TW202128790A - 組成物、硬化體、有機電致發光顯示元件用密封材及有機電致發光顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本發明為一種組成物，包含：單體成分、及光聚合起始劑；該單體成分之97質量%以上係符合下式(i)及(ii)之單體，該單體成分之至少一部分係符合下式(iii)且具有氟原子及碳-碳不飽和雙鍵之含氟單體，該單體成分之至少一部分係符合下式(iv)之高黏度單體。 ｜γ_C -γ_A ｜＜20mN/m …(i) ｜η_A -η_C ｜＜3000mPa･s …(ii) 1mPa･s≦｜η_A1 -η_C ｜≦30mPa･s …(iii) 50mPa･s≦｜η_A2 -η_C ｜＜3000mPa･s …(iv)

Description

組成物、硬化體、有機電致發光顯示元件用密封材及有機電致發光顯示裝置

本發明關於組成物及其硬化體。又，本發明關於有機電致發光(EL)顯示元件用密封材及含有該密封材之有機EL顯示裝置。

有機電致發光顯示元件(也稱為有機EL顯示元件、有機EL元件或OLED元件)係作為可高亮度發光之元件體而受到注目。但是，有機EL顯示元件有因水分而劣化，以致發光特性降低之課題。

為了解決如此的課題，已有人探討利用有機膜與無機膜疊層而成的密封材來密封有機EL顯示元件，並防止水分所導致之劣化的技術(例如專利文獻1~2)。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2001-307873號公報 [專利文獻2]日本特開2009-37812號公報

[發明所欲解決之課題]

近年，對有機EL顯示元件之要求特性提高，要求可實現更高可靠性及耐久性的密封材。

就密封材之形成方法而言，已知有利用樹脂組成物之塗佈及硬化來形成有機膜，並於有機膜上疊層無機膜之方法。該方法有由於在樹脂組成物之塗膜表面產生凹凸，形成的有機膜之表面會凹凸化而導致和無機膜之密接性會降低的課題。

有機膜的凹凸有：在有機膜之面內所產生的凹凸、及在有機膜的端部之膨起所致生的凸部，並期望將此兩者平坦化。

於是，本發明目的為提供可形成面內平坦性(以下有時也稱為表面平坦性)及端部平坦性優良的有機膜之組成物。又，本發明目的為提供上述組成物之硬化體，且作為有機EL顯示元件用密封材係為有效之硬化體。此外，本發明目的為提供含有上述硬化體之有機EL顯示元件用密封材，以及提供含有該密封材之有機EL顯示裝置。 [解決課題之手段]

本發明之一態樣係關於一種組成物，包含：單體成分、及光聚合起始劑。上述組成物中，上述單體成分之97質量%以上為符合下式(i)及(ii)之單體。又，上述單體成分之至少一部分係符合下式(iii)且具有氟原子及碳-碳不飽和雙鍵之含氟單體。又，上述單體成分之至少一部分係符合下式(iv)之高黏度單體。 ｜γ_C -γ_A ｜＜20mN/m …(i) 式中，γ_C 表示上述組成物的表面張力(mN/m)，γ_A 表示單體的表面張力(mN/m)。 ｜η_A -η_C ｜＜3000mPa･s …(ii) 式中，η_C 表示上述組成物在25℃的黏度(mPa･s)，η_A 表示單體在25℃的黏度(mPa･s)。 1mPa･s≦｜η_A1 -η_C ｜≦30mPa･s …(iii) 式中，η_C 表示上述組成物在25℃的黏度(mPa･s)，η_A1 表示上述含氟單體在25℃的黏度(mPa･s)。 50mPa･s≦｜η_A2 -η_C ｜＜3000mPa･s …(iv) 式中，η_C 表示上述組成物在25℃的黏度(mPa･s)，η_A2 表示上述高黏度單體在25℃的黏度(mPa･s)。

其中一態樣中，上述含氟單體亦可為符合下式(iii-a)者。 5mPa･s≦｜η_A1 -η_C ｜≦20mPa･s …(iii-a)

其中一態樣中，上述高黏度單體亦可為符合下式(iv-a)者。 70mPa･s≦｜η_A2 -η_C ｜≦1000mPa･s …(iv-a)

其中一態樣所請之組成物中，上述單體成分之5~65質量%亦可為上述高黏度單體。

其中一態樣中，上述單體成分之至少一部分亦可為具有2個以上之碳-碳不飽和雙鍵的多官能單體。

其中一態樣所請之組成物中，上述單體成分之70~98質量%亦可為上述多官能單體。

其中一態樣中，上述組成物的表面張力γ_C 亦可為10mN/m以上且50mN/m以下。

其中一態樣中，上述組成物在25℃的黏度η_C 亦可為3mPa･s以上且50mPa･s以下。

上述組成物可理想地使用作為有機電致發光顯示元件用密封劑。

本發明之另一態樣關於一種硬化體，係將上述組成物硬化而成。

本發明又另一態樣關於一種有機電致發光顯示元件用密封材，含有上述硬化體。

本發明又另一態樣關於一種有機電致發光顯示元件用密封材，含有無機膜與有機膜疊層而成的疊層體，且上述有機膜含有上述硬化體。

本發明又另一態樣關於一種有機電致發光顯示裝置，包含有機電致發光顯示元件、及上述有機電致發光顯示元件用密封材。 [發明之效果]

根據本發明係提供可形成面內平坦性及端部平坦性優良的有機膜之組成物。又，根據本發明係提供上述組成物之硬化體，且作為有機EL顯示元件用密封材係為有效的硬化體。此外，根據本發明係提供含有上述硬化體之有機EL顯示元件用密封材，以及提供含有該密封材之有機EL顯示裝置。

以下，針對本發明之理想實施形態詳細地說明。

＜組成物＞ 本實施形態之組成物含有：單體成分、及光聚合起始劑。本實施形態中，單體成分之97質量%以上為符合下式(i)及(ii)兩者之單體。γ_A 為所使用之各單體成分的表面張力。η_A 為所使用之各單體成分的黏度。η_A1 為所使用之各單體成分的黏度。η_A2 為所使用之各單體成分的黏度。 ｜γ_C -γ_A ｜＜20mN/m …(i) 式中，γ_C 表示本實施形態之組成物的表面張力(mN/m)，γ_A 表示單體的表面張力(mN/m)。 ｜η_A -η_C ｜＜3000mPa･s …(ii) 式中，η_C 表示本實施形態之組成物在25℃的黏度(mPa･s)，η_A 表示單體在25℃的黏度(mPa･s)。

又，本實施形態中，單體成分之至少一部分係符合下式(iii)且具有氟原子及碳-碳不飽和雙鍵之含氟單體。 1mPa･s≦｜η_A1 -η_C ｜≦30mPa･s …(iii) 式中，η_C 表示本實施形態之組成物在25℃的黏度(mPa･s)，η_A1 表示含氟單體在25℃的黏度(mPa･s)。

此外，本實施形態中，單體成分之至少一部分係符合下式(iv)之高黏度單體。 50mPa･s≦｜η_A2 -η_C ｜＜3000mPa･s …(iv) 式中，η_C 表示本實施形態之組成物在25℃的黏度(mPa･s)，η_A2 表示高黏度單體在25℃的黏度(mPa･s)。

本實施形態之組成物藉由組合特定的含氟單體與特定的高黏度單體，同時將單體成分整體的表面張力及黏度控制在預定範圍內，而使組成物之塗膜表面容易平坦化，且會抑制端部之膨起。因此，根據本實施形態之組成物可形成面內平坦性及端部平坦性優良的有機膜。

據認為達成上述效果的理由如下，但不限於此。首先，據認為本實施形態之組成物含有含氟單體，故表面自由能變低，於塗佈後，塗膜表面容易平坦化，可形成表面凹凸少的有機膜。又，據認為本實施形態之組成物藉由將單體成分整體的表面張力及黏度控制在預定範圍內，同時摻合高黏度單體，來抑制塗膜硬化時的體積減少及伴隨於此之塗液朝端部的移動，而改善端部平坦性。

本實施形態之單體成分之至少一部分係於25℃利用E型黏度計測定之黏度為50mPa･s以上之高黏度單體。高黏度單體的黏度宜為100mPa･s以上，為150mPa･s以上更佳。又，高黏度單體的黏度宜為1000mPa･s以下，為500mPa･s以下更佳，為300mPa･s以下再更佳。亦即，高黏度單體的黏度，就於25℃利用E型黏度計測定之黏度而言，例如可為：50~1000mPa･s、50~500mPa･s、50~300mPa･s、100~1000mPa･s、100~500mPa･s、100~300mPa･s、150~1000mPa･s、150~500mPa･s或150~300mPa･s。

本實施形態之組成物的表面張力γ_C ，例如可為10mN/m以上，可為20mN/m以上較理想，為23mN/m以上更佳，為24mN/m以上再更佳。藉由具有如此的表面張力，會有更為改善塗膜之面內平坦性的傾向。又，本實施形態之組成物的表面張力γ_C ，例如可為50mN/m以下，可為35mN/m以下較理想，為33mN/m以下更佳，為32mN/m以下再更佳。藉由具有如此的表面張力，塗液較容易擴展成塗膜狀，更適於噴墨法等塗佈法。亦即，本實施形態之組成物的表面張力γ_C ，例如可為：10~50mN/m、10~35mN/m、10~33mN/m、10~32mN/m、20~50mN/m、20~35mN/m、20~33mN/m、20~32mN/m、23~50mN/m、23~35mN/m、23~33mN/m、23~32mN/m、24~50mN/m、24~35mN/m、24~33mN/m或24~32mN/m。另外，本說明書中，表面張力表示於23℃時之利用懸滴(pendant drop)法測定的值。

本實施形態之組成物的黏度η_C ，例如可為3mPa･s以上，宜為5mPa･s以上，為10mPa･s以上更佳。又，本實施形態之組成物的黏度η_C ，例如可為50mPa･s以下，宜為45mPa･s以下，為40mPa･s以下更佳。若為如此的黏度，則可理想地使用於例如噴墨法等塗佈法。亦即，本實施形態之組成物的黏度η_C ，例如可為：3~50mPa･s、3~45mPa･s、3~40mPa･s、5~50mPa･s、5~45mPa･s、5~40mPa･s、10~50mPa･s、10~45mPa･s或10~40mPa･s。另外，本說明書中，黏度表示於25℃利用E型黏度計測定之值。

本實施形態之組成物可為含有高黏度單體與低黏度單體(於25℃利用E型黏度計測定之黏度未達50mPa･s之單體)作為單體成分者。高黏度單體與低黏度單體之比率可在組成物的黏度落在上述數值範圍內之範圍進行適當地變更。

單體成分中所佔的高黏度單體之比例，例如可為5質量%以上，宜為7質量%以上，為9質量%以上更佳。藉由增加高黏度單體之比例，會有更為改善端部平坦性之傾向。又，單體成分中所佔的高黏度單體之比例，例如可為65質量%以下，宜為60質量%以下，為55質量%以下更佳，也可為50質量%以下，亦可為40質量%以下，也可為35質量%以下。藉由減少高黏度單體之比例，會有可降低組成物的黏度並更為改善面內平坦性之傾向。亦即，單體成分中所佔的高黏度單體之比例，例如可為：5~65質量%、5~60質量%、5~55質量%、5~50質量%、5~40質量%、5~35質量%、7~65質量%、7~60質量%、7~55質量%、7~50質量%、7~40質量%、7~35質量%、9~65質量%、9~60質量%、9~55質量%、9~50質量%、9~40質量%或9~35質量%。

高黏度單體的黏度η_A2 與組成物的黏度η_C 之差｜η_A2 -η_C ｜為50mPa･s以上，宜為70mPa･s以上，為90mPa･s以上更佳，為100mPa･s以上再更佳。又，高黏度單體的黏度η_A2 與組成物的黏度η_C 之差｜η_A2 -η_C ｜未達3000mPa･s，宜為1000mPa･s以下，為800mPa･s以下更佳，為600mPa･s以下再更佳。亦即，上述差｜η_A2 -η_C ｜例如可為：50mPa･s以上且未達3000mPa･s、50~1000mPa･s、50~800mPa･s、50~600mPa･s、70mPa･s以上且未達3000mPa･s、70~1000mPa･s、70~800mPa･s、70~600mPa･s、90mPa･s以上且未達3000mPa･s、90~1000mPa･s、90~800mPa･s、90~600mPa･s、100mPa･s以上且未達3000mPa･s、100~1000mPa･s、100~800mPa･s或100~600mPa･s。

本實施形態之組成物可為含有具有1個碳-碳不飽和雙鍵之單官能單體與具有2個以上之碳-碳不飽和雙鍵之多官能單體作為單體成分者。

單體成分中所佔的多官能單體之比例，例如可為10質量%以上，宜為70質量%以上，為75質量%以上更佳，為80質量%以上再更佳。藉由增加多官能單體之比例，會有使硬化體的透濕度變得更低之傾向。又，單體成分中所佔的多官能單體之比例，例如可為98質量%以下，宜為97質量%以下，為96質量%以下更佳。藉由減少多官能單體之比例，會有改善硬化體的柔軟性之傾向。亦即，單體成分中所佔的多官能單體之比例，例如可為：10~98質量%、10~97質量%、10~96質量%、70~98質量%、70~97質量%、70~96質量%、75~98質量%、75~97質量%、75~96質量%、80~98質量%、80~97質量%或80~96質量%。

多官能單體宜為具有2~6個碳-碳不飽和雙鍵之單體，為具有2或3個碳-碳不飽和雙鍵之單體更佳，為具有2個碳-碳不飽和雙鍵之二官能單體再更佳。

本實施形態之組成物能以高黏度單體的形式含有多官能單體，也能以低黏度單體的形式含有多官能單體，亦可含有屬於高黏度單體之多官能單體及屬於低黏度單體之多官能單體之兩者。

本實施形態之組成物能以高黏度單體的形式含有單官能單體，也能以低黏度單體的形式含有單官能單體，亦可含有屬於高黏度單體之單官能單體及屬於低黏度單體之單官能單體之兩者。

本實施形態中，高黏度單體之至少一部分宜為單官能單體。

高黏度單體中所佔的單官能單體之比例，例如可為9質量%以上，可為10質量%以上較理想，為11質量%以上更佳，為12質量%以上再更佳。又，高黏度單體中所佔的單官能單體之比例，例如可為60質量%以下，宜為55質量%以下，為50質量%以下更佳。藉由以高黏度單體的形式多量使用單官能單體，會有更為改善硬化體的透濕性、柔軟性、撓性之傾向。亦即，高黏度單體中所佔的單官能單體之比例，例如可為：9~60質量%、9~55質量%、9~50質量%、10~60質量%、10~55質量%、10~50質量%、11~60質量%、11~55質量%、11~50質量%、12~60質量%、12~55質量%或12~50質量%。

＜含氟單體＞ 含氟單體為具有氟原子及碳-碳不飽和雙鍵之單體。含氟單體可單獨使用一種，也可組合使用二種以上。

含氟單體亦能以低黏度單體的形式包含於單體成分中。含氟單體的黏度η_A1 (於25℃利用E型黏度計測定之黏度)，例如可未達50mPa･s，宜為45mPa･s以下，為40mPa･s以下更佳，為35mPa･s以下再更佳。又，含氟單體的黏度η_A1 (於25℃利用E型黏度計測定之黏度)，例如可為1mPa･s以上，也可為2mPa･s以上，亦可為3mPa･s以上。亦即，含氟單體的黏度η_A1 ，就於25℃利用E型黏度計測定之黏度而言，例如可為：1mPa･s以上且未達50mPa･s、1~45mPa･s、1~40mPa･s、1~35mPa･s、2mPa･s以上且未達50mPa･s、2~45mPa･s、2~40mPa･s、2~35mPa･s、3mPa･s以上且未達50mPa･s、3~45mPa･s、3~40mPa･s或3~35mPa･s。

含氟單體的黏度η_A1 與組成物的黏度η_C 之差｜η_A1 -η_C ｜為1mPa･s以上，宜為5mPa･s以上。又，含氟單體的黏度η_A1 與組成物的黏度η_C 之差｜η_A1 -η_C ｜為30mPa･s以下，宜為20mPa･s以下。亦即，含氟單體的黏度η_A1 與組成物的黏度η_C 之差｜η_A1 -η_C ｜，例如可為：1~30mPa･s、1~20mPa･s、5~30mPa･s或5~20mPa･s。

含氟單體所具有的氟原子之數量若為1個以上即可，例如可為2個以上，宜為3個以上。又，含氟單體所具有的氟原子之數量的上限並無特別限制。含氟單體所具有的氟原子之數量，例如可為40個以下，宜為35個以下，為30個以下更佳，為25個以下再更佳。亦即，含氟單體所具有的氟原子之數量，例如可為：1~40個、1~35個、1~30個、1~25個、2~40個、2~35個、2~30個、2~25個、3~40個、3~35個、3~30個或3~25個。

氟原子相對於含氟單體之總量的含量，例如可為1質量%以上，宜為2質量%以上，為5質量%以上更佳。又，氟原子的含量以含氟單體之總量基準計，例如可為90質量%以下，可為75質量%以下較理想，為70質量%以下更佳，為65質量%以下再更佳。亦即，氟原子的含量以含氟單體之總量基準計，可為：1~90質量%、1~75質量%、1~70質量%、1~65質量%、2~90質量%、2~75質量%、2~70質量%、2~65質量%、5~90質量%、5~75質量%、5~70質量%或5~65質量%。

含氟單體所具有的碳-碳不飽和雙鍵之數量若為1個以上即可。又，含氟單體所具有的碳-碳不飽和雙鍵之數量，例如可為4個以下，考慮可輕易獲得柔軟性優良的硬化體之觀點，宜為3個以下，為2個以下更佳。亦即，含氟單體所具有的碳-碳不飽和雙鍵之數量，例如可為：1~4個、1~3個或1~2個。

含氟單體宜具有(甲基)丙烯醯基作為具有碳-碳雙鍵之基。亦即，含氟單體宜為具有氟原子與(甲基)丙烯醯基之單體。另外，(甲基)丙烯醯基表示丙烯醯基或甲基丙烯醯基。

含氟單體之具體例之一可列舉下式(A-1)表示之化合物。

[化1]

式(A-1)中，R¹ 表示氫原子或甲基。又，R² 表示氟化烷基、或氟化烷基中的碳-碳鍵及碳-氫鍵的一部分插入有氧原子之基。

氟化烷基可謂烷基所具有的氫原子中的一部分或全部經氟原子取代而成的基。氟化烷基之碳原子數無特別限制，例如可為1個以上，宜為2個以上，為3個以上更佳。又，氟化烷基之碳原子數例如可為25個以下，也可為20個以下。亦即，氟化烷基之碳原子數，例如可為：1~25個、1~20個、2~25個、2~20個、3~25個或3~20個。

氟化烷基可理想地使用含有二氟亞甲基(-CF₂ -)之基。

氟化烷基之具體例可列舉：二氟甲基、三氟甲基、1,1-二氟乙基、2,2-二氟乙基、1,1,1-三氟乙基、2,2,2-三氟乙基、全氟乙基、1,1,2,2-四氟丙基、1,1,1,2,2-五氟丙基、1,1,2,2,3,3-六氟丙基、全氟丙基、全氟乙基甲基、1-(三氟甲基)-1,2,2,2-四氟乙基、2,2,3,3-四氟丙基、全氟丙基、1,1,2,2-四氟丁基、1,1,2,2,3,3-六氟丁基、1,1,1,2,2,3,3-七氟丁基、1,1,2,2,3,3,4,4-八氟丁基、全氟丁基、1,1-雙(三氟)甲基-2,2,2-三氟乙基、2-(全氟丙基)乙基、1,1,2,2,3,3,4,4-八氟戊基、2,2,3,3,4,4,5,5-八氟戊基、全氟戊基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-十氟戊基、1,1-雙(三氟甲基)-2,2,3,3,3-五氟丙基、2-(全氟丁基)乙基、1,1,1,2,2,3,3,4,4-九氟戊基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-十氟己基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-十二氟己基、全氟己基、全氟戊基甲基及全氟己基等。

氟化烷基中的碳-碳鍵及碳-氫鍵的一部分插入有氧原子之基(以下也稱為R² 之含氧基)，可為氧原子插入單一位置而成的基，也可為插入二個位置以上而成的基。

另外，若於碳-碳鍵插入氧原子，則會形成醚鍵。又，若於碳-氫鍵插入氧原子，則會形成羥基。亦即，R² 之含氧基亦可謂含有選自於由醚鍵及羥基構成之群組中之至少一種之基。

R² 之含氧基之具體例可列舉例如下式表示之基。

[化2]

式(A-1)表示之化合物中的氟原子含量，例如可為2質量%以上，宜為5質量%以上，為15質量%以上更佳，為30質量%以上再更佳。又，式(A-1)表示之化合物中的氟原子含量，例如可為75質量%以下，宜為70質量%以下，為65質量%以下更佳。亦即，式(A-1)表示之化合物中的氟原子含量，例如可為：2~75質量%、2~70質量%、2~65質量%、5~75質量%、5~70質量%、5~65質量%、15~75質量%、15~70質量%、15~65質量%、30~75質量%、30~70質量%或30~65質量%。

式(A-1)表示之化合物的具體例之一可列舉例如式(A-1-1)表示之化合物。

[化3]

式(A-1-1)中，R¹ 表示氫原子或甲基，R²¹ 表示氫原子或氟原子，n表示1以上之整數。存在多個R²¹ 可互為相同也可相異。惟，R²¹ 中至少一個為氟原子。

n若為1以上即可，宜為2以上。又，n的上限並無特別限制。n例如可為25以下，也可為20以下。亦即，n例如可為：1~25、1~20、2~25或2~20。

R²¹ 在式(A-1-1)中存在多個，但其中至少一個為氟原子。又，R²¹ 之中，宜有2個以上為氟原子，有3個以上為氟原子更佳。R²¹ 也可全為氟原子。

氟原子之數量相對於R²¹ 之合計數量的比例，例如可為4%以上，宜為8%以上，為12%以上更佳。該比例，例如可為100%以下，宜為80%以下，為75%以下更佳。亦即，氟原子之數量相對於R²¹ 之合計數量的比例，例如可為：4~100%、4~80%、4~75%、8~100%、8~80%、8~75%、12~100%、12~80%或12~75%。

式(A-1-1)表示之化合物中，標附n的括弧內之2價基(-C(R²¹ )₂ -)之中，至少一個宜為二氟亞甲基(-CF₂ -)。

含氟單體之具體例之另一例可列舉式(A-2)表示之化合物。

[化4]

式(A-2)中，R³ 表示氫原子或甲基。又，R⁴ 表示氟化烷二基、或氟化烷二基中的碳-碳鍵及碳-氫鍵的一部分插入有氧原子之基。存在多個R³ 可互為相同也可相異。

氟化烷二基可謂烷二基所具有的氫原子中的一部分或全部經氟原子取代而成的基。氟化烷二基之碳原子數無特別限制，例如可為1以上，宜為2以上，為3以上更佳，為4以上再更佳。又，氟化烷二基之碳原子數，例如可為20以下，可為17以下較理想，為15以下更佳，為12以下再更佳，為10以下又更佳。亦即，氟化烷二基之碳原子數，例如可為：1~20、1~17、1~15、1~12、1~10、2~20、2~17、2~15、2~12、2~10、3~20、3~17、3~15、3~12、3~10、4~20、4~17、4~15、4~12或4~10。

氟化烷二基可理想地使用含有二氟亞甲基(-CF₂ -)之基。

氟化烷二基之具體例可列舉：碳數1~17之直鏈狀或分支狀之氟化烷二基(例如：2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-十六氟-1,10-癸烷二基)、碳數1~17之氟化環烷二基等。

氟化烷二基中的碳-碳鍵及碳-氫鍵的一部分插入有氧原子之基(以下也稱為R⁴ 之含氧基)，可為氧原子插入單一位置而成的基，也可為插入二個位置以上而成的基。

另外，若於碳-碳鍵插入氧原子，則會形成醚鍵。又，若於碳-氫鍵插入氧原子，則會形成羥基。亦即，R⁴ 之含氧基亦可謂含有選自於由醚鍵及羥基構成之群組中之至少一種之基。

R⁴ 之含氧基之具體例可列舉例如下式表示之基。

[化5]

式(A-2)表示之化合物中的氟原子含量，例如可為4質量%以上，宜為8質量%以上，為12質量%以上更佳。又，式(A-2)表示之化合物中的氟原子含量，例如可為90質量%以下，宜為75質量%以下，為65質量%以下更佳。亦即，式(A-2)表示之化合物中的氟原子含量，例如可為：4~90質量%、4~75質量%、4~65質量%、8~90質量%、8~75質量%、8~65質量%、12~90質量%、12~75質量%或12~65質量%。

式(A-2)表示之化合物的具體例之一可列舉例如式(A-2-1)表示之化合物。

[化6]

式(A-2-1)中，R³ 表示氫原子或甲基，R⁴¹ 表示氫原子或氟原子，m表示1以上之整數。存在多個R³ 可互為相同也可相異。存在多個R⁴¹ 可互為相同也可相異。惟，R⁴¹ 中至少一個為氟原子。

m若為1以上即可，宜為2以上，為3以上更佳，為4以上再更佳。又，m的上限並無特別限制。m例如可為20以下，宜為17以下，為15以下更佳，為12以下再更佳，為10以下又更佳。亦即，m例如可為：1~20、1~17、1~15、1~12、1~10、2~20、2~17、2~15、2~12、2~10、3~20、3~17、3~15、3~12、3~10、4~20、4~17、4~15、4~12或4~10。

R⁴¹ 在式(A-2-1)中存在多個，但其中至少一個為氟原子。又，R⁴¹ 之中，宜有2個以上為氟原子，有4個以上為氟原子更佳。R⁴¹ 也可全為氟原子。

氟原子之數量相對於R⁴¹ 之合計數量的比例，例如可為1%以上，宜為5%以上，為10%以上更佳。該比例，例如可為100%以下，宜為95%以下，為90%以下更佳。亦即，氟原子之數量相對於R⁴¹ 之合計數量的比例，例如可為：1~100%、1~95%、1~90%、5~100%、5~95%、5~90%、10~100%、10~95%或10~90%。

式(A-2-1)表示之化合物中，標附m的括弧內之2價基(-C(R⁴¹ )₂ -)之中，至少一個宜為二氟亞甲基(-CF₂ -)。

含氟單體之具體例之另一例可列舉式(A-3)表示之化合物。

[化7]

式(A-3)中，R⁵ 表示氫原子或甲基。又，R⁶ 表示單鍵、烷二基、氟化烷二基、或烷二基或氟化烷二基中的碳-碳鍵及碳-氫鍵的一部分插入有氧原子之基。又，Ar¹ 表示氟化芳基。

另外，「R⁶ 表示單鍵」意指Ar¹ 與氧原子直接鍵結。

Ar¹ 之氟化芳基宜為氟化苯基。氟化苯基亦可謂苯基中之氫原子的1~5個經氟原子取代而成的基。氟化苯基可為具有1個以上之氟原子者，也可為具有5個者。

R⁶ 之烷二基之碳原子數無特別限制，例如可為1以上。又，R⁶ 之烷二基之碳原子數，例如可為17以下，宜為15以下，為12以下更佳。亦即，R⁶ 之烷二基之碳原子數，例如可為：1~17、1~15或1~12。

烷二基之具體例可列舉：碳數1~17之直鏈狀或分支狀之烷二基(例如：亞甲基、伸乙基等)、碳數1~17之環烷二基等。

R⁶ 之氟化烷二基可謂上述烷二基所具有的氫原子中的一部分或全部經氟原子取代而成的基。R⁶ 之氟化烷二基之碳原子數無特別限制，例如可為1以上。又，R⁶ 之氟化烷二基之碳原子數，例如可為17以下，宜為15以下，為12以下更佳。亦即，R⁶ 之氟化烷二基之碳原子數，例如可為：1~17、1~15或1~12。

R⁶ 之氟化烷二基可理想地使用含有二氟亞甲基(-CF₂ -)之基。

烷二基或氟化烷二基中的碳-碳鍵及碳-氫鍵的一部分插入有氧原子之基(以下也稱為R⁶ 之含氧基)，可為氧原子插入單一位置而成的基，也可為插入二個位置以上而成的基。

另外，若於碳-碳鍵插入氧原子，則會形成醚鍵。又，若於碳-氫鍵插入氧原子，則會形成羥基。亦即，R⁶ 之含氧基亦可謂含有選自於由醚鍵及羥基構成之群組中之至少一種之基。

R⁶ 之含氧基之具體例可列舉例如含有-CH₂ CH₂ O-之基等。

式(A-3)表示之化合物中的氟原子含量，例如可為3質量%以上，宜為7質量%以上，為15質量%以上更佳。又，式(A-3)表示之化合物中的氟原子含量，例如可為90質量%以下，宜為80質量%以下，為70質量%以下更佳。亦即，式(A-3)表示之化合物中的氟原子含量，例如可為：3~90質量%、3~80質量%、3~70質量%、7~90質量%、7~80質量%、7~70質量%、15~90質量%、15~80質量%或15~70質量%。

式(A-3)表示之化合物的具體例之一可列舉例如式(A-3-1)表示之化合物。

[化8]

式(A-3-1)中，R⁵ 表示氫原子或甲基，R⁶¹ 表示氫原子或氟原子，R⁶² 表示氫原子或氟原子，p表示0以上之整數。p為1以上時，存在多個R⁶¹ 可互為相同也可相異。又，存在多個R⁶² 可互為相同也可相異。惟，R⁶² 中至少一個為氟原子。

p表示0以上之整數。在此，p為0表示苯環與氧原子直接鍵結。p也可為1以上之整數。又，p的上限並無特別限制。p例如可為17以下，宜為15以下，為12以下更佳。亦即，p例如可為：1~17、1~15或1~12。

式(A-3-1)中存在R⁶¹ 時(亦即p為1以上之整數時)，R⁶¹ 可全為氫原子，也可全為氟原子，亦可一部分為氫原子且其它的部分(以下有時也稱為其它部分)為氟原子。

R⁶² 在式(A-3-1)中存在多個，且其中至少1個為氟原子。又，R⁶² 之中，也可有2個以上為氟原子，亦可有3個以上為氟原子。又，也可R⁶² 全部(5個)為氟原子。

氟原子之數量相對於R⁶¹ 及R⁶² 之合計數量的比例，例如可為5%以上，宜為10%以上，為20%以上更佳。該比例，例如可為100%以下，宜為95%以下，為80%以下更佳。亦即，氟原子之數量相對於R⁶¹ 及R⁶² 之合計數量的比例，例如可為：5~100%、5~95%、5~80%、10~100%、10~95%、10~80%、20~100%、20~95%或20~80%。

理想之一態樣中，含氟單體宜包含選自於由式(A-1)表示之化合物、式(A-2)表示之化合物及式(A-3)表示之化合物構成之群組中之至少一種。

理想之另一態樣中，含氟單體宜包含選自於由(甲基)丙烯酸-3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-十三氟辛酯、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-十六氟-1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-1H,1H,5H-八氟戊酯、及(甲基)丙烯酸-1H,1H,2H,2H-十三氟辛酯構成之群組中之至少一種。

含氟單體不限於上述化合物。

本實施形態中，單體成分可更含有含氟單體以外之其它單體(亦即不具有氟原子之單體)(以下也稱單體(B))。單體(B)可謂具有碳-碳不飽和雙鍵，且不具有氟原子之單體。單體(B)宜為具有乙烯基作為碳-碳不飽和雙鍵之單體，為具有(甲基)丙烯醯基作為碳-碳不飽和雙鍵之單體更佳。

單體成分中所佔的含氟單體之比例無特別限制，例如可為0.001質量%以上，宜為0.005質量%以上，為0.008質量%以上更佳。又，單體成分中所佔的含氟單體之比例，例如可為97質量%以下，宜為95質量%以下，為93質量%以下更佳。亦即，單體成分中所佔的含氟單體之比例，例如可為：0.001~97質量%、0.001~95質量%、0.001~93質量%、0.005~97質量%、0.005~95質量%、0.005~93質量%、0.008~97質量%、0.008~95質量%或0.008~93質量%。

單體成分中所佔的含氟單體之比例，考慮使面內平坦性更為良好之觀點，宜為0.01質量%以上，為0.1~10質量%更佳，為0.3~7質量%再更佳，為0.5~5質量%又更佳。亦即，單體成分中所佔的含氟單體之比例，例如可為：0.01~10質量%、0.01~7質量%、0.01~5質量%、0.1~10質量%、0.1~7質量%、0.1~5質量%、0.3~10質量%、0.3~7質量%、0.3~5質量%、0.5~10質量%、0.5~7質量%或0.5~5質量%。

氟原子相對於單體成分總量之含量，例如可為0.005質量%以上，宜為0.5質量%以上，可為1質量%以上更佳，為2質量%以上再更佳，為5質量%以上又更佳。又，氟原子的含量，以單體成分總量基準計，例如可為75質量%以下，宜為70質量%以下，為65質量%以下更佳。亦即，氟原子相對於單體成分總量之含量例如可為：0.005~75質量%、0.005~70質量%、0.005~65質量%、0.5~75質量%、0.5~70質量%、0.5~65質量%、1~75質量%、1~70質量%、1~65質量%、2~75質量%、2~70質量%、2~65質量%、5~75質量%、5~70質量%或5~65質量%。

單體(B)可為高黏度單體，也可為低黏度單體，但單體(B)之至少一部分宜為高黏度單體。單體成分可含有二種以上之單體(B)，此時，可為二種以上之單體(B)全部為高黏度單體，也可為二種以上之單體(B)中之一部分為高黏度單體且其它部分為低黏度單體。

單體(B)之中，屬於高黏度單體者，可列舉例如：(甲基)丙烯酸-4-丁苯酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸-2,4,5-四甲基苯酯、(甲基)丙烯酸-4-氯苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧基甲酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯(2-HPA)、2-(甲基)丙烯醯氧基六氫鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-2-羥基丙基鄰苯二甲酸、EO改性苯酚(甲基)丙烯酸酯、EO改性甲酚(甲基)丙烯酸酯、EO改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、PO改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化-鄰苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸間苯氧基苄酯、乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化-鄰苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸間苯氧基苄酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊基氧乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧乙酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。

單體(B)之中，屬於低黏度單體者，可列舉例如：1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,12-十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等。

單體(B)可為單官能單體，也可為多官能單體，但單體(B)之至少一部分宜為單官能單體，若一部分為單官能單體且其它部分為多官能單體更佳。亦即，單體成分可含有二種以上之單體(B)，且二種以上之單體(B)之中，一部分為單官能單體且其它部分為多官能單體較理想。

單體(B)之中，屬於單官能單體者，可列舉例如：(甲基)丙烯酸-4-丁苯酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸-2,4,5-四甲基苯酯、(甲基)丙烯酸-4-氯苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧基甲酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯(2-HPA)、2-(甲基)丙烯醯氧基六氫鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-2-羥基丙基鄰苯二甲酸、EO改性苯酚(甲基)丙烯酸酯、EO改性甲酚(甲基)丙烯酸酯、EO改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、PO改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化-鄰苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸間苯氧基苄酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊基氧乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧乙酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等。

單體(B)之中，屬於多官能單體者，可列舉例如：乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,12-十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯等。

光聚合起始劑若為可利用可見光線、紫外線等活性光線來活化，並使單體成分之聚合開始或促進之化合物即可。光聚合起始劑可單獨使用一種，也可組合使用二種以上。光聚合起始劑宜為光自由基聚合起始劑。

光自由基聚合起始劑可列舉： 二苯甲酮及其衍生物； 苯偶醯及其衍生物； 蒽醌及其衍生物； 苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻丙醚、苯偶姻異丁醚、苯偶醯二甲基縮酮等苯偶姻型光聚合起始劑； 二乙氧基苯乙酮、4-三級丁基三氯苯乙酮等苯乙酮型光聚合起始劑； 2-二甲基胺基苯甲酸乙酯； 對二甲基胺基苯甲酸乙酯； 二苯基二硫醚； 9-氧硫代𠮿

及其衍生物； 樟腦醌、7,7-二甲基-2,3-二側氧基雙環[2.2.1]庚烷-1-甲酸、7,7-二甲基-2,3-二側氧基雙環[2.2.1]庚烷-1-羧基-2-溴乙基酯、7,7-二甲基-2,3-二側氧基雙環[2.2.1]庚烷-1-羧基-2-甲基酯、7,7-二甲基-2,3-二側氧基雙環[2.2.1]庚烷-1-甲醯氯等樟腦醌型光聚合起始劑； 2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-𠰌啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-𠰌啉基苯基)-丁酮-1等α-胺基烷基苯基酮型光聚合起始劑； 苯甲醯基二苯基氧化膦、二苯基-2,4,6-三甲基苯甲醯基氧化膦、苯甲醯基二乙氧基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲醯基二甲氧基苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲醯基二乙氧基苯基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦等醯基氧化膦型光聚合起始劑； 苯基乙醛酸甲酯； 氧基苯基乙酸-2-[2-側氧基-2-苯基-乙醯氧基-乙氧基]-乙酯； 氧基苯基乙酸-2-[2-羥基-乙氧基]-乙酯；等。

就光聚合起始劑而言，考慮可僅使用390nm以上之可見光線來硬化之觀點，宜為醯基氧化膦型光聚合起始劑。另外，醯基氧化膦型光聚合起始劑亦可謂具有醯基氧化膦基(-(C=O)-(P=O)＜)之光聚合起始劑。又，考慮能以395nm以上之光來硬化，且容易獲得可見光透射率更高的硬化體之觀點，為二苯基-2,4,6-三甲基苯甲醯基氧化膦特佳。二苯基-2,4,6-三甲基苯甲醯基氧化膦可列舉例如：BASF JAPAN公司製「Irgacure TPO」等。

光聚合起始劑的含量，相對於單體成分之總量100質量份，宜為0.05質量份以上，為0.5質量份以上更佳，為2質量份以上再更佳，為2.5質量份以上又更佳。藉由增加光聚合起始劑的含量，會有組成物之硬化性能更為改善的傾向。光聚合起始劑的含量，相對於單體成分之總量100質量份，宜為12質量份以下，為8質量份以下更佳，為6質量份以下再更佳。藉由減少光聚合起始劑的含量，會變得容易獲得可見光透射率更高的硬化體。亦即，光聚合起始劑的含量，相對於單體成分之總量100質量份，例如可為：0.05~12質量份、0.05~8質量份、0.05~6質量份、0.5~12質量份、0.5~8質量份、0.5~6質量份、2~12質量份、2~8質量份、2~6質量份、2.5~12質量份、2.5~8質量份或2.5~6質量份。

本實施形態之組成物也可更包含單體成分及光聚合起始劑以外的其它成分。本實施形態之組成物也可更包含例如：有機EL顯示元件用密封劑之領域可使用的公知添加劑。添加劑可列舉例如：抗氧化劑、金屬鈍化劑、填料、安定劑、中和劑、潤滑劑、抗菌劑等。

本實施形態之組成物可藉由照射可見光線或紫外線中至少一者來使其硬化。另外，本說明書中，組成物的「硬化」並不限於一定要剛硬地固化，只要單體成分進行聚合而形成聚合物即可。例如，組成物的硬化體可為剛硬的固體(例如：玻璃狀)，也可為橡膠狀。

用以照射可見光線或紫外線之能量照射源可列舉：氘燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、低壓水銀燈、氙氣燈、氙氣汞混合燈、鹵素燈、準分子燈、銦燈、鉈燈、LED燈、無電極放電燈等能量照射源。

本實施形態之組成物，考慮不易對有機EL顯示元件造成損壞之觀點，宜利用380nm以上之波長的光使其硬化，利用395nm以上之波長的光使其硬化更佳，利用395nm之波長的光使其硬化最佳。照射光之波長考慮避免紅外光所致照射部之溫度上昇、對有機EL顯示元件造成損壞的可能性小之觀點，宜為500nm以下。能量照射源宜為發光波長為單波長之LED燈。

使組成物硬化時之照射量宜為100~8000mJ/cm² ，為300~2000mJ/cm² 更佳。藉由將照射量控制在100mJ/cm² 以上，組成物可充分地硬化並容易獲得高黏接強度。又，藉由將照射量控制在8000mJ/cm² 以下，可使組成物硬化而不會對有機EL顯示元件造成損壞。亦即，使組成物硬化時之照射量例如可為：100~8000mJ/cm² 、300~8000mJ/cm² 、100~2000mJ/cm² 、300~2000mJ/cm² 。

本實施形態之組成物的硬化體宜為透明性優良。具體而言，硬化體在360nm以上且800nm以下之紫外-可見光線區域的分光透射率，就每厚度10μm單位計，宜為95%以上，為97%以上更佳，為99%以上再更佳。該分光透射率若為95%以上，則容易獲得亮度及對比度優良的有機EL顯示裝置。

本實施形態之組成物的硬化體依據JIS Z 0208：1976，於85℃、85%RH之環境下暴露24小時並進行測定之100μm厚的透濕度之值，宜為500g/m² 以下，為400g/m² 以下更佳，為350g/m² 以下再更佳。若透濕度低，則可更顯著地抑制水分到達有機發光材料層所致之黑色斑點的產生。

本實施形態之組成物的使用方法並無特別限制。本實施形態之組成物可理想地使用作為有機EL顯示元件用密封劑。具體而言，例如可藉由將組成物塗佈於對象物(例如：有機EL顯示元件)，並使組成物硬化在對象物上，可形成由組成物之硬化體構成的密封材。

又，也可使組成物硬化成預定的形狀(例如：薄膜狀、片狀等)，來形成具有預定形狀之密封材。此時，例如藉由將該密封材配置於有機EL顯示元件上，可將有機EL顯示元件予以密封。

本實施形態之組成物由於表面平坦性及直進性優良，故即使適用於噴墨法時，仍可在預定範圍正確地形成表面凹凸少的有機膜。 因此，本實施形態之組成物可理想地使用作為用以利用噴墨法來形成有機膜(宜為作為有機EL顯示元件用密封材之有機膜)之塗液。

以下，針對使用本實施形態之組成物作為密封劑而形成的有機EL顯示裝置之一態樣，以頂部發光(top emission)型有機EL顯示裝置為例進行說明。另外，適用本實施形態之組成物之有機EL顯示裝置不限於頂部發光型，也可為有機EL層所產生的光從基板側照射之底部發光(bottom emission)型有機EL顯示裝置。

頂部發光型有機EL顯示裝置具備：有機EL顯示元件、密封有機EL顯示元件之密封層、及設置於密封層上之密封基板。

有機EL顯示元件具有例如：在基板上按順序疊層陽極、包含發光層之有機EL層、及陰極之結構。

有機EL顯示元件的基板可列舉例如：玻璃基板、矽基板、塑膠基板等。它們之中，宜為玻璃基板及塑膠基板，為玻璃基板更佳。

塑膠基板所使用的塑膠可列舉：聚醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚㗁二唑、芳香族聚醯胺、聚苯并咪唑、聚苯并雙噻唑、聚苯并㗁唑、聚噻唑、聚對苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚環烯烴、聚丙烯酸等。它們之中，考慮低水分透過性、低透氧性、耐熱性優良的觀點，宜為由聚醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚㗁二唑、芳香族聚醯胺、聚苯并咪唑、聚苯并雙噻唑、聚苯并㗁唑、聚噻唑、聚對苯乙烯構成之群組中之一種以上，考慮紫外線或可見光線等能量射線之透過性高的觀點，為由聚醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯構成之群組中之一種以上更佳。

陽極一般而言使用功函數較大(擁有大於4.0eV之功函數者較理想)的導電性金屬氧化物膜、半透明金屬薄膜等。陽極的材料可列舉例如：銦錫氧化物(Indium Tin Oxide，以下稱為ITO)、氧化錫等金屬氧化物；金(Au)、鉑(Pt)、銀(Ag)、銅(Cu)等金屬或含有它們中之至少1者的合金；聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物等有機透明導電膜等。陽極如有必要，可由2層以上之層構成來形成。陽極的膜厚可考慮電導度(底部發光型的情況亦考慮光的透射性)而適當地選擇。陽極的膜厚宜為10nm~10μm，為20nm~1μm更佳，為50nm~500nm最佳。亦即，陽極的膜厚例如可為：10nm~10μm、10nm~1μm、10nm~500nm、20nm~10μm、20nm~1μm、20nm~500nm、50nm~10μm、50nm~1μm或50nm~500nm。陽極的製作方法可列舉：真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍敷法、鍍敷法等。頂部發光型的情況，也可在陽極之下設置用以反射對基板側照射之光的反射膜。

有機EL層至少包含由有機物構成的發光層。該發光層包含發光性材料。發光性材料可列舉：發出螢光或燐光之有機物(低分子化合物或高分子化合物)等。發光層也可更含有摻雜材料。有機物可列舉：色素系材料、金屬錯合物系材料、高分子材料等。摻雜材料係為了使有機物之發光效率改善、使發光波長變化等而摻雜於有機物中。由這些有機物與因應需要而予以摻雜之摻雜物構成的發光層之厚度通常為2~200nm。

色素系材料可列舉：甲基環戊基丙胺(cyclopentamine)衍生物、四苯基丁二烯衍生物化合物、三苯基胺衍生物、㗁二唑衍生物、吡唑并喹啉衍生物、二苯乙烯苯衍生物、二苯乙烯伸芳基衍生物、吡咯衍生物、噻吩環化合物、吡啶環化合物、芘酮(perinone)衍生物、苝衍生物、寡聚噻吩衍生物、三富馬醯胺(trifumanyl amine)衍生物、㗁二唑二聚物、吡唑啉二聚物等。

金屬錯合物系材料可列舉：銥錯合物、鉑錯合物等具有源自三重態激發狀態之發光的金屬錯合物；喹啉醇鋁錯合物、苯并喹啉醇鈹錯合物、苯并㗁唑鋅錯合物、苯并噻唑鋅錯合物、偶氮甲基鋅錯合物、卟啉鋅錯合物、銪錯合物等金屬錯合物等。金屬錯合物可列舉：在中心金屬具有鋱(Tb)、銪(Eu)、鏑(Dy)等希土類金屬；鋁(Al)、鋅(Zn)、鈹(Be)等，在配位子具有㗁二唑、噻二唑、苯基吡啶、苯基苯并咪唑、喹啉結構等之金屬錯合物等。它們之中，宜為在中心金屬具有鋁(Al)，在配位子具有喹啉結構等之金屬錯合物。在中心金屬具有鋁(Al)，在配位子具有喹啉結構等之金屬錯合物之中，宜為參(8-羥基喹啉)鋁。

高分子材料可列舉：聚對苯乙烯衍生物、聚噻吩衍生物、聚對苯衍生物、聚矽烷衍生物、聚乙炔衍生物、聚茀衍生物、聚乙烯基咔唑衍生物、將上述色素體或金屬錯合物系發光材料予以高分子化而成者等。

上述發光性材料之中，發藍色光的材料可列舉：二苯乙烯伸芳基衍生物、㗁二唑衍生物、聚乙烯基咔唑衍生物、聚對苯衍生物、聚茀衍生物、它們的聚合物等。它們之中，宜為高分子材料。高分子材料之中，宜為由聚乙烯基咔唑衍生物、聚對苯衍生物、聚茀衍生物構成之群組中之一種以上。

發綠色光的材料可列舉：喹吖啶酮(quinacridone)衍生物、香豆素衍生物、聚對苯乙烯衍生物、聚茀衍生物、它們的聚合物等。它們之中，宜為高分子材料。高分子材料之中，宜為由聚對苯乙烯衍生物、聚茀衍生物構成之群組中之一種以上。

發紅色光的材料可列舉：香豆素衍生物、噻吩環化合物、聚對苯乙烯衍生物、聚噻吩衍生物、聚茀衍生物、它們的聚合物等。它們之中，宜為高分子材料。高分子材料之中，宜為由聚對苯乙烯衍生物、聚噻吩衍生物、聚茀衍生物構成之群組中之一種以上。

摻雜材料可列舉：苝衍生物、香豆素衍生物、紅螢烯(rubrene)衍生物、喹吖啶酮衍生物、方酸菁(squarylium)衍生物、卟啉衍生物、苯乙烯系色素、稠四苯(tetracene)衍生物、吡唑哢(pyrazolone)衍生物、十環烯(decacyclene)、啡㗁𠯤酮(phenoxazone)等。

有機EL層除了設置發光層以外，還可適當地設置：設置在發光層與陽極之間的層、及設置在發光層與陰極之間的層。首先，設置在發光層與陽極之間的層可列舉：改善來自陽極之電洞注入效率的電洞注入層、將自陽極或電洞注入層注入的電洞傳輸到發光層的電洞傳輸層等。設置在發光層與陰極之間的層可列舉：改善來自陰極之電子注入效率的電子注入層、將自陰極或電子注入層注入的電子傳輸到發光層的電子傳輸層等。

形成電洞注入層之材料可列舉：4’,4’’-參(2-萘基(苯基)胺基)三苯基胺等苯基胺系；星芒(starburst)型胺系；酞菁系；氧化釩、氧化鉬、氧化釕、氧化鋁等氧化物；非晶碳、聚苯胺、聚噻吩衍生物等。

構成電洞傳輸層之材料可列舉：聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚矽烷或其衍生物、側鏈或主鏈具有芳香族胺之聚矽氧烷衍生物、吡唑啉衍生物、芳胺衍生物、二苯乙烯衍生物、三苯基二胺衍生物、聯苯胺衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、聚芳胺或其衍生物、聚吡咯或其衍生物、聚(對苯乙烯)或其衍生物、聚(2,5-噻吩乙烯)或其衍生物等。

這些電洞注入層或電洞傳輸層具有阻止電子之傳輸的功能時，有時也稱為電子阻擋層。

構成電子傳輸層之材料可列舉：㗁二唑衍生物、蒽醌二甲烷或其衍生物、苯醌或其衍生物、萘醌或其衍生物、蒽醌或其衍生物、四氰蒽醌二甲烷或其衍生物、茀酮衍生物、二苯基二氰乙烯或其衍生物、聯苯醌衍生物、8-羥基喹啉或其衍生物、聚喹啉或其衍生物、聚喹㗁啉或其衍生物、聚茀或其衍生物等。衍生物可列舉：金屬錯合物等。它們之中，宜為8-羥基喹啉或其衍生物。8-羥基喹啉或其衍生物之中，考慮也可使用作為發光層中所含有的發螢光或燐光之有機物的觀點，宜為參(8-羥基喹啉)鋁。

電子注入層因應發光層之種類，可列舉：由鈣(Ca)層之單層結構構成的電子注入層、或以由元素週期表IA族與IIA族之金屬，且功函數為1.5~3.0eV之金屬及該金屬之氧化物、鹵化物及碳酸化物構成之群組中之一種以上所形成的層之單層結構、或由以由元素週期表IA族與IIA族之金屬，且功函數為1.5~3.0eV之金屬及該金屬之氧化物、鹵化物及碳酸化物構成之群組中之一種以上所形成的層與Ca層之疊層結構構成的電子注入層等。功函數為1.5~3.0eV之元素週期表IA族之金屬或其氧化物、鹵化物、碳酸化物可列舉：鋰(Li)、氟化鋰、氧化鈉、氧化鋰、碳酸鋰等。功函數為1.5~3.0eV之元素週期表IIA族之金屬或其氧化物、鹵化物、碳酸化物可列舉：鍶(Sr)、氧化鎂、氟化鎂、氟化鍶、氟化鋇、氧化鍶、碳酸鎂等。

這些電子傳輸層或電子注入層具有阻止電洞之傳輸的功能時，有時也會將這些電子傳輸層、電子注入層稱為電洞阻擋層。

陰極宜為功函數較小(擁有小於4.0eV之功函數者較理想)且容易將電子注入到發光層的透明或半透明之材料。陰極的材料可列舉：鋰(Li)、鈉(Na)、鉀(K)、銣(Rb)、銫(Cs)、鈹(Be)、鎂(Mg)、鈣(Ca)、鍶(Sr)、鋇(Ba)、鋁(Al)、鈧(Sc)、釩(V)、鋅(Zn)、釔(Y)、銦(In)、鈰(Ce)、釤(Sm)、銪(Eu)、鋱(Tb)、鐿(Yb)等金屬；或由上述金屬中之二種以上構成的合金、或由它們中之一種以上與金(Au)、銀(Ag)、鉑(Pt)、銅(Cu)、鉻(Cr)、錳(Mn)、鈦(Ti)、鈷(Co)、鎳(Ni)、鎢(W)、錫(Sn)中之一種以上構成的合金；或石墨或石墨層間化合物；或ITO、氧化錫等金屬氧化物等。

也可將陰極設置成2層以上之疊層結構。2層以上之疊層結構可列舉：上述金屬、金屬氧化物、氟化物、它們的合金與Al、Ag、Cr等金屬之疊層結構等。陰極的膜厚可考慮電導度、耐久性而適當地選擇。陰極的膜厚宜為10nm~10μm，為15nm~1μm更佳，為20nm~500nm最佳。亦即，陰極的膜厚例如可為：10nm~10μm、10nm~1μm、10nm~500nm、15nm~10μm、15nm~1μm、15nm~500nm、20nm~10μm、20nm~1μm或20nm~500nm。陰極的製作方法可列舉：真空蒸鍍法、濺鍍法、將金屬薄膜予以熱壓接之層合法等。

這些設置在發光層與陽極之間、以及發光層與陰極之間的層，可因應製造的有機EL顯示裝置所要求的性能而適當地選擇。例如，本實施形態所使用的有機EL顯示元件之結構可具有下述(i)~(xv)之層構成中之任一者。 (i)陽極/電洞傳輸層/發光層/陰極 (ii)陽極/發光層/電子傳輸層/陰極 (iii)陽極/電洞傳輸層/發光層/電子傳輸層/陰極 (iv)陽極/電洞注入層/發光層/陰極 (v)陽極/發光層/電子注入層/陰極 (vi)陽極/電洞注入層/發光層/電子注入層/陰極 (vii)陽極/電洞注入層/電洞傳輸層/發光層/陰極 (viii)陽極/電洞傳輸層/發光層/電子注入層/陰極 (ix)陽極/電洞注入層/電洞傳輸層/發光層/電子注入層/陰極 (x)陽極/電洞注入層/發光層/電子傳輸層/陰極 (xi)陽極/發光層/電子傳輸層/電子注入層/陰極 (xii)陽極/電洞注入層/發光層/電子傳輸層/電子注入層/陰極 (xiii)陽極/電洞注入層/電洞傳輸層/發光層/電子傳輸層/陰極 (xiv)陽極/電洞傳輸層/發光層/電子傳輸層/電子注入層/陰極 (xv)陽極/電洞注入層/電洞傳輸層/發光層/電子傳輸層/電子注入層/陰極 (在此，「/」表示各層相鄰而疊層。以下皆同。)

密封層係為了用來防止水蒸氣、氧等氣體接觸有機EL顯示元件，而利用對上述氣體具有高阻隔性之層來密封有機EL顯示元件所設置。該密封層係由無機膜與有機膜自下起交替地形成。無機/有機疊層體也可重複2次以上而形成。

無機/有機疊層體的無機膜係為了防止有機EL顯示元件曝露在存在於有機EL顯示裝置所放置的環境中之水蒸氣、氧等氣體而設置的膜。無機/有機疊層體的無機膜宜為針孔等缺陷少的連續性緻密膜。無機膜可列舉：SiN膜、SiO膜、SiON膜、Al₂ O₃ 膜、AlN膜等單體膜、或它們的疊層膜等。

無機/有機疊層體的有機膜係為了覆蓋無機膜上所形成的針孔等缺陷，並且為了對表面賦予平坦性而設置。有機膜係形成於比起無機膜所形成的區域更狹窄的區域。此係由於若將有機膜形成為和無機膜之形成區域相同或比無機膜之形成區域寬廣，則有機膜露出的區域會劣化。惟，形成於密封層整體之最上層的最上位有機膜係形成為和無機膜之形成區域大致相同的區域。而且，密封層的頂面係以平坦化的方式予以形成。有機膜可為使用上述本實施形態之組成物所形成的膜(亦即包含組成物之硬化體的膜)。

本實施形態之組成物如上所述，適於噴墨塗佈，且噴墨所為之噴吐性與噴墨塗佈後之平坦性優良。若使用噴墨法所為之塗佈法，則可高速且均勻地形成有機膜。

密封層若以無機/有機疊層體為1組來計數，則宜為1~5組。因為無機/有機疊層體為6組以上時，對有機EL顯示元件的密封效果和5組的情況大致相同。無機/有機疊層體的無機膜之厚度宜為50nm~1μm。無機/有機疊層體的有機膜之厚度宜為1~15μm，為3~10μm更佳。有機膜的厚度若為1μm以上，則可完全地覆蓋元件形成時所產生的微粒，且可平坦性佳地塗佈於無機膜上。有機膜的厚度若為15μm以下，則水分不會從有機膜之側面侵入，有機EL顯示元件的可靠性會改善。無機/有機疊層體的有機膜之厚度例如可為：1~15μm、1~10μm、3~15μm或3~10μm。

密封基板係以覆蓋密封層之最上位有機膜的頂面整體的方式予以密接形成。該密封基板可列舉前述基板。它們之中，宜為對可見光線而言為透明的基板。對可見光線而言為透明的基板(透明密封基板)之中，宜為由玻璃基板、塑膠基板構成之群組中之一種以上，為玻璃基板更佳。

透明密封基板的厚度宜為1μm以上且1mm以下，為10μm以上且800μm以下更佳，為50μm以上且300μm以下最佳。藉由將透明密封基板設置於密封層之更上層，可抑制最上位有機膜的表面接觸氣體時即會進行之劣化，且可提高有機EL顯示裝置之阻隔性。透明密封基板的厚度例如可為：1μm~1mm、1μm~800μm、1μm~300μm、10μm~1mm、10μm~800μm、10μm~300μm、50μm~1mm、50μm~800μm或50μm~300μm。

然後，針對具有如此的構成之有機EL顯示裝置的製造方法進行說明。首先，於第1基板上利用習知的方法按順序形成：已圖案化為預定形狀之陽極、包含發光層之有機EL層、及陰極，並形成有機EL顯示元件。例如，將有機EL顯示裝置使用作為點陣顯示裝置時，為了將發光區域分隔成矩陣狀而形成堤(bank)，並於該堤所圍成的區域中形成包含發光層之有機EL層。

然後，在形成有有機EL顯示元件之基板上，利用濺鍍法等PVD(Physical Vapor Deposition)法、電漿CVD(Chemical Vapor Deposition)法等CVD法等成膜方法，形成具有預定厚度之第1無機膜。其後，使用溶液塗佈法、噴霧塗佈法等塗膜形成方法、或閃蒸鍍法、噴墨法等，使本實施形態之組成物(密封劑)附著於第1無機膜上。它們之中，就生產性之觀點宜為噴墨法。其後，藉由照射紫外線、可見光線等能量射線，使密封劑硬化並形成第1有機膜。藉由以上步驟來形成1組無機/有機疊層體。密封劑的硬化率，只要可發揮本實施形態之效果，則無特別限制，例如以依循後述測定方法而得的值計，可定為90%以上，定為95%以上較理想。

如上所示之無機/有機疊層體的形成步驟僅重複預定的次數。惟，關於最後一組，亦即最上層之無機/有機疊層體，亦能以頂面成為平坦化的方式，利用塗佈法、或閃蒸鍍法、噴墨法等使密封劑附著於無機膜的頂面。

然後，將透明密封基板貼合於基板上之附著有密封劑的面。貼合時進行位置對準。其後，藉由從透明密封基板側照射能量射線，使最存在於上層無機膜與透明密封基板之間的本實施形態之密封劑硬化。藉此，使密封劑硬化並形成最上位有機膜，同時最上位有機膜與透明密封基板會被黏接。如上，有機EL顯示裝置之製造方法結束。

使密封劑附著於無機膜上之後，也可部分地照射能量射線來使其聚合。藉由如此地進行，在承載透明密封基板時，可防止最上位有機膜之形狀崩塌。就無機膜與有機膜的厚度而言，各無機/有機疊層體可定為相同，各無機/有機疊層體也可相異。

本實施形態中，有機EL顯示裝置可使用作為面狀光源、鏈段顯示裝置、點陣顯示裝置。

以上已針對本發明之理想的實施形態進行說明，但本發明不限於上述實施形態。 [實施例]

以下利用實施例更具體地說明本發明，但本發明不限於實施例。

實施例及比較例所使用的成分之詳細內容如下所述。另外，單體成分的黏度表示於25℃利用E型黏度計測定的值。又，單體成分的表面張力表示於23℃時之利用懸滴法測定的值。 ＜含氟單體＞ ･「13F」 大阪有機化學工業公司製，商品名「Viscoat 13F」 化合物名：丙烯酸-3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-十三氟辛酯 黏度：4mPa･s 表面張力：12mN/m ･「LINC-162A」 共榮社化學公司製，商品名「LINC-162A」 化合物名：2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-十六氟-1,10-癸烷二丙烯酸酯 黏度：32mPa･s 表面張力：17mN/m

＜單體(B)＞ ･「A-LEN-10」 新中村化學工業公司製，商品名「NK ESTER A-LEN-10」 化合物名：乙氧基化鄰苯基苯酚丙烯酸酯 黏度：150mPa･s 表面張力：35mN/m ･「DCPA」 新中村化學工業公司製，商品名「NK ESTER A-DCP」 化合物名：三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯 黏度：120mPa･s 表面張力：33mN/m ･「BPE200」 新中村化學工業公司製，商品名「NK ESTER BPE-200」 化合物名：乙氧基化雙酚A二甲基丙烯酸酯 黏度：600mPa･s 表面張力：37mN/m ･「SR262」 ARKEMA公司製，商品名「SR262」 化合物名：1,12-十二烷二醇二甲基丙烯酸酯 黏度：12mPa･s 表面張力：26mN/m ･「UG4010」 東亞合成公司製，商品名「ARUFON」 化合物名：丙烯酸系聚合物 黏度：3700mPa･s 表面張力：45mN/m

＜光聚合起始劑＞ ･「TPO」 iGM Resins公司製，商品名「Omnirad TPO」 化合物名：二苯基-2,4,6-三甲基苯甲醯基氧化膦

(實施例1) 將1質量份之「LINC-162A」、5質量份之「A-LEN-10」、18質量份之「DCPA」、76質量份之「SR262」、及3.5質量份之「TPO」予以混合，製備組成物。亦即，單體成分中，含氟單體之比例定為1質量%，高黏度單體之比例定為23質量%，二官能單體之比例定為95質量%。得到的組成物的黏度(於25℃利用E型黏度計測定的值)為16mPa･s，表面張力為26mN/m。

(實施例2) 將1質量份之「LINC-162A」、5質量份之「A-LEN-10」、15質量份之「DCPA」、3質量份之「BPE200」、76質量份之「SR262」、及3.5質量份之「TPO」予以混合，製備組成物。亦即，單體成分中，含氟單體之比例定為1質量%，高黏度單體之比例定為23質量%，二官能單體之比例定為95質量%。得到的組成物的黏度(於25℃利用E型黏度計測定的值)為17mPa･s，表面張力為27mN/m。

(實施例3) 將1質量份之「13F」、5質量份之「A-LEN-10」、18質量份之「DCPA」、76質量份之「SR262」、及3.5質量份之「TPO」予以混合，製備組成物。亦即，單體成分中，含氟單體之比例定為1質量%，高黏度單體之比例定為23質量%，二官能單體之比例定為94質量%。得到的組成物的黏度(於25℃利用E型黏度計測定的值)為16mPa･s，表面張力為25mN/m。

(實施例4) 將0.01質量份之「LINC-162A」、5質量份之「A-LEN-10」、18質量份之「DCPA」、76.99質量份之「SR262」、及3.5質量份之「TPO」予以混合，製備組成物。亦即，單體成分中，含氟單體之比例定為0.01質量%，高黏度單體之比例定為23質量%，二官能單體之比例定為95質量%。得到的組成物的黏度(於25℃利用E型黏度計測定的值)為16mPa･s，表面張力為27mN/m。

(實施例5) 將5質量份之「LINC-162A」、15質量份之「A-LEN-10」、15質量份之「DCPA」、65質量份之「SR262」、及5質量份之「TPO」予以混合，製備組成物。亦即，單體成分中，含氟單體之比例定為5質量%，高黏度單體之比例定為30質量%，二官能單體之比例定為85質量%。得到的組成物的黏度(於25℃利用E型黏度計測定的值)為14mPa･s，表面張力為24mN/m。

(比較例1) 將5質量份之「A-LEN-10」、18質量份之「DCPA」、77質量份之「SR262」、及3.5質量份之「TPO」予以混合，製備組成物。亦即，單體成分中，含氟單體之比例定為0質量%，高黏度單體之比例定為23質量%，二官能單體之比例定為95質量%。得到的組成物的黏度(於25℃利用E型黏度計測定的值)為16mPa･s，表面張力為27mN/m。

(比較例2) 將1質量份之「LINC-162A」、5質量份之「UG4010」、18質量份之「DCPA」、76質量份之「SR262」、及3.5質量份之「TPO」予以混合，製備組成物。亦即，單體成分中，含氟單體之比例定為1質量%，高黏度單體之比例定為18質量%(若包含不符合式(iv)之「UG4010」，則為23質量%)，二官能單體之比例定為95質量%。得到的組成物的黏度(於25℃利用E型黏度計測定的值)為20mPa･s，表面張力為28mN/m。

(比較例3) 將95質量份之「13F」、5質量份之「BPE200」、及3.5質量份之「TPO」予以混合，製備組成物。亦即，單體成分中，含氟單體之比例定為95質量%，高黏度單體之比例定為5質量%，二官能單體之比例定為5質量%。得到的組成物的黏度(於25℃利用E型黏度計測定的值)為6mPa･s，表面張力為15mN/m。

將實施例1~5及比較例1~3得到的組成物利用以下方法進行評價。結果如表1所示。

＜E型黏度＞ 組成物的黏度係使用E型黏度計(錐板型：錐角度1°34′、錐轉子之半徑24mm)，於溫度25℃、轉速100rpm之條件下進行測定。 ＜表面張力＞ 組成物的表面張力係於23℃之環境下，使用接觸角計(協和界面科學公司製DM500)，利用懸滴法進行測定。

＜表面平坦性及端部平坦性的評價＞ 在70mm×70mm×0.7mmt之基材(無鹼玻璃(Corning公司製 Eagle XG))上，於前後左右隔開10μm之間隔，利用蝕刻法製得25μm×25μm×3μmt之凹槽。然後，於設置有凹槽之基板上，利用電漿CVD法形成200nm之SiN膜。然後，使用噴墨噴吐裝置(武藏工程公司製MID500B，溶劑系噴頭「MID HEAD」)，以成為15mm×15mm×8μmt的方式將組成物予以圖案塗佈。另外，基材在圖案塗佈前，分別使用丙酮、異丙醇進行清洗，其後使用Technovision公司製UV臭氧清洗裝置UV-208清洗5分鐘。圖案塗佈後，以溫度23℃、相對濕度50%之條件放置於氮氣環境中4分鐘，並於氮氣環境下利用發出395nm之波長的光之LED燈(HOYA公司製UV-LED LIGHT SOURCE H-4MLH200-V1)，以395nm之波長的光之累計光量成為1,500mJ/cm² 的條件，使組成物進行光硬化。 然後，利用觸針式形狀測定裝置(BRUKER公司製DektakXT)，沿相對噴頭移動方向為垂直的方向測定硬化膜之厚度。令除去距離硬化膜之端部2mm後之面內中的最大厚度與最小厚度之差為表面平坦性之評價結果。又，令自硬化膜之一端起2mm之範圍內的最大厚度與最小厚度之差為端部平坦性之評價結果。

＜透濕性的評價＞ 利用上述光硬化條件製得厚度0.1mm之片狀硬化體。依據JIS Z0208：1976「防潮包裝材料之透濕度試驗方法(杯式法)」，使用氯化鈣(無水)作為吸濕劑，以溫度85℃、相對濕度85%之條件暴露24小時，測定於100μm厚度之硬化體的透濕度。

[表1]

	實施例1	實施例2	實施例3	實施例4	實施例5	比較例1	比較例2	比較例3
端部平坦性(μm)	1.0	0.8	1.2	0.8	1.4	0.8	1.8	2.4
表面平坦性(nm)	110	80	115	300	50	500	6000	130
透濕度(g/m2 )	270	265	275	260	305	260	295	560

如表1所示，實施例之組成物可兼顧優良的端部平坦性與表面平坦性。又，實施例之組成物所形成的硬化體之透濕度足夠低，確認作為有機EL顯示元件用密封材係為有效。

又，如表1所示，不包含含氟單體之比較例1為表面平坦性不良的結果。又，含有5質量%之黏度3700mPa･s的「UG4010」之比較例2為端部平坦性與表面平坦性不良的結果。又，含有5質量%之表面張力37mN/m的「BPE200」之比較例3為端部平坦性與透濕度不良的結果。

Claims (13)

1. 一種組成物，包含： 單體成分，及 光聚合起始劑； 該單體成分之97質量%以上係符合下式(i)及(ii)之單體， 該單體成分之至少一部分係符合下式(iii)且具有氟原子及碳-碳不飽和雙鍵之含氟單體， 該單體成分之至少一部分係符合下式(iv)之高黏度單體； ｜γ_C -γ_A ｜＜20mN/m …(i) 式中，γ_C 表示該組成物的表面張力(mN/m)，γ_A 表示單體的表面張力(mN/m)； ｜η_A -η_C ｜＜3000mPa･s …(ii) 式中，η_C 表示該組成物在25℃的黏度(mPa･s)，η_A 表示單體在25℃的黏度(mPa･s)； 1mPa･s≦｜η_A1 -η_C ｜≦30mPa･s …(iii) 式中，η_C 表示該組成物在25℃的黏度(mPa･s)，η_A1 表示該含氟單體在25℃的黏度(mPa･s)； 50mPa･s≦｜η_A2 -η_C ｜＜3000mPa･s …(iv) 式中，η_C 表示該組成物在25℃的黏度(mPa･s)，η_A2 表示該高黏度單體在25℃的黏度(mPa･s)。
2. 如請求項1之組成物，其中，該含氟單體符合下式(iii-a)； 5mPa･s≦｜η_A1 -η_C ｜≦20mPa･s …(iii-a)。
3. 如請求項1或2之組成物，其中，該高黏度單體符合下式(iv-a)； 70mPa･s≦｜η_A2 -η_C ｜≦1000mPa･s …(iv-a)。
4. 如請求項3之組成物，其中，該單體成分之5~65質量%為該高黏度單體。
5. 如請求項1至4中任一項之組成物，其中，該單體成分之至少一部分為具有2個以上之碳-碳不飽和雙鍵的多官能單體。
6. 如請求項5之組成物，其中，該單體成分之70~98質量%為該多官能單體。
7. 如請求項1至6中任一項之組成物，其中，該組成物的表面張力γ_C 為10mN/m以上且50mN/m以下。
8. 如請求項1至7中任一項之組成物，其中，該組成物在25℃的黏度η_C 為3mPa･s以上且50mPa･s以下。
9. 如請求項1至8中任一項之組成物，係有機電致發光顯示元件用密封劑。
10. 一種硬化體，係將如請求項1至9中任一項之組成物硬化而成。
11. 一種有機電致發光顯示元件用密封材，含有如請求項10之硬化體。
12. 一種有機電致發光顯示元件用密封材，含有無機膜與有機膜疊層而成的疊層體， 該有機膜含有如請求項10之硬化體。
13. 一種有機電致發光顯示裝置，包含： 有機電致發光顯示元件，及 如請求項11或12之有機電致發光顯示元件用密封材。