TW202238191A - 顯示結構及顯示裝置 - Google Patents

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TW202238191A
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伊思莫 瓦蒂阿伊寧
尤索 奧肯寧
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芬蘭商迪斯帕列斯有限公司
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Abstract

一種顯示結構(1000),包括:波導(1100),包括第一面(1110)、與第一面(1110)相對的第二面(1120)、及位於第一面(1110)上的輸入耦合區域(1112);輸入耦合結構(1200),用於將光束(1201)經由輸入耦合區域(1112)耦合到波導(1100)中;以及輸出耦合結構(1300),配置為通過光瞳複製來執行出射光瞳擴展,並將來自光束(1201)的光耦合到波導(1100)外。輸入耦合區域(1112)具有最大寬度Wmax;波導(1100)具有厚度T,其大於0.25×Wmax;並且,輸出耦合結構(1300)包括繞射第一輸出耦合元件(1310)及至少部分橫向重疊第一輸出耦合元件(1310)的繞射第二輸出耦合元件(1320)。

Description

顯示結構及顯示裝置
本發明係關於顯示裝置,特別是關於具有出射光瞳擴展特性(exit pupil expansion properties)之基於波導(waveguide-based)之顯示裝置及其結構。
具有出射光瞳擴展特性之基於波導之顯示裝置通常用於各種應用,例如,用於頭戴式透射顯示裝置(例如智慧型眼鏡)。
一般而言,這樣的裝置必須經過精心設計,以限制與光耦合到波導相關的光學損耗。習知上,利用諸如極化相依繞射光柵(polarization-dependent diffraction gratings)的極化相依耦合結構結合諸如波板(waveplates)的極化轉換元件(polarization-altering elements),可以降低這樣的光學輸入耦合損耗。然而,這樣的設置可能增加顯示裝置的複雜性。
鑑於上述情況,期望能開發出與基於波導之顯示裝置相關的新結構。
提供發明內容以簡化的形式介紹一些概念的選擇,這些概念將在下面的詳細描述中更進一步描述。本發明內容並非旨在確認所要求保護內容的關鍵特徵或基本特徵,也非旨在用於限制所要求保護內容的範圍。
根據第一面向,提供了一種顯示結構。該顯示結構包括:波導,包括沿基準面橫向延伸的第一面、與該第一面相對的第二面、及位於該第一面上的輸入耦合區域;輸入耦合結構,用於將光束經由該輸入耦合區域耦合到該波導中,以通過全內反射在該波導中傳播;以及輸出耦合結構,配置為通過沿至少第一複制方向的光瞳複製來執行出射光瞳擴展,並將來自該光束的光耦合到該波導外。該輸入耦合區域沿該第一複制方向測量具有最大寬度;該波導從該第一面測量到該第二面具有厚度,其大於該輸入耦合區域的該最大寬度的0.25倍;並且,該輸出耦合結構包括繞射第一輸出耦合元件及至少部分橫向重疊該第一輸出耦合元件的繞射第二輸出耦合元件。
根據第二面向,提供了一種顯示裝置,包括根據第一面向的顯示結構。
1000:顯示結構
1100:波導
1110:第一面
1111:基準面
1112:輸入耦合區域
1120:第二面
1200:輸入耦合結構
1201:光束
1210:繞射耦合元件
1300:輸出耦合結構
1301:第一複制方向
1310:第一輸出耦合元件
1320:第二輸出耦合元件
2000:顯示結構
2100:波導
2110:第一面
2111:基準面
2112:輸入耦合區域
2120:第二面
2200:輸入耦合結構
2201:光束
2220:輸入耦合棱鏡
2300:輸出耦合結構
2301:第一複制方向
2310:第一輸出耦合元件
2320:第二輸出耦合元件
2330:第三輸出耦合元件
3000:顯示結構
3100:波導
3110:第一面
3111:基準面
3112:輸入耦合區域
3200:輸入耦合結構
3201:光束
3202:入口區域
3210:繞射耦合元件
3300:輸出耦合結構
3301:第一複制方向
3310:第一輸出耦合元件
3320:第二輸出耦合元件
3400:顯示引擎
3401:可發光區域
3410:照明單元
3411:第一雷射器
3412:第二雷射器
3413:第三雷射器
3420:組合單元
3430:掃描器單元
3431:第一偏向鏡
3432:第二偏向鏡
4000:顯示裝置
4100:波導
4200:輸入耦合結構
4201:光束
4300:輸出耦合結構
4400:顯示引擎
Wmax:最大寬度
T:厚度
結合所附圖式閱讀以下詳細描述將能夠更好地理解本揭露,其中:
圖1出示了根據一實施例的顯示結構。
圖2出示了根據一實施例的另一顯示結構。
圖3出示了根據一實施例的另一顯示結構。
圖4出示了根據一實施例的顯示裝置。
除非有相反的特別說明,否則所述圖式中的任何圖式都不是按比例繪製的,為了強調所述圖式的實施例的特定結構面向,所述圖式中的任何元件可以相對於所述圖式中的其他元件以不準確的比例繪製。
此外,所述圖式中任兩張圖式的實施例中的對應元件在所述兩張圖式中可能彼此不成比例,以強調所述兩張圖式的實施例的特定結構面向。
圖1出示了根據一實施例的顯示結構1000。
在本說明書中,「顯示裝置」或「螢幕」可以指適於或配置為向使用者顯示視覺圖像的可操作裝置,例如電子裝置。附加地或替代地,顯示裝置可以指電子視覺顯示裝置。顯示裝置通常可以包括對其操作必需或有益的任何部件或元件,例如光學及/或電氣/電子部件或元件。
此外,「顯示結構」可以指可操作的顯示裝置的至少一部分。附加地或替代地,顯示結構可以指用於顯示裝置的結構。
在圖1的實施例中,顯示結構1000包括波導1100。
在本揭露中,「波導」可以指光學波導。附加地或替代地,波導可以指二維波導,其中光可以限制為沿所述波導的厚度方向。當然地,「波導」可以指波導層,其中光可以被全內反射限制。
圖1的實施例的波導1100包括沿基準面1111延伸的第一面1110、與第一面1110相對的第二面1120、及位於第一面1110上的輸入耦合區域1112。
在本揭露中,波導的「面」可以指所述波導的從某個觀察方向觀看或面向某個觀察方向的表面的一部分。附加地或替代地,波導的面可以指適於或配置為通過全內反射將光限制在所述波導中的表面。
在本說明書中,「區域」可以指面的一部分。因此,波導的第一面上的「輸入耦合區域」可以指所述第一面上的區域,該區域適於或配置為接收要耦合到所述波導中以通過全內反射在所述波導中傳播的光。附加地或替代地,包括顯示引擎的顯示結構的波導的輸入耦合區域可以指輸入耦合結構的入口區域和顯示引擎的最大可照明區域的相交處,其中,不包括顯示引擎的顯示結構的波導的輸入耦合區域可以指輸入耦合結構的入口區域。
此處,「基準面」可以指波導的第一面沿其延伸的虛擬表面。例如在第一面平坦的情況下,基準面可以是平面的,或者例如在第一面彎曲的情況下,基準面可以是彎曲的。此外,波導的第一面「沿基準面橫向延伸」可以指第一面沿所述基準面具有橫向方向。一般而言,元件的橫向範圍可以通過將所述元件投影到基準面上來定義。
在圖1的實施例中,顯示結構1000包括輸入耦合結構1200。
在本揭露中,「輸入耦合結構」可以指適於或配置成將光束耦合到波導中以通過全內反射在波導中傳播的結構。一般而言,輸入耦合結構可以適於或配置為耦合到波導光中,該光經由所述波導的第一面上的 入口區域進入所述波導。例如,包括繞射輸入耦合元件的輸入耦合結構的入口區域可以指第一面上的區域,其橫向範圍由所述繞射輸入耦合元件的橫向範圍限定。類似地,包括輸入耦合棱鏡的輸入耦合結構的入口區域可以指第一面上的區域,其橫向範圍由與波導耦合的所述輸入耦合棱鏡的面的橫向範圍限定。
圖1的實施例的輸入耦合結構1200適於通過輸入耦合區域1112將光束1201耦合到波導1100中,以通過全內反射在波導1100中傳播。
在本說明書中,「光束」可以指從光源輻射的光的方向流(directional flow)。
在圖1的實施例中,顯示結構1000包括輸出耦合結構1300。
在本揭露中,「輸出耦合結構」可以指配置為將光耦合到波導外的結構。
圖1的實施例的輸出耦合結構1300配置為通過沿至少第一複制方向1301的光瞳複製來執行出射光瞳擴展,並且將來自光束1201的光耦合到波導1100外。
此處,「出射光瞳擴展」可以指一種過程,在波導內以受控的方式分配光,以擴展所述波導的發生光輸出耦合的部分。
此外,「光瞳複製」可以指出射光瞳擴展的過程,其中,在成像系統中形成多個出射子光瞳。已知在依賴於光瞳複製來擴展出射光瞳的成像系統中,各個出射子光瞳優選地針對所有角度和所有波長以重疊方式 設置在波導的輸出耦合區域的橫向範圍內。出射子光瞳的這種設置可以避免在輸出耦合圖像中形成空間強度變化,這通常會被看成為暗條紋。
在本說明書中,「第一複制方向」可以指輸出耦合結構配置為執行光瞳複製的方向。附加地或替代地,第一複制方向可以指平行於基準面延伸的方向。
此外,配置為執行「沿至少第一複制方向的光瞳複製」的輸出耦合結構可以指,所述輸出耦合結構配置為執行例如是水平或垂直的一維的光瞳複製,或者例如是水平和垂直的二維的光瞳複製。
在圖1的實施例中,輸入耦合區域1112具有最大寬度(Wmax),波導1100的厚度(T)大於0.25×Wmax,並且輸出耦合結構1300包括繞射第一輸出耦合元件1310及繞射第二輸出耦合元件1320,所述繞射第二輸出耦合元件1320與第一輸出耦合元件1310至少部分地橫向重疊,亦即,部分地或完全地橫向重疊。
一般而言,包括繞射第一輸出耦合元件和至少部分橫向重疊於所述第一輸出耦合元件的繞射第二輸出耦合元件的顯示結構的輸出耦合結構可以有助於增加波導的厚度,以便限制光學耦合損耗及/或增加所述波導的機械穩定性而不損害顯示結構的光學特性。
此處,輸入耦合區域的「最大寬度」可以指所述輸入耦合區域沿第一複制方向的範圍的測量,例如最大測量。例如,在輸入耦合區域為圓形的情況下,所述輸入耦合區域的最大寬度可以指所述輸入耦合區域的直徑。
此外,波導的「厚度」可以指從第一面測量到第二面的所述波導的範圍的測量。附加地或替代地,可以垂直於基準面測量波導的厚度。附加地或替代地,可以從輸入耦合區域到第二面測量波導的厚度。
在本說明書中,「繞射光學元件」可以指其操作是基於光的繞射的光學元件。一般而言,繞射光學元件可以包括具有至少一維可見光波長量級的結構特徵,例如,至少在一維度中小於一微米。繞射光學元件的典型示例包括一維和二維繞射光柵,其可以實現為單區域繞射光柵或多區域繞射光柵。繞射光柵通常至少可以實現為表面起伏繞射光柵(surface relief diffraction gratings)或體積全像繞射光柵(volume holographic diffraction gratings),並且其可以配置為用作透射型及/或反射型繞射光柵。
因此,「繞射輸出耦合元件」可以指形成輸出耦合結構的一部分的繞射光學元件。附加地或替代地,繞射輸出耦合元件可以指適於或配置成有助於通過沿至少第一複制方向的光瞳複製來執行出射光瞳擴展並將光耦合到波導外的繞射光學元件。
此外,第一元件「至少部分橫向重疊」第二元件可以指所述第一元件與所述第二元件的投影在基準面上的至少部分重疊,亦即,部分地或完全地重疊。
在圖1的實施例中,波導1100可以由玻璃形成。在其他實施例中,波導可以包括任何合適的材料或由任何合適的材料形成,例如,玻璃或聚合物。
在圖1的實施例中,波導1100在整個可見光譜中可以具有大約為2的折射率。在其他實施例中,波導可以具有任何合適的折射率和任何合適的色散特性。
圖1的實施例的波導1100為以空氣為邊界,空氣在整個可見光譜中折射率大約為1。因此,通過在兩個空氣-玻璃界面處的全內反射,光束1201被限制在波導1100內。在其他實施例中,波導可以以空氣為邊界,或者也可以不以空氣為邊界。
雖然在圖1中沒有描繪出來,但輸出耦合結構1300可以配置為通過光瞳複製沿除了第一複制方向1301之外的第二複製方向來執行出射光瞳擴展。在這樣的情況下,第一輸出耦合元件1310和第二輸出耦合元件1320中的每一個可以包括二維繞射光柵。在其他實施例中,輸出耦合結構可以配置為通過沿第二複製方向的光瞳複製來執行出射光瞳擴展,或者也可以配置為不通過沿第二複製方向的光瞳複製來執行出射光瞳擴展。在輸出耦合結構配置為還沿第二複製方向通過光瞳複製來執行出射光瞳擴展的其他實施例中,第一輸出耦合元件和第二輸出耦合元件中的一個或兩個可以包括二維繞射光柵。
在一些實施例中,顯示結構的輸出耦合結構可以配置為通過沿第一複制方向的光瞳複製,並且第一輸出耦合元件和第二輸出耦合元件中的一個或兩個可以包括一維繞射光柵。在這樣的實施例中,所述顯示結構可以進一步包括中間光瞳擴展結構,或者也可以不進一步包括中間光瞳擴展結構,該中間光瞳擴展結構配置為接收來自輸入耦合結構的光,通過 沿不同於所述第一複制方向的第二複製方向進行光瞳複製來執行出射光瞳擴展,並將光引導至輸出耦合結構。
在圖1的實施例中,波導1100的厚度T可以是輸入耦合區域1112的最大寬度Wmax的大約0.3倍。在其他實施例中,波導可以具有大於輸入耦合區域的最大寬度的0.25倍的任何合適的厚度。在一些實施例中,波導的厚度可以大於等於輸入耦合區域的最大寬度的0.3倍、或0.35倍、或0.4倍。一般而言,波導的厚度與輸入耦合區域的最大寬度成比例,並可以通過減少與輸入耦合結構的多重相互作用相關的輸出耦合效應,來增加其機械穩定性及/或減少顯示結構中的輸入耦合損失。
在圖1的實施例中,波導1100的厚度T小於0.5×Wmax。在其他實施例中,波導可以具有小於等於輸入耦合區域的最大寬度的0.5倍的厚度,或者也可以不具有小於等於輸入耦合區域的最大寬度的0.5倍的厚度。一般而言,具有小於等於輸入耦合區域的最大寬度的0.5倍的厚度的波導可以有助於形成更高質量的輸出耦合圖像,即使是在沒有除了第一輸出耦合元件和第二輸出耦合元件之外的輸出耦合元件的情況下。
在圖1的實施例中,波導1100的厚度T可以大約為0.8毫米(mm)。在其他實施例中,波導可以具有任何合適的厚度,例如,厚度大於等於0.2mm、或大於等於0.5mm、及/或小於等於2mm、或小於等於5mm。一般而言,波導的厚度增加可以有助於顯示結構的製造。
在圖1的實施例中,輸入耦合區域1112的最大寬度Wmax可以大約為2.5mm。在其他實施例中,輸入耦合區域可以具有任何合適的最 大寬度,例如,最大寬度大於等於0.5mm、或大於等於1mm、及/或小於等於5mm、或小於等於10mm。
在圖1的實施例中,輸入耦合結構1200包括繞射輸入耦合元件1210。在其他實施例中,輸入耦合結構可以包括繞射輸入耦合元件,或者也可以不包括繞射輸入耦合元件。一般而言,包括繞射輸入耦合元件的輸入耦合結構可以有助於減少顯示結構的質量。
圖1的實施例的繞射輸入耦合元件1210包括表面起伏繞射光柵。在輸入耦合結構包括繞射輸入耦合元件的其他實施例中,所述繞射輸入耦合元件可以包括表面起伏繞射光柵,或者也可以不包括表面起伏繞射光柵。例如,在一些這樣的實施例中,輸入耦合結構可以包括體積全像繞射光柵。
圖1的實施例的繞射輸入耦合元件1210設置在第一面1110上。在其他實施例中,繞射輸入耦合元件可以設置在顯示結構的第一面上,或者也可以不設置在顯示結構的第一面上。例如,在一些實施例中,繞射輸入耦合元件可以設置在第二面上或波導內。
圖1的實施例的輸出耦合結構1300配置為通過第一面1110將光耦合到波導1100外。在其他實施例中,輸出耦合結構可以配置為通過第一面及/或第二面將光耦合到波導外。
在圖1的實施例中,第一輸出耦合元件1310設置在第一面1110上,並且第二輸出耦合元件1320設置在第二面1120上。在其他實施例中,第一輸出耦合元件可以設置在第一面上,或者也可以不設置在第一面上,及/或第二輸出耦合元件可以設置在第二面上,或者也可以不設置在 第二面上。例如,在一些實施例中,第一輸出耦合元件及/或第二輸出耦合元件可以設置在波導內。一般而言,第一輸出耦合元件及/或第二輸出耦合元件設置在波導的面上可以有助於顯示結構的製造。
第一輸出耦合元件1310和第二輸出耦合元件1320中的每一個包括表面起伏繞射光柵。在其他實施例中,第一輸出耦合元件和第二輸出耦合元件中的一個或兩個可以包括表面起伏繞射光柵,或者也可以不包括表面起伏繞射光柵。在一些實施例中,第一輸出耦合元件和第二輸出耦合元件皆包括體積全像繞射光柵。在第一輸出耦合元件和第二輸出耦合元件中的一個包括表面起伏繞射光柵的實施例中,另一個可以包括體積全像繞射光柵。
在圖1的實施例中,第一輸出耦合元件1310和第二輸出耦合元件1320的表面起伏繞射光柵形成在設置於波導1100上的圖案化薄膜(patterned films)中。在第一輸出耦合元件及/或第二輸出耦合元件包括表面起伏繞射光柵的其他實施例中,所述表面起伏繞射光柵可以形成在設置於波導上的圖案化膜中,或者也可以不形成在設置於波導上的圖案化膜中。例如,在一些這樣的實施例中,表面起伏繞射光柵可以直接形成在波導中。
儘管在圖1中示意性地將繞射輸入耦合元件1210、第一輸出耦合元件1310和第二輸出耦合元件1320的表面起伏繞射光柵描繪成二元繞射光柵(binary diffraction gratings),但任何合適類型的表面起伏繞射光柵可以用於繞射輸入耦合元件、第一輸出耦合元件和第二輸出耦合元件中的任何一個或全部,例如二元、及/或炫耀(blazed)、及/或傾斜(slanted)、及/或多級、及/或類比繞射光柵。當然地,這樣的表面起伏繞射光柵可以配 置有附加特徵,例如空間繞射效率調變特性(spatial diffraction efficiency modulation properties),以便以任何合適的方式提高波導效率和圖像均勻性,例如通過深度、工作週期(duty cycle)、或傾斜調變(slant modulation)。
此外,儘管圖1描繪了單個波導1100,但顯示結構通常可以包括一個或多個波導。在顯示結構包括兩個或更多個波導的實施例中,所述波導可以以任何合適的方式設置。在一些這樣的實施例中,這樣的波導可以彼此堆疊。
圖2出示了根據一實施例的顯示結構2000。圖2的實施例可以基於參考或結合圖1公開的任何實施例。附加地或替代地,雖然在圖2中沒有明確出示,但圖2的實施例或其任何部分通常可以包括圖1的實施例的任何特徵及/或元件。
在圖2的實施例中,顯示結構2000包括:波導2100,包括沿基準面2111延伸的第一面2110、與第一面2110相對的第二面2120、及位於第一面2110上的輸入耦合區域2112;輸入耦合結構2200,用於將光束2201經由輸入耦合區域2112耦合到波導2100中,以通過全內反射在波導2100中傳播;以及輸出耦合結構2300,配置為通過沿至少第一複制方向2301的光瞳複製來執行出射光瞳擴展,並將來自光束2201的光耦合到波導2100外。
輸入耦合區域2112沿第一複制方向2301測量具有最大寬度(Wmax),並且波導2100從第一面2110測量到第二面2120具有厚度(T),其大於0.25倍的Wmax。輸出耦合結構2300包括繞射第一輸出耦合元件 2310和至少部分橫向重疊第一輸出耦合元件2310的繞射第二輸出耦合元件2320。
在圖2的實施例中,輸入耦合結構2200包括輸入耦合棱鏡2220。輸入耦合棱鏡2220附接到波導2100。在其他實施例中,輸入耦合結構可以包括輸入耦合棱鏡,或者也可以不包括輸入耦合棱鏡。
在圖2的實施例中,第一輸出耦合元件2310設置在第一面2110上,並且第二輸出耦合元件2320設置在第二面2120上。
第一輸出耦合元件2310和第二輸出耦合元件2320中的每一個包括表面起伏繞射光柵。第一輸出耦合元件2310的表面起伏繞射光柵形成在設置於波導2100上的圖案化薄膜中,而第二輸出耦合元件2320的表面起伏繞射光柵直接形成在波導2100中。在其他實施例中,第一輸出耦合元件和第二輸出耦合元件中的一個或兩個可以直接形成在波導中,或者也可以不直接形成在波導中。
如圖2中的虛線所示,圖2的實施例的輸出耦合結構2300可以進一步包括設置在波導2100內的繞射第三輸出耦合元件2330,第三輸出耦合元件2330至少部分橫向重疊第一輸出耦合元件2310和第二輸出耦合元件2320中的每一個。在其他實施例中,輸出耦合結構可以包括這樣的繞射第三輸出耦合元件,或者也可以不包括這樣的繞射第三輸出耦合元件。一般而言,包括與第一輸出耦合元件和第二輸出耦合元件中的每一個重疊並設置在波導內的繞射第三輸出耦合元件的輸出耦合結構可以進一步增加出射子光瞳的密度,這反過來可以有助於進一步增加波導的厚度而不損害顯示結構的光學特性。
在一些實施例中,其中輸出耦合結構包括繞射第三輸出耦合元件,該繞射第三輸出耦合元件設置在波導內並且至少部分橫向重疊第一輸出耦合元件和第二輸出耦合元件中的每一個,所述輸出耦合結構可以進一步包括一個或多個附加輸出耦合元件,所述一個或多個附加輸出耦合元件中的每一個設置在所述波導內並且與所述第一輸出耦合元件、所述第二輸出耦合元件及所述第三輸出耦合元件中的每一個重疊。
在圖2的實施例的輸出耦合結構2000包括第三輸出耦合元件2330的情況下,T可以大於等於0.5×Wmax、或大於等於0.6×Wmax、或大於等於0.7×Wmax、或大於等於0.8×Wmax、或大於等於0.9×Wmax。在其他實施例中,其中輸出耦合結構包括第三輸出耦合元件,該第三輸出耦合元件設置在波導內並且至少部分橫向重疊第一輸出耦合元件和第二輸出耦合元件中的每一個,波導可以具有大於輸入耦合區域最大寬度的0.25倍的任何合適的厚度。
圖2的實施例的第三輸出耦合元件2330可以包括體積全像繞射光柵。第三輸出耦合元件2330的體積全像繞射光柵可以實現為所謂的薄透射體積全像繞射光柵(thin transmission volumetric holographic diffraction grating),其具有小於0.1mm的厚度並且可用作透射光柵。第三輸出耦合元件2330的體積全像繞射光柵可以實現為所謂的「厚」體積全像繞射光柵,其具有至少0.1mm的厚度並且可用作透射及/或反射式繞射光柵。
圖3出示了根據一實施例的顯示結構3000。圖3的實施例可以基於參考或結合任何圖1及圖2公開的任何實施例。附加地或替代地, 雖然在圖3中沒有明確出示,但圖3的實施例或其任何部分通常可以包括圖1及圖2的實施例的任何特徵及/或元件。
在圖3的實施例中,顯示結構3000包括波導3100,波導3100包括沿基準面3111橫向延伸的第一面3110、及位於第一面3110上的輸入耦合區域3112。顯示結構3000進一步包括輸入耦合結構3200以及輸出耦合結構3300,該輸入耦合結構3200包括繞射輸入耦合元件3210,用於將光束3201經由輸入耦合區域3112耦合到波導3100中,以通過全內反射在波導3100中傳播,輸出耦合結構3300配置為通過沿至少第一複制方向3301的光瞳複製來執行出射光瞳擴展,並將來自光束3201的光耦合到波導3100外。
本實施例的顯示結構3000進一步包括顯示引擎3400,用於將光束3201引導至輸入耦合結構3200。在其他實施例中,顯示結構可以包括這樣的顯示引擎,或者也可以不包括這樣的顯示引擎。
在本揭露中,「顯示引擎」可以指顯示結構的一部分,其適於或配置為形成將要傳遞到輸入耦合結構的圖像,例如,在角譜(angular spectrum)中。一般而言,顯示引擎可以在波導的第一面上具有(最大的)可照明區域。顯示引擎的可照明區域可以橫向地至少部分與輸入耦合結構的入口區域重疊,亦即,部分地或完全地與輸入耦合結構的入口區域重疊。顯示引擎可以形成出射光瞳,或者也可以不形成出射光瞳。在顯示引擎形成出射光瞳的實施例中,所述出射光瞳可以與輸入耦合結構的入射光瞳(entrance pupil)重疊。
圖3的實施例的顯示引擎3400實現為基於掃描器的顯示引擎。在顯示結構包括顯示引擎的其他實施例中,所述顯示引擎可以以任何合適的方式實現,例如,作為基於掃描器的顯示引擎或作為基於面板的顯示引擎。一般而言,基於掃描器的顯示引擎的使用可以有助於減小顯示結構的尺寸,及/或增加亮度,及/或增加顯示結構的對比度。由於使用基於掃描器的顯示引擎通常會產生更小尺寸的可照明區域,因此厚度減小的波導可以與這樣的顯示引擎結合使用。
在圖3的實施例中,顯示引擎3400包括:照明單元3410,包括發射藍光的第一雷射器3411、發射綠光的第二雷射器3412及發射紅光的第三雷射器3413;組合單元3420,用於組合來自第一雷射器3411、第二雷射器3412及第三雷射器3413的光,以形成光束3201;以及掃描器單元3430,包括第一偏向鏡3431和第二偏向鏡3432,用於收集來自組合單元3420的光,並驅動第一偏向鏡3431和第二偏向鏡3432,使得光束3201照射到輸入耦合區域3112上的不同位置。
圖3的實施例的顯示引擎3400包括基於雷射的照明單元。在其他實施例中,顯示引擎可以包括任何合適類型的照明單元,例如,基於雷射的照明單元及/或基於發光二極體的照明單元。
圖3的實施例的掃描器單元3430可以實現為雙一維微電機鏡掃描器單元(dual one-dimensional micro-electro-mechanical mirror scanner unit)。在其他實施例中,基於掃描器的顯示引擎可以包括任何合適類型的掃描器單元,例如,雙一維微電機鏡(MEMS鏡)掃描器單元或二維MEMS鏡掃描器單元。
一方面,圖3的實施例的輸入耦合結構3200在第一面3110上具有入口區域3202,入口區域3202由繞射耦合元件3210的橫向範圍限定。另一方面,顯示引擎3400在第一面3110上具有可照明區域3401。可照明區域3401的橫向範圍取決於第一偏向鏡3431和第二偏向鏡3432的移動範圍。
作為圖3的實施例的顯示結構3000,其包括顯示引擎3400,輸入耦合區域3112的橫向範圍定義為入口區域3202和可照明區域3401的相交處。在圖3的實施例中,輸入耦合區域3112沿第一複制方向3301測量具有最大寬度Wmax;波導3100具有厚度T,其大於0.25×Wmax;並且,輸出耦合結構3300包括繞射第一輸出耦合元件3310和至少部分橫向重疊第一輸出耦合元件3310的繞射第二輸出耦合元件3320。
在圖3的實施例中,波導3100可以具有大約為0.5mm的T,並且輸入耦合區域3112具有大約為1.2mm的Wmax。因此,T可以大約為0.4×Wmax
以上,主要討論了顯示結構的特徵。以下將更加強調顯示裝置的特性。上述關於顯示結構的實施方式、定義、細節和優點的內容比照適用於以下討論的顯示裝置。反之亦然。
圖4出示了根據一實施例的顯示裝置4000。圖4的實施例可以基於參考或結合圖1至圖3公開的任何實施例。附加地或替代地,雖然在圖4中沒有明確出示,但圖4的實施例或其任何部分通常可以包括圖1至圖3的實施例的任何特徵及/或元件。
圖4的實施例的顯示裝置4000包括基於本說明書的顯示裝置。
在圖4的實施例中,顯示裝置4000實現為透視頭戴式顯示裝置,更具體地,實現為包括透視顯示器的眼鏡。在其他實施例中,顯示裝置可以以任何合適的方式實現,例如,作為透視及/或頭戴式顯示裝置。
在圖4的實施例中,顯示裝置4000包括波導4100、輸入耦合結構4200、輸出耦合結構4300及顯示引擎4400。由顯示引擎4400引導到輸入耦合結構4200的光束4201可以通過輸入耦合結構4200耦合到波導4100中,並且來自光束4201的光可以接著通過輸出耦合結構4300耦合到波導4100外,朝向使用者的眼睛。
應當理解的是,上述實施例可以相互結合使用。兩個或更多個實施例可以組合在一起以形成進一步的實施例。
對於發明所屬領域中具有通常知識者來說顯而易見的是,隨著技術的進步,本發明的基本思想可以以各種方式實施。因此,本發明及其實施例不限於上述示例,而是可以在申請專利範圍的範疇內變化。
應當理解的是,上述任何益處和優點可以與一個實施例有關,或者也可以與多個實施例有關。實施例不限於解決任何或所有所述問題的實施例或具有任何或所有所述益處和優點的實施例。
術語「包括」在本說明書中用於表示包含其後的特徵或動作,但不排除還有一個或多個附加特徵或動作的存在。應當進一步理解的是,提及「一」項目是指那些項目中的一個或多個。
1000:顯示結構
1100:波導
1110:第一面
1111:基準面
1112:輸入耦合區域
1120:第二面
1200:輸入耦合結構
1201:光束
1210:繞射耦合元件
1300:輸出耦合結構
1301:第一複制方向
1310:第一輸出耦合元件
1320:第二輸出耦合元件
Wmax:最大寬度
T:厚度

Claims (13)

  1. 一種顯示結構,包括:
    波導,包括沿基準面橫向延伸的第一面、與該第一面相對的第二面、及位於該第一面上的輸入耦合區域;
    輸入耦合結構,用於將光束經由該輸入耦合區域耦合到該波導中,以通過全內反射在該波導中傳播;以及
    輸出耦合結構,配置為通過沿至少第一複制方向的光瞳複製來執行出射光瞳擴展,並將來自該光束的光耦合到該波導外;
    其中,該輸入耦合區域沿該第一複制方向測量具有最大寬度Wmax;該波導從該第一面測量到該第二面具有厚度T,其大於該輸入耦合區域的該最大寬度Wmax的0.25倍;並且,該輸出耦合結構包括繞射第一輸出耦合元件及至少部分橫向重疊該第一輸出耦合元件的繞射第二輸出耦合元件。
  2. 如請求項1所述之顯示結構,其中,該波導的該厚度T大於等於該輸入耦合區域的該最大寬度Wmax的0.3倍、或0.35倍、或0.4倍。
  3. 如前述請求項中任一項所述之顯示結構,其中,該輸入耦合結構包括繞射輸入耦合元件。
  4. 如前述請求項中任一項所述之顯示結構,其中,該輸入耦合結構包括輸入耦合棱鏡。
  5. 如前述請求項中任一項所述之顯示結構,其中,該第一輸出耦合元件設置在該第一面上,並且該第二輸出耦合元件設置在該第二面上。
  6. 如請求項5所述之顯示結構,其中,該輸出耦合結構還包括設置在該波導內的繞射第三輸出耦合元件,該第三輸出耦合元件至少部分橫向重疊該第一輸出耦合元件和該第二輸出耦合元件中的每一個。
  7. 如請求項6所述之顯示結構,其中,該波導的該厚度T大於等於該輸入耦合區域的該最大寬度Wmax的0.5倍、或0.6倍、或0.7倍、或0.8倍、或0.9倍。
  8. 如請求項1至6中任一項所述之顯示結構,其中,該波導的該厚度T小於等於該輸入耦合區域的該最大寬度Wmax的0.5倍。
  9. 如前述請求項中任一項所述之顯示結構,其中,更包括顯示引擎,用於將該光束引導至該輸入耦合結構。
  10. 如請求項9所述之顯示結構,其中,該顯示引擎實現為基於掃描器的顯示引擎,例如雷射掃描顯示引擎。
  11. 一種顯示裝置,包括如前述請求項中任一項所述之顯示結構。
  12. 如請求項11所述之顯示裝置,其中,該顯示裝置實現為透射顯示裝置。
  13. 如請求項11或12所述之顯示裝置,其中,該顯示裝置實現為頭戴式顯示裝置。
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