TW202026615A

TW202026615A - 機械裝置的平衡校正系統及其校正方法

Info

Publication number: TW202026615A
Application number: TW108100690A
Authority: TW
Inventors: 歐招輝; 徐中華; 陳韋佑; 黃智男
Original assignee: 社團法人高雄市時代科技學術研究協會
Priority date: 2019-01-08
Filing date: 2019-01-08
Publication date: 2020-07-16
Also published as: TWI723317B

Abstract

一種機械裝置的平衡校正系統及其校正方法，該平衡校正系統包含一校正單元，及一監測單元。該校正單元包括一同軸設置於該轉動件上的校正盤、複數設置於該校正盤上的驅動模組，及複數彼此等角度相間隔地分布於該校正盤上且可分別被該等驅動模組帶動的配重塊。該監測單元適用於量測該轉動件的振動量及轉速，並傳送訊號給該等驅動模組，以控制該等驅動模組帶動該等配重塊相對於該校正盤移動。透過該等驅動模組直接帶動該等配重塊，可使該轉動件在旋轉過程中，即時於線上進行校正而不需停機，提高機械裝置的運作效率。

Description

機械裝置的平衡校正系統及其校正方法

本發明是有關於一種校正系統及其校正方法，特別是指一種旋轉的機械裝置之平衡校正系統及校正方法。

轉動軸是機械裝置裡常見的結構之一，其可被能量或其它機械元件帶動旋轉，並可將旋轉的機械能轉換為電能或動能傳遞出去。轉動軸在轉動的過程中，常因不平衡而產生振動，並造成離心力拉扯轉動軸而磨耗軸承與軸套之情事。若振動持續，則會使磨耗及振動程度同步提升，甚至使轉動軸在旋轉時受到徑向的拉力，導致挫曲發生，並影響其它元件而擴大損壞。

現時有許多對轉動軸進行平衡校正的方法，例如單純靠地心引力來判斷偏心位置的靜平衡法，或靠平衡機進行平衡量測的平衡機平衡法。前者是在不考慮支撐接觸的摩擦力下，轉動轉動軸後使其自然停止，此時造成不平衡的點便是朝向下方，如此便能在其相對180度的方向(即朝向上方)的位置擺放校正的質量配重，重複前述步驟幾次，便能完成平衡校正。然而，靜平衡法在現實上會因支撐接觸的摩擦力，而產生判斷誤差，因此校正精準度較低。後者(即平衡機平衡法)需將轉動軸整個拆下，並送至平衡機上以完成校正，但此種方法需拆裝轉動軸，步驟繁複耗時，且搬運過程中或裝回原位後，皆有可能導致轉動軸的平衡狀況惡化。同時，此二種方法都無法於轉動軸運作時，線上進行量測及校正，因此仍有可改善之空間。

因此，本發明之目的，即在提供一種可線上進行測量及矯正的機械裝置的平衡校正系統。

於是，本發明機械裝置的平衡校正系統，該機械裝置包含一被驅動而沿一軸線旋轉的轉動件，該平衡校正系統包含一校正單元，及一監測單元。該校正單元包括一同軸設置於該轉動件上的校正盤、複數設置於該校正盤上的驅動模組，及複數彼此等角度相間隔地分布於該校正盤上，且可分別被該等驅動模組帶動的配重塊。該監測單元適用於量測該轉動件的振動量及轉速，並傳送訊號給該等驅動模組，以控制該等驅動模組帶動該等配重塊相對於該校正盤移動。

本發明之另一目的，即在提供一種前述平衡校正系統的校正方法，包含一監測步驟、一校正步驟，及一控制步驟。在該監測步驟中，透過該監測單元量測該機械裝置之轉動件的振動量及轉速，再將測得的振動量及轉速合成，並計算出相位值及初始頻譜。

在該校正步驟中，當該監測單元檢測到該轉動件的振動高過預設值時，由初始頻譜求得一倍頻振幅，接著量測該振動的幅值並計算出該轉動件的偏心質量，根據該偏心質量及其相位值，以合力抵消方式計算出一補償平衡量。在該控制步驟中，該監測單元根據該補償平衡量，依序控制該等驅動模組帶動相對應的配重塊移動，接著該監測單元再次檢驗該配重塊移動後的振動，若該振動不變或升高，則重複該校正步驟，若該振動降低，則完成校正，並重複該監測步驟。

本發明之功效在於：該校正盤是設置於該轉動件上，並與該轉動件一同運轉，在該轉動件旋轉的過程中，該監測單元會即時進行監測，一旦發現該轉動件振動過大時，便會控制該等驅動模組直接帶動該等配重塊於該校正盤上移動，以校正該轉動件上的偏心質量，如此便可即時於線上進行校正而不需停機，提高機械裝置的運作效率。

參閱圖1、圖2，及圖3，為本發明機械裝置1的平衡校正系統2之一實施例，該機械裝置1包含一被驅動而沿一軸線111旋轉的轉動件11。該機械裝置1可以是馬達系統、船舶推進軸系、傳動系統或其它具有轉動軸的機構。該平衡校正系統2包含一設置於該轉動件11上的校正單元3、一用於量測該轉動件11並傳送訊號給該校正單元3的監測單元4，及一用於供電給該校正單元3的供電單元5。

該校正單元3包括一個內端面同軸設置於該轉動件11一端上的校正盤31、四個設置於該校正盤31外端面上的驅動模組32、四個彼此相間隔九十度地分布於該校正盤31外端面且分別設置於該等驅動模組32上的配重塊33，及一可接收該監測單元4之訊號以發送命令給該等驅動模組32的控制器34。每一驅動模組32具有一沿該校正盤31的徑向方向延伸且穿設相對應配重塊33的導桿機構321、一用於驅動該導桿機構321的步進馬達322，及一用於控制該步進馬達322並與該控制器34電連接的驅動器323。該導桿機構321可透過螺紋及旋轉帶動該配重塊33沿該校正盤31的徑向方向移動。在本實施例中，該步進馬達322的型號為PK525N12A，其為五相的步進馬達，能將解析度提升至125000P/R，並大幅改善振動等級。該驅動器323的型號為CVD512BR-K，該控制器34為NodeMCU主控板，其裝配了CP1202的USB晶片，並集成有WiFi、GPIO、PWM、ADC、I2C、1-Wire等功能，故該控制器34可透過無線方式與該監測單元4連線。

該監測單元4包括一設置於該轉動件11上的加速度規41、一間隔該轉動件11設置的雷射相位儀42、一電連接該加速度規41及該雷射相位儀42的信號處理模組43，及一與該信號處理模組43及該控制器34訊號連接的分析模組44。在本實施例中，該加速度規41為IEPE加速度規41，其是一種壓電加速度感測器，可輸出與振動量(振動加速度)成正比的電壓信號，一般可透過磁吸座吸附於該轉動件11上。該雷射相位儀42的型號為ROLS-W，其需搭配反光貼紙(圖未示)使用，將反光貼紙黏設於該轉動件11上，之後該雷射相位儀42會不斷的打出雷射，當雷射擊中反光貼紙後便會產生反射，反射的信號被該雷射相位儀42接收後，便得到一次的擷取信號，當再接收到下一次的擷取信號，就代表該轉動件11轉了一圈，再配合時間計算便可得出該轉動件11的轉速。該信號處理模組43是用來處理該加速度規41及該雷射相位儀42所輸出的電壓訊號，本實施例中是以National Instruments的C系列中的NI-9234信號擷取卡搭配NI USB-9162來製得該信號處理模組43。該分析模組44為人機介面及計算中樞，在本實施例為安裝了LabVIEW的電腦系統，該分析模組44與該控制器34透過WiFi無線連接，並與該信號處理模組43有線連接。

該供電單元5包括複數電連接該等驅動模組32及該控制器34的電連接線51(僅顯示於圖1及圖3中)、二沿軸向相間隔地套設於該轉動件11上且與該等電連接線51電連接的導電環52、二具彈性且分別壓抵該等導電環52而與該導電環52電連接的導電片53，及一電連接該等導電片53的供電源54。該轉動件11採空心設計，而該等電連接線51則埋設於該轉動件11內，每一電連接線51的一端由該轉動件11外表面上開設的小孔穿出並電連接該等導電環52，另一端則是由該轉動件11的外端穿出並與該校正盤31上的相對應驅動模組32及該控制器34電連接。該等電連接線51中的一部分透過一24V直流電轉5V直流電的穩壓器連接該控制器34，另一部分的電連接線51與該等步進馬達322及該等驅動器323電連接。在本實施例中，該供電源54為連接110V交流電的交換式電源，其型號為LRS-75-24。當該轉動件11轉動時，該等電連接線51所連接的該等驅動模組32、該控制器34，及該等導電環52都會一同旋轉，該等導電環52是透過滾動接觸的方式分別與該等導電片53電連接，因此該等電連接線51不會因為一端轉動一端固定而產生糾纏、拉扯等情形，提升轉動時的順暢度。

參閱圖1、圖2，及圖4，為本發明平衡校正系統2之校正方法的一實施例，包含一監測步驟、一校正步驟，及一控制步驟。在該監測步驟中，透過該加速度規41及該雷射相位儀42即時且連續地量測該轉動件11包含加速度在內的振動量及轉速，其獲取的電壓訊號透過該信號處理模組43處理後送至該分析模組44中分析。該分析模組44將該等加速度規41所獲取的正比於加速度值之電壓值積分為速度的電壓值，再將時域波型透過傅立葉轉換轉為初始頻譜。同時，將該加速度規41及該雷射相位儀42的訊號合成，並將其同步採樣，以該雷射相位儀42的脈衝上升為0∘，該脈衝至下一個脈衝的上升為周期，抓取轉速周期內加速度值的最大位置，再將其平均，便能求得相位值。

參閱圖1、圖4，及圖5，在該校正步驟中，在該轉動件11運轉時，該分析模組44透過Labview程式對檢測到的振動量及轉速進行信號分析及異常判斷，當該分析模組44檢測到該轉動件11的振動量或基頻高於使用者預先輸入的預設值時，該分析模組44透過發出警報或通知遠端監控人機介面等方式進行警示，同時，該分析模組44也會開始進行校正平衡動作。首先，由該初始頻譜求得一倍頻振幅，而後量測該振動或該基頻。接著，轉動不平衡可釋義為該轉動件11的質量分布不均，或其軸線111與中心慣性軸的位置有所偏差，而不平衡的質量是受到離心力的影響，故兩者為同相位角，因此在知道離心力(與振動加速度同向)的相位值後，便可得知不平衡質量的位置，藉由量測該振動或該基頻的幅值可計算出該轉動件11的偏心質量A及其位置，以圖5為例，其偏心質量A位於300∘之位置，最後透過合力為零的方式計算出一可抵消該偏心質量A的補償平衡量及其向量F，該向量F可依水平方向及垂直方向拆解為水平分向量F1及垂直分向量F2。

在該控制步驟中，該分析模組44根據該補償平衡量命令該控制器34，該控制器34再依命令依序控制該等驅動器323，最後該等驅動器323分別控制該等步進馬達322作動，以驅使該等導桿機構321帶動該等配重塊33移動。在前述過程中，該等導桿機構321是每次一個地依序輪流作動，以圖5為例，若需達成該補償平衡量，則需將兩個配重塊33沿90∘方向及180∘方向移動，此時0∘方向上的驅動模組32會判斷不需移動而跳過，90∘方向上的驅動模組32會驅使配重塊33沿90∘方向移動至合適位置，180∘方向上的驅動模組32會驅使配重塊33沿180∘方向移動至合適位置，而270∘方向上的驅動模組32也會判斷自身不需移動而結束此次校正。在該等配重塊33完成校正後，該分析模組44會檢視該轉動件11的振動及基頻是否下降，若下降至預設值以下，則判定校正成功而重複該監測步驟，若上升或相等，則需重複進行該校正步驟，以再次進行校正平衡。

下表一為本實施例的一第一實驗例之結果，其是在該轉動件11上相位值150∘上(方位配置同圖5)鎖設4.6公克的螺栓(圖未示)，再透過操作人員手動方式來調整該等配重塊33(分別是控制0∘方向的配重塊33進60步，及270∘方向的配重塊33進35步)，以確認初始狀態、外加配重狀態及校正後的差異。由表一可計算出，校正後的振幅校正率及一倍頻校正率分別為96%及102.9%，而校正所需時間為5分鐘，足見該平衡校正系統2確實能達到使抵銷不平衡質量之功效。需要補充說明的是，校正率的算法為[1-(校正後振幅-初始振幅/外加配重振幅-初始振幅)]。

表一：

	初始狀況	外加配重狀況	第一次移動	校正後狀態
振幅(mm/s)	0.4552	0.6217	0.4645	0.4621
一倍頻振幅(mm/s)	0.1027	0.2721	0.2023	0.0978
相位(度)	40	137	99	88

下表二為本實施例的一第二實驗例之結果，該第二實驗例是依本實施例的校正方法，透過該分析模組44自動進行平衡矯正，首先在該校正盤31上外加3.2公克的配重，接著該分析模組44判定信號異常後開始校正，並在3分鐘內自動校正完成，其振幅校正率及一倍頻校正率分別為103.8%及103.3%，可以看出其速度及平衡效果皆較該第一實驗例高，也就是說，同樣是使用該平衡校正系統2，透過該校正方法進行自動校正的效果較手動校正佳。

綜上所述，透過將該校正盤31設置於該轉動件11上，使該轉動件11運轉時可即時進行線上校正而無需停機，更不需拆下該轉動件11，可避免拆裝機具所造成的不良影響。該分析模組44隨時進行監測且自動進行平衡，由該第二實驗例可看出其確實具有校正平衡的效果，且可達到103%以上的校正率，顯示本實施例能將初始狀態便存在的不平衡量也校正過來，使得校正後的平衡狀況甚至比未配重的初始狀態更佳，故確實能達成本發明之目的。

惟以上所述者，僅為本發明之實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，凡是依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。

1:機械裝置 11:轉動件 111:軸線 2:平衡校正系統 3:校正單元 31:校正盤 32:驅動模組 321:導桿機構 322:步進馬達 323:驅動器 33:配重塊 34:控制器 4:監測單元 41:加速度規 42:雷射相位儀 43:信號處理模組 44:分析模組 5:供電單元 51:電連接線 52:導電環 53:導電片 54:供電源 A:偏心質量 F:向量 F1:水平分向量 F2:垂直分向量

本發明之其它的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是一立體圖，說明本發明機械裝置的平衡校正系統之一實施例；圖2是一正視圖，說明本實施例之一校正單元；圖3是一俯視圖，說明本實施例之一供電單元；圖4是一流程圖，說明本發明平衡校正系統之校正方法的一實施例；及圖5是一示意圖，說明該校正方法中的一校正步驟及一控制步驟。

1:機械裝置

11:轉動件

111:軸線

2:平衡校正系統

3:校正單元

31:校正盤

32:驅動模組

321:導桿機構

322:步進馬達

323:驅動器

33:配重塊

34:控制器

4:監測單元

41:加速度規

42:雷射相位儀

43:信號處理模組

44:分析模組

5:供電單元

51:電連接線

52:導電環

53:導電片

54:供電源

Claims

一種機械裝置的平衡校正系統，該機械裝置包含一被驅動而沿一軸線旋轉的轉動件，該平衡校正系統包含：一校正單元，包括一同軸設置於該轉動件上的校正盤、複數設置於該校正盤上的驅動模組，及複數彼此等角度相間隔地分布於該校正盤上，且可分別被該等驅動模組帶動的配重塊；及一監測單元，適用於量測該轉動件的振動量及轉速，並傳送訊號給該等驅動模組，以控制該等驅動模組帶動該等配重塊相對於該校正盤移動。
如請求項1所述機械裝置的平衡校正系統，其中，該校正單元之每一驅動模組具有一可帶動相對應配重塊沿該校正盤的徑向方向移動的導桿機構，及一可受控制而驅動該導桿機構的步進馬達。
如請求項2所述機械裝置的平衡校正系統，其中，每一驅動模組還具有一用於控制該步進馬達的驅動器，該校正單元還包括一可接收該監測單元之訊號以發送命令給該驅動器的控制器。
如請求項3所述機械裝置的平衡校正系統，其中，該監測單元包括一適用於量測該轉動件之振動量的加速度規、一適用於量測該轉動件之轉速的雷射相位儀、一用於擷取該加速度規及該雷射相位儀的訊號並進行轉換的信號處理模組，及一與該信號處理模組及該控制器訊號連接的分析模組。
如請求項4所述機械裝置的平衡校正系統，還包含一電連接該等驅動模組的供電單元，該供電單元包括複數電連接該等驅動模組及該控制器的電連接線、二套設於該轉動件上且與該等電連接線電連接的導電環、二具彈性而壓抵該等導電環並與該等導電環電連接的導電片，及一電連接該等導電片的供電源，該等導電環可被該轉動件帶動而相對於該等導電片旋轉。
一種如請求項1所述的平衡校正系統的校正方法，包含：一監測步驟，透過該監測單元量測該機械裝置之轉動件的振動量及轉速，再將測得的振動量及轉速合成，並計算出相位值及初始頻譜；一校正步驟，當該監測單元檢測到該轉動件的振動高過預設值時，由初始頻譜求得一倍頻振幅，接著量測該振動的幅值並計算出該轉動件的偏心質量，根據該偏心質量及其相位值，以合力抵消方式計算出一補償平衡量；及一控制步驟，該監測單元根據該補償平衡量，依序控制該等驅動模組帶動相對應的配重塊移動，接著該監測單元再次檢驗該配重塊移動後的振動，若該振動不變或升高，則重複該校正步驟，若該振動降低，則完成校正，並重複該監測步驟。
如請求項6所述的校正方法，其中，在該校正步驟中，當該監測單元檢測到該轉動件的基頻高於預設值時，由初始頻譜求得一倍頻振幅，接著量測該基頻的幅值以計算出該偏心質量，根據該偏心質量及其相位值，以合力抵消方式計算出一補償平衡量，在該控制步驟中，該監測單元根據該補償平衡量，依序控制該等驅動模組帶動相對應的配重塊移動，接著該監測單元再次檢驗該配重塊移動後的基頻，若該基頻不變或升高，則重複該校正步驟，若該基頻降低，則完成校正，並重複該監測步驟。
如請求項6所述的校正方法，其中，在該校正步驟中，當該監測單元檢測到該轉動件的振動高過預設值的同時發出警示。
如請求項7所述的校正方法，其中，在該校正步驟中，當該監測單元檢測到該轉動件的基頻高過預設值的同時發出警示。