TW202034355A - 電感器 - Google Patents

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TW202034355A
TW202034355A TW109104915A TW109104915A TW202034355A TW 202034355 A TW202034355 A TW 202034355A TW 109104915 A TW109104915 A TW 109104915A TW 109104915 A TW109104915 A TW 109104915A TW 202034355 A TW202034355 A TW 202034355A
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magnetic layer
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古川佳宏
奧村圭佑
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明之電感器(1)具備配線(2)及被覆配線(2)之磁性層(3)，配線(2)具備導線(6)及絕緣層(7)。磁性層(3)含有各向異性磁性粒子(8)及黏合劑(9)，於配線(2)之周邊區域(11)中，磁性層(3)具備配向區域(13)，周邊(11)係如下區域：自配線(2)之外表面向外側前進自配線(2)之重心至配線(2)之外表面之最長長度及最短長度之平均之1.5倍值，於電感器(1)之上表面，具有因配線(2)而形成之凸部(10)。

Description

電感器
本發明係關於一種電感器。
已知電感器搭載於電子機器等，被用作電壓轉換構件等無源元件。
例如提出一種電感器，其具備由磁性材料構成之長方體狀之晶片本體部、及埋設於該晶片本體部之內部之銅等內部導體，且晶片本體部之剖面形狀與內部導體之剖面形狀為相似形(參照專利文獻1)。即，於專利文獻1之電感器中，於剖視矩形狀(長方體狀)之配線(內部導體)之周圍被覆有磁性材料。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開平10-144526號公報
[發明所欲解決之問題]
然，要求電感器進一步提高電感。
又，電感器安裝於所期望之配線基板。此時，專利文獻1之內部導體因由磁性材料被覆，故而必須自電感器之厚度方向一表面進行通孔加工，使內部導體露出，使該露出之內部導體導通。
然而，於專利文獻1之電感器中，當自厚度方向一表面進行通孔加工時，無法辨別內部導體之位置。即，會於位置與內部導體40之區域偏離之部位形成開口部41(通孔)(參照圖8)，很難以100%之概率完成通孔加工。
本發明提供了一種電感器，其電感良好且可確實地成功進行通孔加工。 [解決問題之技術手段]
本發明[1]包含一種電感器，其係具備配線、及被覆上述配線之磁性層者，且上述配線具備導線、及被覆上述導線之絕緣層，上述磁性層含有各向異性磁性粒子及黏合劑，於上述配線之周邊區域中，上述磁性層具備上述各向異性磁性粒子沿著上述配線之周圍配向之配向區域，上述周邊區域係如下區域：於剖視時，自上述配線之上述外表面向外側前進自上述配線之重心至上述配線之外表面之最長長度及最短長度之平均的1.5倍值，於上述電感器之厚度方向一表面，具有因上述配線而形成之凸部。
根據該電感器，於配線之周邊，存在各向異性磁性粒子沿著周圍配向之配向區域，故而電感良好。
又，於電感器之厚度方向一表面具有因配線而形成之凸部，故而當對凸部進行通孔加工時，可使配線確實地露出。因此，可確實地成功進行通孔加工。
本發明[2]包含如[1]所記載之電感器，其中上述配線於與上述厚度方向正交之正交方向上隔開間隔地配置有複數條，上述複數條配線介隔上述磁性層而連續。
根據該電感器，於複數條配線間配置有與其等於正交方向上連續之磁性層，故而電感良好。
本發明[3]包含如[1]或[2]所記載之電感器，其中上述配線之剖視形狀為圓形。
由於配線之剖視形狀為圓形，故而不存在角部。因此，容易於配線之周邊使各向異性磁性粒子沿著周圍(圓周方向)配向。因此，可確實地形成配向區域，且可確實地提高電感。 [發明之效果]
根據本發明之電感器，可使電感良好，且確實地成功進行通孔加工。
於圖1A中，紙面左右方向為第1方向，紙面左側為第1方向一側，且紙面右側為第1方向另一側。紙面上下方向為第2方向(與第1方向正交之方向)，紙面上側為第2方向一側(配線軸向之一方向)，紙面下側為第2方向另一側(配線軸之另一方向)。紙面紙厚方向為上下方向(與第1方向及第2方向正交之第3方向、厚度方向)，紙面近前側為上側(第3方向一側、厚度方向一側)，紙面裏側為下側(第3方向另一側、厚度方向另一側)。具體而言，依據各圖之方向箭頭。
＜第1實施形態＞ 1.電感器 參照圖1A－圖2說明本發明之電感器之第1實施形態之一實施形態。
如圖1A－B所示，電感器1具有於面方向(第1方向及第2方向)上延伸之俯視大致矩形狀。
電感器1具備複數條(2條)配線2、及磁性層3。
複數條配線2分別具備第1配線4及第2配線5，該第2配線5於寬度方向(第1方向；與厚度方向正交之方向)上與第1配線4隔開間隔地配置。
如圖1A－B所示，第1配線4於第2方向上較長地延伸，且例如具有俯視大致U字形狀。又，第1配線4具有剖視大致圓形狀。
第1配線4具備導線6、及被覆該導線6之絕緣層7。
導線6於第2方向上較長地延伸，且例如具有俯視大致U字形狀。又，導線6具有與第1配線4共有中心軸線之剖視大致圓形狀。
導線6之材料例如為銅、銀、金、鋁、鎳或及其等之合金等金屬導體，較佳為列舉銅。導線6可為單層構造，亦可為於芯導體(例如銅)之表面進行了鍍覆(例如鎳)等之複層構造。
導線6之半徑R1例如為25 μm以上，較佳為50 μm以上，且例如為2000 μm以下，較佳為200 μm以下。
絕緣層7係用於保護導線6不受化學品或水侵蝕，且防止導線6短路之層。絕緣層7以被覆導線6之整個外周面之方式配置。
絕緣層7具有與第1配線4共有中心軸線(中心C1)之剖視大致圓環形狀。
作為絕緣層7之材料，例如可列舉聚乙烯醇縮甲醛、聚酯、聚酯醯亞胺、聚醯胺(包含尼龍)、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺及聚胺基甲酸酯等絕緣性樹脂。該等材料可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
絕緣層7可由單層構成，亦可由複數層構成。
絕緣層7之厚度R2於圓周方向之任一位置處在配線2之徑向上大致均一，例如為1 μm以上，較佳為3 μm以上，且例如為100 μm以下，較佳為50 μm以下。
導線6之半徑R1與絕緣層7之厚度R2之比(R1/R2)例如為1以上，較佳為10以上，且例如為200以下，較佳為100以下。
第1配線4之半徑(R1＋R2)例如為25 μm以上，較佳為50 μm以上，且例如為2000 μm以下，較佳為200 μm以下。
於第1配線4為大致U字形狀之情形時，第1配線4之中心間距離D2與下述複數條配線2間之中心間距離D1為相同距離，例如為20 μm以上，較佳為50 μm以上，且例如為3000 μm以下，較佳為2000 μm以下。
第2配線5為與第1配線4相同之形狀，且具有相同之構成、尺寸及材料。即，第2配線5與第1配線4同樣地，具備導線6及被覆該導線6之絕緣層7。
複數條配線2(第1配線4及第2配線5)介隔下述磁性層3而連續。即，於第1配線4與第2配線5之間，配置有於第1方向上延伸之磁性層3，磁性層3與第1配線4及第2配線5之兩者接觸。
第1配線4與第2配線5之中心間距離D1例如為20 μm以上，較佳為50 μm以上，且例如為3000 μm以下，較佳為2000 μm以下。
磁性層3係用以提高電感之層。
磁性層3配置為被覆複數條配線2之整個外周面。磁性層3形成電感器1之外形。具體而言，磁性層3具有於面方向(第1方向及第2方向)上延伸之俯視大致矩形狀。又，磁性層3於其第2方向之另一表面，露出複數條配線2之第2方向端緣。
磁性層3由含有各向異性磁性粒子8及黏合劑9之磁性組合物形成。
作為構成各向異性磁性粒子(以下，亦簡稱為「粒子」)8之材料，可列舉軟磁體、硬磁體。自電感之觀點來看，較佳為列舉軟磁體。
作為軟磁體，例如可列舉以純物質狀態包含1種金屬元素之單一金屬體、及例如1種以上之金屬元素(第1金屬元素)與1種以上之金屬元素(第2金屬元素)及/或非金屬元素(碳、氮、矽、磷等)之共熔體(混合物)即合金體。該等可單獨使用或併用。
作為單一金屬體，例如可列舉僅由1種金屬元素(第1金屬元素)構成之金屬單質。作為第1金屬元素，例如自鐵(Fe)、鈷(Co)、鎳(Ni)及其他作為軟磁體之第1金屬元素而含有之金屬元素中適當選擇。
又，作為單一金屬體，例如可列舉具備僅包含1種金屬元素之芯、及修飾該芯之表面一部分或全部之包含無機物及/或有機物質之表面層的形態、例如包含第1金屬元素之有機金屬化合物或無機金屬化合物經分解(例如熱分解)後的形態。作為後一種形態，更具體而言，可列舉包含鐵作為第1金屬元素之有機鐵化合物(具體而言為羰基鐵)經熱分解所得之鐵粉(有時稱為羰基鐵粉)等。再者，修飾僅包含1種金屬元素之部分之包含無機物質及/或有機物質之層的位置不限於如上所述之表面。再者，作為可獲得單一金屬體之有機金屬化合物或無機金屬化合物，並無特別限定，可自能獲得軟磁體之單一金屬體之公知或常用之有機金屬化合物或無機金屬化合物中適當選擇。
合金體係1種以上之金屬元素(第1金屬元素)與1種以上之金屬元素(第2金屬元素)及/或非金屬元素(碳、氮、矽、磷等)之共熔體，只要為可用作軟磁體之合金體者，則並無特別限定。
第1金屬元素係合金體中之必需元素，例如可列舉鐵(Fe)、鈷(Co)、鎳(Ni)等。再者，若第1金屬元素為Fe，則合金體係設為Fe系合金，若第1金屬元素為Co，則合金體係設為Co系合金，若第1金屬元素為Ni，則合金體係設為Ni系合金。
第2金屬元素係合金體中次要地含有之元素(副成分)，且係與第1金屬元素相容(共熔)之金屬元素，例如可列舉鐵(Fe)(第1金屬為Fe以外之元素時)、鈷(Co)(第1金屬元素為Co以外之元素時)、鎳(Ni)(第1金屬元素為Ni以外之元素時)、鉻(Cr)、鋁(Al)、矽(Si)、銅(Cu)、銀(Ag)、錳(Mn)、鈣(Ca)、鋇(Ba)、鈦(Ti)、鋯(Zr)、鉿(Hf)、釩(V)、鈮(Nb)、鉭(Ta)、鉬(Mo)、鎢(W)、釕(Ru)、銠(Rh)、鋅(Zn)、鎵(Ga)、銦(In)、鍺(Ge)、錫(Sn)、鉛(Pb)、鈧(Sc)、釔(Y)、鍶(Sr)及各種稀土元素等。該等可單獨使用或併用2種以上。
非金屬元素係合金體中次要地含有之元素(副成分)，且係與第1金屬元素相容(共熔)之非金屬元素，例如可列舉硼(B)、碳(C)、氮(N)、矽(Si)、磷(P)、硫(S)等。該等可單獨使用或併用2種以上。
作為合金體之一例之Fe系合金，例如可列舉磁性不鏽鋼(Fe-Cr-Al-Si合金)(包含電磁不鏽鋼)、鐵矽鋁合金(Fe-Si-Al合金)(包含超級鐵矽鋁合金)、坡莫合金(Fe-Ni合金)、Fe-Ni-Mo合金、Fe-Ni-Mo-Cu合金、Fe-Ni-Co合金、Fe-Cr合金、Fe-Cr-Al合金、Fe-Ni-Cr合金、Fe-Ni-Cr-Si合金、矽銅(Fe-Cu-Si合金)、Fe-Si合金、Fe-Si-B(-Cu-Nb)合金、Fe-B-Si-Cr合金、Fe-Si-Cr-Ni合金、Fe-Si-Cr合金、Fe-Si-Al-Ni-Cr合金、Fe-Ni-Si-Co合金、Fe-N合金、Fe-C合金、Fe-B合金、Fe-P合金、鐵氧體(包含不鏽鋼系鐵氧體、進而Mn-Mg系鐵氧體、Mn-Zn系鐵氧體、Ni-Zn系鐵氧體、Ni-Zn-Cu系鐵氧體、Cu-Zn系鐵氧體、Cu-Mg-Zn系鐵氧體等軟鐵氧體、鐵鈷合金(Fe-Co合金)、Fe-Co-V合金、Fe基非晶合金等。
作為合金體之一例之Co系合金，例如可列舉Co-Ta-Zr及鈷(Co)基非晶合金等。
作為合金體之一例之Ni系合金，例如可列舉Ni-Cr合金等。
於該等軟磁體中，自磁特性之觀點來看，較佳為列舉合金體，更佳為列舉Fe系合金，進而較佳為列舉鐵矽鋁合金(Fe-Si-Al合金)。又，作為軟磁體，較佳為列舉單一金屬體，更佳為列舉以純物質狀態包含鐵元素之單一金屬體，進而較佳為列舉鐵單質或者鐵粉(羰基鐵粉)。
作為粒子8之形狀，自各向異性之觀點來看，例如可列舉扁平狀(板狀)、針狀等，自面方向(二維)上相對磁導率良好之觀點來看，較佳為列舉扁平狀。再者，磁性層3除含有各向異性磁性粒子8以外，亦可進而含有非各向異性磁性粒子。非各向異性磁性粒子可具有例如球狀、顆粒狀、塊狀及團狀等形狀。非各向異性磁性粒子之平均粒徑例如為0.1 μm以上，較佳為0.5 μm以上，且例如為200 μm以下，較佳為150 μm以下。
再者，扁平狀之粒子8之扁率(扁平度)例如為8以上，較佳為15以上，且例如為500以下，較佳為450以下。扁率係例如設為將粒子8之平均粒徑(平均長度)(下述)除以粒子8之平均厚度所得之縱橫比而算出。
粒子8(各向異性磁性粒子)之平均粒徑(平均長度)例如為3.5 μm以上，較佳為10 μm以上，且例如為200 μm以下，較佳為150 μm以下。若粒子8為扁平狀，則其平均厚度例如為0.1 μm以上，較佳為0.2 μm以上，且例如為3.0 μm以下，較佳為2.5 μm以下。
作為黏合劑9，例如可列舉熱硬化性樹脂及熱塑性樹脂。
作為熱硬化性樹脂，例如可列舉環氧樹脂、酚系樹脂、三聚氰胺樹脂、熱硬化性聚醯亞胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂及矽酮樹脂等。自接著性、耐熱性等觀點來看，較佳為列舉環氧樹脂、酚系樹脂。
作為熱塑性樹脂，例如可列舉丙烯酸系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂(6-尼龍、6,6-尼龍等)、熱塑性聚醯亞胺樹脂、飽和聚酯樹脂(PET(Polyethylene terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)、PBT(Polybutylene terephthalate，聚對苯二甲酸丁二酯)等)等。較佳為列舉丙烯酸系樹脂。
作為黏合劑9，較佳為列舉熱硬化性樹脂及熱塑性樹脂之併用。更佳為列舉丙烯酸系樹脂、環氧樹脂及酚系樹脂之併用。藉此，能夠將粒子8以特定之配向狀態且高填充度，更確實地固定於配線2之周圍。
又，磁性組合物亦可視需要含有添加劑，例如熱硬化觸媒、無機粒子、有機粒子及交聯劑等。
於磁性層3中，粒子8於黏合劑9內配向並且均勻地配置。磁性層3自電感器1之上表面(厚度方向一表面)連續至下表面(厚度方向另一表面)。當於面方向上投影時，磁性層3包含配線2。即，磁性層3之上表面位於較配線2之上端靠上方之位置，磁性層3之下表面位於較配線2之下端靠下方之位置。
磁性層3於剖視時具有周邊區域11及外側區域12。
周邊區域11係配線2之周邊區域，以與複數條配線2接觸之方式位於複數條配線2之周圍。周邊區域11具有與配線2共有中心軸線之剖視大致圓環狀。更具體而言，周邊區域11係磁性層3中之自配線2之外周面朝徑向外側前進配線2之半徑(自配線2之中心(重心)C1至外周面之距離之平均；R1＋R2)之1.5倍值(較佳為1.2倍值，更佳為1倍值，進而較佳為0.8倍值，特佳為0.5倍值)的區域。
周邊區域11配置於複數條配線2各自之周圍、即、第1配線4及第2配線5之周圍。
周邊區域11分別具備複數個(2個)配向區域13及複數個(2個)非配向區域14。
複數個配向區域13係圓周方向配向區域。即，於配向區域13中，粒子8沿著配線2(第1配線4或第2配線5)之圓周方向(周圍)配向。
複數個配向區域13隔著配線2之中心C1相互對向配置於配線2之上側(第3方向一側)及下側(第3方向另一側)。即，複數個配向區域13具備配置於配線2上側之上側配向區域15、及配置於配線2下側之下側配向區域16。又，配線2之中心C1位於上側配向區域15與下側配向區域16之上下方向中央。
於各配向區域13中，粒子8之相對磁導率較高之方向(例如，就扁平狀各向異性磁性粒子而言為粒子之面方向)與以配線2之中心C1為中心之圓之切線大致一致。更具體而言，將粒子8之面方向與該粒子8所處之圓之切線所成的角度為15°以下之情形定義為粒子8沿圓周方向配向。
沿圓周方向配向之粒子8之數量相對於配向區域13中所包含之粒子8之總數的比率例如超過50%，較佳為70%以上，更佳為80%以上。即，配向區域13中可包含例如未達50%，較佳為30%以下，更佳為20%以下之未沿圓周方向配向之粒子8。
相對於整個周邊區域11，複數個配向區域13之總面積比率例如為40%以上，較佳為50%以上，更佳為60%以上，且例如為90%以下，較佳為80%以下。
配向區域13之圓周方向之相對磁導率例如為5以上，較佳為10以上，更佳為30以上，且例如為500以下。徑向之相對磁導率例如為1以上，較佳為5以上，且例如為100以下，較佳為50以下，更佳為25以下。又，圓周方向相對於徑向之相對磁導率之比(圓周方向/徑向)例如為2以上，較佳為5以上，且例如為50以下。若相對磁導率處於上述範圍，則電感優異。
相對磁導率例如可藉由使用了磁性材料測試夾具之阻抗分析器(Agilent公司製造，「4291B」)來測定。
複數個非配向區域14係圓周方向非配向區域。即，於非配向區域14中，粒子8未沿著配線2之圓周方向配向。換言之，於非配向區域14中，粒子8沿著配線2之圓周方向以外之方向(例如徑向)配向或不沿著配線2之圓周方向以外之方向配向。
複數個非配向區域14隔著配線2相互對向配置於配線2之第1方向一側及另一側。即，複數個非配向區域14具有配置於配線2(第1配線4或第2配線5)之第1方向一側之一側非配向區域17、及配置於配線2之第1方向另一側之另一側非配向區域18。一側非配向區域17與另一側非配向區域18以於上下方向上通過中心C1之直線為基準大致線對稱。
於各非配向區域14中，粒子8之相對磁導率較高之方向(例如，就扁平狀各向異性磁性粒子而言為粒子之面方向)與以配線2之中心C1為中心之圓之切線不一致。更具體而言，將粒子8之面方向與該粒子8所處之圓之切線所成的角度超過15°之情形定義為粒子8未沿圓周方向配向。
未沿圓周方向配向之粒子8之數量相對於非配向區域14中所包含之粒子8之總數的比率超過50%，較佳為70%以上，且例如為95%以下，較佳為90%以下。
於非配向區域14中，例如可包含沿圓周方向配向之粒子8。沿圓周方向配向之粒子8之數量相對於非配向區域14中所包含之粒子8之總數的比率未達50%，較佳為30%以下，且例如為5%以上，較佳為10%以上。
再者，於包含沿圓周方向配向之粒子8之情形時，較佳為，上述沿圓周方向配向之粒子8配置於非配向區域14之最內側、即配線2之表面。
複數個非配向區域14之總面積比率相對於整個周邊區域11例如為10%以上，較佳為20%以上，且例如為60%以下，較佳為50%以下，更佳為40%以下。
於周邊區域11(特別是配向區域13及非配向區域14之各者)中，粒子8之填充率例如為40體積%以上，較佳為45體積%以上，且例如為90體積%以下，較佳為70體積%以下。若填充率為上述下限以上，則電感優異。
填充率可藉由實際比重之測定、SEM照片剖視圖之二值化等算出。
於周邊區域11中，複數個配向區域13與複數個非配向區域14以於圓周方向上相互鄰接之方式配置。具體而言，上側配向區域15、一側非配向區域17、下側配向區域16及另一側非配向區域18依序於圓周方向上連續。再者，配向區域13與非配向區域14之圓周方向上之邊界(一端緣或另一端緣)係設為自配線2之中心朝徑向外側延伸之假想直線。
外側區域12係磁性層3中之除周邊區域11以外之區域。外側區域12配置為於周邊區域11之外側，與周邊區域11連續。
於外側區域12中，粒子8沿著面方向(特別是第1方向)配向。
於外側區域12中，粒子8之相對磁導率較高之方向(例如，就扁平狀各向異性磁性粒子而言為粒子之面方向)與第1方向大致一致。更具體而言，將粒子8之面方向與第1方向所成之角度為15°以下之情形定義為粒子8於第1方向上配向。
於外側區域12中，於第1方向上配向之粒子8之數量相對於外側區域12中所包含之粒子8之總數的比率超過50%，較佳為70%以上，更佳為90%以上。即，於外側區域12中可包含未達50%，較佳為30%以下，更佳為10%以下之未於第1方向上配向之粒子8。
於外側區域12中，第1方向之相對磁導率例如為5以上，較佳為10以上，更佳為30以上，且例如為500以下。上下方向之相對磁導率例如為1以上，較佳為5以上，且例如為100以下，較佳為50以下，更佳為25以下。又，第1方向相對於上下方向之相對磁導率之比(第1方向/上下方向)例如為2以上，較佳為5以上，且例如為50以下。若相對磁導率處於上述範圍內，則電感優異。
於外側區域12中，粒子8之填充率例如為40體積%以上，較佳為45體積%以上，且例如為90體積%以下，較佳為70體積%以下。若填充率為上述下限以上，則電感優異。
磁性層3之上表面形成電感器1之上表面。即，電感器1之上表面包含磁性層3。
磁性層3之上表面即電感器1之上表面具有複數個(2個)凸部10。
複數個凸部10分別因配線2(4、5)而形成。凸部10於厚度方向上投影時包含配線2。凸部10之俯視形狀與配線2之俯視形狀為相似形狀。即，凸部10例如具有俯視大致U字形狀。凹部10沿著與電感器1之上表面對向之配線2之圓弧形狀朝圓弧上突出。因此，凸部10具有於側剖視時朝上側平緩地突出之圓弧形狀。更具體而言，凸部10之圓弧形狀係以C1為中心之中心角α之圓弧形狀，凸部10具有與配線2之中心α之圓弧部分對應之圓弧形狀。α例如為15度以上，較佳為30度以上，且例如為150度以下，較佳為90度以下。粒子8亦填充於凸部10之內部。
於磁性層3之上表面，凸部10之最上端A1與配線2間之中點M1之上下方向距離(階差)H1為5 μm以上，較佳為10 μm以上。又，上下方向距離H1例如為50 μm以下，較佳為40 μm以下。若上下方向距離H1為上述下限以上，則可容易地識別凸部10，可確實地對凸部10進行通孔加工。另一方面，若上下方向距離H1為上述上限以下，則可縮短通孔加工之距離，可使配線2確實地露出。
磁性層3之下表面形成電感器1之下表面。即，電感器1之下表面包含磁性層3。
磁性層3之下表面即電感器1之下表面平坦。具體而言，於磁性層3之下表面，配線區域A中之最下端A2與配線2間之中點M2之上下方向距離H2例如為30 μm以下，較佳為20 μm以下，更佳為未達5 μm。若上下方向距離H2為上述上限以下，則於將電感器1配置並安裝於配線基板之上表面時，可不傾斜地配置電感器1，安裝性優異。
配線區域A係於厚度方向上投影時與配線2(第1配線4或第2配線5)重疊之區域。中點M1及中點M2分別位於連結鄰接之2條配線2之中心(重心)C1之直線上之第1方向之中心。
磁性層3之第1方向長度T1 例如為5 mm以上，較佳為10 mm以上，且例如為5000 mm以下，較佳為2000 mm以下。
磁性層3之第2方向長度T2 例如為5 mm以上，較佳為10 mm以上，且例如為5000 mm以下，較佳為2000 mm以下。
磁性層3之上下方向長度(特別是中點M1處之厚度)T3 例如為100 μm以上，較佳為200 μm以上，且例如為2000 μm以下，較佳為1000 μm以下。
配線2之厚度(直徑)與磁性層3之上下方向長度T3 之比(配線直徑/T3 )例如為0.1以上，較佳為0.2以上，且例如為0.9以下，較佳為0.7以下。
凸部10之厚度(自配線2之上端緣至A1之上下方向距離)與磁性層3之上下方向長度T3 之比(即凸部/T3 )例如為0.1以上，較佳為0.2以上，且例如為0.9以下，較佳為0.7以下。
2.電感器之製造方法 參照圖3A－B，對電感器1之製造方法之一實施形態進行說明。電感器1之製造方法例如依序具備準備步驟、配置步驟及積層步驟。
於準備步驟中，準備複數條配線2及2片各向異性磁性片材20。
2片各向異性磁性片材20分別具有於面方向上延伸之片狀，且由磁性組合物形成。於各向異性磁性片材20中，粒子8於面方向上配向。較佳為，使用2片半硬化狀態(B階段)之各向異性磁性片材20。
作為此種各向異性磁性片材20，可列舉日本專利特開2014-165363號、日本專利特開2015-92544號等中所記載之軟磁性熱硬化性接著膜或軟磁性膜等。
於配置步驟中，如圖3A所示，於其中一片各向異性磁性片材20之上表面配置複數條配線2，並且於複數條配線2之上方對向配置另一片各向異性磁性片材20。
具體而言，將下側各向異性磁性片材21載置於上表面平坦之水平台23，繼而，於下側各向異性磁性片材21之上表面在第1方向上隔開所期望之間隔配置複數條配線2。
隨後，將上側各向異性磁性片材22以隔開間隔之方式對向配置於下側各向異性磁性片材21及複數條配線2之上側。
於積層步驟中，如圖3B所示，以埋設複數條配線2之方式將2片各向異性磁性片材20積層。
具體而言，使用可撓性之按壓構件24將上側各向異性磁性片材22朝向下側按壓。即，使按壓構件24之下表面與上側各向異性磁性片材22之上表面接觸，將按壓構件24朝向下側各向異性磁性片材21按壓。
藉此，上側各向異性磁性片材22以沿著配線2之方式配置於配線2及下側各向異性磁性片材21之上表面，其結果，因配線2而形成之凸部10形成於電感器1之上表面。即，於上側各向異性磁性片材22之上表面描摹有配線2之外周形狀。
此時，當2片各向異性磁性片材20處於半硬化狀態時，複數條配線2藉由按壓而略微陷入下側各向異性磁性片材21內，於陷入部分中，粒子8沿著複數條配線2配向。即，形成下側配向區域16。
又，上側各向異性磁性片材22係沿著複數條配線2被覆，該粒子8沿著複數條配線2配向，並且積層於下側各向異性磁性片材21之上表面。即，於配線2之上側，藉由上側各向異性磁性片材22形成上側配向區域15，並且於配線2之第1方向兩側(側方)，在下側各向異性磁性片材21與上側各向異性磁性片材22接觸之附近，於該等片材中配向之粒子8發生碰撞，其結果，形成非配向區域14。
再者，當各向異性磁性片材20為半硬化狀態時，將其加熱。藉此，各向異性磁性片材20成為硬化狀態(C階段)。又，2片各向異性磁性片材20之接觸界面29消失，2片各向異性磁性片材20形成一個磁性層3。
藉此，如圖2所示，獲得電感器1，其具備剖視大致圓形狀之配線2及被覆該配線2之磁性層3。即，電感器1係將複數片(2片)各向異性磁性片材20以夾著配線2之方式積層而成者。
3.用途 電感器1係電子機器之一零件、即用以製作電子機器之零件，且係不包含電子元件(晶片、電容器等)或供安裝電子元件之配線基板，而以單個零件之形式流通且可於產業上利用之器件。
電感器1視需要以包含1條配線2之方式單片化，其後，例如搭載(組裝)於電子機器等。雖未圖示，但電子機器具備配線基板、及安裝於配線基板之電子元件(晶片、電容器等)。而且，電感器1經由焊料等連接構件安裝於配線基板，與其他電子機器電性連接，作為線圈等無源元件發揮作用。
於安裝時，電感器1進行通孔加工以與電子機器導通。具體而言，如圖4所示，於電感器1之上部形成有複數個開口部30。
開口部30以露出導線6之方式形成。具體而言，開口部30於俯視時具有大致圓形，於側剖視時，具有隨著朝向下側而開口面積縮窄之錐形形狀。
導線6之中心(重心)C1與開口部30之第1方向中心C2之第1方向距離(位置偏離距離)L例如為導線6之第1方向長度(直徑)之1/2以下，較佳為1/4以下。具體而言，上述第1方向距離L例如為2000 μm以下，較佳為200 μm以下。若上述第1方向距離L為上述上限以下，則可確實地露出導線6，可實現導通。
而且，於電感器1中，在配線2之周邊，存在粒子8沿著配線2之周圍配向之配向區域13(圓周方向配向區域)。因此，粒子8之易磁化軸與配線周圍產生之磁力線之方向相同。因此，電感良好。
又，於電感器1中，在配線2之周邊具有未沿著配線2之圓周方向配向之非配向區域14(圓周方向非配向區域)。因此，粒子8之難磁化軸與配線周圍產生之磁力線之方向相同。因此，直流重疊特性良好。
又，於電感器1之上表面具有因配線2而形成之凸部10。因此，當對凸部10進行通孔加工時，可確實地使導線6露出。因此，能以100%之概率成功進行通孔加工。
一般而言，關於供埋設剖視大致圓形狀之配線之構件，當通孔(開口部30)之位置與其配線形狀偏離時，剖視圓形狀之導線6難以露出，故而通孔加工之良率變低。然而，於電感器1中，儘管配線2之剖視形狀為圓形狀，但因配線2確實存在於凸部10之下方，故而可確實地成功進行通孔加工。
又，配線2於第1方向上隔開間隔地配置有複數條，複數條配線2介隔磁性層3而連續。因此，磁性層3配置於複數條配線2之間。其結果，磁性層3之存在量變多，電感更優異。
又，磁性層3自電感器1之上表面連續至下表面，電感器1之上表面及下表面之兩者由磁性層3形成。根據該電感器1，除存在配線2之區域以外，電感器1由磁性層3填滿。因此，電感非常優異。
4.變化例 參照圖5，對圖1A－圖2所示之實施形態之變化例進行說明。再者，於變化例中，對與上述實施形態相同之構件附上相同之符號，並省略其說明。
於圖1B所示之實施形態中，配線2具有俯視大致U字形狀，但其形狀並無限定，可適當設定。
又，於圖1A－B所示之實施形態中，具備2條配線2，但其數量並無限定，例如亦可設為單條或三條以上。
例如，圖5中表示具備單條配線2之電感器1。於凸部10處，凸部10之最上端A1和與最上端A1於面方向上相距50 μm之地點M'1之上下方向距離H1為30 μm以下(較佳為20 μm以下，更佳為未達5 μm)。即，代替中點M1，將與最上端A1於面方向上相距50 μm之地點M'1設為凸部高度之基準。
磁性層3之下表面平坦，關於其平坦之基準亦與磁性層3之上表面之凸部10之基準相同。即，代替中點M2，將於面方向上相距50 μm之地點M'2設為基準。
又，於圖1A－B所示之實施形態中，磁性層3中之各向異性磁性粒子8之比率於磁性層3中可相同，又，亦可隨著遠離各配線2而變高抑或變低。
＜第2實施形態＞ 參照圖6－圖7來說明本發明之電感器之第2實施形態。再者，於第2實施形態中，對與上述第1實施形態相同之構件附上相同之符號，並省略其說明。關於第2實施形態，亦發揮與第1實施形態相同之作用效果。又，關於第2實施形態，亦可同樣地應用第1實施形態之變化例。
於第1實施形態中，配線2之剖視形狀為大致圓形狀，但例如亦可為大致矩形狀(包含正方形及長方形狀)、大致橢圓形狀及大致不定形狀。於第2實施形態之一實施形態中，如圖6所示，配線2之剖視形狀為大致矩形狀，凸部10之剖視形狀為大致矩形狀。
配線2(第1配線6及第2配線7)具備導線6及被覆該導線6之絕緣層7。
導線6為剖視大致矩形狀，且形成為第1方向長度較第2方向長度長。導線6之第1方向長度例如為30 μm以上，較佳為50 μm以上，且例如為3000 μm以下，較佳為1000 μm以下。導線6之第2方向長度例如為5 μm以上，較佳為10 μm以上，且例如為500 μm以下，較佳為300 μm以下。
絕緣層7具有與配線2共有中心軸線(中心C1)之剖視大致矩形框狀。
磁性層3於剖視時具有周邊區域11及外側區域12。
周邊區域11係配線2之周邊區域，以與複數條配線2接觸之方式位於複數條配線2之周圍。周邊區域11具有與配線2共有中心軸線之剖視大致矩形框形狀。更具體而言，周邊區域11係磁性層3中之如下區域：自配線2之外周面向外側前進自配線2之重心C1至配線2之外周面之最長長度及最短長度之平均([最長長度＋最短長度]/2)之1.5倍值。
周邊區域11分別具備複數個(2個)配向區域13及複數個(2個)非配向區域14。該等區域與第1實施形態之區域13、14相同。
第2實施形態之電感器1亦與第1實施形態相同，如圖7所示，藉由通孔加工形成開口部30。 [產業上之可利用性]
本發明之電感器例如可用作電壓轉換構件等無源元件。
1:電感器 2:配線 3:磁性層 4:第1配線 5:第2配線 6:導線 7:絕緣層 8:各向異性磁性粒子 9:黏合劑 10:凸部 11:周邊區域 12:外側區域 13:配向區域 14:非配向區域 15:上側配向區域 16:下側配向區域 17:一側非配向區域 18:另一側非配向區域 20:各向異性磁性片材 21:下側各向異性磁性片材 22:上側各向異性磁性片材 23:水平台 24:按壓構件 29:接觸界面 30:開口部 40:內部導體 41:開口部 A:配線區域 A1:最上端 A2:最下端 C1:配線之中心(重心) C2:第1方向中心 D1:中心間距離 D2:中心間距離 H1:上下方向距離(階差) L:第1方向距離 M'1:與最上端於面方向上相距50μm之地點 M1:中點 M'2:於面方向上相距50μm之地點 M2:中點 R1:導線之半徑 R2:絕緣層之厚度 T1:磁性層之第1方向長度 T2:磁性層之第2方向之長度 T3:磁性層之上下方向長度 α:中心角
圖1A－B係本發明之電感器之第1實施形態，圖1A表示俯視圖，圖1B表示圖1A之A-A剖視圖。 圖2表示圖1B之虛線部之局部放大圖。 圖3A－B係圖1A－B所示之電感器之製造步驟圖，圖3A表示配置步驟，圖3B表示積層步驟。 圖4表示對圖1B所示之電感器進行通孔加工時之剖視圖。 圖5表示圖1A－B所示之電感器之變化例(配線為單數之形態)。 圖6表示本發明之電感器之第2實施形態之局部放大剖視圖。 圖7表示對圖6所示之電感器進行通孔加工時之剖視圖。 圖8表示對先前之電感器進行通孔加工時之剖視圖。
1:電感器
2:配線
3:磁性層
4:第1配線
5:第2配線
6:導線
7:絕緣層
8:各向異性磁性粒子
9:黏合劑
10:凸部
11:周邊區域
12:外側區域
13:配向區域
14:非配向區域
15:上側配向區域
16:下側配向區域
17:一側非配向區域
18:另一側非配向區域
A:配線區域
A1:最上端
A2:最下端
C1:配線之中心(重心)
D1:中心間距離
H1:上下方向距離(階差)
M1:中點
M2:中點
R1:導線之半徑
R2:絕緣層之厚度
α:中心角

Claims (3)

  1. 一種電感器，其特徵在於：其係具備配線、及被覆上述配線之磁性層者，且 上述配線具備導線、及被覆上述導線之絕緣層， 上述磁性層含有各向異性磁性粒子及黏合劑， 於上述配線之周邊區域中，上述磁性層具備上述各向異性磁性粒子沿著上述配線之周圍配向之配向區域， 上述周邊區域係如下區域：於剖視時，自上述配線之上述外表面向外側前進自上述配線之重心至上述配線之外表面之最長長度及最短長度之平均的1.5倍值， 於上述電感器之厚度方向一表面，具有因上述配線而形成之凸部。
  2. 如請求項1之電感器，其中上述配線於與上述厚度方向正交之正交方向上隔開間隔地配置有複數條， 上述複數條配線介隔上述磁性層而連續。
  3. 如請求項1或2之電感器，其中上述配線之剖視形狀為圓形。
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