TW202131018A - 眼鏡鏡片 - Google Patents

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TW202131018A
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spectacle lens
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TW109146108A
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祁華
石崎貴子
河野重利
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泰國商豪雅鏡片泰國有限公司
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Abstract

本發明之課題在於，即便於鏡片基材形成覆膜後亦可充分地發揮近視抑制效果。 本發明提供一種眼鏡鏡片1，其係使自物體側之面3所入射的光線自眼球側之面4出射而收斂於既定之位置A者，其具備有：鏡片基材2，其於物體側之面3與眼球側之面4中之至少一面具有複數個基材凸部6；及覆膜，其覆蓋具有基材凸部6的面；位於具有基材凸部6之側的眼鏡鏡片之最表面上的凸部之形狀係基材凸部近似形狀，該形狀係使入射至眼鏡鏡片1的光線收斂於較既定之位置A更靠近物體側的位置B。

Description

眼鏡鏡片
本發明係關於一種眼鏡鏡片。
在專利文獻1中記載一種抑制近視等之折射異常惡化進行的眼鏡鏡片。具體而言，在眼鏡鏡片之物體側之面即凸面，形成有例如直徑1 mm左右之球形狀之微小凸部(在本說明書中之基材凸部)。在眼鏡鏡片通常使自物體側之面所入射的光線自眼球側之面出射而聚焦於佩戴者之視網膜上(在本說明書中為既定之位置A)。另一方面，通過上述微小凸部的光線係使入射至眼鏡鏡片的光線聚焦在較既定之位置A更靠近物體側之位置B。其結果，可抑制近視惡化進行。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]美國申請案公開第2017/0131567號
(發明所欲解決之問題)
本發明人等對專利文獻1記載之眼鏡鏡片得出如下見解，即，在設置有微小凸部之面(物體側之面即凸面)上所被設置之覆膜(例如硬塗膜或抗反射膜)與習知相同之情形時，存在有抑制近視惡化進行作用產生降低的顧慮。
本發明之一實施例之目的在於，提供一種即便於在鏡片基材形成覆膜後亦可充分地發揮近視抑制效果的技術。 (解決問題之技術手段)
本發明人等為了解決上述課題而積極地進行了研究。上述覆膜覆蓋具有基材凸部的面。如此一來，覆膜之最表面形狀具有源自基材凸部的覆膜凸部。
若為無覆膜之狀態，則藉由基材凸部而聚焦於較既定位置A更靠近物體側之位置。但於在鏡片基材之上形成有覆膜之情形時，是否聚焦於與基材凸部相同之位置或其附近將會取決於覆膜之最表面形狀即覆膜凸部形狀。
因此，本發明人等想到以下方法。 本發明人等得到如下見解，即，於將位於眼鏡鏡片之最表面的凸部之形狀設為基材凸部近似形狀之情形時，可充分發揮近視抑制效果。 較佳為，根據實際之覆膜凸部形狀來假想基材凸部形狀(即部分球面形狀)。本發明人等得到如下見解，即，於在比較該假想部分球面形狀與實際之覆膜凸部形狀時差異為既定值之情形時，則更可發揮近視抑制效果。
本發明係基於上述見解所創作者。本發明之第1態樣係一種眼鏡鏡片， 其係使自物體側之面所入射的光線自眼球側之面出射而收斂於既定之位置A者；其具備有： 鏡片基材，其於上述物體側之面與上述眼球側之面中之至少一面具有複數個基材凸部；及 覆膜，其覆蓋具有上述基材凸部的面； 位於具有上述基材凸部之側的眼鏡鏡片之最表面的覆膜凸部之形狀，係基材凸部近似形狀，該形狀係使入射至上述眼鏡鏡片的光線收斂於較上述既定之位置A更靠近物體側的位置B。
本發明之第2態樣係如第1態樣記載之態樣，其中， 在藉由光線追蹤計算而所獲得之均勻地入射至上述眼鏡鏡片之上述物體側的面之既定範圍內並通過上述覆膜的許多光線中，不通過上述既定之位置A附近且亦不通過上述靠近物體側之位置B附近的漫射光光線之條數為入射光線條數之30%以下。
本發明之第3態樣之眼鏡鏡片係如第1或第2態樣記載之態樣，其中， 相對於上述覆膜之最表面形狀的散光(astigmatism)分佈中在上述覆膜凸部之根部的散光之剖面曲線為0.20 mm以下。
本發明之第4態樣之眼鏡鏡片係如第1～第3態樣記載之態樣，其中， 最佳近似於上述覆膜凸部形狀的球面與實際之覆膜凸部形狀之間在鏡片厚度方向上的差之絕對值的最大值為0.1 μm以下。
本發明之第5態樣係如第1～第4中之任一態樣記載之態樣，其中， 上述覆膜凸部之突出距離Lc 與上述基材凸部之突出距離Ll 之關係滿足以下之式(1)。 0.6≦Lc /Ll ≦1.5・・・式(1)
上述各態樣亦可適用於以下列舉之其他態樣。
本發明之另一態樣係， 上述覆膜凸部使入射至上述眼鏡鏡片的光線收斂於較上述既定位置A更向物體側在超過0 mm且10 mm以下之範圍靠近的位置B。
本發明之另一態樣係， 上述覆膜具有：λ/4膜，其與上述鏡片基材相接；硬塗膜，其被形成於上述λ/4膜之上；及抗反射膜，其被形成於上述硬塗膜之上。
本發明之另一態樣係， 上述鏡片基材之折射率高於上述λ/4膜，上述λ/4膜之折射率高於上述硬塗膜。
本發明之另一態樣係， 亦可將漫射光率設定為超過0%(或1%以上，進而3%以上)且30%以下。又，較佳為減少漫射光率，因此較佳為設定成20%以下，更佳為設定成15%以下。
本發明之另一態樣係，最佳近似於上述覆膜凸部形狀的球面與實際之覆膜凸部形狀之間在鏡片厚度方向上的差之絕對值的最大值較佳為0.06 μm以下。
本發明之另一態樣係， 眼鏡鏡片之最表面(即覆膜之最表面)，具有使入射至眼鏡鏡片的光線收斂於較既定之位置A更向物體側在超過0 mm且10 mm以下之範圍靠近之位置B的形狀。再者，上述範圍較佳為0.1～7 mm，更佳為0.1～5 mm，再更佳為0.3～3 mm。
以下，更列舉本發明之另一態樣。其亦可適用以下各態樣用來代替第1態樣。又，亦可對以下各態樣適用於上述之各態樣。
本發明之又另一態樣係， 一種眼鏡鏡片，其係使自物體側之面所入射的光線自眼球側之面出射而收斂於既定之位置A者， 具備有鏡片基材，該鏡片基材係於上述物體側之面與上述眼球側之面中之至少一面具有複數個基材凸部， 具有抑制漫射光光線之產生的構成，該漫射光光線不通過上述既定之位置A附近，且亦不通過較上述既定之位置A更靠近物體側的位置B附近。
本發明之又另一態樣係一種眼鏡鏡片， 其係使自物體側之面所入射的光線自眼球側之面出射而收斂於既定之位置A者，其具備有： 鏡片基材，其於上述物體側之面與上述眼球側之面中之至少一面具有複數個基材凸部；及 覆膜，其覆蓋具有上述基材凸部的面； 上述覆膜為3.0 μm以下。
本發明之又另一態樣係一種眼鏡鏡片， 其係使自物體側之面所入射的光線自眼球側之面出射而收斂於既定之位置A者，其具備有： 鏡片基材，其於上述物體側之面與上述眼球側之面中之至少一面具有複數個基材凸部；及 覆膜，其覆蓋具有上述基材凸部的面； 位於具有上述基材凸部之側的眼鏡鏡片之最表面的凸部與上述基材凸部係具有共通之光線收斂特性。 (對照先前技術之功效)
根據本發明之一實施例，即便於在鏡片基材形成覆膜後亦可充分地發揮近視抑制效果。
以下，對本發明之實施形態進行說明。基於以下之圖式的說明係例示，本發明並不被限定於所例示之態樣。在以下之規定中，較佳為超過在全部覆膜凸部中之50%之數量之覆膜凸部(或超過在全部基材突出部中之50%之數量之基材突出部)滿足以下之規定。更佳為80%以上、90%以上、95%以上、99%以上，此處省略重複記載。
圖1係表示本發明之一態樣之眼鏡鏡片1之一例之剖視圖。在圖1中列舉物體側之面3為凸面且眼球側之面4為凹面之例(所謂之彎月形鏡片之例)。
本發明之一態樣之眼鏡鏡片1具有物體側之面3與眼球側之面4。「物體側之面3」係指具備有眼鏡鏡片1的眼鏡被佩戴於佩戴者時位於物體側(Z方向前方，近前側)的表面，「眼球側之面4」係指位於該物體側之面3之相反側，即具備有眼鏡鏡片1的眼鏡被佩戴於佩戴者時位於眼球側(Z方向後方，深側)的表面。 本說明書中，將眼鏡鏡片前視時之左右(水平)方向設為X方向，將上下方向設為Y方向，將鏡片厚度方向且光軸方向設為Z方向。
本發明之一態樣之眼鏡鏡片1中，除於專利文獻1所記載之微小凸部(即下述之基材凸部6及其上之覆膜凸部11)以外之鏡片基材2之基底部分(基材基底部)及其上之最表面的基底部分(覆膜基底部)與習知之眼鏡鏡片1相同，發揮將自物體側之面3所入射的光線自眼球側之面4出射而收斂於既定之位置A的功能(即實現處方度數的功能)。此處所說之「收斂」係指在縱向及橫向之至少任一方向上收斂。又，收斂位置亦可並非為1個，亦可為配合一個覆膜凸部11內之位置而收斂位置於光軸方向產生變動。再者，該收斂不僅在眼鏡鏡片1發生，而且亦會在光通過佩戴者眼睛時發生，但為了便於說明，以下省略其記載。
圖2係表示本發明之一態樣之眼鏡鏡片1藉由覆膜凸部11以外的部分(即覆膜基底部分)使自物體側之面3所入射的光線自眼球側之面4出射而收斂於眼球20之視網膜20A上之既定之位置A之情況的概略側剖視圖。
本發明之一態樣之眼鏡鏡片1具備有鏡片基材2。鏡片基材2亦具有物體側之面3與眼球側之面4。鏡片基材2之兩表面形狀可配合眼鏡鏡片1之種類來決定，亦可為凸面、凹面、平面之任一者或其等之組合。
以覆蓋鏡片基材2之物體側之面與眼球側之面之至少一者的方式形成覆膜而構成眼鏡鏡片1。
本發明之一態樣之鏡片基材2中，於物體側之面3與眼球側之面4中之至少一面形成有複數個基材凸部6。於該基材凸部6之上形成有覆膜，且在於覆膜之最表面形狀形成有源自基材凸部6之覆膜凸部11的狀態下，該覆膜凸部11使入射至眼鏡鏡片1的光線收斂於較既定之位置A更靠近物體側之位置B。
圖3係表示本發明之一態樣之眼鏡鏡片1藉由覆膜凸部11使自物體側之面3所入射的光線自眼球側之面4出射而收斂於較既定之位置A更靠近物體側之位置B之情況的概略側剖視圖。再者，該收斂位置B係對應於複數個覆膜凸部11之各者而以配置B1 、B2 、B3 、・・・BN 之形式存在。本說明書中之收斂位置B係歸納有配置B1 、B2 、B3 、・・・BN 的表述。
本發明之一態樣中，位於具有基材凸部6之側的眼鏡鏡片之最表面的凸部(例如覆膜凸部11)之形狀係基材凸部近似形狀，該基材凸部近似形狀係使入射至眼鏡鏡片的光線收斂於較上述既定之位置A更靠近物體側之位置B。
基材凸部近似形狀，係指最佳近似於覆膜凸部11形狀的球面(以下，稱為假想部分球面形狀)與基材凸部6形狀為近似之狀態的形狀。
基材凸部近似形狀之一具體例為如下所述。較佳為，最佳近似於覆膜凸部11形狀的球面與實際之覆膜凸部11形狀之間的在鏡片厚度方向上之差之絕對值之最大值為0.1 μm以下(較佳為0.06 μm以下)。
以下，對假想部分球面形狀及上述差進行規定的優點進行說明。
若為無覆膜狀態，則基材凸部6為大致部分球面形狀，於更靠近物體側之位置B被聚焦。即使於鏡片基材2之上形成覆膜，覆膜凸部11成為較基材凸部6為平緩的形狀，亦至少覆膜凸部11之頂點部分具有追隨於基材凸部6的形狀。
本發明之一態樣中，根據覆膜凸部11之頂點部分之大致部分球面形狀來假想最佳近似於該大致部分球面形狀的球面。藉此獲取假想部分球面形狀。而且，將該假想部分球面形狀與實際之覆膜凸部11形狀加以對比。
圖4係表示實際之眼鏡鏡片1之覆膜凸部11與假想部分球面形狀之概略剖視圖。實線係表示實際之眼鏡鏡片1之覆膜凸部11，虛線係表示假想部分球面形狀，一點鏈線係表示實際之眼鏡鏡片1之覆膜基底部分，橫線影線部分係表示假想部分球面形狀與實際之覆膜凸部11形狀之間之在鏡片厚度方向上的差。
假想部分球面形狀係最佳近似於實際之眼鏡鏡片1之覆膜凸部11之形狀的球面之部分形狀。該假想部分球面形狀例如藉由最小平方法所獲得。
最佳近似之一具體例為如下所述。相對於覆膜凸部11形狀而重疊配置球面形狀。於自眼鏡鏡片1之最表面上之基底部分之形狀起朝向頂點開始立起後直至結束立起之部分為止，將兩形狀之間的在鏡片厚度方向(光軸方法，Z軸)上之差進行平方。設定其等之值之合計成為最小的假想部分球面形狀。
作為最小平方法以外之方法，亦可根據覆膜凸部11之頂點及其附近之複數個點之位置而獲得假想部分球面形狀。該情形時，亦可使假想部分球面形狀之頂點與實際之眼鏡鏡片1之覆膜凸部11之頂點一致來檢查上述差。
若該差之絕對值之最大值為0.1 μm以下(較佳為0.06 μm以下)，則覆膜凸部11成為非常接近至部分球面形狀。其結果，可充分地發揮近視抑制效果。進而，藉由適用該規定，除可充分地發揮近視抑制效果以外，無需以下之內容：特意地表現出實際所製作之眼鏡鏡片1之剖面，確認覆膜凸部形狀是否可忠實地反映基材凸部形狀。
作為自在最表面上之基底部分形狀的立起開始部分，亦可將對覆膜凸部11之形狀經曲線化而成者進行1次微分所得的曲線中轉為增加的點設為立起開始部分。又，亦可將於下述之圖11所示之散光剖面曲線之峰之上升部分設為立起開始部分。亦可相同地設定立起結束部分。
以下，對本發明之一態樣之進一步之具體例、較佳例及變化例進行說明。
本發明之一態樣中，較佳為將藉由光線追蹤計算而獲得之均勻地入射至眼鏡鏡片之物體側之面之既定範圍內並通過覆膜的許多光線中，不通過既定之位置A附近且亦不通過靠近物體側之位置B附近之漫射光光線之條數，設定為入射光線條數之30%以下。
以下，對減少漫射光光線、及漫射光光線之比率(以下，亦稱為漫射光率)之優點進行說明。
漫射光光線係指如下光線，該光線自眼鏡鏡片1之物體側之面3入射並自眼球側之面4出射，既不通過藉由眼鏡鏡片1自身而光線所收斂之既定之位置A附近，亦不通過藉由基材凸部6及覆膜凸部11而光線所收斂之位置B附近。佩戴者之視野因漫射光光線而變得模糊。因此，較佳為減少自眼鏡鏡片1之物體側之面3入射並自眼球側之面4出射之光線中的漫射光率。
產生漫射光光線之理由之一在於覆膜。於覆膜凸部11之根部，若自成為基底之物體側之面3即凸面的形狀之變化過於平緩，則成為脫離基材凸部6之球形狀的形狀，且成為亦脫離物體側之面3即凸面的形狀。如此一來，既不在佩戴者之視網膜20A上(本說明書中為既定之位置A附近)聚焦，亦不在上述靠近物體側之位置B附近聚焦。
另一方面，藉由如上述本發明之一態樣之眼鏡鏡片1將漫射光率設定為30%以下，即便於鏡片基材2形成覆膜後亦可充分地發揮近視抑制效果。
於漫射光率之設定及算出中使用光線追蹤計算。該計算時，假定許多光線均勻地入射至眼鏡鏡片之物體側之面之既定範圍內並通過覆膜的狀況(所謂之佩戴眼鏡鏡片觀察外界的狀況)。該「既定範圍」只要為物體側之面中之光學區域即可。該光學區域係指物體側之面及與其對向之眼球側之面中具有實現對每位佩戴者設定之度數的曲面形狀的部分。
產生漫射光光線之理由之一在於覆膜，於本發明之一態樣之眼鏡鏡片1中，若考慮必需有覆膜這一點，則亦可將漫射光率設定為超過0%(或1%以上，進而3%以上)且30%以下。又，由於較佳為減少漫射光率，故而漫射光率較佳為設定為20%以下，更佳為設定為15%以下。
此處，將對決定漫射光率時之條件進行以下說明。 圖5係表示本發明之一態樣之眼鏡鏡片之檢查方法之流程之流程圖。
如圖5所示，首先於步驟101中，測量實際之眼鏡鏡片1之物體側之面(以下，亦稱為凸面)之形狀，並製成表示凸面3之形狀的曲面資料(形狀測量步驟)。凸面3之形狀例如藉由利用光之干涉進行測長的非接觸三維顯微鏡而進行測量。凸面3之三維形狀例如被以離散三維資料(x，y，z)之形式取得。
接下來，於步驟102中，根據表示所得之眼鏡鏡片1之凸面形狀的資料而生成曲面資料(曲面資料生成步驟)。再者，於使用離散三維資料作為表示眼鏡鏡片1之凸面形狀的資料時，例如只要生成B-樣條曲線(spline curve)之集合即可。又，當所測量之離散三維資料存在有雜訊時，例如亦可實施移動平均處理而使用平均值。
接下來，於步驟103中，根據上述曲面資料來設定實際之眼鏡鏡片1之模型(模型設定步驟)。
於設定實際之眼鏡鏡片1之模型之同時，亦設定眼球模型。眼球模型只要使用與佩戴者相關之資訊(例如眼軸長、眼調節量等)即可。此時，亦可考慮被安裝於框架時之眼鏡鏡片之傾斜率(前傾角及框架傾斜角)而對眼球模型32配置眼鏡鏡片模型30。
接下來，於步驟104中，藉由光線追蹤處理而特定出光線通過實際之眼鏡鏡片1時光線最收斂的位置(收斂位置特定步驟)。具體而言，針對基於實際之眼鏡鏡片1之曲面資料的模型，求出PSF(Point spread function：點擴散函數)，該PSF係表示自無限遠之點光源所出射之光線通過後之藉由光線所呈現的亮度分佈。
PSF係藉由追蹤自點光源所發射之許多光線，並計算任意面上之光點之密度而獲得。而且，對複數個任意面之PSF進行比較而特定出複數個任意面中之光線最聚光的位置(面)。再者，光線直徑只要基於動向直徑來設定即可，例如亦可設為4
Figure 02_image001
。
此處，對步驟104中特定出光線最聚光之位置的方法更詳細地進行說明。圖6～圖8係用以對特定出光線所聚光之位置之方法進行說明之圖。又，圖9係表示特定出光線所聚光之位置之方法之流程圖。
首先，如圖6所示，在步驟201中，假定光線通過模型上之物體側之面(凸面)33中的模型上之覆膜凸部36的狀況。而且，從距眼球模型32之視網膜32A上之0 mm位置，從既定之距離(例如，眼球之玻璃體之厚度即16 mm左右的位置)至視網膜32A為止，以既定之分離間隔Δd(例如，0.1 mm)之間距設定測量面P1,1～P1,n。再者，分離間隔Δd可設為0.2 mm間距，亦可設為眼軸長之1/50。
接下來，於步驟202中進行光線追蹤處理而計算出各測量面P1,1～P1,n中之光線之密度。光線之密度之計算係例如預先在各測量面設定格子狀之柵格(例如0.1 mm×0.1 mm)，只要計算出通過各柵格的光線之數量即可。
接下來，於步驟203中，為了特定出入射至凸部之光線成為最大密度的測量面，而於測量面P1,1～P1,n中根據上述既定之距離而特定出最初極大密度之測量面P1,i。為了節省計算，亦可自測量面P1開始計算光線之密度，於在檢測出最初極大值之後，光線之密度之計算值降低至測量面P1中之值與最初極大值之中間值程度時，停止本步驟之計算。
接下來，如圖7所示，於步驟204中，於最大密度之測量面P1,i前後之分離距離Δd/2之位置，設定測量面P2,1及測量面P2,2。然後，於步驟205中，計算出在測量面P2,1及測量面P2,2中之光線之密度。接下來，於步驟206中，特定出測量面P2,1、測量面P2,2、及測量面P1,i中之最大密度之測量面。
其後，於步驟207中，重複與步驟204～206相同之步驟直至分離距離變得非常地小為止。即，如圖8所示重複如下步驟：於之前成為最大密度之測量面(圖8中之P2,2)之前後，在之前分離距離之一半之新分離距離(圖8中之Δd/4)的位置，設定新測量面(圖8中之P3,1及P3,2)；計算出新測量面之光線的密度；及特定出之前成為最大密度的測量面及在新測量面中成為最大的測量面。 藉由以上步驟，能夠特定出光軸方向(鏡片厚度方向，Z軸)上之光線所聚光的位置。
接下來，特定出在與光軸方向垂直的面上(即所被特定出的上述測量面上)之光線之收斂位置。針對該特定，使用上述之PSF。藉由PSF，將光線(在上述測量面上之點)最密集之位置，設為光線在上述測量面上之收斂位置B。
然後，算出自光線在上述測量面上之收斂位置B至例如半徑2.5～20 μm之範圍以外的光線數。在本說明書中將自收斂位置B至例如半徑2.5～20 μm(在本說明書中採用半徑5.7 μm)之範圍內設為上述「位置B附近」。
減去在上述範圍外之光線中之光線利用眼鏡鏡片自身所收斂之既定之位置A之例如半徑2.5～20 μm之範圍內的光線(即在位置A所收斂之正常光線)。在本說明書中將自收斂位置A至例如半徑2.5～20 μm(在本說明書中採用半徑5.7 μm)之範圍內，設為上述「位置A附近」。
被減去後之條數的光線不收斂於利用眼鏡鏡片1自身光線所收斂的位置A附近，亦不收斂於利用覆膜凸部11光線所收斂之靠近物體側的位置B附近。在本說明書中將該光線設為漫射光。而且藉由將該漫射光率設定為30%以下，即便於在鏡片基材2形成覆膜之後，亦可充分地發揮近視抑制效果。
覆膜凸部11較佳為使入射至眼鏡鏡片1的光線收斂於較既定之位置A於物體側靠近在超過0 mm且10 mm以下之範圍的位置B。換言之，本發明之一態樣之眼鏡鏡片1之最表面(即覆膜之最表面)具有如下形狀，該形狀係使入射至眼鏡鏡片1的光線收斂於較既定之位置A於物體側靠近在超過0 mm且10 mm以下之範圍的位置B。再者，上述範圍較佳為0.1～7 mm，更佳為0.1～5 mm，再更佳為0.3～3 mm。
上述覆膜凸部11之突出距離Lc 與上述基材凸部6之突出距離Ll 之關係較佳為滿足以下式(1)。 0.6≦Lc /Ll ≦1.5・・・式(1) 若滿足該條件，則即便於基材凸部6形成覆膜，源自於基材凸部6的覆膜凸部11亦使入射至眼鏡鏡片1的光線之收斂位置B較上述既定之位置A更充分靠近至物體側。此意味著覆膜凸部11及本發明之一態樣之眼鏡鏡片1可發揮充分之近視抑制效果。
再者，覆膜凸部11之突出距離Lc 係自眼鏡鏡片1之最表面形狀之覆膜基底部分至覆膜凸部11之頂點為止的光軸方向(鏡片厚度方向，Z軸)之距離。基材凸部6之突出距離Ll 係自鏡片基材2之基材基底部分至基材凸部6之頂點為止的光軸方向(鏡片厚度方向，Z軸)之距離。
相對於上述覆膜之最表面形狀的散光分佈中的在上述覆膜凸部11之根部的散光之剖面曲線的半值寬較佳為0.20 mm以下。
在本說明書中之「覆膜凸部之根部(亦稱為周圍)」，係指眼鏡鏡片之最表面之覆膜基底部分與覆膜凸部的邊界及其附近之覆膜基底部分、及散光開始急遽增大之部分。在眼鏡鏡片剖視下之散光(剖面曲線)，可藉由稱為同調(coherence)相關干涉測定法進行測量。又，亦可將自邊界向遠離覆膜凸部之俯視中心的方向離開相當於中心—邊界間之距離之0.2倍的大致環狀區域，設為覆膜凸部之根部。
圖10係表示相對於為設計值(即無覆膜)時之基材凸部6及其附近之在散光分佈中之在通過基材凸部6之頂點(即俯視下之基材凸部6之中心)之剖面上之散光分佈(即散光剖面曲線)之圖(實線)之圖。 圖11係表示相對於實際之覆膜凸部11及其附近之在散光分佈中之在通過覆膜凸部11之頂點(即俯視下之覆膜凸部之中心)之剖面上之散光分佈(即散光剖面曲線)之圖(實線)之圖。
圖10及圖11中，橫軸表示X軸，即俯視眼鏡鏡片1之物體側之面3時之水平方向位置，單位為mm。亦可代替X軸而使用Y軸即俯視眼鏡鏡片1之物體側之面3時之垂直(天地)方向。 左縱軸表示散光(及平均度數)之值，單位為屈光度。 右縱軸表示覆膜凸部11或基材凸部6之高度，單位為mm。 再者，覆膜凸部11或基材凸部6於橫軸上為0.3～1.3 mm之部分。又，亦表示出平均度數分佈(即平均度數分佈剖面曲線)之圖(點線)、及覆膜凸部11或基材凸部6之Z軸高度之圖(虛線)。
如圖10所示，於設計上，散光剖面曲線無論在基材凸部6，或在基底部分即大致水平部分均大致一定，僅基材凸部6與基底部分之間之部分為偏離球面形狀的形狀。因此，僅於該部分顯示較高之散光值。
另一方面，如圖11所示，若為相對於實際之覆膜凸部11及其附近的散光剖面曲線，則於覆膜凸部11與覆膜基底部分之間(X＝0.3 mm附近及X＝1.3 mm附近)，在X軸方向上相對較寬之範圍中散光增加。此表示在覆膜凸部11與覆膜基底部分之間，相較於設計值之圖10而在相對較寬之範圍成為偏離球面形狀的形狀。
漫射光光線之原因之一係在覆膜凸部11之根部自覆膜基底部分的形狀之變化過於平緩。即，若能明確地區分覆膜基底部分與覆膜凸部11，則可排除漫射光光線之原因之一，進而即便於在鏡片基材2形成覆膜之後，亦可充分地發揮近視抑制效果。因此，應該表示於覆膜基底部分與覆膜凸部11之間不太存在有成為漫射光光線之原因之一的不完整形狀之部分，而利用上述散光剖面曲線。即，藉由相對於覆膜凸部11的散光剖面曲線，而規定覆膜凸部11之根部形狀之變化程度(即覆膜梯度變化)。
在圖11中之實際之眼鏡鏡片之半值寬只要如其名所述般採用峰頂點值(屈光度)之半值的峰寬即可。例如若為圖11，則於X＝0.3 mm附近及X＝1.3 mm附近，半值寬均為約0.10 mm。
藉由將上述散光剖面曲線之半值寬規定為0.20 mm以下，顯示出形狀自基底部分向覆膜凸部11急遽地變化，進而本發明之一態樣之眼鏡鏡片1可充分地發揮近視抑制效果。
上述覆膜較佳為具有：λ/4膜(未圖示)，其與上述鏡片基材2相接；硬塗膜8，其被形成於上述λ/4膜之上；及抗反射膜10，其被形成於上述硬塗膜8之上。
λ/4膜只要為於光學上具有λ/4之厚度的膜，則並無特別限定，亦可使用在抗反射濾波器等中所被使用的膜。作為一具體例，亦可使用胺基甲酸酯樹脂(折射率n＝1.54)作為λ/4膜，厚度亦可為70～90 nm。
硬塗膜8只要為提高眼鏡鏡片1之耐擦傷性者，則並無特別限定。作為一具體例，亦可使用不含金屬的矽化合物(折射率n＝1.50)作為硬塗膜8，厚度亦可為1.5～1.9 μm。
抗反射膜10亦可使用周知者。
較佳為，上述鏡片基材2之折射率高於上述λ/4膜，上述λ/4膜之折射率高於上述硬塗膜8。
以下，對上述內容以外之具體內容進行說明。
[鏡片基材2] 基材凸部6之尺寸及在鏡片基材2表面上之複數個基材凸部6之配置態樣並不特別限定。只要主要發揮使自物體側之面所入射的光束自眼球側之面出射而收斂於較視網膜更靠物體側(前方)的作用，則對基材突出部無限定。例如可根據自基材凸部6外部的視認性、藉由基材凸部6賦予設計性、藉由基材凸部6調整折射力等之觀點來決定。 如上所述對基材突出部之尺寸無限定，只要為帶來被形成於基材突出部之根部的覆膜厚度之分佈不均化的大小或形狀即可。例如，亦可為俯視圓形，作為三維形狀，亦可為球面。亦可為俯視橢圓形狀，作為三維形狀，亦可為複曲面形狀。此亦適於覆膜凸部之形狀。 圖14(a)係採用以俯視下各覆膜凸部之中心成為正三角形之頂點之方式分別獨立的離散配置(各覆膜凸部之中心配置於蜂窩構造之頂點)之情形之圖，圖14(b)係採用俯視下各覆膜凸部被配置於一行之構造之情形之圖。點線係測量漫射光率時所使用之任意之圓形區域(詳細如後說明)。 如上所述，對基材突出部之配置態樣無限定。如下述之實施例1及圖14(a)所示，亦可採用以俯視下各基材突出部之中心成為正三角形之頂點之方式分別獨立的離散配置(各基材突出部之中心配置於蜂窩構造之頂點)。 如下述圖14(b)所示，亦可採用俯視下各基材突出部被配置於一行的構造。進而，亦可採用各基材突出部被配置於一行，並且與該行鄰接而排列有其他之基材突出部的構造。此時，在一行內的基材突出部間之間距(基材突出部之中心間之距離，以下相同)，與某行之基材突出部和該基材突出部鄰接之其他行之基材突出部之間之間距亦可不同。又，在一行內的基材突出部彼此之間距與所鄰接之行彼此之間距亦可不同。 基材凸部6之高度例如亦可設為0.1～10 μm，亦可為0.5～2 μm(相當於基材突出部之折射力2.50～6.50 D)。基材突出部之折射力之上限亦可為5.50 D或5.00 D，下限亦可為3.00 D。基材凸部6表面之曲率半徑例如亦可設為50～250 mmR。又，相鄰之基材凸部6間之距離(某基材凸部6之端部與該基材凸部6相鄰之基材凸部6之端部的距離)例如亦可設為與基材凸部6之半徑值相同程度。又，複數個基材凸部6例如可大致均勻地配置於鏡片中心附近。 亦可如專利文獻1之圖10所述於眼鏡鏡片之中央部形成基材突出部，亦可如專利文獻1之圖1所述不於眼鏡鏡片之中央部形成基材突出部。
作為鏡片基材2，可使用一般用於眼鏡鏡片1的各種鏡片基材2。鏡片基材2亦可設為例如塑膠鏡片基材或玻璃鏡片基材。玻璃鏡片基材亦可設為例如無機玻璃製之鏡片基材。自輕量且難以破裂之觀點，作為鏡片基材2較佳為塑膠鏡片基材。作為塑膠鏡片基材，列舉以(甲基)丙烯酸樹脂為代表之苯乙烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、烯丙基樹脂、二乙二醇雙(烯丙基碳酸酯)樹脂(CR-39)等之碳酸二烯丙酯樹脂、乙烯基樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、異氰酸酯化合物與二乙二醇等之羥基化合物之反應所得之胺基甲酸酯樹脂、異氰酸酯化合物與聚硫醇化合物之反應所得之硫代胺基甲酸酯樹脂、使含有在分子內具有1個以上雙硫鍵之(硫代)環氧化合物之硬化性組成物硬化而成之硬化物(一般稱為透明樹脂)。硬化性組成物亦可稱為聚合性組成物。作為鏡片基材2，可使用未經染色者(無色鏡片)，亦可使用經染色者(染色鏡片)。鏡片基材2之厚度及直徑並不特別限定，例如厚度(中心厚度)亦可設為1～30 mm左右，直徑亦可設為50～100 mm左右。鏡片基材2之折射率例如亦可設為1.60～1.75左右。但，鏡片基材2之折射率並不限定於上述範圍，可為上述範圍內，亦可上下偏離上述範圍。在本發明及本說明書中，折射率設為相對於波長500 nm之光的折射率。鏡片基材2可藉由澆鑄聚合等之周知之成形法所成形。例如，使用具有具備複數個凹部之成形面的成形模，藉由澆鑄聚合進行鏡片基材2之成形，藉此獲得在至少一側之表面上具有基材凸部6的鏡片基材2。
[覆膜] 作為被形成於鏡片基材2之具有基材凸部6之表面上之覆膜之一態樣，列舉有使包含硬化性化合物的硬化性組成物硬化而所被形成的硬化膜。該硬化膜一般稱為硬塗膜8，有助於提高眼鏡鏡片1之耐久性。硬化性化合物係指具有硬化性官能基之化合物，硬化性組成物係指包含一種以上之硬化性化合物之組成物。
作為用以形成上述硬化膜之硬化性組成物之一態樣，可列舉有包含有機矽化合物之硬化性組成物作為硬化性化合物，亦可列舉有包含有機矽化合物及金屬氧化物粒子的硬化性組成物。作為可形成上述硬化膜之硬化性組成物之一例，列舉在日本專利特開昭63-10640號公報中所記載之硬化性組成物。
又，作為有機矽化合物之一態樣，亦可列舉在下述一般式(I)所表示之有機矽化合物及其之水解物。 (R1 )a (R3 )b Si(OR2 )4-(a ＋ b) ・・・(I)
一般式(I)中，R1 表示具有縮水甘油氧基、環氧基、乙烯基、甲基丙烯醯氧基、丙烯醯氧基、巰基、胺基、苯基等之有機基，R2 表示碳數1～4之烷基、碳數1～4之醯基或碳數6～10之芳基，R3 表示碳數1～6之烷基或碳數6～10之芳基，a及b分別表示0或1。
以R2 所被表示之碳數1～4之烷基為直鏈或分支之烷基，作為具體例，列舉有甲基、乙基、丙基、丁基等。 作為以R2 所被表示之碳數1～4之醯基，列舉有例如乙醯基、丙醯基、油基、苯甲醯基等。 作為以R2 所被表示之碳數6～10之芳基，列舉有例如苯基、二甲苯基、甲苯基等。 以R3 所被表示之碳數1～6之烷基為直鏈或分支之烷基，作為具體例，列舉有甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基等。 作為以R3 所被表示之碳數6～10之芳基，列舉有例如苯基、二甲苯基、甲苯基等。 作為以上述一般式(I)所被表示之化合物之具體例，列舉在日本專利特開2007-077327號公報之段落0073中所記載之化合物。以一般式(I)所被表示之有機矽化合物具有硬化性基，因此藉由於塗佈後實施硬化處理而可形成硬塗膜8作為硬化膜。
金屬氧化物粒子可有助於硬化膜之折射率調整及硬度提高。作為金屬氧化物粒子之具體例，列舉有氧化鎢(WO3 )、氧化鋅(ZnO)、氧化矽(SiO2 )、氧化鋁(Al2 O3 )、氧化鈦(TiO2 )、氧化鋯(ZrO2 )、氧化錫(SnO2 )、氧化鈹(BeO)、氧化銻(Sb2 O5 )等之粒子，可單獨或組合2種以上金屬氧化物粒子而使用。金屬氧化物粒子之粒徑自兼顧硬化膜之耐擦傷性與光學特性之觀點，較佳為5～30 nm之範圍。硬化性組成物之金屬氧化物粒子之含量可考慮所被形成之硬化膜之折射率及硬度而適當設定，通常，亦可設為每單位硬化性組成物之固形份為5～80質量%左右。又，自在硬化膜中之分散性之觀點，金屬氧化物粒子較佳為膠體粒子。
上述硬化膜可藉由例如以下之方法所形成，即，配合上述成分及需要將混合有有機溶劑、界面活性劑(調平劑)、硬化劑等之任意成分而調製的硬化性組成物，向鏡片基材2之具有基材凸部6的表面進行直接塗佈、或隔著其他之膜間接地進行塗佈而形成塗佈膜，並對該塗佈膜實施與硬化性化合物之種類對應的硬化處理(例如加熱及/或光照射)。下文詳細敍述硬化性組成物之塗佈。例如於藉由加熱進行硬化處理之情形時，藉由將形成有硬化性組成物之塗佈膜的鏡片基材2於50～150℃之環境氣體溫度的環境下配置30分鐘～2小時左右，可進行塗佈膜中之硬化性化合物之硬化反應。
關於用以於鏡片基材2之具有基材凸部6之表面上形成覆膜的硬化性組成物之黏度，自藉由旋轉塗佈所進行之塗佈之適應性之觀點，較佳為1～50 mPa・s之範圍，更佳為1～40 mPa・s之範圍，再更佳為1～20 mPa・s之範圍。在本發明及本說明書中之黏度係指於液溫25℃下之黏度。
而且，算出位於自上述測量面上之光線之收斂位置B至例如半徑2.5～20 μm之範圍外的光線數。在本說明書中將自收斂位置B至例如半徑2.5～20 μm(在本說明書中採用半徑5.7 μm)之範圍內設為上述「位置B附近」。
減去位於上述範圍外之光線中之位於自利用眼鏡鏡片自身光線所收斂之既定之位置A至例如半徑2.5～20 μm之範圍內的光線(即在位置A所收斂之正常光線)。在本說明書中將自收斂位置A至例如半徑2.5～20 μm(在本說明書中採用半徑5.7 μm)之範圍內設為上述「位置A附近」。
[塗佈液之供給] 藉由旋轉塗佈而進行用以在鏡片基材2之具有基材凸部6的表面上形成覆膜的塗佈液之供給。藉由利用旋轉塗佈來進行塗佈，可抑制因於基材凸部6周邊產生積液等而覆膜之膜厚成為不均一的情形。利用旋轉塗佈所進行之塗佈例如可藉由如下方法進行，即，將鏡片基材2以具有基材凸部6的表面朝向垂直上方的方式配置於旋轉塗佈機，於使鏡片基材2在旋轉塗佈機上旋轉之狀態下，自上方將塗佈液供給至上述表面上(例如自被配置於上述表面之上方的噴嘴噴出塗佈液)。此處，自形成膜厚為更均一之覆膜的觀點，在旋轉塗佈中之鏡片基材2之旋轉速度較佳為10～3000 rpm(rotations per minute，每分鐘轉數)之範圍，更佳為50～2500 rpm之範圍，再更佳為100～2000 rpm之範圍。但，本發明並不限定於旋轉塗佈法，亦可使用周知方法(例如浸漬法)而進行實現。
上述塗佈後，進行與塗佈液之種類對應的處理(例如硬化處理、乾燥處理等)，藉此可形成覆膜。
經過以上步驟而所被形成的覆膜之膜厚亦可設為例如0.5～100 μm之範圍。但，覆膜之膜厚係配合對覆膜所被要求的功能來決定，並不限定於上述例示之範圍。 與基材突出部相同，覆膜凸部之高度亦可設為例如0.1～10 μm，較佳為0.5～2 μm。與基材突出部相同，覆膜凸部之散焦功率亦可為基材突出部之折射力2.50～6.50 D。散焦功率之上限亦可為5.50 D或5.00 D，下限亦可為3.00 D。 在本說明書中之「散焦功率」係指各散焦區域之折射力與各散焦區域以外之部分之折射力的差。換言之，「散焦功率」係指自散焦區域之既定之位置之最小折射力與最大折射力的平均值減去基底部分之折射力所得的差。在本說明書中，例示散焦區域為凸部區域的情形。 在本說明書中之「折射力」係指平均折射力，該平均折射力係折射力成為最小的方向a之折射力與折射力成為最大的方向b(與方向a垂直之方向)之折射力的平均值。
亦可於上述覆膜之上進而形成一層以上之覆膜。該覆膜之一例，可列舉抗反射膜10、撥水性或親水性之防污膜、防霧膜等之各種覆膜。該等覆膜之形成方法則可適用已周知之技術。 又，於鏡片基材2之一側之表面不具有基材凸部6之情形時，亦可於該鏡片基材2表面形成一層以上之覆膜。作為該覆膜，可列舉通常被設置於眼鏡鏡片1的各種覆膜(例如硬塗膜8、底塗膜、抗反射膜10、防污膜、防霧膜等)，該等覆膜之形成方法亦可適用已周知之技術。
以下對本發明之上述一態樣中，對覆膜凸部11形狀最佳近似的球面與實際之覆膜凸部11形狀之間的鏡片厚度方向上之差之絕對值之最大值為0.1 μm以下之情形加以解釋。另一方面，本發明之眼鏡鏡片1並不限定於該差之規定。明確地說本發明之主旨在於，即便於形成有覆膜之後，位於具有基材凸部6之側的眼鏡鏡片1之最表面的凸部亦使入射至眼鏡鏡片1的光線收斂於較既定之位置A更靠近物體側的位置B，該主旨為具有新穎性者。
除了上述本發明之一態樣之眼鏡鏡片之規定以外，亦可代替該規定而使用以下之規定。 在藉由光線追蹤計算而所獲得之均勻地入射至眼鏡鏡片之物體側之面之既定範圍內並通過覆膜的許多光線中，將不通過既定之位置A附近且亦不通過靠近物體側之位置B附近的漫射光光線之條數，設定為入射光線條數之30%以下。 換言之為以下之構成。 「一種眼鏡鏡片，其係使自物體側之面所入射的光線自眼球側之面出射而收斂於既定之位置A者，且 具備有於上述物體側之面與上述眼球側之面中之至少一面具有複數個基材凸部的鏡片基材， 具有如下之構成：抑制不通過上述既定之位置A附近、且亦不通過較上述既定之位置A更靠近物體側之位置B附近的漫射光光線之產生。」
於本發明之另一態樣中針對形成有覆膜之情形進行說明。另一方面，獲得本發明之見解時確實對覆膜進行了研究，但覆膜只不過為獲得本發明之見解之一契機。因此，該另一態樣並不限定於具備有覆膜的眼鏡鏡片1。明確地說，於該另一態樣中，只要為具有抑制不通過既定之位置A附近、且亦不通過較既定之位置A更靠近上述物體側之位置B附近的漫射光光線之產生的構成者，則有無覆膜皆可。例如，即便於未在鏡片基材2設置有覆膜之情形時，根據鏡片基材2之基材凸部6之形狀，亦存在有產生漫射光光線的顧慮。該情形時，對眼鏡鏡片1採用抑制漫射光光線之產生的構成，則具有技術上之意義。又，「抑制漫射光光線之產生的構成」，可為與眼鏡鏡片1之物體側之面3或眼球側之面4之形狀相關的構成，亦可為與鏡片基材2或覆膜之組成相關的構成。
又，亦可除上述本發明之一態樣之眼鏡鏡片之規定以外，或者代替規定而使用以下之規定。 在另一態樣中，實際之覆膜凸部形狀與實際之基材凸部形狀之間之在鏡片厚度方向上的差之絕對值之最大值設為0.1 μm以下(較佳為0.06 μm以下)。
以下，對規定上述差的優點進行說明。
不論怎樣在鏡片基材2之上形成覆膜，且覆膜凸部11為較基材凸部6平緩之形狀，亦至少覆膜凸部11之頂點部分具有追隨於基材凸部6的形狀。
即，在該另一態樣中，將實際之覆膜凸部11之大致部分球面形狀、與實際之鏡片基材2之部分球面形狀加以對比。
圖12(a)係表示實際之眼鏡鏡片1之覆膜凸部11與基材凸部6的概略剖視圖。圖12(b)係使覆膜凸部11之頂點與基材凸部6之頂點一致的概略剖視圖。實線表示實際之眼鏡鏡片1之覆膜凸部11，虛線表示基材凸部6，縱線部分表示覆膜凸部形狀與基材凸部形狀之間之在鏡片厚度方向上的差。
圖12(b)中，使覆膜凸部11之頂點與基材凸部6之頂點一致，並且檢查自基材凸部6之基底部分之形狀朝向頂點開始立起後直至結束立起之部分為止的實際之基材凸部6、與實際之眼鏡鏡片1之覆膜凸部11之間之在鏡片厚度方向(光軸方法)上的差。
若該差之絕對值之最大值為0.1 μm以下(較佳為0.06 μm以下)，則視為可忠實地追隨存在於覆膜之下的基材凸部6之形狀。其結果，獲得可充分地發揮近視抑制效果的見解。藉由適用該規定，可充分地發揮近視抑制效果。再者，亦可規定覆膜凸部11形狀與基材凸部6形狀之相似率。
又，亦可除上述之本發明之一態樣之眼鏡鏡片之規定以外，或者代替規定而使用以下之規定。 「一種眼鏡鏡片，其係使自物體側之面所入射的光線自眼球側之面出射而收斂於既定之位置A者，其具備有： 鏡片基材，其於上述物體側之面與上述眼球側之面中之至少一面具有複數個基材凸部；及 覆膜，其覆蓋具有上述基材凸部的面； 上述覆膜為3.0 μm以下。」
又，亦可除上述之本發明之一態樣之眼鏡鏡片之規定以外，或者代替規定而使用以下之規定。 「一種眼鏡鏡片，其係使自物體側之面所入射的光線自眼球側之面出射而收斂於既定之位置A者，其具備有： 鏡片基材，其於上述物體側之面與上述眼球側之面中之至少一面具有複數個基材凸部；及 覆膜，其覆蓋具有上述基材凸部的面； 位於具有上述基材凸部之側的眼鏡鏡片之最表面的凸部與上述基材凸部係具有共通之光線收斂特性。」
在本發明之另一態樣中，針對實際之覆膜凸部11形狀與實際之基材凸部6形狀之間之在鏡片厚度方向上的差之絕對值之最大值為0.1 μm以下之情形進行說明。另一方面，該另一態樣之眼鏡鏡片1並不限定於該差之規定。明確地說，該另一態樣之主旨在於，位於具有基材凸部6之側的眼鏡鏡片1之最表面的凸部與基材凸部6係具有共通之光線收斂特性，該主旨為新穎。「共通之光線收斂特性」係指使光線收斂於較藉由眼鏡鏡片之基底部分而使光線收斂於既定之位置A更靠近物體側的特性。正是由於位於具有基材凸部6之側的眼鏡鏡片1之最表面的凸部之形狀追隨於基材凸部6之形狀，故而具有共通之光線收斂特性。再者，較既定之位置A向物體側靠近之距離並無特別限定。例如，亦可將藉由位於具有基材凸部6之側的眼鏡鏡片1之最表面的凸部而光線被收斂的位置、與藉由基材凸部6而光線被收斂的位置，設定於自既定之位置A至上述之範圍即超過0 mm且10 mm以下之範圍。
又，在本發明之另一態樣中，規定覆膜凸部11形狀與基材凸部6形狀之間之在鏡片厚度方向上的差。另一方面，該另一態樣之眼鏡鏡片1亦可不規定該差，而規定覆膜厚度自身。於具備有發揮近視抑制效果之基材凸部6的鏡片基材2形成覆膜之情形時，若覆膜過厚，則基材凸部6被覆膜掩埋，覆膜基底部分與覆膜凸部11之差消失。但，若覆膜之厚度為3.0 μm以下(較佳為2.0 μm以下)，則覆膜凸部11之形狀為良好地追隨於該基材凸部6之形狀。與「共通之光線收斂特性」相同，該規定為可提高相似性之規定。又，和覆膜凸部11形狀與基材凸部6形狀之間之在鏡片厚度方向上的差相同，「覆膜之厚度為3.0 μm以下(較佳為2.0 μm以下)」之規定係基於「覆膜凸部忠實地追隨在鏡片基材中之基材凸部之形狀」之技術思想。
上述本發明之一態樣之眼鏡鏡片之技術思想亦可適用於發揮遠視抑制功能的眼鏡鏡片。具體而言，將覆膜凸部11及基材凸部6之「凸部」變更為「凹部」。藉此，覆膜凹部係使入射至眼鏡鏡片的光線收斂於較既定之位置A更靠「眼球側」的位置B'。在以上所說明之本發明之一態樣之眼鏡鏡片中，若以將「凸部」變更為「凹部」而收斂於較既定之位置A更靠「眼球側」之位置B'的方式進行變更，則成為發揮遠視抑制功能的眼鏡鏡片。 [實施例]
接下來顯示實施例具體地對本發明進行說明。當然，本發明並不限定於以下實施例。
＜實施例1＞ 製作以下之鏡片基材。再者，並對於鏡片基材不進行藉由其他物質所產生之積層。處方度數S(球面度數)為0.00 D，C(散光度數)為0.00 D。 鏡片基材之在俯視下之直徑：100 mm 鏡片基材之種類：PC(聚碳酸酯) 鏡片基材之折射率：1.589 鏡片基材之基底曲線：3.30 D 基材凸部之形成面：物體側之面 基材凸部之在俯視下之形狀：正圓(直徑1 mm) 基材凸部之自基材基底部之高度：0.8 mm 基材凸部之在俯視下之配置：以各基材凸部之中心成為正三角形之頂點的方式分別獨立地進行離散配置(各基材凸部之中心被配置於蜂窩構造之頂點) 形成有基材凸部之範圍：自鏡片中心至半徑17 mm之圓內 各基材凸部間之間距(基材凸部之中心間之距離)：1.5 mm
採用旋轉塗佈法於該鏡片基材之兩表面形成覆膜。旋轉塗佈法之條件為如下所述。 覆膜用液：熱硬化型塗佈劑 轉速：1300 rpm 旋轉塗佈後之乾燥方法：加熱 旋轉塗佈後之乾燥溫度：110℃ 旋轉塗佈後之乾燥時間：90 min
＜比較例1＞ 旋轉塗佈法之條件為如下所述。除此以外與實施例1相同。 覆膜用液：熱硬化型塗佈劑 轉速：800 rpm 旋轉塗佈後之乾燥方法：加熱 旋轉塗佈後之乾燥溫度：110℃ 旋轉塗佈後之乾燥時間：90 min
＜散焦功率、漫射光率之測量＞ 對實施例1及比較例1測量散焦功率。散焦功率(單位：D)係表示光束於自視網膜離開何種程度的距離上聚光的值，可利用光線追蹤及上述之漫射光率之測量方法之一部分來進行測量。
又，對實施例1及比較例1採用上述之方法來測量漫射光率。漫射光率以100×(漫射光光線數)/(入射之光線數)所表示。
再者，以如下方式獲得散焦功率及漫射光率之測量結果。於形成有基材凸部的範圍(自鏡片中心至半徑17 mm之圓內)，假想包含完整之7個覆膜凸部的任意之圓形區域，採用在該圓形區域中之值作為測量結果。利用上述之方法設定眼鏡模型與眼球模型，且利用光線追蹤法使許多光線入射至上述該圓形區域而特定出聚光位置。
眼球模型及其他之各種條件為如下所述。 ・眼軸長：24 mm ・眼之調節量：0.0 D ・角膜—鏡片頂點間距離(CVD)：12.0 mm ・自角膜頂點至眼球之旋轉中心為止之距離：13.0 mm 以下，只要無特別記載，採用上述條件。但，本發明並不限定於上述各條件。 例如，在上述例中，假想於圖14(a)所示之包含完整之7個覆膜凸部的任意之圓形區域。另一方面，亦可為於圖14(b)所示之包含完整之3個排列於一行之覆膜凸部的圓形區域。該圓形區域例如亦可設為如下之圓形區域，即，完整地包含有以一個覆膜凸部(進而基材突出部)為中心而位於距該覆膜凸部最短距離的其他之覆膜凸部。在本說明書中，亦可將該圓形區域稱為「最小單位」。若為圖14(a)，則存在有6個該其他之覆膜凸部，若為圖14(b)，則存在有2個該其他之覆膜凸部。 再者，該圓形區域亦可相當於鏡片量度儀(PSF解析範圍)之直徑。通常，鏡片量度儀之直徑為4.0 mm。假設若於覆膜凸部間(基材突出部間)之間距為與鏡片量度儀之直徑(例如4.0 mm)同程度之情形時，則於圓形區域存在有1個覆膜凸部，亦可將該圓形區域設為最小單位。 在本說明書中之「漫射光率」係對上述最小單位進行測量所獲得之結果。即，在本說明書中之「漫射光率」係以如下(例如直徑4.0 mm)之圓形區域為最小單位，對上述最小單位進行測量所獲得的結果，該圓形區域完整地包含有以一個覆膜凸部(進而基材突出部)為中心而位於距該覆膜凸部最短距離的其他之覆膜凸部。 在本說明書中之眼鏡鏡片上存在有複數個上述最小單位。只要漫射光率在該眼鏡鏡片之至少一個上述最小單位中滿足上述數值範圍，就可發揮本發明之效果。較佳為，複數個上述最小單位中之超過50%之數量，更佳為80%以上、90%以上、95%以上之數量之最小單位滿足上述漫射光率之規定。
此處首先設定使用複數個設計形狀的眼鏡模型，藉由[發明之實施方式]中所述之方法檢查聚光位置。此處之設計眼鏡模型(鏡片基材)之凸面係將基材基底部設為球面，而以曲率半徑較基材基底部之曲率半徑小的球面構成基材凸部。使基材凸部之曲率半徑相對於具有一定之曲率的基材基底部球面而離散性地變化來設定複數個設計形狀。而且，將自藉由基材凸部之曲率半徑所產生之面折射力[D]減去藉由基材基底部之曲率半徑所產生之面折射力[D]所得的值，設為散焦值。藉由以使用複數個設計形狀的眼鏡模型所進行之光線追蹤法，而獲得該散焦值與自實際之上述聚光位置之倒數所被算出之散焦功率的關係式。
圖13係表示自基材凸部之面折射力減去基材基底部之面折射力所得的值(散焦值)(橫軸)、與自聚光位置之倒數所被算出之散焦功率(縱軸)的關係式之圖。
在實施例1中之散焦功率之測量係藉由如下之方法進行，即，使用該關係式，對實施例1中所被製作的眼鏡鏡片求出相當於散焦功率的值。
至於漫射光率，亦藉由本發明之一態樣中所述之方法而自所掌握之聚光位置之PSF來算出。
實施例1及比較例1中，假定於測量上述散焦功率時所求出之聚光位置(光軸方向)中之在與光軸方向垂直的面上光線所密集的區域有7處。其原因在於，假想完整包含7個覆膜凸部的任意之圓形區域。預先於各測量面設定格子狀之柵格，計算通過各柵格的光線數，當檢查一定數量以上的柵格之後，假定光線密集分佈於7處區域。
在實施例1及比較例1中，求出該各區域之重心位置作為複數個收斂位置B，自該等位置B附近之範圍外之光線減去位置A附近之光線來作為漫射光光線數。藉由在[發明之實施方式]中所述之方法，自該漫射光光線數而算出漫射光率。
實施例1之眼鏡鏡片相較於比較例1之眼鏡鏡片，漫射光率較低。具體而言，在實施例1之眼鏡鏡片中，散焦功率為3.51 D，漫射光率為11.25%，即為30%以下，另一方面，在比較例1之眼鏡鏡片中，不滿足該條件。又，實施例1之眼鏡鏡片相較於比較例1之眼鏡鏡片，可充分地確保散焦功率。
＜在覆膜凸部之根部的散光之剖面曲線＞ 針對實施例1，獲得相對於覆膜之最表面形狀的散光分佈中之在覆膜凸部之根部的散光之剖面曲線。該剖面曲線可藉由相干相關干涉測量之方法進行測量。
將實施例1之結果顯示於先前列舉之圖11。
於實施例1之圖11中，相對於覆膜之最表面形狀的散光分佈中之在上述覆膜凸部之根部的散光之剖面曲線為0.20 mm以下，另一方面，比較例1並不滿足該條件。
1:眼鏡鏡片 2:鏡片基材 3:物體側之面(凸面) 4:眼球側之面(凹面) 6:基材凸部 8:硬塗膜 10:抗反射膜 11:覆膜凸部 20:眼球 20A:視網膜 30:眼鏡鏡片模型 32:眼球模型 32A:視網膜 33:模型上之物體側之面(凸面) 36:模型上之覆膜凸部 A:既定之位置 B1 :位置 B2 :位置 B3 :位置 P1,1:測量面 P1,2:測量面 P1,n:測量面 P1,i:測量面 P1,i-1:測量面 P1,i+1:測量面 P2,1:測量面 P2,2:測量面 P3,1:新測量面 P3,2:新測量面 Δd:分離間隔 Δd/2:分離距離 Δd/4:新分離距離
圖1係表示本發明之一態樣之眼鏡鏡片之一例之剖視圖。 圖2係表示本發明之一態樣之眼鏡鏡片藉由覆膜凸部以外之部分(即基底部分)使自物體側之面所入射的光線自眼球側之面出射而收斂於在眼球之視網膜上之既定之位置A的情況之概略側剖視圖。 圖3係表示本發明之一態樣之眼鏡鏡片藉由覆膜凸部使自物體側之面所入射的光線自眼球側之面出射而收斂於較既定之位置A更靠近物體側之位置B的情況之概略側剖視圖。 圖4係表示實際之眼鏡鏡片之覆膜凸部與假想部分球面形狀之概略剖視圖。 圖5係表示本發明之一態樣之眼鏡鏡片之檢查方法之流程之流程圖。 圖6係用以對特定出光線所聚光之位置之方法進行說明之圖(其一)。 圖7係用以對特定出光線所聚光之位置之方法進行說明之圖(其二)。 圖8係用以對特定出光線所聚光之位置之方法進行說明之圖(其三)。 圖9係表示特定出光線所聚光之位置之方法之流程圖。 圖10係表示相對於為設計值(即無覆膜)時之基材凸部及其附近之在散光分佈中之在通過基材凸部之頂點(即俯視下之基材凸部之中心)之剖面上之散光分佈(即散光剖面曲線)之圖(實線)之圖。 圖11係表示相對於實際覆膜凸部及其附近之在散光分佈中之在通過覆膜凸部之頂點(即俯視下之覆膜凸部之中心)之剖面上之散光分佈(即散光剖面曲線)之圖(實線)之圖。 圖12(a)係表示實際之眼鏡鏡片之覆膜凸部與基材凸部之概略剖視圖。圖12(b)係使覆膜凸部之頂點與基材凸部之頂點一致之概略剖視圖。 圖13係表示自基材凸部之面折射力減去基材基底部之面折射力所得之值(散焦值)(橫軸)、與自聚光位置之倒數所被算出之散焦功率(縱軸)之關係式之圖。 圖14(a)係採用以俯視下各覆膜凸部之中心成為正三角形之頂點之方式分別獨立的離散配置(各覆膜凸部之中心配置於蜂窩構造之頂點)之情形時之圖，圖14(b)係採用俯視下各覆膜凸部被配置於一行之構造之情形時之圖。

Claims (5)

  1. 一種眼鏡鏡片，其係使自物體側之面所入射的光線自眼球側之面出射而收斂於既定之位置A者；其具備有： 鏡片基材，其於上述物體側之面與上述眼球側之面中之至少一面具有複數個基材凸部；及 覆膜，其覆蓋具有上述基材凸部的面； 位於具有上述基材凸部之側的眼鏡鏡片之最表面的覆膜凸部之形狀，係基材凸部近似形狀，該形狀係使入射至上述眼鏡鏡片的光線收斂於較上述既定之位置A更靠近物體側的位置B。
  2. 如請求項1之眼鏡鏡片，其中， 在藉由光線追蹤計算而所獲得之均勻地入射至上述眼鏡鏡片之上述物體側的面之既定範圍內並通過上述覆膜的許多光線中，不通過上述既定之位置A附近且亦不通過上述靠近物體側之位置B附近的漫射光光線之條數為入射光線條數之30%以下。
  3. 如請求項1或2之眼鏡鏡片，其中， 相對於上述覆膜之最表面形狀的散光分佈中在上述覆膜凸部之根部的散光之剖面曲線為0.20 mm以下。
  4. 如請求項1至3中任一項之眼鏡鏡片，其中 最佳近似於上述覆膜凸部形狀的球面與實際之覆膜凸部形狀之間在鏡片厚度方向上的差之絕對值的最大值為0.1 μm以下。
  5. 如請求項1至4中任一項之眼鏡鏡片，其中， 上述覆膜凸部之突出距離Lc 與上述基材凸部之突出距離Ll 之關係滿足以下之式(1)： 0.6≦Lc /Ll ≦1.5・・・式(1)。
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