TW202245173A - 具有垂直熱路徑的高功率晶粒散熱器 - Google Patents

具有垂直熱路徑的高功率晶粒散熱器 Download PDF

Info

Publication number
TW202245173A
TW202245173A TW111113042A TW111113042A TW202245173A TW 202245173 A TW202245173 A TW 202245173A TW 111113042 A TW111113042 A TW 111113042A TW 111113042 A TW111113042 A TW 111113042A TW 202245173 A TW202245173 A TW 202245173A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
heat sink
die
interconnects
compressible
coupled
Prior art date
Application number
TW111113042A
Other languages
English (en)
Inventor
荷西 莫里亞
馬克思 瓦特瑞
巴特 卡斯汀
亞伯特荷西 特謝拉德凱洛斯
Original Assignee
美商高通科技公司
德商Ｒｆ３６０歐洲股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US17/313,380 external-priority patent/US11948853B2/en
Priority claimed from US17/313,412 external-priority patent/US11929299B2/en
Application filed by 美商高通科技公司, 德商Ｒｆ３６０歐洲股份有限公司 filed Critical 美商高通科技公司
Publication of TW202245173A publication Critical patent/TW202245173A/zh

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49827—Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/13—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the shape
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/367—Cooling facilitated by shape of device
    • H01L23/3677—Wire-like or pin-like cooling fins or heat sinks
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811—Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • H01L23/49816—Spherical bumps on the substrate for external connection, e.g. ball grid arrays [BGA]
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49866—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers characterised by the materials
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/0201—Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
    • H05K1/0203—Cooling of mounted components
    • H05K1/0209—External configuration of printed circuit board adapted for heat dissipation, e.g. lay-out of conductors, coatings
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001—Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099—Material
    • H01L2224/29198—Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
    • H01L2224/29298—Fillers
    • H01L2224/29299—Base material
    • H01L2224/293—Base material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/29338—Base material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/29347—Copper [Cu] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/562—Protection against mechanical damage
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0655—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the devices being arranged next to each other
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10613—Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
    • H05K2201/10954—Other details of electrical connections
    • H05K2201/10969—Metallic case or integral heatsink of component electrically connected to a pad on PCB
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/341—Surface mounted components
    • H05K3/3431—Leadless components
    • H05K3/3436—Leadless components having an array of bottom contacts, e.g. pad grid array or ball grid array components

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

揭示裝置以及用於製造裝置的方法。在一個態樣，一種裝置包括安裝在封裝基板的背側上的高功率晶粒。熱傳遞層被佈置在該高功率晶粒的背側上。複數個散熱器互連被耦合到該熱傳遞層，其中該複數個散熱器互連中的每一者在垂直取向上直接耦合到該熱傳遞層。

Description

具有垂直熱路徑的高功率晶粒散熱器
本案的各態樣一般係關於半導體裝置，包括納入半導體裝置的電子設備，尤其但不排他地係關於高功率晶粒、功率放大器模組及相關裝置及其製造技術。
積體電路技術經由主動部件的小型化，在提高計算能力態樣取得了長足的進步。可在許多電子設備（包括處理器、伺服器、射頻（RF）積體電路等）中找到各種封裝技術（諸如倒裝晶片裝置）。倒裝晶片封裝技術在高引腳計數裝置中變得較為經濟。先進的封裝和處理技術允許系統級封裝（SiP）裝置，其可包括多個功能方塊，其中每個功能方塊被設計成執行特定功能，諸如舉例而言微處理器功能、圖形處理單元（GPU）功能、RF前端（RFFE）功能、通訊功能（例如，Wi-Fi、藍芽和其他通訊）等。
越來越多的頻帶和CA（載波聚集）組合在新RF技術中得到支援，這導致將在RFFE模組中被整合的部件的複雜性和數目增加。這進而對改進整合技術以限制模組的大小施加了壓力。限制模組的大小不僅會影響行動設備中的RFFE模組所佔用的面積，而且亦減少了RFFE模組自身內部的連接長度，亦即，較長連接使效能降級。因此，雙側安裝的封裝基板已經開始被開發。在傳統封裝基板中，部件（功率放大器（PA）、開關、濾波器等）皆被安裝在封裝基板（其為RFFE模組的核心）的頂側上。底側被保留用於焊盤，亦即，與PCB的連接。在雙側封裝基板中，一些部件被安裝在該封裝基板的底側上。在所有情形中，PA皆被安裝在封裝基板的頂側上。頂側安裝導致PA晶粒下方的所有封裝基板層被用於朝向PCB的散熱器。散熱器的有效性受經由封裝基板的通孔的導熱率限制。附加地，這種設計亦導致大的禁入空間以及降低的佈線靈活性。
相應地，存在對克服一般功率放大器模組、RFFE模組和高功率SiP設計的缺陷的系統、裝置和方法（包括本文中在以下揭示中提供的方法、系統和裝置）的需求。
以下提供了與本文所揭示的一或多個態樣相關的簡化概述。由此，以下概述既不應被認為是與所有構想的態樣相關的詳盡縱覽，以下概述亦不應被認為標識與所有構想的態樣相關的關鍵性或決定性要素或圖示與任何特定態樣相關聯的範疇。相應地，以下概述的唯一目的是在以下提供的詳細描述之前以簡化形式呈現與關於本文所揭示的機制的一或多個態樣相關的某些概念。
在一態樣，一種裝置包括：安裝在封裝基板的背側上的高功率晶粒；佈置在該高功率晶粒的背側上的熱傳遞層；及耦合到該熱傳遞層的複數個散熱器互連，其中該複數個散熱器互連中的每一者在垂直取向上直接耦合到該熱傳遞層。
在一態樣，一種用於製造裝置的方法包括：在封裝基板的背側上安裝高功率晶粒；在該高功率晶粒的背側上沉積熱傳遞層；及形成耦合到該熱傳遞層的複數個散熱器互連，其中該複數個散熱器互連中的每一者在垂直取向上直接耦合到該熱傳遞層。
基於附圖和詳細描述，與本文所揭示的各態樣相關聯的其他目標和優點對本發明所屬領域中具有通常知識者而言將是顯而易見的。
本案的各態樣針對具體態樣在以下描述和相關附圖中圖示。可以設計替換態樣而不脫離本文教導的範疇。附加地，本文說明性態樣的眾所周知的元素將不被詳細描述或可被省去以免湮沒本案中教導的相關細節。
在某些所描述的實例實現中，標識出以下例子，其中各種部件結構和操作的各個部分可以從已知一般技術獲取，並且隨後根據一或多個示例性態樣來佈置。在此類實例中，可以省略已知的一般部件結構及/或操作的部分的內部細節，以幫助避免本文所揭示的說明性態樣中所圖示的概念的潛在混淆。
本文所使用的術語僅出於描述特定態樣的目的，而並不意欲限定。如本文中使用的，單數形式的「一」、「某」和「該」意欲亦包括複數形式，除非上下文另外明確指示。將進一步理解，術語「包括」、「具有」、「包含」及/或「含有」在本文中使用時指明所陳述的特徵、整數、步驟、操作、元素、及/或部件的存在，但並不排除一或多個其他特徵、整數、步驟、操作、元素、部件及/或其群組的存在或添加。
如以上所論述的，RFFE模組可包括各種部件，包括可使PA、多工器、濾波器、RF開關和LNA一起處於單封裝中以允許該RFFE中的高度整合的發射和接收鏈的PAMiD（帶整合雙工器的功率放大器模組）。此外，這允許改進的包絡追蹤以增強RF效能，同時有助於減少製造商發佈新產品/技術的時間。高級PAMiD可支援5G多頻帶、多模式操作。
如以上所提及的，越來越多的頻帶和CA（載波聚集）組合得到支援，這導致將在RFFE模組中被整合的部件的複雜性和數目增加。在傳統封裝基板設計中，部件（PA、開關、濾波器等）被安裝在層壓板/封裝基板（其為RFFE模組的核心）的頂側上。底側被保留用於焊盤，亦即，與PCB的連接。在雙側封裝基板中，一些部件被安裝在該封裝基板的底側上。
在雙側封裝基板中，PA通常被安裝在頂側上。這是由於PA產生的高熱量。為了避免PAMiD過熱，所產生的熱量必須被有效地耗散。通常，散熱器被直接連接在PA下方，將儘可能多的熱量垂直經由封裝基板驅向PCB中的接地平面。散熱器的有效性取決於它的導熱性：它應當儘可能大和短並且包括具有高導熱率的材料-凸塊和通孔的密度應當較高。
PA晶粒可經由引線接合或經由凸塊（例如，焊料凸塊或銅柱）電連接到封裝基板。接地連接可被用於熱耗散。由於較低熱阻，凸塊一般比引線接合更適於熱傳遞。通常，三種安裝技術被用於PA晶粒： （i）倒裝晶片，其中至封裝基板的連接經由凸塊來提供 （ii）引線接合和背側接地凸塊，其中地經由基板通孔連接到晶粒背側，並且隨後經由凸塊連接到封裝基板。其餘連接經由引線接合完成。替換地，取代背側凸塊，可使用傳導膏來將背側的接地附連到封裝基板。使用GaAs PA中頻繁地採用的基板通孔技術，晶粒可被研磨到50-100 um的厚度，這允許非常短的接地連接。 （iii）與（ii）相同，但沒有引線接合。訊號經由所謂的熱通孔連接到晶粒的背側。將領會，這種技術等效於（i），不同之處在於在被安裝在封裝基板上時晶粒未被翻轉。
然而，如以上所提及的，PA被安裝在封裝基板的頂側（前側）上。頂側安裝導致PA晶粒下方的封裝基板層被用作散熱器路徑以用於朝向PCB的熱傳導，這導致這些部分對於其他用途成為禁入區域。散熱器的有效性受經由封裝基板的通孔的導熱率限制。
將PA晶粒安裝在底側通常將導致散熱不那麼有效，因為熱量將必須向上流向封裝基板，隨後流向PA晶粒的側面，並且隨後向下流向PCB。大的散熱路徑將減少可用於PA訊號路徑的空間。將引線接合用於PA訊號連接有助於解決這種衝突，但由於封裝基板與印刷電路板（PCB）之間不充分的高度，這通常將是不可行的。
在所揭示的各個態樣，底側安裝可與朝向PCB的直接散熱一起使用。這包括具有低熱阻的PA至PCB連接。PA的底側安裝和附連到封裝基板和PCB兩者很有可能使PA晶粒暴露在更強的外部機械負載下，這可能導致PA過早的可靠性故障。相應地，本文中所揭示的各個態樣亦允許PA晶粒與PCB的機械柔性連接，以及在與一般設計相比時，允許較大的熱抽取與減小的面積。
所揭示的各個態樣包括安裝在RFFE模組上的PA晶粒的具體圖示，然而，將領會，各個態樣可被應用於任何高功率晶粒，包括例如高功率RF部件（諸如體聲波（BAW）和表面聲波（SAW）濾波器）。相應地，本文中所使用的術語，諸如「PA晶粒」應當被解讀為亦包括任何高功率晶粒。如本文中所使用的，術語「高功率晶粒」一般指使用散熱的任何晶粒，並且在一些態樣包括具有0.25瓦或更高功率耗散率的晶粒。
在本文中所揭示的各個態樣，PA晶粒可被安裝在封裝基板的底側上。有效散熱器可被直接耦合到PCB上，釋放封裝基板中PA晶粒上方的區域。附加地，各個態樣允許改善的RF效能，如以下所論述的。
圖1A圖示了根據本案的一或多個態樣的系統級封裝（SiP）100的部分橫截面視圖。在一或多個態樣，如所圖示的，SiP 100可以是RFFE。SiP 100可包括一或多個頂側部件102，其可包括各種晶粒、表面安裝裝置、整合被動裝置等。同樣，除PA晶粒110之外，SiP 100亦可包括一或多個底側部件104，其可包括各種晶粒、表面安裝裝置、整合被動裝置等。在一些態樣，PA晶粒110是安裝到封裝基板140的底側的倒裝晶片。因此，PA晶粒110的背側（或底部）面向PCB（未圖示），而前側（或頂部）面向封裝基板140。將領會，術語「背側」、「底部」、「前側」、「頂部」等僅為了方便起見而使用，並且可在各種設計中改變取向，而並不意欲將本文中所揭示的各態樣限制為特定取向。PA晶粒110訊號和接地經由前側觸點114連接到封裝基板，前側觸點114可以是頂側凸塊或金屬柱。散熱主要經由PA晶粒110的背側朝向PCB、經由散熱器互連130來進行，以提供有效的散熱器，該散熱器能有效地將由PA晶粒110產生的熱量直接抽向PCB。在所圖示的配置中，散熱器互連130圍繞PA晶粒110的周界或周邊在水平方向上分佈在PA晶粒110周圍。在一些態樣，PA晶粒110可被磨薄。例如，PA晶粒110可研磨到40 um至100 um的範圍的厚度。將領會，經由將PA晶粒110安裝在封裝基板140的背側，封裝基板140的在PA晶粒110上方釋放出的部分141免於釋放出的部分141中在訊號與熱連接之間的任何衝突。如以上所論述的，在頂部安裝PA晶粒的一般設計中，PA晶粒下方的部分具有用作至封裝基板的底側的熱路徑的通孔和金屬層。
將領會，在一些態樣，封裝基板140的在PA晶粒110上方釋放出的部分141可被用來附連另一部件（例如，PA模式開關、額外被動部件等）。PA晶粒110上方釋放出的部分141中的金屬層可被用於互連或用於整合線圈、電感器、變壓器、或其他部件。例如，各種整合線圈、電感器及/或變壓器可被用於PA匹配。
在所揭示的各個態樣，改進了PA散熱器的有效性，因為從PA晶粒到PCB的熱傳遞路徑比一般設計短得多。在一些態樣，封裝基板140的一部分可被配置為散熱片145。附加地，客戶板（亦即，未圖示的PCB）的一部分亦可用作PA晶粒110的散熱片。以此方式，PA晶粒110自熱降低，這導致改善的PA效能。
此外，根據所揭示的各個態樣，PA晶粒110熱耗散路徑和散熱功能不必像一般設計中一般跨整個封裝基板140。在一般設計中，這種熱耗散路徑導致封裝基板和濾波器以及附連到其的其他部件變熱。在所揭示的各個態樣，由於PA晶粒110自加熱而導致的對濾波器的額外加熱顯著降低。因此，由於溫度升高而導致的濾波器通帶的頻率漂移減小。這在具有低雙工距離的頻帶（像其中發射器與接收器頻帶之間僅存在15 MHz的頻帶25）中是尤其有益的。該距離必須覆蓋通帶與阻帶之間的過渡、以及由於製程和溫度變化而導致的移位。將領會，這些可消耗15 MHz預算的一半以上，對新濾波器技術的開發施加了顯著壓力。由於較小溫度變化而減小關於頻率漂移的預算允許改善通帶處的濾波器效能（例如，接收器濾波器的通帶的低轉角可被重新設計成較低頻率）。由於增加的溫度通常導致頻率回應向下漂移，因此較低溫度變化允許標稱低轉角的向下移位，從而導致低接收器通道中的較低損耗。
所揭示的各個態樣解決了在將PA晶粒110附連到封裝基板和PCB兩者的情況下出現的製造問題。在該配置中，在安裝到PCB期間，PA晶粒110暴露於強得多的外部機械負載，從而增加PA晶粒110過早的可靠性故障的風險。為了緩解這種風險，所揭示的各個態樣包括若干種配置，如以下所論述的。
在一些態樣，PA晶粒110的背側可被覆蓋有散熱器板112（例如，20 um厚）。散熱器板112可由任何導熱材料形成，包括銀、銅、金、鋁、鈦、鎳、合金或其堆疊式組合中的至少一者。熱傳遞層220亦被連接到一或多個散熱器互連230。PA晶粒110由散熱器互連130（其可被配置為金屬樁、柱、或任何合適的連接器）包圍，其將封裝基板140與客戶板（PCB）連接。散熱器互連130被用於熱抽取。附加地，散熱器互連130亦可用作接地連接。散熱器板112可由傳導噴料（例如，銀（Ag）噴料）塗覆，其形成被連接到散熱器互連130中的若干散熱器互連130的熱傳遞層120。散熱器互連130被放置在封裝基板140與模製件150塊之間，與封裝基板140直接接觸。將領會，所施加的外部機械負載將僅影響散熱器互連130和訊號互連160（如圖1B中所圖示的）。所圖示的配置顯著降低了施加到PA晶粒110的機械應力，並提高了PA晶粒110的可靠性。
將進一步領會，PA晶粒110的前側觸點114經由散熱片145亦充當朝向封裝基板140的散熱器。背側散熱器板112和熱傳遞層120用作PA晶粒110的額外散熱器。除了改進的熱功能之外，背側散熱器板112的另一優點是，它為PA晶粒110提供額外機械穩定性。然而，將領會，在一些態樣，熱傳遞層120可被直接應用於晶粒110的背側。例如，可使用銀噴料或鍍銀金屬。
圖1B圖示了熱傳遞層120和互連的背側視圖。在所圖示的配置中，有四個散熱器互連130被佈置在PA晶粒110（不可見）的每一側並耦合熱傳遞層120。訊號互連160圍繞PA晶粒110和熱傳遞層120的周界被佈置在這些散熱器互連130之間，但不與熱傳遞層120接觸。訊號互連160可被用於電源、接地、控制訊號、RF訊號、數位訊號等。附加地，在一些態樣，訊號互連160中的一者或多者可以不與PA晶粒110或封裝基板140電耦合，並且可被用於提供機械支撐。將領會，該圖示僅僅作為實例來提供，而不應當被解讀為限制所揭示和所要求保護的各個態樣。例如，各個態樣可包括比所圖示的更多或更少的散熱器互連130和訊號互連160，並且它們的位置和排列可被改變。
圖1C圖示了訊號互連160的橫截面圖。在所圖示的配置中，訊號互連160經由焊盤142耦合到封裝基板140。訊號互連160穿過模製件150突出以允許至外部裝置（例如，PCB）的連接。模製件150使訊號互連160與熱傳遞層120隔離，熱傳遞層120被佈置在耦合到PA晶粒110的背側散熱器板112上。
圖1D圖示了散熱器互連130的橫截面圖。在所圖示的配置中，散熱器互連130經由焊盤142耦合到封裝基板140。散熱器互連130穿過模製件150突出以允許到外部裝置（例如，PCB）的連接。此外，散熱器互連130可包括焊料部分136以促成到外部裝置的連接。散熱器互連130的一部分為咬邊，並且熱傳遞層120被佈置在咬邊部分中的部分122與散熱器互連130進行接觸。相應地，熱傳遞層120可將熱量從耦合到PA晶粒110的背側散熱器板112傳導到散熱器互連130。
圖2A圖示了根據本案的一或多個態樣的系統級封裝（SiP）200的部分橫截面視圖。在一或多個態樣，如所圖示的，SiP 200可以是RFFE。SiP 200可包括一或多個頂側部件202，其可包括各種晶粒、表面安裝裝置、整合被動裝置等。同樣，除PA晶粒210之外，SiP 200亦可包括一或多個底側部件204，其可包括各種晶粒、表面安裝裝置、整合被動裝置等。在一些態樣，PA晶粒210是安裝到封裝基板240的底側的倒裝晶片。因此，PA晶粒210的背側面向PCB（未圖示），而前側面向封裝基板240。所有訊號和接地經由前側觸點214連接到封裝基板，前側觸點214可以是頂側凸塊或金屬柱。散熱主要經由PA晶粒210的背側朝向PCB、經由散熱器互連230來進行。為了獲得有效的散熱器，該散熱器能有效地將由PA晶粒210產生的熱量直接抽向PCB。在一些態樣，PA晶粒210可被磨薄。例如，PA晶粒210可研磨到40 um至100 um的範圍的厚度。將領會，經由將PA晶粒210安裝在封裝基板240的背側，封裝基板240的在PA晶粒210上方釋放出的部分241免於釋放出的部分241中在訊號與熱連接之間的任何衝突。如以上所論述的，在頂部安裝PA晶粒的一般設計中，PA晶粒下方的部分具有用作至封裝基板的底側的熱路徑的通孔和金屬層。
將領會，在一些態樣，封裝基板240的在PA晶粒210上方釋放出的部分241可被用來附連另一部件（例如，PA模式開關、額外被動部件等）。PA晶粒210上方釋放出的部分241中的金屬層可被用於互連或用於整合線圈、電感器、變壓器等。例如，各種整合線圈、電感器及/或變壓器可被用於PA匹配。
在所揭示的各個態樣，改進了PA散熱器的有效性，因為從PA晶粒到PCB的熱傳遞路徑比一般設計短得多。在一些態樣，封裝基板240的一部分可被配置為散熱片245。附加地，客戶板（亦即，未圖示的PCB）的一部分亦可用作PA晶粒210的散熱片。以此方式，PA晶粒210自熱降低，這導致改善的PA效能。
此外，根據所揭示的各個態樣，PA晶粒210熱耗散路徑和散熱功能不必像一般設計中那樣跨整個封裝基板240。在一般設計中，這種熱耗散路徑導致封裝基板和濾波器以及附連到其的其他部件變熱。在所揭示的各個態樣，由於PA晶粒210自加熱而導致的對濾波器的額外加熱顯著降低，這改善了濾波器通帶的頻率漂移，如以上所論述的。
所揭示的各個態樣解決了在將PA晶粒210附連到封裝基板和PCB兩者的情況下出現的製造問題。在該配置中，在安裝到PCB期間，PA晶粒210暴露於強得多的外部機械負載，從而增加PA晶粒210過早的可靠性故障的風險。為了緩解這種風險，所揭示的各個態樣包括若干種配置，如以下所論述的。
在一些態樣，PA晶粒210的背側可被覆蓋有散熱器板212（例如，20 um厚）。PA晶粒210由散熱器互連230（其可被配置為金屬樁、柱、或任何合適的連接器）包圍，其將封裝基板240與客戶板（PCB）連接。散熱器互連230被用於熱抽取。附加地，散熱器互連230亦可用作接地連接。可任選的散熱器板212可被附連到PA晶粒210的背側以允許增大的熱傳遞和機械支撐。在所圖示的態樣，熱傳遞層220可以是金屬板、層或膜，其被佈置在PA晶粒210的背側上（具有或不具有散熱器板212）。散熱器板212和熱傳遞層220各自可由銀、銅、金、鋁、鈦、鎳、合金或其堆疊式組合中的至少一者形成。熱傳遞層220亦被連接到一或多個散熱器互連230。散熱器互連230被放置在封裝基板240與模製件250塊之間，與封裝基板240直接接觸。將領會，所施加的外部機械負載將僅影響散熱器互連230和訊號互連260。所圖示的配置顯著降低了施加到PA晶粒210的機械應力，並提高了PA晶粒210的可靠性，同時促成從PA晶粒210到PCB或其他外部部件的熱傳遞。
如以上所論述的，熱傳遞層220和可任選的背側散熱器板212用作PA晶粒210的散熱器。將進一步領會，PA晶粒210的前側觸點214經由散熱片245亦充當PA晶粒210的散熱器。熱傳遞可從PA晶粒210流向封裝基板240，並且隨後從該封裝基板經由散熱器互連230散發。除了改進的熱功能之外，背側散熱器板212的另一優點是，它為PA晶粒210提供額外機械穩定性。然而，將領會，在一些態樣，熱傳遞層220可被直接應用於晶粒210的背側。
圖2B圖示了熱傳遞層220和互連的背側視圖。在所圖示的配置中，有四個散熱器互連230被佈置在PA晶粒210（不可見）的每一側並耦合熱傳遞層220。訊號互連260圍繞熱傳遞層220佈置在這些散熱器互連230之間，但不與散熱器互連230接觸。訊號互連260可被用於電源、接地、控制訊號、RF訊號、數位訊號等。將領會，該圖示僅僅作為實例來提供，而不應當被解讀為限制所揭示和所要求保護的各個態樣。例如，各個態樣可包括比所圖示的更多或更少的散熱器互連230和訊號互連260，並且它們的位置和排列可被改變。
圖2C圖示了SiP 200的另一態樣的橫截面部分。在所圖示的配置中，PA晶粒210具有複數個散熱器通孔215，其被耦合在熱傳遞層220（其可包括可任選的散熱器板212）與PA晶粒210的前側之間。在一些態樣，散熱器通孔215可被耦合到前側上耦合到散熱片245的一或多個觸點。將領會，散熱器通孔215可提供經由PA晶粒210的改進熱傳導。此外，儘管未顯式地圖示，但將領會，散熱器通孔可被包括在所揭示的各個態樣中（例如，在PA晶粒110中）。
圖2D圖示了訊號互連260的橫截面圖。在所圖示的配置中，訊號互連260經由焊盤242耦合到封裝基板240。訊號互連260穿過模製件250突出以允許至外部裝置（例如，PCB）的連接。模製件250使訊號互連260與耦合到PA晶粒210的後側散熱器板212隔離。
圖2E圖示了散熱器互連230的橫截面圖。在所圖示的配置中，散熱器互連230經由焊盤242耦合到封裝基板240。散熱器互連230穿過模製件250突出以允許到外部裝置（例如，PCB）的連接。熱傳遞層220延伸以接觸並連同金屬柱232一起形成散熱器互連230的一部分，金屬柱232耦合在熱傳遞層220與焊盤242之間。相應地，熱傳遞層220可將熱量從耦合到PA晶粒210的背側散熱器板212傳導到散熱器互連230。此外，散熱器互連230可包括耦合到熱傳遞層220的焊料部分236。焊接部分可被用於附連到PCB或其他外部裝置，如已知的。阻焊劑270可被佈置在熱傳遞層220的背側上並覆蓋該背側，除了在為散熱器互連230打開的部分中。將領會，先前所圖示的各態樣僅僅為了幫助論述各個態樣而提供，並且散熱器互連230並不限於所圖示的配置。例如，在一些態樣，熱傳遞層220可被阻焊劑部分地覆蓋或暴露。
鑒於前述內容，將領會，所揭示的各個態樣可包括一種裝置（例如，SiP 100、200）。該裝置亦包括安裝在封裝基板（140、240）的背側上的高功率晶粒（例如，PA晶粒110、210）。熱傳遞層（例如，120、220）被安裝在高功率晶粒（例如，110、210）的背側上，並且複數個散熱器互連（例如，130、230）被耦合到熱傳遞層（例如，120、220）。在一些態樣，將領會，熱傳遞層（例如，120、220）亦可包括作為熱傳遞層的功能部分的金屬板（例如，112、212）。不管配置如何，將領會，各個態樣的至少一個技術優勢包括從安裝自高功率晶粒的背側橫向傳遞熱以提供SiP（100、200）的改進效能的能力，如本文中所論述的。
此外，各態樣可包括作為聲波晶粒或功率放大器的高功率晶粒（例如，110、210）。散熱片（例如，145、245）可被耦合到高功率晶粒（例如，110、210）的複數個前側觸點（例如，114、214）。散熱片（例如，145、245）可由封裝基板（例如，140、240）的複數個金屬層形成。散熱片（例如，145、245）可被耦合到複數個散熱器互連（例如，130、230）、或耦合到接地的複數個訊號連接器（例如，160、260）。高功率晶粒（例如，110、210）可進一步包括：從熱傳遞層延伸到高功率晶粒中的複數個散熱器通孔（例如，215）。其他晶粒中的至少一者經由封裝基板電耦合到高功率晶粒。在一些態樣，複數個散熱器互連（例如，130、230）各自可具有一般圓柱形或柱狀的形狀。在一些態樣，熱傳遞層可由銀、銅、金、鋁、鈦、鎳、合金或其堆疊式組合中的至少一者形成。在一些態樣，熱傳遞層由銀膏形成。複數個散熱器互連（130）中的每一者可包括：具有凹陷部分（134）的金屬柱（132），其中熱傳遞層被耦合到該金屬柱的凹陷部分；及被耦合到金屬柱的焊料部分。金屬柱可以是銅。模製化合物被佈置成毗鄰於熱傳遞層，並且其中熱傳遞層的背側被佈置在熱傳遞層的上方，熱傳遞層從模製化合物中暴露。熱傳遞層由金屬鍍敷形成。多個散熱器互連（230）中的每一者可包括：金屬柱（232）；熱傳遞層（220）的在金屬柱上方延伸並耦合到金屬柱的一部分；及耦合到熱傳遞層（220）的該部分的焊料部分（236）。
圖3A圖示了根據本案的一或多個態樣的系統級封裝（SiP）300的部分橫截面視圖。在一或多個態樣，如所圖示的，SiP 300可以是RFFE。SiP 300可包括一或多個頂側部件302，其可包括各種晶粒、表面安裝裝置、整合被動裝置等。同樣，除PA晶粒310之外，SiP 300亦可包括一或多個底側部件304，其可包括各種晶粒、表面安裝裝置、整合被動裝置等。在一些態樣，PA晶粒310是安裝到封裝基板340的底側的倒裝晶片。因此，PA晶粒310的背側面向PCB 380，而前側面向封裝基板340。所有訊號、功率和接地連接經由前側觸點314連接到封裝基板，前側觸點314可以是頂側凸塊或金屬柱。散熱主要經由PA晶粒310的背側朝向PCB 380、經由散熱器互連330來進行。為了獲得有效的散熱器，該散熱器能有效地將由PA晶粒310產生的熱量直接抽向PCB 380。在一些態樣，PA晶粒310可被磨薄。例如，PA晶粒310可研磨到40 um至100 um的範圍的厚度。將領會，經由將PA晶粒310安裝在封裝基板340的背側，封裝基板340的在PA晶粒310上方釋放出的部分341免於釋放出的部分341中在訊號與熱連接之間的任何衝突。如以上所論述的，在頂部安裝PA晶粒的一般設計中，PA晶粒下方的部分具有用作至封裝基板340的底側的熱路徑的通孔和金屬層。
將領會，在一些態樣，封裝基板340的在PA晶粒310上方釋放出的部分341可被用來附連另一部件（例如，PA模式開關、額外被動部件等）。PA晶粒310上方釋放出的部分341中的金屬層可被用於互連或用於整合線圈、電感器、變壓器等。例如，各種整合線圈、電感器及/或變壓器可被用於PA匹配。
在所揭示的各個態樣，改進了PA散熱器的有效性，因為從PA晶粒310到PCB 380的熱傳遞路徑比一般設計短得多。在一些態樣，客戶板（亦即，PCB 380）的一部分亦可用作PA晶粒310的散熱片。此外，根據所揭示的各個態樣，PA晶粒310熱耗散路徑和散熱功能不必像一般設計中那樣跨整個封裝基板340。在一般設計中，這種熱耗散路徑導致封裝基板和濾波器以及附連到其的其他部件變熱。在所揭示的各個態樣，由於PA晶粒310自加熱而導致的對濾波器的額外加熱顯著降低，這改善了濾波器通帶的頻率漂移，如以上所論述的。
所揭示的各個態樣解決了在將PA晶粒310附連到封裝基板和PCB兩者的情況下出現的製造問題。在該配置中，在安裝到PCB期間，PA晶粒310暴露於強得多的外部機械負載，從而增加PA晶粒310過早的可靠性故障的風險。為了緩解這種風險，所揭示的各個態樣包括若干種配置，如以下所論述的。
在一些態樣，PA晶粒310的背側可用熱傳遞層320來覆蓋。PA晶粒310可具有從PA晶粒310的背側到PCB 380垂直佈置的散熱器互連330。散熱器互連330被用於熱抽取。附加地，散熱器互連330亦可用作接地連接。熱傳遞層320可以是直接附連到PA晶粒310背側的散熱器板以允許PA晶粒310的增大的熱傳遞和機械支撐。附加地，熱傳遞層320可以是佈置在PA晶粒310背側的金屬膜、濺鍍等。在各個態樣，熱傳遞層320可以是被佈置在PA晶粒310的背側上的金屬板、金屬層、或金屬膜。在一些態樣，將領會，熱傳遞層320可包括散熱器板以及佈置在該散熱器板上的傳導層。熱傳遞層320可由銀、銅、金、鋁、鈦、鎳、合金或其堆疊式組合中的至少一者形成。熱傳遞層320被連接到一或多個散熱器互連330。散熱器互連330被放置成與熱傳遞層320直接接觸，並且模製件350塊的各部分可被佈置在這些散熱器互連330之間。在該配置中，將領會，所施加的外部機械負載將影響散熱器互連330和訊號互連360。施加到散熱器互連330的外部機械負載亦將影響PA晶粒310。所圖示的配置經由在散熱器互連330中的每一者中提供可壓縮焊盤334，顯著降低施加到PA晶粒310的機械應力，並提高了PA晶粒310的可靠性。散熱器互連330促成從PA晶粒310至PCB 380或其他外部部件的熱傳遞。應領會，在一些態樣，可壓縮焊盤可以為彈性或有彈力材料。
如以上所論述的，熱傳遞層320和散熱器互連330為PA晶粒310提供散熱。將進一步領會，在一些態樣，PA晶粒310的前側觸點314可包括散熱片（未圖示）。在所圖示的配置中，PA晶粒310亦具有耦合在熱傳遞層320之間的複數個散熱器通孔315。在一些態樣，散熱器通孔315亦可被耦合到前側上耦合到散熱片的一或多個觸點。將領會，散熱器通孔315可提供穿過PA晶粒310的改進熱傳導。模製件350被配置成包封高功率晶粒310、熱傳遞層320、以及複數個散熱器互連330中的每一者的一部分連同SiP 300的其他部件。
圖3B圖示了熱傳遞層320和互連的背側視圖。在所圖示的配置中，有四個散熱器互連330被佈置在PA晶粒310（不可見）的背側內部並耦合熱傳遞層320。訊號互連360圍繞熱傳遞層320佈置在這些散熱器互連330之間，但不與散熱器互連230接觸。訊號互連360可被用於電源、接地、控制訊號、RF訊號、數位訊號等。將領會，該圖示僅僅作為實例來提供，而不應當被解讀為限制所揭示和所要求保護的各個態樣。例如，各個態樣可包括比所圖示的更多或更少的散熱器互連330和訊號互連360，並且它們的位置和排列可被改變。
圖3C圖示了SiP 300的一部分的橫截面視圖。在所圖示的配置中，訊號互連360經由焊盤342耦合到封裝基板340。訊號互連360穿過模製件350突出以允許至外部裝置（例如，PCB）的連接。模製件350使訊號互連360與耦合到PA晶粒310的散熱器互連330隔離。此外，在所圖示的配置中，散熱器互連330可包括耦合到可壓縮焊盤334的金屬柱332以及耦合到金屬柱332的焊料部分336。在一些態樣，金屬柱332可以是銅。在一些態樣，可壓縮焊盤334可包括由金屬包圍的聚合物焊盤。在一些態樣，可壓縮焊盤334可延伸超過金屬柱332的直徑。
圖3D圖示了SiP 300的橫截面部分。在所圖示的配置中，訊號互連360經由焊盤342耦合到封裝基板340。在該配置中，訊號互連360穿過模製件350突出並且訊號互連360的相當一部分被暴露。模製件350使訊號互連360與耦合到PA晶粒310的熱傳遞層320隔離。在所圖示的配置中，模製件350一般與熱傳遞層320同平面，這導致熱傳遞層320的背側以及散熱器互連360從模製件350暴露。
圖3E圖示了SiP 300的一部分的橫截面視圖。在所圖示的配置中，訊號互連360被耦合到PCB 380中的相關聯焊盤381。散熱器互連370由PCB 380的部分形成。焊料部分336將熱傳遞層320連接到與PCB 380的可壓縮焊盤374和376耦合的金屬柱372。將領會，在所圖示的配置中，可壓縮焊盤被形成在PCB 380上。無論是否形成在PCB 380上，作為散熱器互連370的一部分，可壓縮焊盤374皆提供至熱傳遞層320的背側的熱連接以提供散熱。附加地，可壓縮焊盤374降低了PA晶粒310上的機械載荷和應力。將領會，先前所圖示的各態樣僅僅為了幫助論述各個態樣而提供，並且散熱器互連並不限於所圖示的配置。
圖4A圖示了根據本案的一或多個態樣的系統級封裝（SiP）400的部分橫截面視圖。在一或多個態樣，如所圖示的，SiP 400可以是RFFE。SiP 400可包括一或多個頂側部件402，其可包括各種晶粒、表面安裝裝置、整合被動裝置等。同樣，除PA晶粒410之外，SiP 400亦可包括一或多個底側部件404，其可包括各種晶粒、表面安裝裝置、整合被動裝置等。在一些態樣，PA晶粒410是安裝到封裝基板440的底側的倒裝晶片。因此，PA晶粒410的背側面向PCB 480，而前側面向封裝基板440。所有訊號、功率和接地連接經由前側觸點414連接到封裝基板，前側觸點414可以是頂側凸塊或金屬柱。散熱主要經由PA晶粒410的背側朝向PCB 480、經由散熱器互連430來進行。為了獲得有效的散熱器，該散熱器能有效地將由PA晶粒410產生的熱量直接抽向PCB 480。在一些態樣，PA晶粒410可被磨薄。例如，PA晶粒410可研磨到40 um至100 um的範圍的厚度。將領會，經由將PA晶粒410安裝在封裝基板440的背側，封裝基板440的在PA晶粒410上方釋放出的部分441免於釋放出的部分441中在訊號與熱連接之間的任何衝突。如以上所論述的，在頂部安裝PA晶粒的一般設計中，PA晶粒下方的部分具有用作至封裝基板440的底側的熱路徑的通孔和金屬層。
將領會，在一些態樣，封裝基板440的在PA晶粒410上方釋放出的部分441可被用來附連另一部件（例如，PA模式開關、附加被動部件等）。PA晶粒410上方釋放出的部分441中的金屬層可被用於互連或用於整合線圈、電感器、變壓器等。例如，各種整合線圈、電感器及/或變壓器可被用於PA匹配。
在所揭示的各個態樣，改進了PA散熱器的有效性，因為從PA晶粒410到PCB 480的熱傳遞路徑比一般設計短得多。在一些態樣，客戶板（亦即，PCB 480）的一部分亦可用作PA晶粒410的散熱片。此外，根據所揭示的各個態樣，PA晶粒410熱耗散路徑和散熱功能不必像一般設計中那樣跨整個封裝基板440。在一般設計中，這種熱耗散路徑導致封裝基板和濾波器以及附連到其的其他部件變熱。在所揭示的各個態樣，由於PA晶粒410自加熱而導致的對濾波器的額外加熱顯著降低，這改善了濾波器通帶的頻率漂移，如以上所論述的。
所揭示的各個態樣解決了在將PA晶粒410附連到封裝基板和PCB兩者的情況下出現的製造問題。在該配置中，在安裝到PCB期間，PA晶粒410暴露於強得多的外部機械負載，從而增加PA晶粒410過早的可靠性故障的風險。為了緩解這種風險，所揭示的各個態樣包括若干種配置，如以下所論述的。
在一些態樣，PA晶粒410的背側可用熱傳遞層420來覆蓋。PA晶粒410可具有從PA晶粒410的背側到PCB 480垂直佈置的散熱器互連430。散熱器互連430被用於熱抽取。附加地，散熱器互連430亦可用作接地連接。熱傳遞層420可以是直接附連到PA晶粒410背側的散熱器板以允許PA晶粒410的增大的熱傳遞和機械支撐。附加地，熱傳遞層420可以是佈置在PA晶粒410背側的金屬膜、濺鍍等。在各個態樣，熱傳遞層420可以是金屬板、金屬層、或金屬膜，其被佈置在PA晶粒410的背側。在一些態樣，將領會，熱傳遞層420可包括散熱器板以及佈置在該散熱器板上的傳導層。熱傳遞層420可由銀、銅、金、鋁、鈦、鎳、合金或其堆疊式組合中的至少一者形成。熱傳遞層420被連接到一或多個散熱器互連430。散熱器互連430被放置成與熱傳遞層420直接接觸以促成至PCB 480的垂直熱傳遞。附加地，在一些態樣，模製件450的部分可被佈置在這些散熱器互連430之間。在所圖示的配置中，將領會，所施加的外部機械負載將影響散熱器互連430和訊號互連460。施加到散熱器互連430的外部機械負載亦將影響PA晶粒410，並且可能潛在地損壞PA晶粒410。然而，所圖示的配置經由在散熱器互連430中的每一者中提供可壓縮金屬柱432（在一些態樣，多孔金屬柱，而在其他態樣，可以是傳導可壓縮和彈性材料，如本文中所論述的）來顯著降低施加到PA晶粒410的機械應力，並提高PA晶粒410的可靠性。散熱器互連430促成從PA晶粒410到PCB 480或將被耦合到散熱器互連430的其他外部部件的熱傳遞，這是由於直接耦合到熱傳遞層420以及短垂直熱傳遞路徑。
如以上所論述的，熱傳遞層420和散熱器互連430為PA晶粒410提供散熱。將進一步領會，在一些態樣，PA晶粒410的前側觸點414可被耦合到散熱片445。在一些態樣，模製件450被配置成包封高功率晶粒410、熱傳遞層420、以及複數個散熱器互連430中的每一者的一部分連同SiP 400的其他部件。
圖4B圖示了熱傳遞層420和互連的背側視圖。在所圖示的配置中，有四個散熱器互連430被佈置在PA晶粒410（不可見）的背側上並耦合到熱傳遞層420。訊號互連460被佈置在散熱器互連430和熱傳遞層420周圍，但不與熱傳遞層420接觸。訊號互連460可被用於電源、接地、控制訊號、RF訊號、數位訊號等。在一些態樣，部分訊號互連460可被用作附加熱路徑（例如，耦合到散熱片445）以向PA晶粒410提供散熱。將領會，該圖示僅僅作為實例來提供，而不應當被解讀為限制所揭示和所要求保護的各個態樣。例如，各個態樣可包括比所圖示的更多或更少的散熱器互連430和訊號互連460，並且它們的位置和排列可被改變。
圖4C圖示了SiP 400的一部分的橫截面視圖。在所圖示的配置中，訊號互連460經由焊盤442耦合到封裝基板440。訊號互連460穿過模製件450突出以允許至外部裝置（例如，PCB）的連接。模製件450使訊號互連460與耦合到PA晶粒410的散熱器互連430隔離。此外，在所圖示的配置中，散熱器互連430可包括可壓縮金屬柱432以及耦合到可壓縮金屬柱432的焊料部分436。在一些態樣，可壓縮金屬柱432由多孔傳導材料形成。在一些態樣，多孔傳導材料具有至少為4%的孔隙率。在一些態樣，多孔傳導材料具有在5%至40%的範圍內的孔隙率。在一些態樣，多孔傳導材料是銅奈米膏或暫態液相燒結膏。在其他態樣，將領會，暫態液相燒結膏的區域可被填充樹脂，並且樹脂填料和粒子大小的組合可允許暫態液相燒結膏用作傳導可壓縮和彈性材料，其可被用作本文中所論述的可壓縮金屬柱432。
圖4D圖示了SiP 400的橫截面部分。在所圖示的配置中，訊號互連460經由第一PCB焊盤481耦合到封裝基板440，並且散熱器互連430經由阻焊劑486中的開口連接到PCB 480的第二PCB焊盤482。在該配置中，散熱器互連430被耦合到PA晶粒410，如以上所論述的。散熱器互連430可包括可壓縮金屬柱432和焊料部分436。焊料部分436被耦合到可壓縮金屬柱432和第二PCB焊盤482，其從PA晶粒410提供機械連接和垂直熱路徑。如所圖示的，來自PA晶粒410的熱量可流過熱傳遞層420，並經由散熱器互連430流向PCB 480。
圖4E圖示了SiP 401的一部分的橫截面視圖。在所圖示的配置中，SiP 401與以上論述的SiP 400類似，除了散熱器互連被不同地配置，使用PCB 480中的可壓縮焊盤。相應地，類似的部件將被類似地標記，並且並非SiP 401的所有細節皆被圖示。訊號互連460經由阻焊劑486中的開口耦合到PCB 480中的第一焊盤481。在該態樣，散熱器互連470由PCB 480的部分形成。焊料部分476經由阻焊劑456中的開口連接到熱傳遞層420。焊料部分476經由阻焊劑486中的開口連接到PCB 480的可壓縮觸點474。將領會，在所圖示的配置中，可壓縮觸點474被形成在PCB 480中並被耦合到第二PCB焊盤472。無論是否被形成在PCB 480中，可壓縮觸點474皆可被認為是散熱器互連470的一部分。在功能上，散熱器互連470提供至熱傳遞層420的背側的垂直熱連接以向PA晶粒410提供散熱。相應地，可壓縮觸點474在附連到PCB 480及後續處理期間減少PA晶粒410上的機械負載和應力。如所圖示的，熱傳遞層420的背側由阻焊劑456覆蓋，並且複數個散熱器互連470可被形成在阻焊劑中的開口中。PCB 480可具有經由複數個散熱器互連470耦合到RF晶粒410的複數個可壓縮觸點474。其中複數個可壓縮觸點中的每一者進一步包括：經由第二PCB焊盤472耦合到PCB的可壓縮焊盤。在一些態樣，複數個可壓縮觸點474中的每一者進一步包括：嵌入在PCB 480中並由阻焊劑486覆蓋的可壓縮觸點474。可壓縮觸點474被耦合到相關聯的散熱器互連。可壓縮觸點474可由多孔傳導材料形成。在一些態樣，多孔傳導材料具有至少為4%的孔隙率，並且在進一步態樣，具有在5%到40%的範圍內的孔隙率。在一些態樣，多孔傳導材料是銅奈米膏。在一些態樣，多孔傳導材料是銅奈米膏或暫態液相燒結膏。在其他態樣，取代多孔傳導材料，可以使用可由暫態液相燒結膏形成的可壓縮觸點474。將領會，暫態液相燒結膏的區域可被填充有樹脂，並且樹脂填料和粒子大小的組合可允許暫態液相燒結膏用作傳導可壓縮和彈性材料。此外，將領會，先前所圖示的各態樣僅僅為了幫助論述各個態樣而提供，並且散熱器互連配置並不限於所圖示的實例。
圖5圖示了根據本案的一或多個態樣的用於形成SiP 500的製造程序。將領會，所圖示的程序聚焦於形成訊號互連（「a」側）和散熱器互連（「b」側）。將領會，儘管圖示了每個相應互連中的一者的細節，但是製造程序可應用於SiP 500的其他類似互連。此外，將領會，SiP 500類似於上述SiP 100，因此將不提供所有元件的細節。在該程序的各部分（a1）和（b1）中，為封裝基板540提供焊盤542，並且使用其中一些焊盤542將高功率晶粒510耦合到封裝基板540。在高功率晶粒510和所暴露的焊盤542（其未耦合到高功率晶粒510）上沉積銅種子層512。已執行幹膜抗蝕劑（DFR）層壓製程，並且已金使用鐳射直接成像（LDI）或任何合適製程對DFR進行圖案化和蝕刻。在程序部分（a1）中，在焊盤542上形成DFR部分502以用於訊號互連。在處理部分（b1）中，在焊盤542上形成DFR部分504以用於散熱器互連。將領會，DFR部分504僅覆蓋散熱器互連的觸點焊盤542的一部分。
該程序在部分（a2）和（b2）中繼續，其中在高功率晶粒510上例如經由噴塗銀（Ag）膏來施加傳導層。該傳導層形成熱傳遞層520。在部分（b2）中，熱傳遞層520亦在銅種子層512上延伸到毗鄰DFR部分504的所暴露部分焊盤542以用於散熱器互連。在程序部分（a2）中，DFR部分502將熱傳遞層520與焊盤542阻隔開以用於訊號互連。附加地，噴塗塗敷可被固化，並且隨後研磨及/或飛切以移除凸起區域中的塗敷材料。
該程序在部分（a3）和（b3）中繼續，其中剝離舊的DFR部分（502和504）並在（a3）中沉積和圖案化DFR部分561以及在（b3）中沉積和圖案化DFR部分531。在程序部分（a3）中，DFR部分561形成到焊盤542的開口以用於訊號互連，並且遮罩毗鄰晶粒510和熱傳遞層520部分。在程序部分（b3）中，DFR部分561形成到焊盤542的開口以用於散熱器互連，並且遮罩毗鄰晶粒510以及毗鄰於晶粒510的熱傳遞層520部分。然而，熱傳遞層520的佈置在觸點542的部分上的一部分被暴露於DFR部分531的開口。
該程序在部分（a4）中繼續，其中柱/樁562經由銅鍍敷形成以用於訊號互連560，並且先前DFR部分被剝離（例如，濕剝離）。附加地，移除銅種子層（例如，經由蝕刻）。在部分（b4）中，散熱器互連530柱/樁532經由銅鍍敷形成，並且先前DFR部分被剝離（例如，濕剝離）。附加地，移除銅種子層的暴露部分（例如，經由蝕刻）。熱傳遞層520仍然延伸到觸點焊盤542並填充柱532的咬邊部分。在（a4）和（b4）兩者中，可沉積模製件550。可研磨背側以使所暴露的表面平坦化，並且隨後可執行球附連製程以形成焊球566以用於訊號互連560並形成焊球536以用於散熱器互連530。將領會，SiP 500的最終結構類似於SiP 100的結構。
圖6圖示了根據本案的一或多個態樣的用於形成SiP 600的製造程序。將領會，所圖示的程序聚焦於形成訊號互連（「a」側）和散熱器互連（「b」側）。將領會，儘管圖示了每個相應互連中的一者的細節，但是製造程序可應用於SiP 600的其他類似互連。此外，將領會，SiP 600類似於上述SiP 200，因此將不提供所有元件的細節。在該程序的各部分（a1）和（b1）中，為封裝基板640提供焊盤642，並且使用其中一些焊盤642將高功率晶粒610耦合到封裝基板640。在高功率晶粒610上沉積銅種子層613。在所圖示的態樣，高功率晶粒610具有散熱器板612，其有助於熱傳遞，但是是可任選的，因為在其他態樣，種子層613可被直接施加到高功率晶粒610。種子層613亦在金屬柱632上延伸，金屬柱632是散熱器互連630（尚未完全形成）的一部分，並在金屬柱662上延伸，金屬柱662是訊號互連660（尚未完全形成）的一部分。已經執行了幹膜抗蝕劑（DFR）層壓製程，並且已經使用鐳射直接成像（LDI）或任何合適製程對DFR進行了圖案化和蝕刻以形成經圖案化DFR部分602，其在金屬柱662、金屬柱632和散熱器板612上提供開口。
該程序在部分（a2）和（b2）中繼續，其中在由DFR部分602限定的開口中向種子層613施加傳導材料（例如，銅鍍敷、濺鍍或任何合適製程）。在部分（a2）中，該傳導材料形成訊號互連660的一部分663。在部分（b2）中，該傳導材料形成熱傳遞層620，其從金屬柱632延伸到散熱器板612和高功率晶粒610。在程序部分（a2）和（b2）中，在傳導材料的沉積之後剝離DFR部分602（例如，濕剝離）。此外，經由蝕刻或任何合適製程移除種子層613在DFR 602下方的所暴露部分。
該程序在部分（a3）和（b3）中繼續，其中在模製化合物650和熱傳遞層620的部分上施加阻焊劑651（例如，經由印刷或其他合適製程）。阻焊劑651在訊號互連660和散熱器互連630上具有開口。可執行球附連製程以在（a3）中形成焊球661以用於訊號互連660並在（b3）中形成焊球636以用於散熱器互連630。將領會，SiP 600的最終結構類似於SiP 200的結構。
圖7圖示了根據本案的一或多個態樣的用於形成SiP 700的製造程序。將領會，所圖示的程序聚焦於形成訊號互連760和散熱器互連730。將領會，儘管圖示了每個相應互連中的一者的細節，但是製造程序可應用於SiP 700的其他類似互連。此外，將領會，SiP 700類似於上述SiP 300，因此將不提供所有元件的細節。在該程序的部分（a1）中，為封裝基板740提供焊盤742，並且使用其中一些焊盤742將高功率晶粒710耦合到封裝基板740。在高功率晶粒710上沉積銅種子層713。在所圖示的態樣，高功率晶粒710具有熱傳遞層720，其可以是散熱器板，其有助於熱傳遞，但是是可任選的，因為在其他態樣，種子層713可被直接施加到高功率晶粒710，並且在替換態樣用作熱傳遞層。在所圖示的配置中，訊號互連760經由焊盤742耦合到封裝基板740。訊號互連760穿過模製件突出並且亦被種子層713覆蓋。此外，在所圖示的配置中，散熱器互連730可包括可壓縮焊盤734。在一些態樣，可壓縮焊盤734可包括由金屬（諸如銅）包圍的聚合物焊盤。種子層713亦在訊號互連760（尚未完全形成）的金屬柱部分761上延伸。已經執行了幹膜抗蝕劑（DFR）層壓製程，並且已經使用鐳射直接成像（LDI）或任何合適製程對DFR進行了圖案化和蝕刻以形成經圖案化DFR部分702，其在金屬柱部分761和可壓縮焊盤734上提供開口。
該程序在部分（a2）中繼續，其中在由DFR部分702限定的開口中向種子層713施加傳導材料（例如，銅鍍敷、濺鍍或任何合適製程）。在部分（a2）中，傳導材料形成訊號互連760的一部分763。傳導材料亦形成金屬柱732，其經由金屬中所包住的可壓縮焊盤734耦合到熱傳遞層720和高功率晶粒710。在程序部分（a2）中，已經在傳導材料的沉積之後剝離DFR部分702（例如，濕剝離）。此外，經由蝕刻或任何合適製程移除種子層713在DFR 702下方的所暴露部分。
該程序在部分（a3）中繼續，其中在先前模製件部分上施加額外模製化合物部分以形成模製件750，其覆蓋訊號互連760的金屬柱762的部分763和熱傳遞層720、金屬包住的可壓縮焊盤734和金屬柱732的部分。將領會，該額外模製化合物部分是可任選的，並且一些態樣可具有訊號互連並從模製件750延伸（諸如在圖3D中）。可執行研磨製程以使模製件平坦化並暴露金屬柱762和金屬柱732的端部。可執行球附連製程以形成焊球766以用於訊號互連760並形成焊球736以用於散熱器互連730。將領會，SiP 700的最終結構類似於以上所論述的SiP 300的結構。此外，將領會，各個態樣並不限於本文中所提供的實例。例如，將領會，模製件750可由比本文中所論述的更多或更少的層形成，但在最終產品中用作一個模製件750。同樣，將領會，金屬柱部分761和763連同種子層713被圖示為在最終產品中形成金屬柱762。若這些層中的每一層皆是相同的材料，則結果所得的金屬柱762可表現為一個連續部件。無論如何，金屬柱762用作一個傳導部件，因此製造的細節不應被解讀為將金屬柱762限制到所圖示的製造實例。
圖8圖示了根據本案的一或多個態樣的用於形成SiP 800的製造程序。將領會，所圖示的程序聚焦於形成訊號互連860和散熱器互連830。將領會，儘管圖示了每個相應互連中的一者的細節，但是製造程序可應用於SiP 800的其他類似互連。此外，將領會，SiP 800類似於上述SiP 400，因此將不提供所有部件的細節。在該程序的部分（a1）中，將領會，該程序類似於圖7中的程序（a3）那樣繼續，不同之處在於未形成散熱器互連830或未附連焊球。相應地，將不重複先前程序部分。如所圖示的，為封裝基板840提供焊盤842，並且使用其中一些焊盤842將高功率晶粒810耦合到封裝基板840。在所圖示的態樣，高功率晶粒810具有熱傳遞層820，其可以是散熱器板、或者在替換態樣用作熱傳遞層的任何合適導體。在所圖示的配置中，訊號互連860經由焊盤842耦合到封裝基板840。已執行研磨製程以使模製件850平坦化並暴露金屬柱862的端部。模製件850亦在高功率晶粒810和熱傳遞層820上延伸。
該程序在部分（a2）中繼續，其中鐳射消融製程或任何合適製程以移除模製件850的部分以形成到散熱器層820的開口陣列。將領會，散熱器層820亦用作緩衝器以防止在鐳射消融程序中損壞高功率晶粒810。可在模製件850中的開口陣列中形成可壓縮金屬柱832（在一些態樣，多孔金屬柱）。在所圖示的配置中，散熱器互連830可包括可壓縮金屬柱832。在一些態樣，可壓縮金屬柱832可由多孔傳導材料形成。在一些態樣，多孔傳導材料具有至少為4%的孔隙率。在一些態樣，多孔傳導材料具有在5%至40%的範圍內的孔隙率。在一些態樣，多孔傳導材料是銅奈米膏，其可經由網版印刷製程沉積在散熱器層820上並在之後固化。在形成可壓縮金屬柱832之後，可執行球附連製程以形成附連至金屬柱862的焊球866以用於訊號互連860並形成附連至可壓縮金屬柱832的焊球836以用於散熱器互連830。將領會，SiP 800的最終結構類似於以上所論述的SiP 400的結構。此外，將領會，各個態樣並不限於本文中所提供的製造實例。
為了說明本案的各個態樣，提供了實例製造方法。其他製造方法亦是可能的，並且所論述的製造方法僅用於説明理解本文中所揭示的概念。
圖9圖示了根據本案的一或多個態樣的製造技術。用於製造裝置（例如，SiP 100、200、300、400等）的方法900包括：在方塊902，在封裝基板（例如，140、240、340、440等）的背側上安裝高功率晶粒（例如，110、210、310、410等）。方法900在方塊904繼續，在該高功率晶粒（例如，110、210、310、410等）的背側上沉積熱傳遞層（例如，120、220、320、420等）。方法900在方塊906繼續，形成耦合到該熱傳遞層（例如，120、220、320、420等）的複數個散熱器互連（例如，130、230、330、430等）。該複數個散熱器互連在水平方向上位於毗鄰於該高功率晶粒。
圖10圖示了根據本案的一或多個態樣的製造技術。用於製造裝置（例如，SiP 300、400、700和800）的方法1000包括：在方塊1002，在封裝基板（例如，340、440、740和840）的背側上安裝高功率晶粒（例如，310、410、710和810）。方法1000在方塊1004繼續，在該高功率晶粒（例如，310、410、710和810）的背側上沉積熱傳遞層（例如，320、420、720和820）。方法1000在方塊1006繼續，形成耦合到該熱傳遞層（例如，320、420、720和820）的複數個散熱器互連（例如，330、430、730和830），其中該複數個散熱器互連中的每一者在垂直取向上直接耦合到該熱傳遞層。
應領會，前述製造製程僅作為本案的一些態樣的一般圖示而提供，並不意欲限制本案或所附請求項。進一步地，本發明所屬領域中具有通常知識者已知的製造製程中的許多細節可以在概要製程部分中被省略或組合，以促成理解所揭示的各個態樣，而無需詳細呈現每個細節及/或所有可能的製程變化。
圖11圖示了根據本案的一或多個態樣的整合裝置1100的部件。不論以上論述的SiP（例如，100、200、300、400等）的各種配置如何，將領會，SiP 1101可被配置成將SiP 1101耦合到PCB 1190，其可經由散熱器互連1130來提供散熱。在一些態樣，散熱亦可經由耦合到接地（GND）的一或多個訊號互連1160來提供。然而，在其他態樣，散熱器互連1130可被耦合到可能處於接地或其他電位的任何結構，只要該結構提供散熱功能。PCB 1190亦被耦合到電源1180（例如，功率管理積體電路（PMIC）），這允許封裝SiP 1101被電耦合到PMIC 1180。具體地，一或多條電源（VDD）線1191和一或多條接地（GND）線1192可被耦合到PMIC 1180以經由訊號互連1160及/或散熱器互連1130將功率分發到PCB 1190、SiP 1101。VDD線1191和GND線1192各自可由PCB 1190的一或多個金屬層（例如，層1-6）中的跡線、形狀或圖案形成，該一或多個金屬層由穿過絕緣層的一或多個通孔耦合，這些絕緣層將PCB 1190中的金屬層1-6分隔開。PCB 1190可具有一或多個PCB電容器（PCB cap）1195，其可被用來調節電源訊號，如本發明所屬領域中具有通常知識者所知的。額外連接和裝置可經由一或多個訊號互連1160耦合到PCB 1190及/或經由PCB 1190到SiP 1101。將領會，所圖示的配置和描述僅僅是為了幫助說明本文所揭示的各態樣來提供的。例如，PCB 1190可具有更多或更少的金屬層和絕緣層、可以是有芯或無芯的、可存在向各種部件提供功率的多條線、等等。相應地，上述說明性實例和相關聯的附圖不應當被解讀為限制本文所揭示和要求保護的各態樣。
根據本文中所揭示的各個態樣，至少一個態樣包括一種裝置（例如，SiP 100、200、300、400等），該裝置包括：封裝基板（例如，140、240、340、440等）的背側的高功率晶粒（例如，110、210、310、410等）。熱傳遞層（例如，120、220、320、420等）被佈置在高功率晶粒（例如，110、210、310、410等）的背側。複數個散熱器互連（例如，130、230、330、430等）被耦合到熱傳遞層（例如，120、220、320、420等）。所揭示的各個態樣在至少一些態樣提供了各種技術優勢，諸如高功率晶粒被安裝在封裝基板的背側以使用從高功率晶粒和SiP至外部部件（例如，至PCB）的散熱器互連來提供改進的熱傳遞的特徵。附加地，高功率晶粒在封裝基板的背側上的定位提供了該封裝基板中在高功率晶粒上方釋放出的空間中的金屬層和佈線的改進利用。此外，由於散熱器互連提供了從高功率晶粒遠離封裝基板的短熱路徑，因此封裝基板中的熱量亦被減少。從本文揭示的各個態樣將認識到其他技術優點，並且這些技術優點僅僅是作為實例提供的，而不應被解讀為限定本文揭示的各個態樣中的任一者。
圖12圖示了根據本案的一些實例的示例性行動設備。現在參照圖12，圖示了根據示例性態樣來配置的行動設備的方塊圖並將其一般性地標示為行動設備1200。在一些態樣，行動設備1200可被配置為無線通訊設備。如所示的，行動設備1200包括處理器1201。處理器1201可在鏈路上通訊地耦合到記憶體1232，該鏈路可以是晶粒到晶粒或晶片到晶片鏈路。行動設備1200亦包括顯示器1228和顯示器控制器1226，其中顯示器控制器1226耦合到處理器1201和顯示器1228。
在一些態樣，圖12可包括：被耦合到處理器1201的編碼器/解碼器（CODEC）1234（例如，音訊及/或語音CODEC）；被耦合到CODEC 1234的揚聲器1236和話筒1238；及被耦合到無線天線1242和處理器1201的無線電路1240（其可包括數據機、RF電路系統、濾波器等，其可使用如本文所揭示的一或多個SiP（例如，100、200、300、400等）來實現）。
在特定態樣，在存在一或多個上述方塊的情況下，處理器1201、顯示器控制器1226、記憶體1232、CODEC 1234和無線電路1240可被包括在系統級封裝或片上系統裝置1222中，其可以全部或部分地使用本文中所揭示的設計和製造技術來實現。輸入裝置1230（例如，實體、或虛擬鍵盤）、電源1244（例如，電池）、顯示器1228、輸入裝置1230、揚聲器1236、話筒1238、無線天線1242和電源1244可位於片上系統設備1222外部，並且可被耦合到片上系統設備1222的部件（諸如介面或控制器）。
應當注意到，儘管圖12圖示了行動設備1200，但是處理器1201和記憶體1232以及無線電路1240亦可被整合到不同類型的設備中，這些設備可具有更多或更少的部件，如本發明所屬領域中具有通常知識者將領會的。例如，顯示器控制器1226、顯示器1228和CODEC 1234可以不被用在各種設備中。除行動設備之外，將領會，所揭示的各個態樣亦可被整合到諸如機上盒、音樂播放機、視訊播放機、娛樂單元、導航設備、個人數位助理（PDA）、固定位置資料單元、電腦、膝上型電腦、平板電腦、通訊設備、伺服器、行動電話、或其他類似設備之類的設備中。
圖13圖示了根據本案的各個實例的可與前述整合裝置或SiP裝置中的任一者整合的各種電子設備。例如，行動電話設備1302、膝上型電腦設備1304和固定位置終端設備1306可各自一般被視為使用者裝備（UE），並且可包括本文中所描述的SiP裝置1300。SiP裝置1300可以是例如本文中所描述的積體電路、晶粒、整合裝置、整合裝置封裝、積體電路裝置、裝置封裝、積體電路（IC）封裝、層疊封裝裝置中的任一者。圖13中所圖示的設備1302、1304、1306僅僅是示例性的。其他電子設備亦能以SiP裝置1300為其特徵，此類電子設備包括但不限於包括以下各項的一組設備（例如，電子設備）：行動設備、掌上型個人通訊系統（PCS）單元、可攜式資料單元（諸如個人數位助理）、啟用全球定位系統（GPS）的設備、導航設備、機上盒、音樂播放機、視訊播放機、娛樂單元、固定位置資料單元（諸如儀錶讀數裝備）、通訊設備、智慧型電話、平板電腦、電腦、可穿戴設備、伺服器、路由器、實現在機動交通工具（例如，自主交通工具）中的電子設備、物聯網路（IoT）設備、或儲存或檢索資料或電腦指令的任何其他設備、或其任何組合。
前面揭示的設備和功能性可被設計和配置在儲存在電腦可讀取媒體上的電腦檔（例如，暫存器傳輸級（RTL）、幾何資料串流（GDS）Gerber等）中。一些或所有此類檔可被提供給基於此類檔來製造設備的製造處置器。所得到的產品可包括半導體晶片，該半導體晶片隨後被切割成半導體晶粒並被封裝成半導體封裝、整合裝置、片上系統裝置等，它們隨後可被用在本文中所描述的各種設備中。
將領會，本文所揭示的各個態樣可以被描述為本發明所屬領域中具有通常知識者描述及/或認識的結構、材料、及/或裝置的功能等同方案。例如，在一個態樣，設備可包括用於執行以上論述的各種功能性的裝置。將領會，前述各態樣僅作為實例提供，並且要求保護的各個態樣不限於作為實例引述的特定參考及/或圖示。
圖1A-13中圖示的各部件、程序、特徵及/或功能中的一者或多者可被重新安排及/或組合成單個部件、程序、特徵或功能，或者被納入在若干部件、程序或功能中。亦可添加額外部件、部件、程序、及/或功能而不會脫離本案。亦應注意，圖1A-13及其在本案中的對應描述不限於晶粒及/或IC。在一些實現中，圖1A-13及其對應描述可被用於製作、建立、提供、及/或生產整合裝置。在一些實現中，裝置可包括晶粒、整合裝置、晶粒封裝、積體電路（IC）、裝置封裝、積體電路（IC）封裝、晶片、半導體裝置、層疊封裝（PoP）裝置、及/或中介體。
如本文中所使用的，術語「使用者裝備」（或「UE」）、「使用者設備」、「使用者終端」、「客戶端設備」、「通訊設備」、「無線設備」、「無線通訊設備」、「掌上型設備」、「行動設備」、「行動終端」、「行動站」、「手持機」、「存取終端」、「用戶設備」、「用戶終端」、「用戶站」、「終端」以及它們的變型可以可互換地代表能夠接收無線通訊及/或導航訊號的任何合適的移動或駐定設備。這些術語包括但不限於音樂播放機、視訊播放機、娛樂單元、導航設備、通訊設備、智慧型電話、個人數位助理、固定位置終端、平板電腦、電腦、可穿戴設備、膝上型電腦、伺服器、機動交通工具中的車載設備、及/或通常由個人攜帶及/或具有通訊能力（例如，無線、蜂巢、紅外、短程無線電等）的其他類型的可攜式電子設備。這些術語亦意欲包括與另一設備進行通訊的設備，該另一設備能夠接收無線通訊及/或導航訊號（諸如經由短程無線、紅外、有線連接或其他連接），而不論衛星訊號接收、輔助資料接收、及/或定位相關處理是在該設備還是在該另一設備處發生。UE能夠經由數種類型設備中的任何設備來實施，包括但不限於印刷電路（PC）卡、CF記憶體設備、外置或內置數據機、無線或有線電話、智慧型電話、平板電腦、消費者追蹤設備、資產標籤等。
電子設備之間的無線通訊可基於不同技術，諸如分碼多工存取（CDMA）、W-CDMA、分時多工存取（TDMA）、分頻多工存取（FDMA）、正交分頻多工（OFDM）、行動通訊全球系統（GSM）、3GPP長期進化（LTE）、5G新無線電、藍芽（BT）、藍芽低功耗（BLE）、IEEE 802.11（WiFi）和IEEE 802.15.4（Zigbee/Thread）、或可在無線通訊網路或資料通訊網路中使用的其他協定。藍芽低功耗（亦被稱為藍芽LE、BLE和藍芽智慧）。
措辭「示例性」在本文中用於表示「用作實例、例子、或圖示」。本文中描述為「示例性」的任何細節不被解讀為勝過其他實例。同樣，術語「實例」並不意指所有實例皆包括所論述的特徵、優點、或工作模式。此外，特定特徵及/或結構可與一或多個其他特徵及/或結構組合。此外，在此描述的裝置的至少一部分可被配置成執行於此描述的方法的至少一部分。
應當注意，術語「連接」、「耦合」或其任何變體意指在部件之間的直接或間接的任何連接或耦合，且可涵蓋兩個部件之間的中間部件的存在，這兩個部件經由該中間部件被「連接」或「耦合」在一起，除非該連接明確揭示為直接連接。
本文中使用諸如「第一」、「第二」等之類的指定對元素的任何引述並不限定那些元素的數量及/或次序。確切而言，這些指定被用作區分兩個或兩個以上元素及/或元素實例的便捷方法。同樣，除非另外聲明，否則元素集合可包括一或多個元素。
本發明所屬領域中具有通常知識者將領會，資訊和訊號可使用各種不同技術和技藝中的任何一種來表示。例如，貫穿上面說明始終可能被述及的資料、指令、命令、資訊、訊號、位元、符號和碼片可由電壓、電流、電磁波、磁場或磁粒子、光場或光粒子、或其任何組合來表示。
本案中已描述或圖示圖示的任何內容皆不意欲指定任何部件、動作、特徵、益處、優點、或均等物奉獻給公眾，無論這些部件、動作、特徵、益處、優點或均等物是否記載在請求項中。
此外，本發明所屬領域中具有通常知識者將領會，結合本文所揭示的各實例描述的各種說明性邏輯區塊、模組、電路和演算法動作可被實現為電子硬體、電腦軟體、或兩者的組合。為清楚地圖示硬體與軟體的這一可互換性，各種說明性部件、方塊、模組、電路、以及動作在上面是以其功能性的形式作一般化描述的。此類功能性是被實現為硬體還是軟體取決於具體應用和施加於整體系統的設計約束。具有通常知識者可針對每種特定應用以不同方式來實現所描述的功能性，但此類實現決策不應被解讀為致使脫離本案的範疇。
儘管已經結合設備描述了一些態樣，但毋庸置疑，這些態樣亦構成對應方法的描述，並且因此設備的方塊或部件亦應被理解為對應的方法動作或方法動作的特徵。與之類似地，結合或作為方法動作描述的各態樣亦構成對應設備的對應塊或細節或特徵的描述。方法動作中的一些或全部可由硬體裝置（或使用硬體裝置）來執行，諸如舉例而言，微處理器、可程式設計電腦或電子電路。在一些實例中，最重要的方法動作中的一些或複數個方法動作可由此類裝置來執行。
在以上詳細描述中，可以看到不同特徵在實例中被編群在一起。這種揭示方式不應被理解為實例條款具有比每項條款中所明確提及的特徵更多的特徵的意圖。相反，本案的各個態樣可以包括少於所揭示的個體實例條款的所有特徵。因此，以下條款由此應該被認為是被納入到本描述中，其中每項條款自身可為單獨實例。儘管每個從屬條款可以在各條款中引用與其他條款之一的特定組合，但該從屬條款的態樣不限於該特定組合。將領會，其他實例條款亦可以包括從屬條款態樣與任何其他從屬條款或獨立條款的標的的組合或者任何特徵與其他從屬和獨立條款的組合。本文所揭示的各個態樣明確包括這些組合，除非顯式地表達或可以容易地推斷出並不想要特定的組合（例如矛盾的態樣，諸如將部件定義為絕緣體和導體兩者）。此外，亦意欲使條款的各態樣可以被包括在任何其他獨立條款中，即使該條款不直接從屬於該獨立條款。
在以下經編號條款中描述了各實現實例： 條款1。一種裝置，包括：安裝在封裝基板的背側上的高功率晶粒；佈置在該高功率晶粒的背側上的熱傳遞層；及耦合到該熱傳遞層的複數個散熱器互連，其中該複數個散熱器互連中的每一者在垂直取向上直接耦合到該熱傳遞層。 條款2。如條款1的裝置，其中該高功率晶粒是聲波晶粒或功率放大器。 條款3。如條款1到2中的任一項的裝置，進一步包括：佈置在該封裝基板中的散熱片，其中該散熱片被耦合到該高功率晶粒的複數個前側觸點。 條款4。如條款3的裝置，其中該散熱片包括該封裝基板的多個金屬層。 條款5。如條款3到4中的任一項的裝置，其中該散熱片被耦合到該複數個散熱器互連、或耦合到接地的複數個訊號互連。 條款6。如條款1到5中的任一項的裝置，其中該複數個散熱器互連被耦合到接地。 條款7。如條款1到6中的任一項的裝置，其中該高功率晶粒進一步包括：從該熱傳遞層延伸到該高功率晶粒中的複數個散熱器通孔。 條款8。如條款1到7中的任一項的裝置，進一步包括：耦合到該封裝基板的前側的至少一個其他晶粒或表面安裝裝置，其中該至少一個其他晶粒或表面安裝裝置經由該封裝基板電耦合到該高功率晶粒。 條款9。如條款1到8中的任一項的裝置，其中該複數個散熱器互連各自具有一般圓柱形的形狀。 條款10。如條款1到9中的任一項的裝置，其中該裝置選自包括以下各項的群：音樂播放機、視訊播放機、娛樂單元、導航設備、通訊設備、行動設備、行動電話、智慧手機、個人數位助理、固定位置終端、平板電腦、電腦、可穿戴設備、物聯網路（IoT）設備、膝上型電腦、伺服器、存取點、基地台、小型細胞設備、以及機動交通工具中的設備。 條款11。如條款1到10中的任一項的裝置，進一步包括：佈置在該高功率晶粒的周邊周圍的複數個訊號互連，其中該複數個散熱器互連位於該複數個訊號互連內部。 條款12。如條款1到11中的任一項的裝置，其中該複數個散熱器互連中的每一者包括：金屬柱；可壓縮焊盤；及耦合到金屬柱的焊料部分。 條款13。如條款12的裝置，其中該金屬柱是銅。 條款14。如條款12到13中的任一項的裝置，進一步包括：模製化合物，其被配置成包封該高功率晶粒、該熱傳遞層，並包封該複數個散熱器互連中的每一者的一部分。 條款15。如條款12到14中的任一項的裝置，進一步包括：模製化合物，其被配置成包封該高功率晶粒，並包封該熱傳遞層的一部分，其中該熱傳遞層的背側以及該複數個散熱器互連從該模製化合物暴露。 條款16。如條款12到15中的任一項的裝置，其中該可壓縮焊盤包括由金屬包圍的聚合物焊盤。 條款17。如條款12到16中的任一項的裝置，其中該可壓縮焊盤延伸超過該金屬柱的直徑。 條款18。如條款1到17中的任一項的裝置，其中該複數個散熱器互連中的每一者包括：可壓縮金屬柱；及耦合到該可壓縮金屬柱的焊料部分。 條款19。如條款18的裝置，其中該可壓縮金屬柱包括具有至少為4%的孔隙率的多孔金屬。 條款20。如條款19的裝置，其中該孔隙率在5%至40%的範圍內。 條款21。如條款18到20中的任一項的裝置，其中該可壓縮金屬柱包括銅奈米膏或暫態液相燒結膏。 條款22。如條款1到21中的任一項的裝置，其中該熱傳遞層的背側的至少一部分被阻焊劑覆蓋，並且該複數個散熱器互連延伸穿過該阻焊劑中的開口。 條款23。如條款22的裝置，進一步包括：具有複數個可壓縮觸點的印刷電路板（PCB），其經由該複數個散熱器互連耦合到該高功率晶粒。 條款24。如條款23的裝置，其中該複數個可壓縮觸點中的每一者進一步包括：耦合到該PCB和金屬柱的可壓縮焊盤，其中該金屬柱被耦合到相關聯的散熱器互連。 條款25。如條款24的裝置，其中該可壓縮焊盤包括由金屬包圍的聚合物焊盤。 條款26。如條款23到25中的任一項的裝置，其中該複數個可壓縮觸點中的每一者進一步包括：嵌入在該PCB中並由阻焊劑覆蓋的可壓縮焊盤，其中該可壓縮焊盤被耦合到相關聯的散熱器互連。 條款27。如條款26的裝置，其中該可壓縮焊盤包括多孔傳導材料。 條款28。如條款27的裝置，其中該多孔傳導材料具有至少為4%的孔隙率。 條款29。如條款28的裝置，其中該孔隙率在5%至40%的範圍內。 條款30。如條款24到29中的任一項的裝置，其中該可壓縮焊盤包括銅奈米膏或暫態液相燒結膏。 條款31。一種用於製造裝置的方法，包括：在封裝基板的背側上安裝高功率晶粒；在該高功率晶粒的背側上沉積熱傳遞層；及形成耦合到該熱傳遞層的複數個散熱器互連，其中該複數個散熱器互連中的每一者在垂直取向上直接耦合到該熱傳遞層。 條款32。如條款31的方法，進一步包括：形成佈置在該高功率晶粒的周邊周圍的複數個訊號互連，其中該複數個散熱器互連位於該複數個訊號互連內部。 條款33。如條款31到32中的任一項的方法，其中形成該複數個散熱器互連中的每一者包括：形成金屬柱；形成可壓縮焊盤；及形成耦合到金屬柱的焊料部分。 條款34。如條款33的方法，進一步包括：將該高功率晶粒、該熱傳遞層、以及該複數個散熱器互連中的每一者的一部分包封在模製化合物中。 條款35。如條款33到34中的任一項的方法，進一步包括：將該高功率晶粒、以及該熱傳遞層的一部分包封在模製化合物中，其中該熱傳遞層的背側以及該複數個散熱器互連從該模製化合物暴露。 條款36。如條款33到35中的任一項的方法，其中該可壓縮焊盤包括由金屬包圍的聚合物焊盤。 條款37。如條款33到36中的任一項的方法，其中該可壓縮焊盤延伸超過該金屬柱的直徑。 條款38。如條款31到37中的任一項的方法，其中形成該複數個散熱器互連中的每一者包括：形成可壓縮金屬柱；及在該可壓縮金屬柱上沉積焊料部分。 條款39。如條款38的方法，其中該可壓縮金屬柱包括銅奈米膏或暫態液相燒結膏。 條款40。如條款31至39中的任一項的方法，進一步包括：使用阻焊劑來覆蓋該熱傳遞層的背側；及在該阻焊劑的開口中形成該複數個散熱器互連。 條款41。如條款40的方法，進一步包括：經由該複數個散熱器互連將具有複數個可壓縮觸點的印刷電路板（PCB）耦合到該高功率晶粒。 條款42。如條款41的方法，其中形成該複數個可壓縮觸點中的每一者包括：形成耦合到該PCB和金屬柱的可壓縮焊盤，其中該金屬柱被耦合到相關聯的散熱器互連。 條款43。如條款42的方法，其中該可壓縮焊盤包括由金屬包圍的聚合物焊盤。 條款44。如條款41到43中的任一項的方法，形成該複數個可壓縮觸點中的每一者包括：形成嵌入在該PCB中的可壓縮焊盤；經由阻焊劑來覆蓋該可壓縮焊盤；及在該阻焊劑中形成開口，其中該可壓縮焊盤經由該阻焊劑中的開口來耦合到相關聯的散熱器互連。 條款45。如條款44的方法，其中該可壓縮焊盤包括多孔傳導材料。
此外亦應注意，本描述或請求項中揭示的方法、系統以及裝置可由包括用於執行所揭示方法的相應動作及/或功能性的裝置的設備來實現。
此外，在一些實例中，個體動作可被細分為複數個子動作或包含複數個子動作。此類子動作可被包含在個體動作的揭示中並且可以是個體動作的揭示的一部分。
儘管前面的揭示圖示本案的說明性實例，但是應當注意，在其中可作出各種變更和修改而不會脫離如所附請求項定義的本案的範疇。根據本文中所描述的本案的各實例的方法請求項中的功能及/或動作不一定要以任何特定次序執行。另外，眾所周知的元素將不被詳細描述或可被省去以免模糊本文所揭示的各態樣和實例的相關細節。此外，儘管本案的要素可能是以單數來描述或主張權利的，但是複數也是已料想了的，除非顯式地聲明瞭限定於單數。
100:系統級封裝（SiP） 102:頂側部件 104:底側部件 110:PA晶粒 112:散熱器板 114:前側觸點 120:熱傳遞層 122:部分 130:散熱器互連 132:金屬柱 134:凹陷部分 136:焊料部分 140:封裝基板 141:部分 142:焊盤 145:散熱片 150:模製件 160:訊號互連 200:系統級封裝（SiP） 202:頂側部件 204:底側部件 210:PA晶粒 212:散熱器板 214:前側觸點 215:散熱器通孔 220:熱傳遞層 230:散熱器互連 232:金屬柱 236:焊料部分 240:封裝基板 241:部分 242:焊盤 245:散熱片 250:模製件 260:訊號互連 270:阻焊劑 300:系統級封裝（SiP） 302:頂側部件 304:底側部件 310:PA晶粒 314:前側觸點 315:散熱器通孔 320:熱傳遞層 330:散熱器互連 332:金屬柱 334:可壓縮焊盤 336:焊料部分 340:基板 341:部分 342:焊盤 350:模製件 360:訊號互連 370:散熱器互連 372:金屬柱 374:可壓縮焊盤 376:可壓縮焊盤 380:PCB 381:相關聯焊盤 400:系統級封裝（SiP） 402:頂側部件 404:底側部件 410:PA晶粒 414:前側觸點 420:熱傳遞層 430:散熱器互連 432:可壓縮金屬柱 436:焊料部分 440:封裝基板 441:部分 442:焊盤 445:散熱片 450:模製件 456:阻焊劑 460:訊號互連 470:散熱器互連 472:第二PCB焊盤 474:可壓縮觸點 476:焊料部分 480:PCB 481:第一PCB焊盤 482:第二PCB焊盤 486:阻焊劑 500:SiP 502:DFR部分 504:DFR部分 510:高功率晶粒 512:銅種子層 520:熱傳遞層 530:散熱器互連 531:DFR部分 532:柱/樁 536:焊球 540:封裝基板 542:焊盤 550:模製件 560:訊號互連 561:DFR部分 562:柱/樁 566:焊球 600:SiP 602:經圖案化DFR部分 610:高功率晶粒 612:散熱器板 613:種子層 620:熱傳遞層 630:散熱器互連 632:金屬柱 636:焊球 640:封裝基板 642:焊盤 650:模製化合物 651:阻焊劑 660:訊號互連 661:焊球 662:金屬柱 663:部分 700:SiP 702:經圖案化DFR部分 710:高功率晶粒 713:種子層 720:熱傳遞層 730:散熱器互連 732:金屬柱 734:可壓縮焊盤 736:焊球 740:封裝基板 742:焊盤 750:模製件 760:訊號互連 761:金屬柱部分 762:金屬柱 763:金屬柱部分 766:焊球 800:SiP 810:高功率晶粒 820:熱傳遞層 830:散熱器互連 832:可壓縮金屬柱 836:焊球 840:封裝基板 842:焊盤 850:模製件 860:訊號互連 862:金屬柱 866:焊球 900:方法 902:方塊 904:方塊 906:方塊 1000:方法 1002:方塊 1004:方塊 1006:方塊 1100:整合裝置 1101:SiP 1130:散熱器互連 1160:訊號互連 1180:電源 1190:PCB 1191:電源（VDD）線 1192:接地（GND）線 1195:PCB電容器（PCB cap） 1200:行動設備 1201:處理器 1222:系統級封裝或片上系統裝置 1226:顯示器控制器 1228:顯示器 1230:輸入裝置 1232:記憶體 1234:編碼器/解碼器（CODEC） 1236:揚聲器 1238:話筒 1240:無線電路 1242:無線天線 1244:電源 1300:SiP裝置 1302:設備 1304:設備 1306:設備 GND:接地 PCB:印刷電路板 VDD:電源
對本案的各態樣及其許多伴隨優點的更完整領會將因其在參考結合附圖考慮的以下詳細描述時變得更好理解而易於獲得，附圖僅出於圖示目的被提供而不對本案構成任何限定。
圖1A-D圖示了根據本案的一或多個態樣的系統級封裝（SiP）的部分橫截面視圖。
圖2A-E圖示了根據本案的一或多個態樣的系統級封裝（SiP）的部分橫截面視圖。
圖3A-E圖示了根據本案的一或多個態樣的系統級封裝（SiP）的部分橫截面視圖。
圖4A-E圖示了根據本案的一或多個態樣的系統級封裝（SiP）的部分橫截面視圖。
圖5圖示了根據本案的一或多個態樣的用於製造系統級封裝（SiP）的部分方法。
圖6圖示了根據本案的一或多個態樣的用於製造系統級封裝（SiP）的部分方法。
圖7圖示了根據本案的一或多個態樣的用於製造系統級封裝（SiP）的部分方法。
圖8圖示了根據本案的一或多個態樣的用於製造系統級封裝（SiP）的部分方法。
圖9圖示了根據本案的一或多個態樣的用於製作系統級封裝（SiP）的方法的流程圖。
圖10圖示了根據本案的一或多個態樣的用於製作裝置的方法的流程圖。
圖11圖示了根據本案的一或多個態樣的整合裝置的部件。
圖12圖示了根據本案的一或多個態樣的示例性行動設備。
圖13圖示了根據本案的一或多個態樣的可被整合有前述裝置中的任一者的各種電子設備。
根據慣例，附圖所圖示的特徵或許並非按比例繪製。相應地，為了清晰起見，所圖示的特徵的尺寸可能被任意放大或縮小。根據慣例，為了清晰起見，某些附圖被簡化。由此，附圖可能未繪製特定裝置或方法的所有部件。此外，類似元件符號貫穿說明書和附圖標示類似特徵。
國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無 國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無
300:系統級封裝(SiP)
302:頂側部件
304:底側部件
310:PA晶粒
314:前側觸點
315:散熱器通孔
320:熱傳遞層
330:散熱器互連
332:金屬柱
334:可壓縮焊盤
336:焊料部分
340:基板
341:部分
342:焊盤
350:模製件
360:訊號互連
370:散熱器互連
372:金屬柱
374:可壓縮焊盤
376:可壓縮焊盤
380:PCB
381:相關聯焊盤

Claims (45)

  1. 一種裝置，包括： 安裝在一封裝基板的一背側上的一高功率晶粒； 佈置在該高功率晶粒的該背側上的一熱傳遞層；及 耦合到該熱傳遞層的複數個散熱器互連，其中該複數個散熱器互連中的每一者在一垂直取向上直接耦合到該熱傳遞層。
  2. 如請求項1之裝置，其中該高功率晶粒是一聲波晶粒或一功率放大器。
  3. 如請求項1之裝置，進一步包括： 佈置在該封裝基板中的一散熱片，其中該散熱片被耦合到該高功率晶粒的複數個前側觸點。
  4. 如請求項3之裝置，其中該散熱片包括該封裝基板的複數個金屬層。
  5. 如請求項3之裝置，其中該散熱片被耦合到該複數個散熱器互連、或耦合到接地的複數個訊號互連。
  6. 如請求項1之裝置，其中該複數個散熱器互連被耦合到一接地。
  7. 如請求項1之裝置，其中該高功率晶粒進一步包括： 從該熱傳遞層延伸到該高功率晶粒中的複數個散熱器通孔。
  8. 如請求項1之裝置，進一步包括： 耦合到該封裝基板的一前側的至少一個其他晶粒或表面安裝裝置，其中該至少一個其他晶粒或表面安裝裝置經由該封裝基板電耦合到該高功率晶粒。
  9. 如請求項1之裝置，其中該高功率晶粒具有至少為0.25瓦的一功率耗散率。
  10. 如請求項1之裝置，其中該裝置選自包括以下各項的群：一音樂播放機、一視訊播放機、一娛樂單元、一導航設備、一通訊設備、一行動設備、一行動電話、一智慧手機、一個人數位助理、一固定位置終端、一平板電腦、一電腦、一可穿戴設備、一物聯網路（IoT）設備、一膝上型電腦、一伺服器、存取點、基地台、小型細胞設備、以及一機動交通工具中的一設備。
  11. 如請求項1之裝置，進一步包括： 佈置在該高功率晶粒的一周邊周圍的複數個訊號互連，其中該複數個散熱器互連位於該複數個訊號互連內部。
  12. 如請求項1之裝置，其中該複數個散熱器互連中的每一者包括： 一金屬柱； 一可壓縮焊盤；及 耦合到金屬柱的一焊料部分。
  13. 如請求項12之裝置，其中該金屬柱是銅。
  14. 如請求項12之裝置，進一步包括： 一模製化合物，其被配置成包封該高功率晶粒、該熱傳遞層，並包封該複數個散熱器互連中的每一者的一部分。
  15. 如請求項12之裝置，進一步包括： 一模製化合物，其被配置成包封該高功率晶粒，並包封該熱傳遞層的一部分， 其中該熱傳遞層的一背側以及該複數個散熱器互連從該模製化合物暴露。
  16. 如請求項12之裝置，其中該可壓縮焊盤包括由金屬包圍的一聚合物焊盤。
  17. 如請求項12之裝置，其中該可壓縮焊盤延伸超過該金屬柱的一直徑。
  18. 如請求項1之裝置，其中該複數個散熱器互連中的每一者包括： 一可壓縮金屬柱；及 耦合到該可壓縮金屬柱的一焊料部分。
  19. 如請求項18之裝置，其中該可壓縮金屬柱包括具有至少為4%的一孔隙率的一多孔金屬。
  20. 如請求項19之裝置，其中該孔隙率在5%至40%的一範圍內。
  21. 如請求項18之裝置，其中該可壓縮金屬柱包括一銅奈米膏或一暫態液相燒結膏。
  22. 如請求項1之裝置，其中該熱傳遞層的一背側的至少一部分被一阻焊劑覆蓋，並且該複數個散熱器互連延伸穿過該阻焊劑中的開口。
  23. 如請求項22之裝置，進一步包括： 具有複數個可壓縮觸點的一印刷電路板（PCB），其經由該複數個散熱器互連耦合到該高功率晶粒。
  24. 如請求項23之裝置，其中該複數個可壓縮觸點中的每一者進一步包括： 耦合到該PCB和一金屬柱的一可壓縮焊盤，其中該金屬柱被耦合到一相關聯的散熱器互連。
  25. 如請求項24之裝置，其中該可壓縮焊盤包括由金屬包圍的一聚合物焊盤。
  26. 如請求項23之裝置，其中該複數個可壓縮觸點中的每一者進一步包括： 嵌入在該PCB中並由一阻焊劑覆蓋的一可壓縮焊盤，其中該可壓縮焊盤被耦合到一相關聯的散熱器互連。
  27. 如請求項26之裝置，其中該可壓縮焊盤包括一多孔傳導材料。
  28. 如請求項27之裝置，其中該多孔傳導材料具有至少為4%的一孔隙率。
  29. 如請求項28之裝置，其中該孔隙率在5%至40%的一範圍內。
  30. 如請求項24之裝置，其中該可壓縮焊盤包括一銅奈米膏或一暫態液相燒結膏。
  31. 一種用於製造裝置的方法，包括以下步驟： 在一封裝基板的一背側上安裝一高功率晶粒； 在該高功率晶粒的該背側上沉積一熱傳遞層；及 形成耦合到該熱傳遞層的複數個散熱器互連，其中該複數個散熱器互連中的每一者在一垂直取向上直接耦合到該熱傳遞層。
  32. 如請求項31之方法，進一步包括以下步驟： 形成佈置在該高功率晶粒的一周邊周圍的複數個訊號互連，其中該複數個散熱器互連位於該複數個訊號互連內部。
  33. 如請求項31之方法，其中形成該複數個散熱器互連中的每一者包括以下步驟： 形成一金屬柱； 形成一可壓縮焊盤；及 形成耦合到金屬柱的一焊料部分。
  34. 如請求項33之方法，進一步包括以下步驟： 將該高功率晶粒、該熱傳遞層、以及該複數個散熱器互連中的每一者的一部分包封在一模製化合物中。
  35. 如請求項33之方法，進一步包括以下步驟： 將該高功率晶粒、以及該熱傳遞層的一部分包封在一模製化合物中， 其中該熱傳遞層的一背側以及該複數個散熱器互連從該模製化合物暴露。
  36. 如請求項33之方法，其中該可壓縮焊盤包括由金屬包圍的一聚合物焊盤。
  37. 如請求項33之方法，其中該可壓縮焊盤延伸超過該金屬柱的一直徑。
  38. 如請求項31之方法，其中形成該複數個散熱器互連中的每一者包括： 形成一可壓縮金屬柱；及 在該可壓縮金屬柱上沉積一焊料部分。
  39. 如請求項38之方法，其中該可壓縮金屬柱包括一銅奈米膏或一暫態液相燒結膏。
  40. 如請求項31之方法，進一步包括以下步驟： 使用一阻焊劑來覆蓋該熱傳遞層的一背側；及 在該阻焊劑的開口中形成該複數個散熱器互連。
  41. 如請求項40之方法，進一步包括以下步驟： 經由該複數個散熱器互連將具有複數個可壓縮觸點的一印刷電路板（PCB）耦合到該高功率晶粒。
  42. 如請求項41之方法，其中形成該複數個可壓縮觸點中的每一者包括： 形成耦合到該PCB和一金屬柱的一可壓縮焊盤，其中該金屬柱被耦合到一相關聯的散熱器互連。
  43. 如請求項42之方法，其中該可壓縮焊盤包括由金屬包圍的一聚合物焊盤。
  44. 如請求項41之方法，形成該複數個可壓縮觸點中的每一者包括： 形成嵌入在該PCB中的一可壓縮焊盤； 經由一阻焊劑來覆蓋該可壓縮焊盤；及 在該阻焊劑中形成一開口，其中該可壓縮焊盤經由該阻焊劑中的該開口來耦合到一相關聯的散熱器互連。
  45. 如請求項44之方法，其中該可壓縮焊盤包括一多孔傳導材料。
TW111113042A 2021-05-06 2022-04-06 具有垂直熱路徑的高功率晶粒散熱器 TW202245173A (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US17/313,412 2021-05-06
US17/313,380 US11948853B2 (en) 2021-05-06 2021-05-06 High-power die heat sink
US17/313,380 2021-05-06
US17/313,412 US11929299B2 (en) 2021-05-06 2021-05-06 High-power die heat sink with vertical heat path

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202245173A true TW202245173A (zh) 2022-11-16

Family

ID=81449075

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW111113044A TW202247377A (zh) 2021-05-06 2022-04-06 高功率晶粒散熱器
TW111113042A TW202245173A (zh) 2021-05-06 2022-04-06 具有垂直熱路徑的高功率晶粒散熱器

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW111113044A TW202247377A (zh) 2021-05-06 2022-04-06 高功率晶粒散熱器

Country Status (5)

Country Link
EP (2) EP4334974A1 (zh)
KR (2) KR20240006528A (zh)
BR (2) BR112023022547A2 (zh)
TW (2) TW202247377A (zh)
WO (2) WO2022236216A1 (zh)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004040414B4 (de) * 2004-08-19 2006-08-31 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Herstellung eines Verdrahtungssubstrats eines Halbleiterbauteils mit Außenkontaktanschlussflecken für Außenkontakte
CN1992246A (zh) * 2005-12-29 2007-07-04 财团法人工业技术研究院 复合凸块
US10916488B2 (en) * 2018-06-29 2021-02-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Semiconductor package having thermal conductive pattern surrounding the semiconductor die
US10867879B2 (en) * 2018-09-28 2020-12-15 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Integrated circuit package and method

Also Published As

Publication number Publication date
KR20240006529A (ko) 2024-01-15
BR112023022565A2 (pt) 2024-01-02
KR20240006528A (ko) 2024-01-15
EP4334974A1 (en) 2024-03-13
TW202247377A (zh) 2022-12-01
WO2022236216A1 (en) 2022-11-10
EP4334973A1 (en) 2024-03-13
BR112023022547A2 (pt) 2024-02-27
WO2022236215A1 (en) 2022-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102055337B1 (ko) 임베디드 PoP(package on package) 디바이스를 포함하는 통합된 디바이스
CN105981159B (zh) 具有设置在封装体内的无源微电子器件的微电子封装件
US10256219B2 (en) Forming embedded circuit elements in semiconductor package assembles and structures formed thereby
US20060216868A1 (en) Package structure and fabrication thereof
US20210119321A1 (en) Antenna module
US20180286815A1 (en) Shielding solutions for direct chip attach connectivity module package structures having shielding structures attached to package structures
US11948853B2 (en) High-power die heat sink
US11929299B2 (en) High-power die heat sink with vertical heat path
TW202245173A (zh) 具有垂直熱路徑的高功率晶粒散熱器
US20240088081A1 (en) Die package with sealed die enclosures
US11594491B2 (en) Multi-die interconnect
US20240274516A1 (en) Interposer with solder resist posts
US12046530B2 (en) Thermal bridge interposer structure
US20230082743A1 (en) Integrated passive devices
TW202247406A (zh) 圓形接合指狀焊盤
TW202320272A (zh) 高ｑ濾波器的後端和聲學處理集成
TW202220136A (zh) 混合焊盤尺寸和焊盤設計
TW202347656A (zh) 包括位於金屬化部分之間的互連晶粒的封裝
EP4454010A1 (en) Thermal bridge interposer structure