部60導入到第二定位部14中。
在本公開實施例中,供液部70能夠與補水接頭50相連通,供液部70通過補水接頭50向儲液箱13供液。供液部70用於容納清洗液,供液部70內的液體可以通過補水接頭50送入到儲液箱13內。
可選的,供液部70可選擇地與補水接頭50或出液口35相連通,即供液部70可以通過補水接頭50向儲液箱13補液,或者供液部70可以通過出液裝置36的出液口35將清洗液體送入到清潔槽21內。第一泵體用於向清潔槽21內送入清洗液體,或者第一泵體用於向補水接頭50內送液,以此對儲液箱13進行補液。
需要說明的是,由供液部70排出的液體可以分開為兩個通道,一個通道連通補水接頭50,另一個通道連通出液口35。而供液部70可以選擇地與兩個通道相連通,從而能夠控制向補水接頭50或出液口35送液。其中,可以在兩個通道上分別設置有閥門,通過控制閥門的打開與閉合控制兩個通道的斷開與連通。或者可以設置有一個三通閥,即通過一個三通閥來控制供液部70與相應的通道相連通。
如圖11所示,基站還包括第二充電接觸極片40,第二充電接觸極片40用於與清潔機器人10的第一充電接觸極片12電連接,以使基站對清潔機器人10進行充電。如圖2所示,當清潔機器人10停靠基站後,第二充電接觸極片40與第一充電接觸極片12電連接。
在一些實施例中,如圖12所示,基站本體20還包括導向側面23,第二充電接觸極片40設置在導向側面23上,而第一充電接觸極片12設置於清潔機器人10的側表面,從而能夠使得第二充電接觸極片40與第一充電接觸極片12電連接。
在一些實施例中,如圖12所示,導向側面23包括兩個相對的側表面231和位於兩個側表面231之間的中間表面232,中間表面232與清潔機器人10上基站運動的前進方向相對;其中,第二充電接觸極片40設置在中間表面232上,即第一充電接觸極片12設置於清潔機器人10的端部側表面。
在本公開實施例中,多個第二充電接觸極片40和多個第一充電接觸極片12均成對設置。可選的,第二充電接觸極片40也可以位於側表面231上,即成對的兩個第二充電接觸極片40可以分別位於兩個側表面231上。
相對應,在本公開實施例中,位於清潔機器人10上的第一充電接觸極片12可以位於清潔機器人10的前方側面。如圖21所示,清潔機器人10的前向部分設置有緩衝器122,該緩衝器122可移動地設置於清潔機器人10的本體,當清潔機器人10在運動過程中前方遇到障礙物時,緩衝器122會與障礙物碰撞並向清潔機器人10本體方向移動,當清潔機器人10脫離障礙物之後,緩衝器122向遠離清潔機器人10本體方向移動。因此,在清潔機器人10工作過程中,緩衝器122會處於不斷壓縮和伸展的狀態下。在本公開實施例中,清潔機器人10的第一充電接觸極片12設置於緩衝器122後方的清潔機器人10本體上,並在緩衝器122的對應部分形成通孔1221,以使清潔機器人10在充電過程中第一充電接觸極片12與第二充電接觸極片40相接觸。由於第一充電接觸極片12設置於緩衝器122的後部,可以避免其直接暴露於機身之外,從而避免當清潔機器人10碰撞到硬質障礙物時造成對第一充電接觸極片12的摩擦損壞。
在本公開實施例中,第一充電接觸極片12與清潔機器人10的濕式清潔系統400分別位於清潔機器人10的相對兩側,即清潔機器人10運行方向的前後兩端。具體的,第一充電接觸極片12位於清潔機器人10的前側,濕式清潔系統400位於清潔機器人10的後側。因此,本公開實施例中,清潔機器人10可以以兩種姿勢停靠基站,當清潔機器人10返回基站充電時,清潔機器人10正向運行停靠基站,當清潔機器人10對濕式清潔系統400進行清洗或為儲液箱13補水時,清潔機器人10反向運行停靠基站。為配合該兩種運行方式,可在清潔機器人10的前後方向設置與基站進行通信的元件,例如,在清潔機器人10的前後方向設置用於接收基站信號的紅外線裝置等,本公開對此不做限制。
在本公開實施例中,如圖19所示,基站還可以包括引導橋27,該引導橋27設置於清潔槽21上方,用於支撐清潔機器人10的從動輪142。如圖4所示,清潔機器人10的底部的前方設置有從動輪142。在清潔機器人10停靠基站充電時,為保持清潔機器人10的穩定,可在從動輪142的下方設置支撐物,即引導橋27。如圖19所示,本實施例中的引導橋27橫跨清潔槽21的前後兩端,可以引導從動輪142的通過並在清潔機器人10停靠後起到支撐作用。在本公開其他實施例中,可以僅在水槽前端部分設置向前延伸的斷橋,其延伸長度可以根據清潔機器人10的停靠位置、從動輪142的設置位置等因素確定,本公開不做限制。在本公開實施例中,由於清潔槽上方設置有可以左右往復運動的清洗組件30,為避免引導橋27阻礙清洗組件30的運動,可將引導橋27可移動地設置在清潔槽21上方。例如,當清潔機器人10停靠基站進行充電時,可將引導橋27移動至清潔槽21中間部位,以引導和支撐清潔機器人10的從動輪142;當清潔機器人10停靠基站進行濕式清潔系統400的清潔頭410的清洗時,可將引導移動至清潔槽21的其中一側,以使清洗組件30可以左右移動。在本公開實施例中,如圖19所示,可將引導橋27與清洗組件30設置於同一支架上,由同一驅動部驅動左右移動。該設置可以使各部件之間的排布更加緊湊,有效利用基站的空間。
在本公開實施例中,如圖19所示,基站本體20還包括導向底面22,導向底面22上設置有防滑凸起221,清潔機器人10沿著防滑凸起221移動至導向底面22上,防滑凸起221能夠與清潔機器人10產生一定的摩擦力,保證清潔機器人10可靠移動至基站本體20上,且能夠輔助清潔機器人10在清潔過程中的定位。
在本公開實施例中,清洗組件30位於導向底面22的上方,清洗組件30與防滑凸起221間隔設置,從而能夠使得清潔機器人10在導向底面22上移動一定距離後,清洗組件30與清潔系統150相對設置,從而進行後續的清洗過程。
可選的,清潔槽21設置在導向底面22上,導向底面22包括斜面和平面,防滑凸起221可以設置在斜面上,而清潔槽21可以設置在平面上。
需要說明的是,防滑凸起221形成的防滑結構與清潔機器人10的行走輪組件相對應,在行走輪組件為兩個時,防滑結構也為兩個。
在本公開實施例中,如圖19和圖20所示,基站本體20上設置有加長板222,加長板222連接於基站本體20的端部,從而輔助清潔機器人10移動至基站本體20上,加長板222可折疊地設置,即可以堆疊於導向底面22上。當遇到特殊情況,例如地板濕滑等,可以將加長板222放開,方便清潔機器人10爬坡。
在本公開實施例中,基站本體20還包括導向頂面24,導向頂面24上設置有用於與清潔機器人10相接觸的導向部;其中,導向部位於清洗組件30的上方。導向部可以實現對清潔機器人10的限位,且可以保證清潔機器人10移動至合適的位置處。
具體的,導向部位於清洗組件30的上方,即清洗組件30位於導向底面22上,而導向部位於導向頂面24上,從高度方向來看,導向部位於清洗組件30的上方。
在本公開實施例中,如圖21和圖22所示,導向部可以包括導向壓塊25,清潔機器人10上側邊緣設置有轉輪19,如圖9所示,該轉輪19可以沿垂直於清潔機器人10運動方向的軸線轉動。當清潔機器人10需要移動至基站本體20時,轉輪19可以與導向壓塊25相配合,可以便於清潔機器人10更順滑地移動至基站本體20上。
在本公開實施例中,如圖23所示,導向部可以包括導向輪26,導向輪26除了可以輔助清潔機器人10移動至基站本體20上外,還可以在清潔機器人10停靠在基站本體20後限制其在豎直方向的運動。例如,當清潔機器人10停靠在基站本體20上進行清洗時,基站的清洗組件30與清潔機器人10的濕式清潔系統400的清潔頭410相接觸,並對清潔機器人10施加一個豎直向上的推力,導向輪26的設置可以部分或全部抵消該豎直向上的推力,防止清潔機器人10向上運動。可選的,導向輪26可以是至少兩個,且對稱分佈於基站的左右兩側。
本實施例中的基站能夠實現對清潔機器人的清洗、對清潔機器人的儲液箱的補液,以及對清潔機器人的充電。
本領域技術人員在考慮說明書及實踐這裡公開的發明後,將容易想到本公開的其它實施方案。本公開旨在涵蓋本公開的任何變型、用途或者適應性變化,這些變型、用途或者適應性變化遵循本公開的一般性原理並包括本公開未公開的本技術領域中的公知常識或慣用技術手段。說明書和示例實施方式僅被視為示例性的,本公開的真正範圍和精神由前面的請求項指出。
應當理解的是,本公開並不局限於上面已經描述並在附圖中顯示的精確結構,並且可以在不脫離其範圍進行各種修改和改變。本公開的範圍僅由所附的請求項來限制。
10:清潔機器人
12:第一充電接觸極片
13:儲液箱
14:第二定位部
16:補水口
17:閥門
18:管路
19:轉輪
20:基站本體
21:清潔槽
22:導向底面
23:導向側面
24:導向頂面
25:導向壓塊
26:導向輪
27:引導橋
30:清洗組件
31:第一清洗件
32:第二清洗件
33:清洗組件支架
34:驅動部
35:出液口
36:出液裝置
40:第二充電接觸極片
50:補水接頭
51:主體部
52:密封部
53:接頭部
60:第一定位部
61:容納空間
70:供液部
71:收集箱。
110:機器主體
111:前向部分
112:後向部分
120:感測系統
121:確定裝置
122:緩衝器
130:控制模組
140:驅動系統
141:驅動輪模組
142:從動輪
150:清潔系統
151:乾式清潔系統
152:邊刷
160:能源系統
170:人機互動系統
211:抽液口
221:防滑凸起
222:加長板
231:側表面
232:中間表面
311:第一轉軸
341:齒輪
342:齒條
343:第二轉軸
371:第一齒輪
372:第二齒輪
373:第三齒輪
374:第四齒輪
375:第五齒輪
376:第六齒輪
377:第七齒輪
378:第八齒輪
379:第九齒輪
400:濕式清潔系統
410:清潔頭
420:驅動單元
421:驅動平臺
422:支撐平臺
1221:通孔
4217:出水裝置
4218:清水泵管
4219:清水泵
通過結合附圖考慮以下對本公開的優選實施方式的詳細說明,本公開的各種目標,特徵和優點將變得更加顯而易見。附圖僅為本公開的示範性圖解,並非一定是按比例繪製。在附圖中,同樣的附圖標記始終表示相同或類似的部件。
圖1是根據一示例性實施方式顯示的一種清潔機器人系統的清潔機器人處於第一姿態的結構示意圖。
圖2是根據一示例性實施方式顯示的一種清潔機器人系統的清潔機器人處於第二姿態的結構示意圖。
圖3是根據一示例性實施方式顯示的一種清潔機器人的第一個視角的結構示意圖。
圖4是根據一示例性實施方式顯示的一種清潔機器人的第二個視角的結構示意圖。
圖5是根據一示例性實施方式顯示的一種清潔機器人的部分分解結構示意圖。
圖6是根據一示例性實施方式顯示的一種清潔機器人的第三個視角的結構示意圖。
圖7是根據一示例性實施方式顯示的一種清潔機器人的儲液箱的結構示意圖。
圖8是根據一示例性實施方式顯示的一種清潔機器人的儲液箱的剖面結構示意圖。
圖9是根據一示例性實施方式顯示的一種清潔機器人的第四個視角的結構示意圖。
圖10是根據一示例性實施方式顯示的一種清潔機器人的支撐平臺的結構示意圖。
圖11是根據一示例性實施方式顯示的一種基站的部分結構示意圖。
圖12是根據一示例性實施方式顯示的一種基站的部分結構示意圖。
圖13是根據一示例性實施方式顯示的一種基站的第一個視角的內部結構示意圖。
圖14是根據一示例性實施方式顯示的一種基站的第二個視角的結構示意圖。
圖15A是根據一示例性實施方式顯示的一種基站的清洗組件的部分結構示意圖
圖15B是根據一示例性實施方式顯示的一種基站的清洗組件的部分結構示意圖。
圖15C是根據另一示例性實施方式顯示的一種基站的清洗組件的部分結構示意圖。
圖15D是根據另一示例性實施方式顯示的一種基站的清洗組件的部分結構示意圖。
圖16是根據一示例性實施方式顯示的一種基站的清洗組件的剖面結構示意圖。
圖17是根據一示例性實施方式顯示的一種清潔機器人系統的儲液箱和補水接頭以及第一定位部的分離結構示意圖。
圖18是根據一示例性實施方式顯示的一種基站的補水接頭以及第一定位部的結構示意圖。
圖19是根據另一示例性實施方式顯示的一種基站的一個狀態的結構示意圖。
圖20是根據另一示例性實施方式顯示的一種基站的另一個狀態的結構示意圖。
圖21是根據一示例性實施方式顯示的一種清潔機器人系統的清潔機器人和基站的配合結構示意圖。
圖22是根據一示例性實施方式顯示的一種清潔機器人系統的清潔機器人和基站的局部配合結構示意圖。
圖23是根據一示例性實施方式顯示的一種基站的局部結構示意圖。
20:基站本體
21:清潔槽
30:清洗組件
33:清洗組件支架
34:驅動部
35:出液口
36:出液裝置
40:第二充電接觸極片
50:補水接頭
60:第一定位部
Claims (42)
- 一種基站,用於清洗清潔機器人(10)的清潔系統(150),其包括: 基站本體(20),該基站本體(20)包括清潔槽(21);及 清洗組件(30),該清洗組件(30)可移動地設置在該基站本體(20)上,該清洗組件(30)包括出液裝置(36),由該出液裝置(36)排出的清洗液體用於清洗該清潔系統(150)並進入該清潔槽(21)。
- 如請求項1的基站,其中該清洗組件(30)還包括清洗組件支架(33),該出液裝置(36)設置在該清洗組件支架(33)上。
- 如請求項2的基站,其中該清洗組件(30)還包括驅動部(34),該驅動部(34)分別與該基站本體(20)和該清洗組件支架(33)相連接,以驅動該清洗組件支架(33)相對於基站本體(20)移動。
- 如請求項2的基站,其中該基站還包括送液通道,該送液通道的一端用於連通供液部(70),該送液通道的另一端連通該出液裝置(36),以使該供液部(70)通過該送液通道將清洗液體送入該出液裝置(36), 其中,該送液通道的至少部分隨該清洗組件支架(33)可移動地設置。
- 如請求項1的基站,其中該出液裝置(36)上間隔設置有多個出液口(35)。
- 如請求項2的基站,其中該清洗組件(30)還包括清潔件,該清潔件設置在該清洗組件支架(33)上,且該清潔件與該出液裝置(36)相平行。
- 如請求項6的基站,其中該清潔件包括第一清洗件(31)和第二清洗件(32),該第一清洗件(31)和該第二清洗件(32)通過與該清潔系統(150)相干涉將該清潔系統(150)的雜物移除。
- 如請求項7的基站,其中該第一清洗件(31)包括清洗輥筒,且該清洗輥筒相對於該清洗組件支架(33)可轉動地設置。
- 如請求項8的基站,其中該第二清洗件(32)包括清洗刮片。
- 如請求項7的基站,其中該出液裝置(36)上設置有出液口(35),該出液口(35)設置為朝向該第一清洗件(31)和該第二清洗件(32)中的至少一者,由該出液口(35)排出的清洗液體噴灑至該第一清洗件(31)和該第二清洗件(32)中的至少一者。
- 如請求項2的基站,其中該出液裝置(36)上設置有出液口(35),該出液口(35)設置為朝向該清潔系統(150),由該出液口(35)排出的清洗液體噴灑至該清潔系統(150)。
- 如請求項2的基站,其中該基站還包括送液通道,該送液通道的一端用於連通供液部(70),該送液通道的另一端連通該出液裝置(36),該送液通道設置泵體,該供液部(70)內的清洗液體在該泵體的作用下輸送至該出液裝置(36)。
- 一種清潔機器人系統,包括請求項1至12中任一項的基站和清潔機器人(10)。
- 一種基站,用於清洗清潔機器人(10)的清潔系統(150),該基站包括: 基站本體(20);及 清洗組件(30),該清洗組件(30)可移動地設置在該基站本體(20)上,該清洗組件(30)包括第一清洗件(31)和不同於該第一清洗件(31)的第二清洗件(32), 其中該第一清洗件(31)和第二清洗件(32)通過與該清潔系統(150)的干涉,將該清潔系統(150)上的雜物移除。
- 如請求項14的基站,其中該清洗組件(30)還包括清洗組件支架(33),該第一清洗件(31)和該第二清洗件(32)平行設置在該清洗組件支架(33)上。
- 如請求項15的基站,其中該第一清洗件(31)包括清洗輥筒,且該清洗輥筒相對於該清洗組件支架(33)可轉動地設置。
- 如請求項16的基站,其中該清洗輥筒外表面設置毛刷和/或葉片。
- 如請求項17的基站,其中該第二清洗件(32)包括清洗刮片。
- 如請求項18的基站, 其中當該清潔機器人(10)移動至該基站本體(20),該清洗組件(30)被配置為相對於該基站本體(20)移動, 其中該清洗輥筒被配置為在轉動過程中利用外表面設置的毛刷和/或葉片與該清潔機器人(10)的清潔系統(150)相干涉,及 其中該清洗刮片被配置為在相對於該基站本體(20)移動過程中與該清潔機器人(10)的清潔系統(150)相干涉。
- 如請求項15的基站,其中該清洗組件(30)還包括驅動部(34),該驅動部(34)分別與該基站本體(20)和該清洗組件支架(33)相連接,以驅動該清洗組件支架(33)相對於基站本體(20)移動。
- 如請求項20的基站,其中該驅動部(34)還與該第一清洗件(31)驅動連接,以驅動該第一清洗件(31)相對於該清洗組件支架(33)轉動。
- 如請求項21的基站,其中該驅動部(34)同時驅動該清洗組件支架(33)相對於該基站本體(20)移動和該第一清洗件(31)相對於該清洗組件支架(33)轉動。
- 如請求項22的基站, 其中該驅動部(34)驅動該清洗組件支架(33)相對於該基站本體(20)向左移動,同時驅動該第一清洗件(31)相對於該清洗組件支架(33)順時針轉動,及 該驅動部(34)驅動該清洗組件支架(33)相對於該基站本體(20)向右移動,同時驅動該第一清洗件(31)相對於該清洗組件支架(33)逆時針轉動。
- 如請求項21的基站,其中該清洗組件(30)包括多個第一清洗件(31),該多個第一清洗件(31)設置於該第二清洗件(32)兩側。
- 如請求項14的基站,其中該清洗組件(30)還包括出液裝置(36),該出液裝置(36)排出的清洗液體用於清洗該清潔機器人(10)的清潔系統(150)。
- 一種清潔機器人系統,其包括請求項14至25中任一項的基站和清潔機器人(10)。
- 一種基站,用於清洗清潔機器人(10)的清潔系統(150),其包括: 基站本體(20),該基站本體(20)包括清潔槽(21); 清洗組件(30),該清洗組件(30)近似水平地設置於該基站本體(20)上,該清洗組件(30)包括出液裝置(36)和清潔件; 其中,由該出液裝置(36)排出的清洗液體用於通過該清潔件清洗該清潔系統(150)並進入該清潔槽。
- 如請求項27的基站,其中該清洗組件(30)可移動地設置在該基站本體(20)上。
- 如請求項27的基站,其中該清洗組件(30)還包括: 清洗組件支架(33),該出液裝置(36)和該清潔件設置在該清洗組件支架(33)上,且該出液裝置(36)與該清潔件相平行。
- 如請求項29的基站,其中該清洗組件(30)還包括驅動部(34),該驅動部(34)分別與該基站本體(20)和該清洗組件支架(33)相連接,以驅動該清洗組件支架(33)相對於該基站本體(20)移動。
- 如請求項30的基站,其中該基站還包括送液通道,該送液通道的一端用於連通供液部(70),該送液通道的另一端連通該出液裝置(36),以使該供液部(70)通過該送液通道將清洗液體送入該出液裝置(36), 其中,該送液通道的至少部分隨該清洗組件支架(33)可移動地設置。
- 如請求項27的基站,其中該出液裝置(36)上間隔設置多個出液口(35)。
- 如請求項32的基站,其中該清潔件包括第一清洗件(31)和第二清洗件(32),該第一清洗件(31)和該第二清洗件(32)通過與該清潔系統(150)相干涉將該清潔系統(150)的雜物移除。
- 如請求項33的基站,其中該第一清洗件(31)包括清洗輥筒,且該清洗輥筒相對於該清洗組件支架(33)可以轉動地設置。
- 如請求項34的基站,其中該第二清洗件(32)包括清洗刮片。
- 如請求項35的基站,其中該出液口(35)設置為朝向該第一清洗件(31)和該第二清洗件(32)中的至少一者,由該出液口(35)排出的清洗液體噴灑至該第一清洗件(31)和該第二清洗件(32)中的至少一者。
- 如請求項36的基站, 其中當該清潔機器人(10)移動至該基站本體(20),該清洗組件(30)被配置為相對於該基站本體(20)移動, 其中該清洗輥筒被配置為在轉動過程中利用外表面設置的毛刷和/或葉片與該清潔機器人(10)的清潔系統(150)相干涉, 其中該清洗刮片被配置為在相對於該基站本體(20)移動過程中與該清潔機器人(10)的清潔系統(150)相干涉。
- 如請求項34的基站,其中該清洗組件(30)還包括驅動部(34),該驅動部(34)分別與該基站本體(20)和該清洗組件支架(33)相連接,該驅動部(34)還與該第一清洗件(31)驅動連接,以驅動該第一清洗件(31)相對於該清洗組件支架(33)轉動。
- 如請求項38的基站,其中該驅動部(34)同時驅動該清洗組件支架(33)相對於該基站本體(20)移動和該第一清洗件(31)相對於該清洗組件支架(33)轉動。
- 如請求項39的基站,其中, 該驅動部(34)驅動該清洗組件支架(33)相對於該基站本體(20)向左移動,同時驅動該第一清洗件(31)相對於該清洗組件支架(33)順時針轉動,及 該驅動部(34)驅動該清洗組件支架(33)相對於該基站本體(20)向右移動,同時驅動該第一清洗件(31)相對於該清洗組件支架(33)逆時針轉動。
- 如請求項38的基站,其中該清洗組件(30)包括多個第一清洗件(31),該多個第一清洗件(31)設置於該第二清洗件(32)兩側。
- 一種清潔機器人系統,其中包括請求項27至41中任一項的基站和清潔機器人(10)。
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