TW202022917A - 電子束介導電漿蝕刻及沉積製程之設備及方法 - Google Patents

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Abstract

所揭示之實施例將電子束施加至微電子工件之基板以改善電漿蝕刻及沉積製程。使電子束產生並利用DC(直流)偏壓、RF(射頻)電漿源、及/或其他電子束產生及控制技術以將電子束導向基板表面。對於某些實施例而言，受DC偏壓的RF電漿源(例如DC疊加(DCS)或混合式DC-RF源)係用以在與受DC偏壓之電極相對的表面上提供可控的電子束。對於某些進一步的實施例而言，受DC偏壓之電極為脈衝的。此外，電子束亦可經由從外部及/或非雙極性源提取電子束而產生。所揭示之技術亦可與額外的電子束源及/或額外的蝕刻或沉積製程一起使用。

Description

電子束介導電漿蝕刻及沉積製程之設備及方法
[相關申請案的交互參照]本申請案主張以下同樣處於申請狀態之臨時申請案的優先權：2018年9月5日提交的案名為「APPARATUS AND PROCESS FOR ELECTRON BEAM MEDIATED PLASMA ETCH AND DEPOSITION PROCESSES」之美國臨時專利申請案第62/727,132號、以及2018年11月13日提交的案名為「APPARATUS AND PROCESS FOR ELECTRON BEAM MEDIATED PLASMA ETCH AND DEPOSITION PROCESSES」之美國臨時專利申請案第62/760,383號，在此將其全文引入以供參照。
本發明係關於微電子工件之製造方法，具體而言，係關於微電子工件上之材料層的蝕刻方法。
在微電子工件內之裝置形成通常涉及與基板上之許多材料層之形成、圖案化及移除相關的一系列製造技術。為了符合目前及下一世代之半導體裝置的物理及電氣規格，要求處理流程能減小特徵部尺寸並同時維持各種圖案化處理之結構完整性。
原子層蝕刻(ALE)及原子層沉積(ALD)需要在電漿處理期間對微電子工件之基板表面處的化學控制。即使存在電漿所產生之自由基，表面處理本質上仍係熱性的(thermal)，且空間控制係成問題的，無論係微觀地(例如，在特徵部內、晶片上等)或巨觀地(例如，在整個晶圓上、晶圓邊緣處等)進行。例如，該等問題發生於使用準ALE處理進行自對準接觸窗(SAC)製程之聚合物生長期間、及矽結構之ALE處理過程中之側壁氯化期間。該等問題發生於其他ALE及ALD製程及用於製造微電子工件之其他蝕刻/沉積製程中。
本文所述之實施例將電子束施加至微電子工件之基板以改善電漿蝕刻及沉積製程。使電子束產生並利用DC(直流)偏壓、RF(射頻)電漿源、及/或其他電子束產生及控制技術以將電子束導向基板表面。對於某些實施例而言，受DC偏壓的RF電漿源(例如DC疊加(DCS)或混合式DC-RF源)係用以在與受DC偏壓之電極相對的表面上提供可控的電子束。對於某些進一步的實施例而言，受DC偏壓之電極為脈衝的。對於一進一步的範例而言，使用50至100毫安培(mA)的電子束電流以提供增強的生產率。此外，在其內使用可控的電子束之處理腔室可為例如300毫米(mm)的腔室。此外，電子束亦可經由從外部及/或非雙極性源提取電子束而產生。所揭示之技術亦可與額外的電子束源及/或額外的蝕刻或沉積製程一起使用。亦可實施不同或額外的特徵、變化、及實施方式，且亦可利用相關的系統及方法。
對於一實施例而言，揭示一種處理微電子工件的方法，其包含：產生一電子束；將該電子束輸送至處理腔室內之微電子工件的基板；以及對該微電子工件的該基板執行電漿蝕刻製程或電漿沉積製程之其中至少一者。
在其他實施例中，該輸送步驟包含將該電子束輸送至該基板的一或更多所選區域，以僅針對該一或更多所選區域而引起電子激勵化學作用。在進一步之實施例中，該方法亦包含使用一或更多遮罩以決定該基板的該一或更多所選區域。在更進一步之實施例中，該電子激勵化學作用促進或抑制蝕刻製程、沉積製程、或鈍化製程之其中至少一者。
在其他實施例中，該輸送步驟包含針對該產生步驟或該輸送步驟之其中至少一者而施加直流(DC)偏壓。在進一步之其他實施例中，該方法包含在該輸送步驟期間經由一基板固持件而施加射頻(RF)偏壓至該基板。在更進一步之其他實施例中，該產生步驟包含產生50至100毫安培(mA)的電子束電流。
在其他實施例中，該產生步驟包含透過在該處理腔室內進行的電子提取而產生該電子束。在進一步之實施例中，該方法包含使用一源電漿及直流(DC)偏壓以進行該產生步驟。此外，該DC偏壓為脈衝式的。在更進一步之實施例中，該方法可包含對設置於該處理腔室周圍的線圈供電以在該處理腔室內維持電漿；以及交替進行施加該DC偏壓、對該等線圈供電、及對該基板施加射頻(RF)偏壓。
在其他實施例中，該產生步驟包含：透過在該處理腔室之外部的電子提取而產生該電子束；以及將所提取之電子輸送至該處理腔室。在進一步之實施例中，該方法包含使用直流(DC)偏壓以進行該產生步驟。在更進一步之實施例中，該方法包含對設置於該處理腔室周圍的線圈供電以在該處理腔室內維持電漿；以及交替進行施加該DC偏壓、對該等線圈供電、及對該基板施加射頻(RF)偏壓。
在其他實施例中，該輸送步驟及該執行步驟係用於原子層沉積(ALD)製程。在進一步之實施例中，該輸送步驟包含經施加DC偏壓的該電子束之輸送；該執行步驟包含引燃一前驅物電漿氣體；且交替進行該輸送步驟及該執行步驟以在該基板上沉積一材料層。
在其他實施例中，該輸送步驟及該執行步驟係用於原子層蝕刻(ALE)製程。在進一步之實施例中，該輸送步驟包含經施加DC偏壓的該電子束之輸送；該執行步驟包含反應離子蝕刻(RIE)或射頻(RF)濺鍍之其中至少一者；且交替進行該輸送步驟及該執行步驟以在該基板上沉積一材料層。在更進一步之實施例中，該執行步驟更包含引燃一前驅物電漿氣體。
在其他實施例中，該執行步驟包含：將處理氣體輸送至該處理腔室；以及使用所輸送之該電子束以基於該等處理氣體之化學性質而激勵該基板之表面改質。在進一步之實施例中，該執行步驟包含垂直的聚合物生長。
如本文所述，產生並控制電子束，並將其輸送至微電子工件之基板，以改善電漿蝕刻及沉積製程。所揭示之實施例提供複雜度減低之改良的方法及處理設備解決方案，俾解決先前的電漿蝕刻及沉積製程中所遭遇的空間控制問題。例如，所揭示之實施例可用以改善ALE製程、ALD製程、混合式ALE/ALD製程、及/或其他電漿蝕刻及/或沉積製程。此外，所揭示之實施例可與其他的處理腔室能力一起使用，例如DCS、感應耦合式電漿(ICP)、反應離子蝕刻(RIE)、及/或其他蝕刻或沉積能力。亦可達到其他優點而仍受惠於本文所述之處理技術的優點。
如對於本文實施例所理解，電子束具有偏好的方向，且可例如藉由使用電場及磁場控制電子束而將其輸送至一基板。電子束之電子可透過來自被離子(或電子)轟擊之表面的二次電子發射而在處理腔室內或外部產生。一旦經產生，該等電子束即被輸送以改善電漿蝕刻及/或電漿沉積製程。應注意，對於一實施例而言，可在微電子工件停留於處理腔室中時提供電子束之原位(in situ )輸送，以將電子束輸送至微電子工件的表面。
圖1為受加工之微電子工件之基板的表面105上的鍵結之例示性實施例100之圖式。入射於表面105上之電子104透過斷鍵或透過氫(H)原子106或其他物種之受激脫附作用而產生懸鍵114。該等部位可與電漿中之自由基或中性物種快速地進行反應，以促進電漿蝕刻及/或電漿沉積製程。
更詳細地參照圖1，H原子106之脫附作用102係由入射於表面105上之電子104所引起。此脫附作用102留下懸鍵114。該等懸鍵114可在再吸收過程110中重新獲得H原子112且/或在反應物吸收過程120中獲得反應物(R)122。由懸鍵所吸收之反應物(R´)形成可促進蝕刻及/或沉積製程的一反應性表面134，其中反應物產物(P)132係在後續的產物生成過程130期間產生。藉此，由入射電子104在表面105上所產生的懸鍵114對於各種情況係有用的，且該等懸鍵114可改善蝕刻或沉積製程的選擇性。例如，表面105之H封端部分易於藉由電漿蝕刻製程加以蝕刻。表面105之R´封端部分提供易於在電漿沉積製程期間生長的反應性表面。此外，對於蝕刻製程而言，表面105之H封端部分可比表面105之R´封端部分更不具揮發性。再者，可利用電子束(e-beam)改變表面105之R´封端部分，俾使其受激而變為R´´，在R´´上可生長更多的R´或另一膜層。其他的及/或不同的製程及環境亦可使用本文所述之電子束介導技術。
圖2A為例示性實施例200之圖式，其中利用本文所述之電子束介導技術以實現改良的選擇性及各向異性。對於一實施例而言，可使表面鈍化(例如，利用氯、溴、氟、氟碳化物、氫、氧、及/或其他材料)。接著，例如利用一循環蝕刻製程將表面之一部分移除。對於所示之實施例200而言，利用一或更多遮罩及相關處理步驟以在基板上預先形成圖案化結構或堆疊體212。保留遮罩210之一部分以作為保護層，並且利用一或更多電子束源以產生入射電子束206。例如，可在相對於遮罩210及/或堆疊體212之表面的法線方向上引導此入射電子束206。接著，由於此電子束206垂直入射，因此在所選區域202中引起電子激勵化學作用。遮罩210之表面區域205不受電子束206之影響或受到最小程度的影響，並且可透過一或更多進一步的蝕刻製程而加以移除。歸因於電子束206的方向，因此堆疊體212及遮罩210之垂直表面區域204不受電子激勵作用之影響或受到最小程度的影響。基板之水平表面區域202被因電子束206而引起之電子激勵化學作用所改質。藉此方式，將電子束206輸送至基板之一或更多所選區域202，以針對該一或更多所選區域202而引起電子激勵化學作用。雖然顯示單一遮罩210，但可利用一或更多遮罩及相關的遮罩層圖案化以決定該等所選區域。此外，電子激勵化學促進或抑制蝕刻製程、沉積製程、鈍化製程、及/或其他期望製程之其中一或多者。對於一例示性實施例而言，此技術可用以在發生電子激勵作用之表面上促進具有垂直選擇性的聚合物生長。亦應注意，例如，利用電子束暴露、接著進行沉積或蝕刻劑前驅物暴露(依序或同時地)，可實現鈍化處理。亦可實施其他變化而仍然利用本文所述之電子束介導技術的優點。
圖2B為包含處理腔室260的例示性實施例250之圖式，其中電子束206被輸送至受處理之微電子工件之基板255。對於一實施例而言，基板255係由基板固持件256所固持。對於一例示性實施例而言，基板固持件256為一靜電夾頭。如圖所示，電子束源252產生電子束206之電子，並接著將電子束206輸送至基板255的表面。較佳地，將負DC偏壓262施加至電子束源252，且負DC偏壓262有助於產生電子束206及/或將電子束206輸送至基板255。亦將饋給及惰性氣體254輸送至處理腔室260，以提供在處理腔室260內執行之一或更多處理所使用的氣體化學品。例如，可將電漿氣體化學品輸送至處理腔室260以進行電漿蝕刻製程及/或電漿沉積製程。對於一實施例而言，將電子束206輸送至基板255之表面，並同時將沉積前驅物注入處理腔室260中。
應注意，對於電漿處理而言，可利用高頻(HF)技術、特高頻(VHF)技術、ICP技術、及/或其他電漿產生技術以在處理腔室中引燃並維持電漿。應進一步注意，受DC偏壓或脈衝式DC偏壓的電漿源(例如RF電漿源)可用作電子束源252。亦可使用其他電子源。舉例而言，來自700平方公分(cm2 )表面之112 mA(毫安培)的電流係用以產生在一秒內衝擊基板表面之一個單層的電子束。在另一範例中，使用約50 mA的電流。此外，可例如經由基板固持件256而將射頻(RF)偏壓258施加至微電子工件的基板255。此RF偏壓258可用以促進電漿製程及/或抑制彈道電子，因為當微電子工件之基板255處RF關閉時通常發生最大通量。亦可實施其他變化而仍受惠於本文所述之電子束介導技術的優點。
圖3為例示性實施例300之程序流程圖，其中電子束係用以促進處理腔室內的電漿處理。在方塊302中，使電子束產生。在方塊304中，將電子束輸送至處理腔室內之微電子工件的基板。在方塊306中，對微電子工件之表面進行一或更多電漿製程。該電漿製程可為例如電漿蝕刻製程或電漿沉積製程之其中至少一者。應進一步注意，亦可使用額外的及/或不同的處理步驟但仍受惠於所揭示之技術的優點。
圖4A為利用電子束源加以介導和改良之ALD製程的例示性實施例400之圖式，其中該電子束源在處理步驟期間將電子束輸送至微電子工件之基板的表面。對於所繪示之例示性實施例400而言，將受DC偏壓之電子束處理(DC) 402及前驅物電漿沉積處理404之序列使用於例示性ALD製程。對於受DC偏壓之電子束處理402而言，一起使用電子束源及DC偏壓以產生並輸送電子束至處理腔室內之基板的表面。前驅物電漿沉積處理404包含使用前驅物氣體及電漿處理步驟以沉積一或更多膜層。對於此例示性ALD製程而言，不使用RF偏壓，且包含排淨步驟。亦可實施其他變化。
圖4B為利用電子束源加以介導和改良之ALE製程的例示性實施例450之圖式，其中該電子束源在處理步驟期間將電子束輸送至微電子工件之基板的表面。對於所繪示之例示性實施例450而言，將受DC偏壓之電子束處理(DC) 452、前驅物電漿沉積處理454、及電漿蝕刻處理456之序列使用於例示性ALE製程。對於受DC偏壓之電子束處理452而言，一起使用電子束源及DC偏壓以產生並輸送電子束至處理腔室內之基板的表面。前驅物電漿沉積處理454包含使用前驅物氣體及電漿處理步驟以沉積一或更多膜層。對於一例示性ALE製程而言，將RF濺鍍及/或RIE使用於蝕刻處理456，且前驅物沉積處理454係用以改善電漿蝕刻處理456的選擇性。再者，對於一例示性ALE製程而言，亦可將RF偏壓施加至受處理之微電子工件的基板，俾促進在蝕刻處理456期間將材料自基板移除。亦可實施其他變化。
圖5A為例示性實施例500之圖式，其中電子束206係利用電子源510而產生，電子源510在處理腔室260內提取電子。例如，可透過從作為電子源510的大型空心陰極提取電子而產生電子束源252之電子，且源電漿512可用以輸送電子束206。亦可將DC偏壓262施加於源電漿512，以促進電子束206之產生及/或輸送。例如，可對金屬或高摻雜矽(Si)使用DC或脈衝式DC技術，俾產生電子並將電子束206輸送至基板255。在一實施例中，受DC偏壓或脈衝式DC偏壓的RF電漿源係用以輸送電子束206。電漿及/或其他處理氣體254被輸送至處理腔室260，並且可引燃源電漿512以促進電子束206向基板255之輸送。亦可將RF偏壓258施加至基板255。作為電漿產生之一部分，亦可使選用性的RF功率產生並將其施加至處理腔室260。處理腔室260亦可包含線圈506、法拉第屏蔽504、及石英襯墊502。此外，應注意，可以交替的方式操作DC偏壓262、RF偏壓258、及線圈506。應注意，線圈506可定位於處理腔室260的周圍且可用以產生源功率，其於處理腔室260內維持電漿。亦可實施其他變化而仍受惠於本文所述之技術。
圖5B為例示性實施例550之圖式，其中電子束206係利用外部電子源552而產生，外部電子源552在處理腔室260的外部進行電子提取。源電漿512可用以促進電子束源252的電子束206之產生及輸送。此外，可在處理腔室260內使用射束提取板558，以吸收由外部電子源552注入至處理腔室260內的電子，並接著將電子束206輸送至基板255。電漿及/或其他處理氣體254被輸送至處理腔室260，並且可在處理腔室260內引燃源電漿512。亦可將RF偏壓258施加至基板255。處理腔室260亦可包含線圈506及介電材料襯墊554。可將DC偏壓262施加至電子提取孔區域560附近的源電漿512。亦可實施其他變化而仍受惠於本文所述之技術。
應注意，可使用一或更多沉積處理以形成本文所述的材料層。例如，可利用下列各者進行一或更多沉積：化學汽相沉積(CVD)、電漿輔助CVD (PECVD)、物理汽相沉積(PVD)、原子層沉積(ALD)、及/或其他沉積處理。對於電漿沉積處理而言，可使用之前驅物氣體混合物包含(但不限於)在各種壓力、功率、流率、及溫度條件下之碳氫化合物、氟碳化合物、或含氮之碳氫化合物與一或更多稀釋氣體(如氬、氮等)的組合。可使用光學微影、極紫外光(EUV)微影及/或其他微影處理對PR層施行微影處理。蝕刻處理可利用電漿蝕刻處理、放電蝕刻處理、及/或其他期望的蝕刻處理加以實行。例如，電漿蝕刻處理可利用含氟碳化合物、氧、氮、氫、氬、及/或其他氣體的電漿加以實行。此外，可控制處理步驟的操作變數以確保在介層窗形成期間達到介層窗的CD目標參數。操作變數可包含例如腔室溫度、腔室壓力、氣體流率、電漿生成時施加至電極組件的頻率及/或功率、及/或用於處理步驟之其他操作變數。亦可實施變化但仍受惠於本文所述的技術。
針對圖6而說明例示性電漿蝕刻處理系統之實施例600。然而，應注意，本文所述之技術可與廣泛的蝕刻處理系統一起使用，實施例600僅為一例示性實施例。
圖6為可用作本文所述實施例之處理腔室之工件製造系統(如電漿處理設備)之例示性實施例600的方塊圖。更具體而言，圖6例示僅為說明目的之可用以實施本文所述處理技術之電漿處理設備的例示性實施例。應理解，其他電漿處理系統及其他蝕刻處理系統可同樣地施行本文所述之技術。對於圖6之例示性實施例600而言，提供電容耦合式電漿處理設備之示意橫剖面圖，該設備包含提供微電子工件用之蝕刻腔室的處理空間(PS)。亦可使用替代的電漿處理設備，包括例如(但不限於)感應耦合式電漿處理設備、微波電漿處理設備等。電容耦合式電漿處理設備尤其適合，因為此類設備之電極間距能有利地控制通往電漿空間之局部區域的氣體，藉此在基板上提供局部的電漿處理。
可將電漿處理設備600使用於多種操作，包括灰化、蝕刻、沉積、清潔、電漿聚合、電漿輔助化學汽相沉積(PECVD)、原子層沉積(ALD)等。電漿處理設備600的結構為習知的，且本文所提供之特定結構僅為例示性。電漿處理可在處理腔室601內執行，處理腔室601可為由金屬(如鋁或不銹鋼)所製成的真空腔室。處理腔室601界定了提供用以生成電漿之處理空間(PS)的處理容器。處理容器的內壁可塗佈有氧化鋁、氧化釔、或其他保護劑。處理容器可為圓柱形、或具有其他幾何構造。
在處理腔室601內的較低中央區域處，基座612(可為碟形)可用作將例如待處理之基板602(如半導體晶圓)裝設於其上的裝設臺。基板602可經由裝載/卸載接口與閘閥而移動進入處理腔室601中。基座612形成下電極組件620的一部分，基座612為用作將基板602裝設於其上之裝設臺的第二電極之範例。基座612可由例如鋁合金所形成。基座612上設有用以固持基板602的靜電夾頭(作為下電極組件的一部分)。靜電夾頭設有電極635。電極635係電連接至直流(DC)功率源(未圖示)。靜電夾頭藉由靜電力將基板602吸引於其上，該靜電力係在將來自DC功率源之DC電壓施加至電極635時所產生的。基座612可經由匹配單元而電連接至高頻功率源。對於其他實施例及處理腔室而言，可使用二或更多功率源且可使其連接至電極635及/或處理腔室內的其他電極。此高頻功率源(第二功率源)可輸出在例如2 MHz(兆赫)至20 MHz之範圍內的高頻電壓。施加高頻偏壓功率使得處理腔室 601中所產生之電漿內的離子被吸引至基板602。在基座612的上表面上設置聚焦環組件638以圍繞靜電夾頭。
排放路徑633可經由連接至氣體排放單元的一或更多排放接口(未圖示)所形成。氣體排放單元可包含真空泵浦(例如渦輪分子泵浦)，其係配置以將處理腔室601內之電漿處理空間泵抽至期望真空條件。氣體排放單元將處理腔室 601的內部排空，從而將其內部壓力減壓至期望的真空度。
上電極組件670為第一電極的實例且位於下電極組件620的垂直上方以平行面對下電極組件620。電漿產生空間或處理空間(PS)係界定於下電極組件620與上電極組件670之間。上電極組件670包含具有碟形的內上電極671、及可為環形且圍繞內上電極671之周邊的外上電極。內上電極671亦具有處理氣體入口的功能，將特定量的處理氣體注射至裝設於下電極組件620上之基板602上方的處理空間(PS)中。因此上電極組件670形成一噴淋頭。更具體而言，內上電極671包含氣體注射開口682。
上電極組件670可包含一或更多緩衝腔室689A、689B、及689C。緩衝腔室係用以擴散處理氣體且可界定一碟形空間。來自處理氣體供給系統680的處理氣體將氣體供給至上電極組件670。處理氣體供給系統680可配置以供給用以在基板602上進行特定處理(如成膜、蝕刻等)的處理氣體。處理氣體供給系統680係連接至形成處理氣體供給路徑的氣體供給線681A、681B、及681C。氣體供給線係連接至內上電極671的緩衝腔室。於是可使處理氣體自緩衝腔室移動至其下表面處的氣體注射開口682。可藉由例如使用質量流量控制器而調整被導入緩衝腔室689A-C之處理氣體的流率。此外，將被導入的處理氣體自電極板(噴淋頭電極)之氣體注射開口682排至處理空間(PS)。內上電極671部分地用於提供噴淋頭電極組件的功能。
如圖6中所示，三個緩衝腔室689A、689B及689C係對應邊緣緩衝腔室689A、中間緩衝腔室689B、及中央緩衝腔室689C而設置。類似地，氣體供給線681A、681B及681C可配置為邊緣氣體供給線681A、中間氣體供給線681B、及中央氣體供給線681C。緩衝腔室係以對應至基板之不同局部區域(在此例中為邊緣、中間、及中央)的方式加以設置。如下文中將進一步討論的，該等區域可對應於基板602之局部區域的特定處理電漿處理條件。應理解，使用三個局部區域僅為例示性的。因此，電漿處理設備可配置以在任何數目的基板區域上提供局部電漿處理條件。再次說明，應注意，可使用各種配置中的任一者，且本文所述技術並不限於處理氣體供給系統680所配置以將氣流分散至各種緩衝腔室的方式。
上電極組件670係經由功率饋送件665及匹配單元668而與高頻功率源(未圖示)(第一高頻功率源)電連接。高頻功率源可輸出具有40 MHz(兆赫)或更高(如60 MHz)之頻率的高頻電壓、或可輸出具有30-300 MHz之頻率的特高頻(VHF)電壓。相較於偏壓功率源，此功率源可被稱為主功率源。應注意，對於某些實施例而言，不存在用於上電極之功率源，且兩功率源係連接至下電極。亦可實行其他變化。
電漿處理設備的元件可連接至一控制單元並由該控制單元所控制，該控制單元可進而連接至對應的記憶體儲存單元與使用者介面(皆未圖示)。各種電漿處理操作可藉由使用者介面而執行，且各種電漿處理配方及操作可儲存於儲存單元中。因此，可在電漿處理腔室內利用各種微製造技術來處理給定基板。在操作時，電漿處理設備使用上電極與下電極以在處理空間(PS)中產生電漿。接著可將所產生之電漿用於在各種處理(如電漿蝕刻、化學汽相沉積、半導體材料、玻璃材料、及大面板(如薄膜太陽能電池、其他光伏電池、及平面顯示器之有機/無機板)之處理等)中處理目標基板(如基板602或任何欲處理的材料)。
應注意，在本說明書中提及「一實施例」係指與該實施例相關的特定特徵、結構、材料、或特性係包含於本發明的至少一實施例中，但不表示其存在於每個實施例中。因此，在本說明書之各種場合中出現「在一實施例中」並不指涉本發明的相同實施例。此外，在一或多個實施例中可以任何適合的方式結合該特定特徵、結構、材料、或特性。在其他實施例中可包含及/或省略各種額外的膜層及/或結構。
文中所使用的「微電子工件」一詞大致上指涉根據本發明所處理的物件。微電子工件可包含一裝置的任何材料部分或結構，特別係半導體或其他電子裝置，以及可為例如一基底基板結構(如半導體基板)，或是在基底基板結構之上方或覆蓋其上之膜層(例如薄膜)。因此，工件並不意圖限於任何特定基底結構、基底層或覆蓋層、經圖案化或未經圖案化，而是考量包含任何此類膜層或基底結構，以及任何膜層及/或基底結構之組合。以下敘述可涉及特定類型的基板，但僅為了說明之目的而並非限制性的。
文中所使用的「基板」一詞包含基礎材料或其上形成有材料的結構。應明白，基板可包含單一材料、複數不同材料之膜層、其中具有不同材料或結構之區域的單一膜層或複數膜層。此些材料可包含半導體、絕緣體、導體、或其組合。例如，基板可為半導體基板、支撐結構上的基礎半導體層、具有一或多膜層、結構或區域形成於其上的之金屬電極或半導體結構。基板可為傳統的矽基板或包含一層半導電材料的其他塊基板。文中所用之「塊基板」一詞意指矽晶圓且不僅包含矽晶圓，而亦包含絕緣層上覆矽(SOI)基板如藍寶石上覆矽(SOS)基板及玻璃上覆矽(SOG)基板、基礎半導體基底上的磊晶矽層、及其他半導體或光電材料如矽鍺、鍺、砷化鎵、氮化鎵、磷化銦。基板可為經摻雜或未經摻雜的。
在各種實施例中說明微電子工件的處理系統及方法。熟知此項技藝者當明白，可在缺乏一或多個特定細節的情況下實施各種實施例，亦可利用其他取代及/或額外方法、材料、或元件實施各種實施例。在其他情況中，不詳細顯示或說明已知的結構、材料、或操作以避免模糊本發明之各種實施例的態樣。類似地，為了解釋目的，列舉特定的數目、材料及組態以提供對本發明的全面瞭解。然而，可在缺乏特定細節的情況下實施本發明。此外，應瞭解，圖示中所示的各種實施例僅為例示呈現且未必依比例繪製。
參考本說明書時熟知此項技藝者當明白所述系統及方法的更進一步修改及替代性實施例。因此當明白，所述系統及方法並不限於此些例示性配置。應瞭解，文中所述及所示之系統及方法的形式應被視為是例示性實施例。在實施時可進行各種變化。因此，雖然已參考特定實施例說明本發明，但在不脫離本發明範疇的情況下可進行各種修改及變化。因此，說明書及圖示應被視為是說明性而非限制性的，且此類修改應被包含於本發明之範疇內。此外，文中針對特定實施例所述之任何利益、優點或問題解決方案皆不應被認為是任何或所有申請專利範圍之關鍵、必要或基本的特徵或元件。
100:實施例 102:脫附作用 104:電子 105:表面 106:氫(H)原子 110:再吸收過程 112:氫(H)原子 114:懸鍵 120:反應物吸收過程 122:反應物 130:產物生成過程 132:反應物產物 134:反應性表面 200:實施例 202:區域 204:垂直表面區域 205:表面區域 206:電子束 210:遮罩 212:堆疊體 250:實施例 252:電子束源 254:氣體 255:基板 256:基板固持件 258:射頻(RF)偏壓 260:處理腔室 262:DC偏壓 300:實施例 302:方塊 304:方塊 306:方塊 400:實施例 402:受DC偏壓之電子束處理 404:前驅物電漿沉積處理 450:實施例 452:受DC偏壓之電子束處理 454:前驅物電漿沉積處理 456:蝕刻處理 500:實施例 502:石英襯墊 504:法拉第屏蔽 506:線圈 510:電子源 512:源電漿 550:實施例 552:外部電子源 554:介電材料襯墊 558:射束提取板 560:電子提取孔區域 600:實施例 601:處理腔室 602:基板 612:基座 620:下電極組件 633:排放路徑 635:電極 638:聚焦環組件 665:功率饋送件 668:匹配單元 670:上電極組件 671:內上電極 680:處理氣體供給系統 681A:氣體供給線 681B:氣體供給線 681C:氣體供給線 682:氣體注射開口 689A:緩衝腔室 689B:緩衝腔室 689C:緩衝腔室
透過結合附圖而參照以下說明，可獲得本發明及其優點之更完整理解，在附圖中相似的參考符號表示相似的特徵。然而，應注意，附圖僅顯示所揭示之概念的例示性實施例，且因此並非視為對範圍的限制，所揭示之概念可允許其他的等效實施例。
圖1為受加工之微電子工件之基板的表面上的鍵結之例示性實施例之圖式。
圖2A為一例示性實施例之圖式，其中利用電子束介導處理技術以實現改良的選擇性及各向異性。
圖2B為包含一處理腔室的例示性實施例之圖式，其中電子束被輸送至受處理之微電子工件之基板，藉此改善電漿蝕刻/沉積製程。
圖3為一例示性實施例之程序流程圖，其中電子束係用以促進處理腔室內的電漿處理。
圖4A為利用一電子束加以介導和改良之ALD製程的例示性實施例之圖式，其中該電子束在處理步驟期間產生並被輸送至微電子工件之基板的表面。
圖4B為利用一電子束加以介導和改良之ALE製程的例示性實施例之圖式，其中該電子束在處理步驟期間產生並被輸送至微電子工件之基板的表面。
圖5A為一例示性實施例之圖式，其中電子束係利用電子源而產生，該電子源在處理腔室內提取電子。
圖5B為一例示性實施例之圖式，其中電子束係利用外部電子源而產生，該外部電子源在處理腔室的外部進行電子提取。
圖6為工作製造系統(例如可用以作為本文所述實施例之處理腔室之電漿處理設備)之例示性實施例的方塊圖。
300:實施例
302:方塊
304:方塊
306:方塊

Claims (21)

  1. 一種處理微電子工件的方法，包含： 產生一電子束； 將該電子束輸送至處理腔室內之微電子工件的基板；以及 對該微電子工件的該基板執行電漿蝕刻製程或電漿沉積製程之其中至少一者。
  2. 如申請專利範圍第1項之處理微電子工件的方法，其中該輸送步驟包含將該電子束輸送至該基板的一或更多所選區域，以針對該一或更多所選區域而引起電子激勵化學作用。
  3. 如申請專利範圍第2項之處理微電子工件的方法，更包含使用一或更多遮罩以決定該基板的該一或更多所選區域。
  4. 如申請專利範圍第2項之處理微電子工件的方法，其中該電子激勵化學作用促進或抑制蝕刻製程、沉積製程、或鈍化製程之其中至少一者。
  5. 如申請專利範圍第1項之處理微電子工件的方法，更包含針對該產生步驟或該輸送步驟之其中至少一者而施加直流(DC)偏壓。
  6. 如申請專利範圍第1項之處理微電子工件的方法，更包含在該輸送步驟期間經由一基板固持件而施加射頻(RF)偏壓至該基板。
  7. 如申請專利範圍第1項之處理微電子工件的方法，其中該產生步驟包含產生50至100毫安培(mA)的電子束電流。
  8. 如申請專利範圍第1項之處理微電子工件的方法，其中該產生步驟包含透過在該處理腔室內所進行的電子提取而產生該電子束。
  9. 如申請專利範圍第8項之處理微電子工件的方法，更包含使用一源電漿及直流(DC)偏壓以進行該產生步驟。
  10. 如申請專利範圍第9項之處理微電子工件的方法，其中該DC偏壓為脈衝式的。
  11. 如申請專利範圍第9項之處理微電子工件的方法，更包含：對設置於該處理腔室周圍的線圈供電以在該處理腔室內維持電漿；以及交替進行施加該DC偏壓、對該等線圈供電、及對該基板施加射頻(RF)偏壓。
  12. 如申請專利範圍第1項之處理微電子工件的方法，其中該產生步驟包含：透過在該處理腔室之外部的電子提取而產生該電子束；以及將所提取之電子輸送至該處理腔室。
  13. 如申請專利範圍第12項之處理微電子工件的方法，更包含使用直流(DC)偏壓以進行該產生步驟。
  14. 如申請專利範圍第13項之處理微電子工件的方法，更包含：對設置於該處理腔室周圍的線圈供電以在該處理腔室內維持電漿；以及交替進行施加該DC偏壓、對該等線圈供電、及對該基板施加射頻(RF)偏壓。
  15. 如申請專利範圍第1項之處理微電子工件的方法，其中該輸送步驟及該執行步驟係用於一原子層沉積(ALD)製程。
  16. 如申請專利範圍第15項之處理微電子工件的方法，其中該輸送步驟包含受DC偏壓的該電子束之輸送，其中該執行步驟包含引燃一前驅物電漿氣體，且其中交替進行該輸送步驟及該執行步驟以在該基板上沉積一材料層。
  17. 如申請專利範圍第1項之處理微電子工件的方法，其中該輸送步驟及該執行步驟係用於一原子層蝕刻(ALE)製程。
  18. 如申請專利範圍第17項之處理微電子工件的方法，其中該輸送步驟包含受DC偏壓的該電子束之輸送，其中該執行步驟包含反應離子蝕刻(RIE)或射頻(RF)濺鍍之其中至少一者，且其中交替進行該輸送步驟及該執行步驟以在該基板上蝕刻一材料層。
  19. 如申請專利範圍第18項之處理微電子工件的方法，其中該執行步驟更包含引燃一前驅物電漿氣體。
  20. 如申請專利範圍第1項之處理微電子工件的方法，其中該執行步驟包含：將處理氣體輸送至該處理腔室；以及使用所輸送之該電子束以激勵該基板之表面改質，該基板之表面改質係基於該等處理氣體之化學性質。
  21. 如申請專利範圍第20項之處理微電子工件的方法，其中該執行步驟包含垂直的聚合物生長。
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