TW202005928A - 低翹曲、強化製品及製作該製品之非對稱離子交換方法 - Google Patents

Abstract

一種製作強化製品之方法，該方法包括以下步驟：提供製品，該等製品包含離子可交換鹼金屬離子與第一及第二主要表面；提供包含離子交換鹼金屬離子之一浴，該等離子交換鹼金屬離子在大小上大於該等離子可交換離子；以及以第一離子交換溫度及持續時間將該等製品淹沒在該浴中以形成強化製品。每一強化製品包含壓縮應力區域。此外，該等離子交換鹼金屬離子之交換速率在第一主要表面中比在第二主要表面中高。另外，進行該淹沒步驟，使得在該等製品中之每一者的第一主要表面之間維持一預定間隙。

Description

低翹曲、強化製品及製作該製品之非對稱離子交換方法

相關申請案之交互參照

本申請案根據專利法主張2018年10月19日申請之美國臨時申請案第62/747,762號及2018年6月1日申請之美國臨時申請案第62/679,324號之優先權的權益，該等申請案之內容為本案之基礎且以其全文引用之方式併入本文中。

本發明大體上係關於低翹曲、強化製品及製作該等製品之方法；且更特別地，係關於製作用於各種製品中的強化玻璃、玻璃-陶瓷及陶瓷基板之非對稱離子交換方法。

基於化學強化之離子交換玻璃基板的顯示器防護罩用於多種產業中，該等產業包括消費型電子設備(例如，智慧型電話、平板設備、平板電腦、筆記型電腦、電子閱讀器等)、汽車、室內建築、防禦、醫療以及包裝。許多此等顯示器防護罩使用Corning® Gorilla Glass®產品，該等產品提供優異的機械性質，包括抗破損、抗刮擦及跌落效能。作為製造方法，玻璃、玻璃-陶瓷及陶瓷基板中的藉由鹼金屬離子之離子交換之化學強化已在產業中使用多年，以提供此等優異的機械性質。視應用而定，隨深度變化的壓縮應力之應力剖面係此等離子交換方法之目標，以提供目標機械性質。

在習知離子交換強化製程中，使玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷基板與熔融化學鹽接觸，使得基板中的具相對小離子直徑之鹼金屬離子與化學鹽中的具相對較大離子直徑之鹼金屬離子進行離子交換。由於相對較大鹼金屬離子係併入至基板中，因此壓縮應力在接近基板內之併入離子處產生，如此提供強化效應。由於基板之典型故障模式與張應力相關聯，因此藉由併入較大鹼金屬離子所產生的新增壓縮應力用以使施加之張應力偏移，從而引起強化效應。

與此等離子交換強化製程相關聯之技術挑戰中之一者係強化基板之翹曲。特別地，當離子交換製程以非對稱方式在基板之兩個主要表面之間發生時，基板之翹曲在離子交換製程期間或之後出現。關於基板幾何形狀、基板表面、基板上之塗層及膜的目標基板之非對稱性、鹼金屬離子、鹽浴中之鹼金屬離子的擴散性以及其他因素可影響目標基板之觀測到翹曲之範圍及程度。

用於管理翹曲之各種方法被用於產業中。一般而言，此等方法傾向於使顯示器應用中所使用之玻璃、玻璃-陶瓷及陶瓷基板之製造的成本顯著提高。翹曲可在與製造顯示器相關聯之下游製程中造成困難。舉例而言，用於製作觸控感測器顯示器層壓物之製程可由於基板中之翹曲程度而易於在該等層壓物中形成氣泡。在一些例子中，額外熱處理及/或額外熔融鹽暴露可用於基板，以抵消與離子交換強化製程相關聯之翹曲。然而，此等額外製程步驟導致顯著提高的製造成本。包括製造後研磨及拋光之其他方法亦可抵消翹曲效應，但再次以顯著提高的製造成本為代價。

相應地，需要低翹曲、強化玻璃、玻璃-陶瓷及陶瓷製品，及製造該製品之離子交換方法，包括以與翹曲效應相關聯的有限良率損失及成本提高提供必要強化程度之方法。

根據本發明之一些態樣，提供一種製作強化製品之方法，該方法包括以下步驟：提供複數個製品，每一製品包含具有複數個離子可交換鹼金屬離子之玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷組合物、第一主要表面及第二主要表面；提供包含複數個離子交換鹼金屬離子之第一離子交換浴，每一離子交換鹼金屬離子具有大於該等離子可交換鹼金屬離子之大小的一大小；以及以第一離子交換溫度及持續時間將複數個製品淹沒在第一離子交換浴中以形成複數個強化製品。每一強化製品包含自第一及第二主要表面延伸至各別第一及第二選定深度之壓縮應力區域。此外，以下各者中之至少一者成立：(a)該等離子交換鹼金屬離子之交換速率在第一主要表面中比在第二主要表面中高，及(b)第二主要表面包含總表面積超過第一主要表面之任何非對稱特徵之總表面積的一或多個非對稱特徵。另外，進行該淹沒步驟，使得在該等製品中之每一者的第一主要表面之間維持一預定間隙。

根據本發明之一些態樣，提供一種製作強化製品之方法，該方法包括以下步驟：提供複數個製品，每一製品包含具有複數個離子可交換鹼金屬離子之玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷組合物、第一主要表面及第二主要表面；提供包含複數個離子交換鹼金屬離子之第一離子交換浴，每一離子交換鹼金屬離子具有大於該等離子可交換鹼金屬離子之大小的一大小；以及以第一離子交換溫度及持續時間將複數個製品淹沒在第一離子交換浴中以形成複數個強化製品。每一強化製品包含自第一及第二主要表面延伸至各別第一及第二選定深度之壓縮應力區域。此外，該等離子交換鹼金屬離子之交換速率在第一主要表面中比在第二主要表面中高。另外，進行該淹沒步驟，使得在該等製品中之每一者的第一主要表面之間維持一預定間隙。

根據本發明之一些態樣，提供一種製作強化製品之方法，該方法包括以下步驟：提供複數個製品，每一製品包含具有複數個離子可交換鹼金屬離子之玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷組合物、第一主要表面及第二主要表面；提供包含複數個離子交換鹼金屬離子之第一離子交換浴，每一離子交換鹼金屬離子具有大於該等離子可交換鹼金屬離子之大小的一大小；以及以第一離子交換溫度及持續時間將複數個製品淹沒在第一離子交換浴中以形成複數個強化製品。每一強化製品包含自第一及第二主要表面延伸至各別第一及第二選定深度之壓縮應力區域。此外，第二主要表面包含總表面積超過第一主要表面之任何非對稱特徵之總表面積的一或多個非對稱特徵。另外，進行該淹沒步驟，使得在該等製品中之每一者的第一主要表面之間維持一預定間隙。

根據本發明之一些態樣，提供一種玻璃製品，該玻璃製品包括：經化學強化之玻璃基板，該玻璃基板包含第一主要表面及第二主要表面以及自第一及第二主要表面延伸至各別第一及第二選定深度之壓縮應力區域。此外，玻璃製品包含200微米或更小之翹曲(Δ翹曲)。

額外特徵及優點將在隨後之實施方式中闡述，且將自描述對熟習此項技術者顯而易見或藉由如本文中所描述地實踐實施例來認識，該等實施例包括隨後的實施方式、申請專利範圍以及附圖。

將理解，先前一般描述及隨後的詳細描述兩者描述各種實施例，且意欲提供用於理解所主張標的之性質及特性的概述或架構。

包括附圖以提供對各種實施例之進一步理解，且該等附圖併入至本說明書中且構成本說明書之一部分。該等圖圖示本文中所描述之各種實施例，且與描述一起用於解釋所主張標的之原理及操作。

額外特徵及優點將在隨後之實施方式中闡述，且將結合申請專利範圍及附圖自描述對熟習此項技術者顯而易見或藉由如以下描述中所描述地實踐實施例來認識。

如本文中所使用，術語「及/或」在用於兩個或更多項目之清單中時意味著所列項目中之任一者可獨自使用，或所列項目中之兩個或更多項目之任何組合可使用。舉例而言，若一組合物經描述為含有組份A、B及/或C，則該組合物可僅含A；僅含B；僅含C；組合地含有A與B；組合地含有A與C；組合地含有B與C；或組合地含有A、B及C。

在本文件中，諸如第一及第二、頂部及底部及其類似者的關係術語僅用於區分一個實體或動作與另一實體或動作，而並不必然地要求或暗示此等實體或動作之間任何實際此關係或次序。

熟習此項技術者及作出或使用本發明之技術者將想到本發明之修改。因此，將理解在圖中圖示且在上文描述之實施例僅用於說明性目的，且不欲限制本發明之範疇，如根據包括等同論之專利法之原則所解釋的，本發明之範疇係藉由隨後的申請專利範圍界定。

出於本發明之目的，術語「耦接」(以其全部形式：耦接(couple)、耦接(coupling)、耦接(coupled)等)通常意味著兩個組件(電氣或機械的)彼此直接地或間接地接合。此接合可為實際上靜止的，或實際上可移動的。此接合可利用兩個組件(電氣或機械的)來達成，且任何額外的中間部件彼此或與該兩個組件整體地形成為單一的單位本體。此接合實際上可為永久的，或實際上可為可移除或可釋放的，除非另有說明。

如本文中所使用，術語「約」意味著量、大小、配方、參數以及其他數量及特性並非且不必為準確的，而可視需要為近似值及/或更大或更小，從而反映容差、轉換因數、捨入、量測誤差及其類似者，以及熟習此項技術者已知的其他因素。當術語「約」用於描述範圍之值或端點時，本發明應理解為包括所提及之特定值或端點。無論說明書中之範圍的數值或端點是否列舉「約」，範圍之數值或端點意欲包括兩個實施例：一個實施例用「約」修飾，而一個實施例未用「約」修飾。將進一步理解，範圍中之每一者的端點不僅相對於另一端點很重要，而且獨立於另一端點。

如本文中所使用的術語「實質的」、「實質上」及其變形意欲解釋所描述特徵等於或近似等於一值或描述。舉例而言，「實質上平坦之」表面意欲表示平坦或近似平坦之表面。此外，「實質上」意欲表示兩個值相等或近似相等。在一些實施例中，「實質上」可表示相互在約10%內，諸如相互在約5%內，或相互在約2%內的值。

例如上、下、右、左、前、後、頂部、底部的如本文中所使用之方向術語係僅參考所畫之圖式，且不欲暗示絕對定向。

如本文中所使用，術語「該」、「一」意味「至少一個」，且不應限於「僅一個」，除非明確地指示相反情況。因此，例如，對「一組件」之引用包括具有兩個或更多此類組件之實施例，除非上下文清楚地指示其他情況。

如本文中所使用，「壓縮應力」(compressive stress; CS)及「壓縮應力層深度」(depth of compressive stress layer; DOL)係使用此項技術中已知的方法來量測。舉例而言，CS及DOL係藉由使用可購得儀器之表面應力計(諸如藉由Orihara Industrial Co., Ltd. (日本)製造的FSM-6000)來量測。表面應力量測依賴於對應力光學係數(stress optical coefficient；SOC)之準確量測，SOC與玻璃之雙折射率相關。接著根據題為「用於量測玻璃應力光學係數之標準測試方法(Standard Test Method for Measurement of Glass Stress-Optical Coefficient)」的在ASTM標準C770-98 (2013)中所描述之程序C之修改版本來量測SOC，該程序之內容係以全文引用之方式併入本文中。修改包括使用具有厚度5 mm至10 mm及直徑12.7 mm之玻璃盤作為試樣。此外，玻璃盤係各向同性、均質且中心鑽孔的，且兩面經拋光且平行。修改亦包括計算待施加之最大力F_max 。最大力(F_max )係足以產生20 MPa壓縮應力之力。待施加之最大力F_max 係根據方程式(1)計算如下：F_max = 7.854 *D *h (1) 其中F_max 係以牛頓計之最大力，D 係玻璃盤之直徑，且h 係光路徑之厚度。對於施加之每一力，根據方程式(2)來計算應力：

(2) 其中F_max 係自方程式(1)獲得的以牛頓計之最大力，D 係以mm計的玻璃盤之直徑，h 係以mm計的光路徑之厚度，且σ 係以MPa計的應力。

如本文中所使用，「壓縮應力層深度(DOL)」係指在強化製品內之深度位置，在該深度位置，自強化製程產生之壓縮應力達到零。

整體地參考圖式且特別參考第1圖至第1C圖，將理解，該等圖解係用於描述特定實施例之目的，且不欲將所揭示之隨附申請專利範圍限於該等實施例。該等圖未必按比例，且為了清楚及簡潔起見，特定特徵及該等圖之特定視圖可以放大之比例或以示意圖展示。

在本發明中描述了製作強化製品之方法，該等強化製品包括具有玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷組合物及多個壓縮應力區域之基板。此外，由於本發明之該等方法，此等強化製品經最佳化以展現幾乎沒有的翹曲，儘管仍具有來自非對稱及/或非均勻離子交換效應的可另外使該等強化製品易於翹曲之特徵。一般而言，本發明之該等方法控制離子交換製程之動力學以彌補存在於該等基板中之任何非對稱或非均勻離子交換條件。此等非對稱或非均勻離子交換條件包括存在以下各者：在該等基板之表面中之一些而非全部表面上的次要膜；在該等基板之表面中之一些而非全部表面內的防光眩表面；此等表面上之任何非對稱特徵在範圍上的差異；此等表面在表面粗糙度上之差異；以及可導致可另外使該等基板易於翹曲之非均勻離子交換條件的該等基板之其他態樣。此外，經由例如在該等基板浸沒在含有鹼金屬離子交換離子之浴中時在多對該等基板之主要表面之間強加一預定間隙，該等方法提供離子交換速率控制。

本發明之製作強化製品之該等方法連同該等強化製品本身擁有優於用於製造包含玻璃、玻璃-陶瓷及陶瓷組合物之強化製品的習知方法之若干益處及優點。一個優點係本發明之該等方法能夠減小可藉由存在於該等基板中之非均勻離子交換條件另外誘發的翹曲之程度。另一優點係本發明之該等方法在不需要額外處理步驟(例如，拋光、切割、研磨、離子交換處理後的熱處理等)之情況下減小或消除翹曲。此等方法之又一優點係該等方法相對於習知離子交換處理提供幾乎沒有的資金增加及/或輸送量之減小。特別地，與實施本發明之該等方法相關聯之額外固定物在大小及成本方面受限制(例如，間隔物、網狀物、夾子等)。此等方法之另一優點係該等方法產生具有相同或實質上類似之殘餘應力剖面(與習知離子交換剖面相比)的壓縮應力區域，同時提供根據該製程生產之強化製品中的翹曲程度顯著減小之優點。

現在參考第1圖至第1C圖，提供一種製作強化製品之方法100的示意性圖解。製作強化製品之方法100包括以下步驟：提供複數個基板10，該複數個基板各自由玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷組合物製造，該組合物具有複數個離子可交換鹼金屬離子。基板10中之每一者亦包括：第一主要表面12及第二主要表面14。方法100進一步包括：提供駐留在器皿202中之第一離子交換浴200。浴200包括複數個離子交換鹼金屬離子，每一離子交換鹼金屬離子具有大於該等基板10中之該等離子可交換鹼金屬離子之大小的一大小。最後，方法100包括以下步驟：以第一離子交換溫度及持續時間將複數個基板10淹沒在第一離子交換浴200中以形成複數個強化製品10’(參見第1C圖)。每一強化製品10’包含壓縮應力區域50，該壓縮應力區域自第一及第二主要表面12、14延伸至相應之第一及第二選定深度52、54。

再次參考第1圖至第1C圖，根據一例示性實施例，可進行製作強化製品之方法100，使得以下各者中之至少一者成立：(a)該等離子交換鹼金屬離子之交換速率在基板10之第一主要表面12中比在第二主要表面14中高；及(b)第二主要表面14包含總表面積超過該等基板10之第一主要表面12之任何非對稱特徵之總表面積的一或多個非對稱特徵。另外，進行該淹沒步驟，使得預定間隙(d) 20保持在基板中之每一者的第一主要表面12之間。如下文更詳細地說明，與基板10之間的間隙明顯較大或不受控制之情形相比，預定間隙20係第一主要表面12之間的相對較小間隙(例如，約0.01 mm至約10 mm)。亦即，方法100中所使用之基板10經配置，使得離子交換鹼金屬離子可在關於基板之主要表面12、14的非均勻條件下與該等基板之離子可交換離子交換(且可能導致高翹曲)。但藉由方法100提供之控制(包括在淹沒步驟期間，基板10之第一主要表面12之間存在預定間隙20 (例如，約0.01 mm至約10 mm))減輕或另外彌補與基板10相關聯之此等非均勻離子交換條件。此外，在一些實施例中，沒有與第二主要表面14相關聯的間隙(或存在量值近似或大於自第二主要表面14至另一基板10或保存浴200之容器之壁的預定間隙20的間距(D) 30)亦用於創造允許方法100減輕或另外彌補與基板10相關聯之此等非均勻離子交換條件的條件。

在製作強化製品100之方法之一些態樣中，由於與表面12、14相關聯之各種原因中之任一者，在基板10之第一主要表面12處發生的離子交換速率可不同於在基板10之第二主要表面14處發生的離子交換速率。舉例而言，根據一些實施例，基板10之主要表面12、14中之每一者的表面粗糙度之可變性可為此等非均勻性之源頭。在第二主要表面14上方且不在第一主要表面12上方的一或多個額外功能膜或層之存在亦可導致此等潛在的非均勻離子交換條件。此外，作為主要表面14之部分或結合該等主要表面或另外在該等主要表面上的防光眩表面之存在亦可導致潛在的非均勻離子交換條件。類似地，如早前所說明的，在基板10之第二主要表面14上存在超出第一主要表面12上之任何非對稱特徵的表面區域之非對稱特徵亦可為此等潛在非均勻離子交換條件之源頭。

儘管如此，如早前所說明的，第1圖至第1C圖中所描繪的製作強化製品之方法100提供彌補基板10中之此等潛在離子交換非均勻性的機制-亦即，在淹沒步驟期間，使用每一對基板10之間的預定間隙(d) 20。不受理論限制，預定間隙20提供對併入至基板10之第一主要表面12中的鹼金屬離子之速率相對於併入至第二主要表面14中的鹼金屬離子之速率的額外控制。隨著間隙20之大小減小(例如，如關於基板10之間的間隙明顯較大或不受控制之情形，如在習知離子交換製程中)，併入至第一主要表面12中的鹼金屬離子之速率相對於併入至基板10之第二主要表面14中的鹼金屬離子之速率減小。因此，基板10的經歷在第一主要表面12處相對於第二主要表面14提高之離子交換之任何傾向可藉由預定間隙20之存在來彌補。不受理論限制，咸信預定間隙20控制離子交換製程之動力學，特別地，離子可交換鹼金屬離子在基板10外交換且用來自浴200之離子交換鹼金屬離子替換時的速率。此外，不受理論限制，咸信預定間隙20之下限可根據方法100存在，其中間隙20對減少翹曲之有益影響最終藉由將抑制離子交換鹼金屬離子至基板10中之交換速率的毛細管效應來彌補。

參考第1圖至第1B圖，在製作強化製品之方法100之淹沒步驟期間所使用的基板10之間的預定間隙(d) 20可在0.01 mm至約5 mm之範圍內。因此，預定間隙20係基板10之間的受控間隙。在一些實施中，預定間隙20可在以下範圍內：約0.01 mm至約10 mm；約0.01 mm至約7.5 mm；約0.01 mm至約5 mm；約0.01 mm至約2.5 mm；約0.01 mm至約1 mm；約0.01 mm至約0.9 mm；約0.01 mm至約0.8 mm；約0.01 mm至約0.7 mm；約0.01 mm至約0.6 mm；約0.01 mm至約0.5 mm；約0.02 mm至約10 mm；約0.02 mm至約7.5 mm；約0.02 mm至約5 mm；約0.02 mm至約2.5 mm；約0.02 mm至約1 mm；約0.02 mm至約0.9 mm；約0.02 mm至約0.8 mm；約0.02 mm至約0.7 mm；約0.02 mm至約0.6 mm；約0.02 mm至約0.5 mm；以及在此等間隙端點之間的所有值。在一些實施中，在製作強化製品之方法100之淹沒步驟期間所使用的基板10之間的預定間隙20可為0.01 mm、0.05 mm、0.1 mm、0.2 mm、0.3 mm、0.4 mm、0.5 mm、0.6 mm、0.7 mm、0.8 mm、0.9 mm、1.0 mm、1.5 mm、2.0 mm、2.5 mm、3.0 mm、3.5 mm、4.0 mm、4.5 mm、5.0 mm、7.5 mm、10.0 mm，以及在此等值之間的所有預定間隙20。

根據第1圖至第1B圖中所描繪的製作強化製品之方法100之一額外實施，預定間隙(d) 20小於自基板10中之每一者的第二主要表面14至另一基板(例如，至另一基板10之第二主要表面14)或保存浴200之器皿202之一壁的間距(D) 30。根據又一實施，預定間隙(d) 20等於或小於自基板10中之每一者的第二主要表面14至另一基板(例如，基板10)或保存浴200之器皿202之一壁的間距(D) 30之1%或更少、5%或更少、10%或更少、20%或更少、25%或更少、50%或更少、75%或更少、100%或更少、150%或更少、200%或更少。根據又一實施，自基板10中之每一者的第二主要表面14至另一基板或器皿202之一壁的間距(D) 30為至少5 mm、至少7.5 mm、至少10.0 mm、至少12.5 mm、至少15 mm，且間距(D) 30介於此等值之間或超過此等值。根據另一實施，預定間隙(d) 20與間距(D) 30之壁可經設定，使得d/D ≤ 0.1，d/D ≤ 0.05，或甚至d/D ≤ 0.01。

現在參考第1A圖，描繪了一種製作強化製品之方法100，其中預定間隙(d) 20係藉由複數個間隔物22設定。在實施中，該等間隔物22具有與預定間隙20相同或實質上類似之厚度尺寸。此外，根據態樣，任何數目個間隔物22可在浴200內之基板10之間使用，如第1A圖所示。在一實施例中，間隔物22係在基板之角落處置放在每一對基板10之間，以將被該等間隔物本身遮蔽的基板之表面積減至最小。在另一實施中，該等間隔物22呈置放於每一對基板10之間的線之形式，此可將被間隔物22本身遮蔽的基板之表面積減至最小。該等間隔物22可由不與浴200及基板10之玻璃、玻璃-陶瓷及陶瓷組合物反應之各種材料製造，該等材料包括但不限於300系列不銹鋼、鋁合金、鋁金屬、鉑、鉑合金、鎳合金、In800合金、Cr-Mo合金、氧化矽、氧化鋁、氧化鋯以及此等材料之聚合塗佈態樣。此外，該等間隔物22可採用多種形狀及結構中之任一者，包括但不限於線、圓柱形墊圈、立方體形墊圈、矩形墊圈、片材、墊片、夾子、支架、支撐件等。

現在參考第1B圖，描繪了一種製作強化製品之方法100，其中預定間隙20 (d)係藉由網狀物24設定。在實施中，網狀物24具有與預定間隙20相同或實質上類似之厚度尺寸。此外，根據態樣，多種許多類型之網狀物24中之任一者(亦即，各種過濾程度)可在浴200內之基板10之間使用，如第1B圖所示。網狀物24可由不與浴200及基板10之玻璃、玻璃-陶瓷及陶瓷組合物反應之各種材料製造，該等材料包括但不限於300系列不銹鋼、鋁合金、鋁金屬、鉑、鉑合金、鎳合金、In800合金、Cr-Mo合金、氧化矽、氧化鋁、氧化鋯以及此等材料之聚合塗佈態樣。

參考第1C圖，強化製品10’係根據製作強化製品之方法100製造。如早前所提及，此等強化製品10’擁有壓縮應力區域50，該壓縮應力區域自相應之第一及第二主要表面12、14延伸至第一及第二選定深度52、54。此外，製作強化製品之方法100之實施產生具有最小至無翹曲之強化製品10’。根據一些實施例，方法100產生包含約200微米或更小之翹曲(Δ翹曲)的強化製品10’。在一些實施中，製品10’之翹曲(Δ翹曲)為約300微米或更小、約250微米或更小、約200微米或更小、約175微米或更小、約150微米或更小、約125微米或更小、約100微米或更小、約75微米或更小、約50微米或更小、約25微米或更小，以及介於此等位準之間的所有位準。類似地，方法100可產生展現一最大翹曲之強化製品10’，該最大翹曲小於製品10’之最長尺寸的0.5%、小於製品10’之最長尺寸的0.1%或甚至小於製品10’之最長尺寸的0.01%。舉例而言，呈150 mm x 75 mm手機蓋之形式的強化製品10’可根據方法100生產，該強化製品具有小於0.15 mm之翹曲，此指示小於最長尺寸之0.01%的翹曲。

製作強化製品之方法100中所使用之基板10可包含各種玻璃組合物、玻璃-陶瓷組合物及陶瓷組合物。玻璃之選擇不限於特定玻璃組合物。舉例而言，所選取之組合物可為廣泛多種矽酸鹽、硼矽酸鹽、鋁矽酸鹽或硼鋁矽酸鹽玻璃組合物中之任一者，該組合物視情況可包含一或多種鹼金屬及/或鹼土金屬改質劑。

以圖解說明，可用於基板10中之組合物的一個系列包括氧化鋁或氧化硼中之至少一者及鹼金屬氧化物或鹼土金屬氧化物中之至少一者的組合物，其中-15 mol% ≤ (R₂ O + R’O - Al₂ O₃ - ZrO₂ ) - B₂ O₃ ≤ 4 mol%，其中R可為Li、Na、K、Rb及/或Cs，且R’可為Mg、Ca、Sr及/或Ba。此系列組合物之一個子集包括：約62 mol%至約70 mol% SiO₂ ；0 mol%至約18 mol% Al₂ O₃ ；0 mol%至約10 mol% B₂ O₃ ；0 mol%至約15 mol% Li₂ O；0 mol%至約20 mol% Na₂ O； 0 mol%至約18 mol% K₂ O；0 mol%至約17 mol% MgO；0 mol%至約18 mol% CaO；以及0 mol%至約5 mol% ZrO₂ 。此等玻璃係在美國專利第8,969,226號及第8,652,978號中更全面地描述，該等美國專利係如同在下文完全闡述地特此以全文引用之方式併入。

可用於基板10中的組合物之另一說明性系列包括具有至少50 mol% SiO₂ 及選自由鹼金屬氧化物及鹼土金屬氧化物組成之群組的至少一種改質劑的組合物，其中[(Al₂ O₃ (mol%) + B₂ O₃ (mol%))/(Σ鹼金屬改質劑(mol%))] > 1。此系列之一個子集包括：50 mol%至約72 mol% SiO₂ ；約9 mol%至約17 mol% Al₂ O₃ ；約2 mol%至約12 mol% B₂ O₃ ；約8 mol%至約16 mol% Na₂ O；以及0 mol%至約4 mol% K₂ O。此等玻璃將在美國專利8,586,492中更全面地描述，該美國專利係如同在下文完全闡述地特此以全文引用之方式併入。

可用於基板10中之組合物之又一說明性系列包括具有SiO₂ 、Al₂ O₃ 、P₂ O₅ 及至少一種鹼金屬氧化物(R₂ O)的組合物，其中0.75 ≤ [(P₂ O₅ (mol%) + R₂ O(mol%))/ M₂ O₃ (mol%)] ≤ 1.2，其中M₂ O₃ = Al₂ O₃ + B₂ O₃ 。此系列組合物之一個子集包括：約40 mol%至約70 mol% SiO₂ ；0 mol%至約28 mol% B₂ O₃ ；0 mol%至約28 mol% Al₂ O₃ ；約1 mol%至約14 mol% P₂ O₅ ；以及約12 mol%至約16 mol% R₂ O。此系列組合物之另一子集包括：約40至約64 mol% SiO₂ ；0 mol%至約8 mol% B₂ O₃ ；約16 mol%至約28 mol% Al₂ O₃ ；約2 mol%至約12 mol% P₂ O₅ ；以及約12 mol%至約16 mol% R₂ O。此等玻璃係在美國專利申請案第13/305,271號中更全面地描述，該美國專利申請案係如同在下文完全闡述地特此以全文引用之方式併入。

可用於基板10中之組合物之再一說明性系列包括具有至少約4 mol% P₂ O₅ 的組合物，其中(M₂ O₃ (mol%)/R_x O(mol%)) > 1，其中M₂ O₃ = Al₂ O₃ + B₂ O₃ ，且其中R_x O係存在於玻璃中之單價及二價陽離子氧化物之總和。單價及二價陽離子氧化物可選自由Li₂ O、Na₂ O、K₂ O、Rb₂ O、Cs₂ O、MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO組成之群組。此系列組合物之一個子集包括具有0 mol% B₂ O₃ 之玻璃。此等玻璃將在美國專利申請案第13/678,013號及美國專利8,765,262中更全面地描述，該等美國專利之內容係如同在下文完全闡述地特此以全文引用之方式併入。

可用於基板10中之組合物之更另一說明性系列包括具有Al₂ O₃ 、B₂ O₃ 、鹼金屬氧化物之組合物，且含有具有三配位之硼陽離子。在離子交換時，此等玻璃可具有至少約30公斤力(kgf)之維氏裂紋起始臨限值。此系列組合物之一個子集包括：至少約50 mol% SiO₂ ；至少約10 mol% R₂ O，其中R₂ O包含Na₂ O；Al₂ O₃ ，其中-0.5 mol% ≤ Al₂ O₃ (mol%) - R₂ O(mol%) ≤ 2 mol%；以及B₂ O₃ ，且其中B₂ O₃ (mol%) - (R₂ O(mol%) - Al₂ O₃ (mol%)) ≥ 4.5 mol%。此系列組合物之另一子集包括：至少約50 mol% SiO₂ ；約9 mol%至約22 mol% Al₂ O₃ ；約4.5 mol%至約10 mol% B₂ O₃ ；約10 mol%至約20 mol% Na₂ O；0 mol%至約5 mol% K₂ O；至少約0.1 mol% MgO 及/或ZnO，其中0 ≤ MgO + ZnO ≤ 6 mol%；以及，可選地，CaO、BaO及SrO中之至少一者，其中0 mol% ≤ CaO + SrO + BaO ≤ 2 mol%。此等玻璃係在美國專利申請案第13/903,398號中更全面地描述，該美國專利申請案之內容係如同在下文完全闡述地特此以全文引用之方式併入。

除非另有說明，在本發明中概述的強化製品(例如，製品10’)及用於生產該等製品之相關聯方法(例如，方法100)係藉由用基板10製造來例示，該等基板具有如下的鋁矽酸鹽玻璃組合物：68.96 mol% SiO₂ 、0 mol% B₂ O₃ 、10.28 mol% Al₂ O₃ 、15.21 mol% Na₂ O、0.012 mol% K₂ O、5.37 mol% MgO、0.0007 mol% Fe₂ O₃ 、0.006 mol% ZrO₂ 以及0.17 mol% SnO₂ 。典型之鋁矽酸鹽玻璃係在特此以引用方式併入之美國專利申請案第13/533,298號中描述。

類似地，關於陶瓷，為用於製作強化製品之方法100中的基板10所選擇之材料可為廣泛多種無機結晶氧化物、氮化物、碳化物、氧氮化物、碳氮化物及/或類似物中的任一者。說明性陶瓷包括具有以下各者之彼等材料：氧化鋁、鈦酸鋁、莫來石、菫青石、鋯石、尖晶石、鈣鈦礦、氧化鋯、氧化鈰、碳化矽、氮化矽、矽鋁氧氮化物或沸石相。

類似地，關於玻璃-陶瓷，為基板10選擇之材料可為廣泛多種具有玻璃相及陶瓷相兩者之材料中的任一者。說明性玻璃-陶瓷包括玻璃相係由矽酸鹽、硼矽酸鹽、鋁矽酸鹽或硼鋁矽酸鹽形成，而陶瓷相係由β-鋰輝石、β-石英、霞石、六方鉀霞石或三斜霞石形成的彼等材料。

由製作強化製品之方法100產生之強化製品10’可採用包括玻璃基板之多種實體形式。亦即，自橫截面看，製品10’在配置為基板時可為平面或平坦的，或該製品可為曲線及/或急劇彎曲的。類似地，製品10’可為單一單元物件、多層結構或層壓物。當製品10’以基板或類似板之形式使用時，製品10’之厚度較佳在約0.2 mm至1.5 mm之範圍內，且更佳在約0.8 mm至1 mm之範圍內。此外，製品10’可擁有在可見光譜中實質上透明且在製品之壓縮應力區域50形成之後保持實質上透明的組合物。

不管製品之組合物或實體形式如何，由製作強化製品之方法100產生的強化製品10’將包括經受壓縮應力之區域50，該區域自一表面(例如，第一及第二主要表面12、14)向內延伸至製品中之一特定深度(例如，第一及第二選定深度52、54)。與壓縮應力區域50相關聯的壓縮應力(compressive stress; CS)之量及壓縮應力層之深度(depth of compressive stress layer; DOL)可基於根據方法100形成之製品10’的特定用途改變。特別針對具有玻璃組合物之製品10’的一個一般限制係CS及DOL應為有限的，使得由於壓縮應力區域50而在大塊製品10’內所產生之張應力不會變得過量，而使製品變得易碎。

在本發明之特定態樣中，使用根據製作強化製品之方法100的離子交換製程強化的具有玻璃組合物之強化製品10’之壓縮應力(compressive stress; CS)剖面係使用用於基於在離子交換玻璃中形成的光波導之TM及TE導引模式光譜量測應力剖面之一方法(在下文中稱為「WKB方法」)判定。該方法包括自TM及TE導引模式光譜以數位方式界定具強度極值之位置，及根據此等位置計算相應的TM及TE有效折射率。TM及TE折射率剖面n_TM (z)及n_TE (z)係使用逆WKB計算來計算。該方法亦包括計算應力剖面S(z)= [n_TM (z) -n_TM (z)]/SOC，其中SOC係玻璃基板之應力光學係數。此方法係在Douglas C. Allan等的題為「用於量測離子交換玻璃之應力剖面之系統及方法(Systems and Methods for Measuring the Stress Profile of Ion-Exchanged Glass)」之美國專利申請案第13/463,322號中描述，該美國專利申請案在2012年5月3日申請且主張在2011年5月25日申請之美國臨時專利申請案第61/489,800號的優先權，該等申請案之內容係以全文引用之方式併入本文中。用於量測隨深度變化的此等製品中之應力位準之其他技術係在特此以引用方式併入的美國臨時申請案第61/835,823號及第61/860,560號中概述。

再次參考第1圖至第1C圖，製作強化製品(例如，用於在製品10’中形成壓縮應力區域50)之方法100涉及將一對基板10淹沒在強化浴200中。在一些態樣中，浴200含有複數個離子交換金屬離子，且基板10具有具複數個離子可交換金屬離子之玻璃組合物。舉例而言，該浴可含有在大小上大於基板10中之離子可交換離子(諸如鈉)的複數個鉀離子。浴200中之該等離子交換離子將優先與基板10中之該等離子可交換離子進行交換。

在特定態樣中，用於建立壓縮應力區域50之強化浴200包含如一般熟習所屬領域之技術者所理解的具有添加劑的濃度接近100重量%或濃度為100重量%之熔融KNO₃ 浴。此浴將充分加熱至一溫度，以確保KNO₃ 在處理基板10期間保持在熔融狀態。強化浴200亦可包括KNO₃ 與LiNO₃ 及NaNO₃ 中之一者或兩者的組合。

根據本發明之一些態樣，提供用於製作強化製品之方法100，該方法包括在強化製品10’中形成壓縮應力區域50，該區域具有約400 MPa或較小之最大壓縮應力，及係製品10’之厚度之至少8%的第一選定深度52。該等製品10’包含具有鋁矽酸鹽玻璃組合物之基板10，且方法100涉及將基板10淹沒在保持在約400℃至500℃範圍內之溫度下的強化浴200中，淹沒持續時間在約3小時與60小時之間。更佳地，壓縮應力區域50可藉由將基板10淹沒在處於在約420℃至500℃範圍內之溫度下的強化浴200中持續約0.25小時至約50小時而在強化製品10’中形成。在特定態樣中，用於強化浴之上限溫度範圍經設定為比基板10之退火點低約30℃(例如，當基板10擁有玻璃或玻璃-陶瓷組合物時)。特別地，淹沒步驟之較佳持續時間在0.5小時至25小時之範圍內。在特定實施例中，強化浴200保持在約400℃至450℃，且第一離子交換持續時間在約3小時與15小時之間。

在一個例示性態樣中，基板10係淹沒在450℃下的包括按重量計約41% NaNO₃ 及59% KNO₃ 之強化浴200中持續約10小時，以獲得具有DOL > 80 μm及300 MPa或更小之最大壓縮應力的壓縮應力區域50 (例如，對於具有約0.8 mm至1 mm之厚度的強化製品10’) 在另一實例中，強化浴200包括按重量計約65% NaNO₃ 及35% KNO₃ ，保持在460℃下，且淹沒步驟進行約40小時至50小時，以形成具有約160 MP或更小之最大壓縮應力及約150 μm或更大之DOL的壓縮應力區域50 (例如，對於具有約0.8 mm之厚度之製品10’)。

對於具有約0.3 mm至0.8 mm之厚度的鋁矽酸鹽玻璃基板10，DOL > 60 μm可在根據本發明之方法100製作之強化製品10’中達成，該方法利用在按重量計40%至60%範圍內之NaNO₃ (餘下的係KNO₃ )、保持在450℃之溫度下的強化浴200組合物，淹沒持續時間在約5.5小時至15小時之間。較佳地，淹沒持續時間在約6小時至10小時之間，且強化浴200之組合物保持在按重量計44%至54%範圍內之NaNO₃ (餘下的係KNO₃ )。

對於製作強化製品之方法100之實施例，其中強化製品10’係自含有具有可觀量之P₂ O₅ 的鋁矽酸鹽玻璃的基板10衍生，強化浴200可保持在稍微較低溫度下以形成類似的壓縮應力區域50。舉例而言，該強化浴可保持低至380℃而具有類似結果，同時先前所概述之上限範圍仍然可行。在又一態樣中，基板10可擁有含鋰玻璃組合物，且根據方法100，可使用相當低之溫度剖面以在所得強化製品10’中生成類似的壓縮應力區域50。在此等態樣中，強化浴200保持在約350℃至約500℃且較佳約380℃至約480℃之範圍內的溫度下。此等態樣之淹沒時間在約0.25小時至約50小時且更佳地約0.5小時至約25小時之範圍內。

現在參考第2圖至第2C圖，提供了一種製作強化製品之方法100a的示意性圖解。第2圖至第2C圖中所描繪之方法100a與第1圖至第1C圖中所描繪之方法100基本上相同；因此，類似編號之元件具有相同或實質上類似的功能及/或結構。製作強化製品之方法100a包括以下步驟：提供複數個製品10a，該複數個製品包含基板10係由具有複數個離子可交換鹼金屬離子之玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷組合物製造。基板10中之每一者亦包括：第一主要表面12及第二主要表面14。該等製品10a亦包括次要膜70，該膜係安置在第二主要表面14上、內或上方之塗層、表面、膜或層。如一般熟習本發明領域之技術者所瞭解的，次要膜70可為多種功能膜或表面中之任一者，諸如防指紋膜、防刮膜、抗反射膜、防光眩層、防光眩表面(例如，如根據一般熟習本發明領域之技術者所瞭解的適合基板10之特定組合物之處理條件經由蝕刻製程所形成)及其組合。方法100a進一步包括以下步驟：提供駐留在器皿202中之第一離子交換浴200。浴200包括複數個離子交換鹼金屬離子，每一離子交換鹼金屬離子具有大於該等基板10中之離子可交換鹼金屬離子之大小的一大小。最後，方法100a包括以下步驟：以第一離子交換溫度及持續時間將複數個製品10a淹沒在第一離子交換浴200中以形成複數個強化製品10a’ (參見第2C圖)。每一強化製品10a’包含一壓縮應力區域50，該壓縮應力區域自第一及第二主要表面12、14延伸至相應之第一及第二選定深度52、54。

再次參考第2圖至第2C圖，進行製作強化製品之方法100a，使得該等離子交換鹼金屬離子之交換速率在基板10a之第一主要表面12中比在第二主要表面14中高。特別地，在基板10之第二主要表面14上方存在次要膜70創造一條件，使得該等離子交換鹼金屬離子之交換速率在第一主要表面12中比在第二主要表面14中高。另外，進行該淹沒步驟，使得預定間隙(d) 20保持在基板10中之每一者的第一主要表面12之間。亦即，方法100a中所使用之基板10 (及製品10a)經配置，使得離子交換鹼金屬離子可在關於基板之主要表面12、14的非均勻條件下與基板之離子可交換離子交換(且可能導致高翹曲)。但，藉由方法100a提供之控制(包括在淹沒步驟期間，存在預定間隙20)減輕或另外彌補與基板10相關聯之此等非均勻離子交換條件。

儘管如此，如早前所說明的，第2圖至第2C圖中所描繪的製作強化製品之方法100a提供彌補製品10a中之此等潛在離子交換非均勻性的機制-亦即，在淹沒步驟期間，使用每一對基板10之間的預定間隙(d) 20。不受理論限制，預定間隙20提供對併入至基板10之第一主要表面12中的鹼金屬離子之速率相對於併入至第二主要表面14中的鹼金屬離子之速率的額外控制。隨著間隙20之大小減小，併入至第一主要表面12中的鹼金屬離子之速率相對於併入至基板10之第二主要表面14中的鹼金屬離子之速率減小。因此，基板10的經歷在第一主要表面12處相對於第二主要表面14提高之離子交換之任何傾向(亦即，藉助於在主要表面14上或上方存在次要膜70)可藉由間隙20之存在來彌補。不受理論限制，咸信間隙20控制離子交換製程之動力學，特別地，離子可交換鹼金屬離子在基板10外交換且用來自浴200之離子交換鹼金屬離子替換時的速率。

再次參考第2圖至第2B圖，在製作強化製品之方法100a之淹沒步驟期間所使用的基板10之間的預定間隙(d) 20可在0.01 mm至約5 mm之範圍內。在一些實施中，預定間隙20可在以下範圍內：約0.01 mm至約10 mm；約0.01 mm至約7.5 mm；約0.01 mm至約5 mm；約0.01 mm至約2.5 mm；約0.01 mm至約1 mm；約0.01 mm至約0.9 mm；約0.01 mm至約0.8 mm；約0.01 mm至約0.7 mm；約0.01 mm至約0.6 mm；約0.01 mm至約0.5 mm；約0.02 mm至約10 mm；約0.02 mm至約7.5 mm；約0.02 mm至約5 mm；約0.02 mm至約2.5 mm；約0.02 mm至約1 mm；約0.02 mm至約0.9 mm；約0.02 mm至約0.8 mm；約0.02 mm至約0.7 mm；約0.02 mm至約0.6 mm；約0.02 mm至約0.5 mm；以及在此等間隙端點之間的所有值。在第2圖至第2B圖中所描繪的製作強化製品之方法100a之一些實施中，在製作強化製品之方法100之淹沒步驟期間所使用的基板10之間的預定間隙20可為0.01 mm、0.05 mm、0.1 mm、0.2 mm、0.3 mm、0.4 mm、0.5 mm、0.6 mm、0.7 mm、0.8 mm、0.9 mm、1.0 mm、1.5 mm、2.0 mm、2.5 mm、3.0 mm、3.5 mm、4.0 mm、4.5 mm、5.0 mm、7.5 mm、10 mm，以及在此等值之間的所有預定間隙20。

根據第2圖至第2B圖中所描繪的製作強化製品之方法100a之一額外實施，預定間隙(d) 20小於自基板10中之每一者的第二主要表面14至另一基板(例如，至另一基板10之第二主要表面14)或保存浴200之器皿202之一壁的間距(D) 30。根據又一實施，預定間隙(d) 20等於或小於自基板10中之每一者的第二主要表面14至另一基板(例如，基板10)或保存浴200之器皿202之一壁的間距(D) 30之1%或更少、5%或更少、10%或更少、20%或更少、25%或更少、50%或更少、75%或更少、100%或更少、150%或更少或200%或更少。根據又一實施，自基板10中之每一者的第二主要表面14至另一基板或器皿202之一壁的間距(D) 30為至少5 mm、至少7.5 mm、至少10.0 mm、至少12.5 mm、至少15 mm，且間距(D) 30介於此等值之間或超過此等值。根據另一實施，預定間隙(d) 20與間距(D) 30之壁可經設定，使得d/D ≤ 0.1，d/D ≤ 0.05，或甚至d/D ≤ 0.01。

現在參考第2A圖，描繪了一種製作強化製品之方法100a，其中預定間隙(d) 20係藉由複數個間隔物22設定。在實施中，該等間隔物22具有與預定間隙20相同或實質上類似之厚度尺寸。此外，根據態樣，任何數目個間隔物22可在浴200內之基板10之間使用，如第2A圖所示。在一較佳實施例中，間隔物22係在基板之角落處置放於一對基板10之間，以將被該等間隔物本身遮蔽的基板之表面積減至最小。該等間隔物22可由不與浴200及基板10之玻璃、玻璃-陶瓷及陶瓷組合物反應之各種材料製造，該等材料包括但不限於300系列不銹鋼、鎳合金、鋁合金、鋁金屬、鉑、鉑合金、In800合金、Cr-Mo合金、氧化矽、氧化鋁、氧化鋯以及此等材料之聚合塗佈態樣。此外，(早前亦關於第1A圖及第1B圖描述的)製作強化製品之方法100a中所使用之該等間隔物22可採用多種形狀及結構中之任一者，包括但不限於線、圓柱形墊圈、立方體形墊圈、矩形墊圈、片材、墊片、夾子、支架、支撐件等。

現在參考第2B圖，描繪了一種製作強化製品之方法100a，其中預定間隙(d) 20係藉由網狀物24設定。在實施中，網狀物24具有與預定間隙20相同或實質上類似之厚度尺寸。此外，根據態樣，多種許多類型之網狀物24中之任一者(亦即，各種過濾程度)可在浴200內之基板10之間使用，如第2B圖所示。網狀物24可由不與浴200及基板10之玻璃、玻璃-陶瓷及陶瓷組合物反應之各種材料製造，該等材料包括但不限於300系列不銹鋼、鎳合金、鋁合金、鋁金屬、鉑、鉑合金、In800合金、Cr-Mo合金、氧化矽、氧化鋁、氧化鋯以及此等材料之聚合塗佈態樣。

參考第2C圖，強化製品10a’係根據製作強化製品之方法100a製造。如早前所提及，此等強化製品10a’擁有壓縮應力區域50，該壓縮應力區域自相應之第一及第二主要表面12、14延伸至第一及第二選定深度52、54。此外，製作強化製品之方法100a之實施產生具有最小至無翹曲之強化製品10a’。根據一些實施例，方法100a產生包含約200微米或更小之翹曲(Δ翹曲)之強化製品10a’。在一些實施中，製品10a’之翹曲(Δ翹曲)為約300微米或更小、約250微米或更小、約200微米或更小、約175微米或更小、約150微米或更小、約125微米或更小、約100微米或更小、約75微米或更小、約50微米或更小、約25微米或更小，以及介於此等位準之間的所有位準。類似地，方法100a可產生強化製品10a’，該等強化製品展現小於製品10a’之最長尺寸之0.5%、小於製品10a’之最長尺寸之0.1%或甚至小於製品10a’之最長尺寸之0.01%的一最大翹曲。

現在參考第3圖至第3C圖，提供一種製作強化製品之方法100b之示意性圖解。第3圖至第3C圖中所描繪之方法100b與第1圖至第1C圖中所描繪之方法100基本上相同；因此，類似編號之元件(例如，間隔物22)具有相同或實質上類似的功能及/或結構。製作強化製品之方法100b包括：提供複數個製品10b，該複數個製品包含由玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷組合物製造之基板10，該組合物具有複數個離子可交換鹼金屬離子。基板10中之每一者亦包括：第一主要表面12及第二主要表面14。該等製品10b亦包括在第二主要表面14上的複數個非對稱特徵84，及在基板10之第一主要表面12上的複數個可選的非對稱特徵82。此外，在第二主要表面14上的複數個非對稱特徵84具有超過在第一主要表面12上的複數個非對稱特徵82的一總表面積，在非對稱特徵82存在之情況下。另外，非對稱特徵82、84可為多種形式中之任一者，該等形式包括但不限於倒角邊緣、傾斜邊緣、圓形邊緣以及角度邊緣。基本上，存在於製品10b之基板10中之非對稱特徵82、84提供一條件，在該條件下，在不具有藉由方法100b提供之額外控制的情況下，至基板之第一及第二主要表面12、14中的離子交換可以非均勻方式發生。相應地，此等非對稱特徵82、84提供一條件，該條件可另外引起基板10內之非對稱離子交換，此可導致過度翹曲。儘管如此，藉由第3圖至第3C圖中所描繪的製作強化製品之方法100b提供之額外控制(例如，根據方法100b，使用預定間隙(d) 20)導致第一及第二主要表面12、14之間的其他非對稱離子交換位準，此可抵消非對稱特徵82、84在翹曲方面之效應。

再次參考第3圖至第3C圖，方法100b進一步包括以下步驟：提供駐留在器皿202中之第一離子交換浴200。浴200包括複數個離子交換鹼金屬離子，每一離子交換鹼金屬離子具有大於該等基板10中之離子可交換鹼金屬離子之大小的一大小。最後，方法100b包括以下步驟：以第一離子交換溫度及持續時間將複數個製品10b淹沒在第一離子交換浴200中以形成複數個強化製品10b’ (參見第3C圖)。每一強化製品10b’包含壓縮應力區域50，該壓縮應力區域自第一及第二主要表面12、14延伸至相應之第一及第二選定深度52、54。此外，根據第3圖至第3C圖中所描繪的方法100b製造之強化製品10b’具有與根據第1圖至第1C圖、第2圖至第2C圖中所描繪的方法100、100a製造之強化製品10’及10a’相同或實質上相同之性質。

現在參考第4A圖至第4D圖，一系列橫截面示意圖描繪用於製備具有預定間隙(d) 20 (第4D圖)之複數個基板10之方法300a，該預定間隙係藉助於處於基板之第一主要表面12之間的夾子32之佈置設定。如第4A圖所示，一對具有長及短末端32a及32b之夾子32分別佈置在基板10之第一主要表面12之間。如第4B圖所示，夾子32之短末端32b圍繞基板10之邊緣且接觸第二主要表面14。現在參考第4C圖，夾子32之長末端32a圍繞基板10之對置邊緣彎曲且接觸第二主要表面14及夾子32之短末端32b。如第4D圖所示，夾子32之長末端32a現在圍繞基板10之邊緣往回彎曲且接觸對置夾子的長末端32a，且安置在基板10之第二主要表面14上方。因而，方法300a可用於圍繞基板10對夾子32造型以產生第一主要表面12之間的預定間隙20，此可以作為在第1圖至第1C圖、第2圖至第2C圖及第3圖至第3C圖中所描繪且早前所描述的製作強化製品之方法100、100a及100b之部分。

再次參考第4A圖至第4D圖，夾子32可製造成具有比基板10 (未圖示)之寬度短的寬度，此使基板10之主要表面12、14於製作強化製品之方法100、100a及100b (參見第1圖至第3C圖)所使用的離子交換浴200之暴露達到最多。此外，夾子32可由不與離子交換浴200及基板10本身反應之多種材料中之任一者製造，該等材料同時具有足以提供以例示性形式在第4B圖至第4D圖中描繪之彎曲的延性位準。用於夾子32之合適材料包括300系列不銹鋼、鎳合金、鋁合金、鋁金屬、鉑、鉑合金、In800合金、Cr-Mo合金，以及一般熟習本發明領域之技術者所瞭解的其他合金。另外，在第4A圖至第4D圖中概述的夾子32之特定佈置係例示性的；因此，一般熟習本發明領域之技術者可容易以圍繞基板10彎曲及/或佈置之一不同序列應用此實施例中所闡述之原理，以實現相同功能，亦即，在基板10之第一主要表面12之間形成預定間隙(d) 20。

現在參考第5A圖至第5C圖，根據本發明之實施例，提供根據製作強化製品之方法300b的描繪用於建立基板10b之間的預定間隙(d) 20之配置的一系列橫截面示意圖。更特別地，第5A圖至第5C中所闡述的方法300b之實施例例示用於增強第1圖至第3C圖中所描繪之方法100、100a、100b以生產更大量的符合本發明之原理之強化製品的方法。根據以例示性形式在第5A至第5C圖中描繪之方法300b，將多對的在基板之第二主要表面14上具有非對稱特徵84之基板10b以各種配置佈置在含有離子交換浴200之器皿202中，以形成此等基板之第一主要表面12之間的預定間隙20。如第5A圖所示，多對基板10b係垂直地佈置在浴200內之器皿202中，且預定間隙(d) 20在水平方向上位於每一對基板10b之間，且此外，該等基板對以間距(D) 30分開。在此配置中，預定間隙(d) 20及間距(D) 30可經由早前概述之方法中之任一者形成，例如，利用間隔物、線、墊片、片材、網狀物、夾子等(在第5A圖中未圖示)。

現在參考第5B圖，個別基板10b係垂直地佈置在浴200內之器皿202中，且預定間隙20 (d)在水平方向上位於基板10b中之每一者與分隔片之間，該分隔片包含不與基板10b之組合物及離子交換浴200反應之一材料(例如，300系列不銹鋼合金)。此外，間距(D) 30隔開一分隔片與下一個鄰近基板10b。在此配置中，關於分隔片及每一基板10b之主要表面12，預定間隙(d) 20及間距(D) 30可經由早前概述之方法中之任一者形成，例如，利用間隔物、網狀物、夾子等(在第5B圖中未圖示)。

參考第5C圖，個別基板10b係水平地佈置在浴200內之器皿202中，且預定間隙(d) 20在垂直方向上位於基板10b中之每一者與一分隔片之間，該分隔片包含不與基板10b之組合物及離子交換浴200反應之一材料。此外，間距(D) 30隔開一分隔片與下一個鄰近基板10b。在此配置中，關於分隔片及每一基板10b之主要表面12，預定間隙(d) 20及間距(D) 30可經由早前概述之方法中之任一者形成，例如，利用間隔物、網狀物、夾子等(在第5C圖中未圖示)。

現在參考第6A圖至第6D圖，一系列橫截面示意圖描繪用於製備複數個基板10之方法400a，該等基板具有藉助於間隔物片132在基板之第一主要表面之間的佈置設定之預定間隙(d) 20 (第6C圖)。如第6A圖所示，一對具有末端132a的間隔物片132佈置在基板10之第一主要表面12之間。如第6A圖及第6B圖所示，夾子132之末端132a圍繞基板10之邊緣(亦即，在藉由彎曲箭頭所示之方向上)彎曲且接觸第二主要表面14及次要膜70 (例如，一防光眩表面)。現在參考第6C圖，夾子132b緊固在夾子132之末端132a上方，以確保該等對之基板10保持以藉由間隔物片132形成之預定間隙(d) 20隔開。因而，方法400a可用於圍繞基板10對間隔物片132 (及夾子132b)造型，以產生第一主要表面12之間的預定間隙20，此可用作為在第1圖至第1C圖、第2圖至第2C圖及第3圖至第3C圖中描繪且早前所描述的製作強化製品之方法100、100a及100b之部分。

再次參考第6A圖至第6C圖，間隔物片132及夾子132b可製造成具有比基板10 (未圖示)之寬度短的寬度，此使基板10之主要表面12、14於製作強化製品之方法100、100a及100b (參見第1圖至第3C圖)所使用的離子交換浴200之暴露達到最多。此外，該等間隔物片132及夾子132b可由不與離子交換浴200及基板10本身反應之多種材料中之任一者製造，該等材料同時具有足以提供以例示性形式在第6A圖至第6C圖中描繪之彎曲的延性位準。用於間隔物片132及夾子132b之合適材料包括300系列不銹鋼、鎳合金、鋁合金、鋁金屬、鉑、鉑合金、In800合金、Cr-Mo合金，以及一般熟習本發明領域之技術者所瞭解的其他合金。此外，間隔物片132及夾子132b亦可採用多種形狀及結構中之任一者，包括但不限於線、圓柱形墊圈、立方體形墊圈、矩形墊圈、片材、墊片、夾子、支架、支撐件等。另外，在第6A圖至第6C圖中概述的間隔物片132及夾子132b之特定佈置係例示性的；因此，一般熟習本發明領域之技術者可容易以圍繞基板10彎曲及/或佈置之一不同序列應用此實施例中所闡述之原理，以實現相同功能，亦即，在基板10之第一主要表面12之間形成預定間隙(d) 20。

現在參考第7圖，根據製作強化製品之方法400b，提供描繪用於建立基板10a之間的預定間隙(d) 20之一例示性配置的橫截面示意圖。更特別地，第7圖中所闡述之方法400b之實施例例示用於增強第1圖至第3C圖中所描繪之方法100、100a、100b以生產更大量的符合本發明之原理之強化製品的方法。根據以例示性形式在第7圖中描繪之方法400b，將多對的在基板之第二主要表面14上各自具有次要膜70 (例如，一防光眩表面)之基板10b以一配置佈置在含有離子交換浴200之器皿202中，以形成此等基板之第一主要表面12之間的預定間隙20。如第7圖所示，多對基板10a係垂直地佈置在浴200內之器皿202中，且預定間隙(d) 20在水平方向上位於每一對基板10a之間，且此外，該等基板對以間距(D) 30分開。在此配置中，預定間隙(d) 20及間距(D) 30可經由早前概述之方法中之任一者形成，例如，利用間隔物、線、墊片、片材、網狀物、夾子等(例如，利用第7圖所示之該等間隔物22)。

再次參考第7圖，個別基板10a係垂直地佈置在浴200內之器皿202中，且預定間隙20 (d)在水平方向上位於基板10a中之每一者的第一主要表面12之間，如根據存在於基板10a之間的間隔物22(例如，由300系列不銹鋼合金製造的間隔物)所設定。此外，如所示，間距(D) 30隔開基板10a中之每一者的第二主要表面14，或器皿202之壁。如一般熟習本發明領域之技術者所瞭解的，間距(D) 30可藉由間隔物、線、固體片材、網狀片、墊圈、夾子、支架、匣內之槽或其他類似方法(未圖示)來設定。

根據第7圖中所描繪的製作強化製品之方法400b之一額外實施(例如，第1圖至第3C圖中所描繪的製造強化製品之方法)，預定間隙(d) 20可經配置以小於自基板10a中之每一者的第二主要表面14至另一基板(例如，至另一基板10a之第二主要表面14)或保存浴200之器皿202之一壁的間距(D) 30。根據方法400b之又一實施，預定間隙(d) 20等於或小於自基板10a中之每一者的第二主要表面14至另一基板(例如，基板10a)或保存浴200之器皿202之壁的間距(D)之1%或更少、5%或更少、10%或更少、20%或更少、25%或更少、50%或更少、75%或更少、100%或更少、150%或更少、200%或更少。根據方法400b之另一實施，自基板10a中之每一者的第二主要表面14至另一基板10a之第二主要表面14或器皿202之壁的間距(D) 30為至少5 mm、至少7.5 mm、至少10.0 mm、至少12.5 mm、至少15 mm，且間距(D) 30介於此等值之間或超過此等值。根據方法400b之另一實施，預定間隙(d) 20與間距(D) 30之比可經設定，使得d/D ≤ 0.1，d/D ≤ 0.05，或甚至d/D ≤ 0.01。

實例

以下實例描述藉由本發明提供之各種特徵及優點，且絕不意欲限制本發明及所附的申請專利範圍。

實例 1

在此實例中，製備Corning® Gorilla®玻璃3基板樣本，且使該等樣本經歷根據本發明之原理及概念的製作強化製品之方法(例如，第2A圖及第2C圖中所描繪的製作強化製品之方法100a)。特別地，將該等基板分成具有尺寸166 mm x 124 mm x 1.05 mm之樣本且經過處理而具有在基板之兩個主要表面中之一者上的一防光眩(anti-glare; AG)層。該AG層係經由根據適合於特定組合物之製程的一蝕刻製程形成。使此等樣本中之每一者經歷離子交換條件，其中將該等樣本浸沒在420℃下的100% KNO₃ 之浴中6小時。在習知佈置(亦即，不控制基板之間的間隙)中之此等離子交換條件下，該等基板經歷明顯翹曲且朝向基板的具有AG層之主要表面彎曲(亦即，下面的表1中之「對照」樣本)。然而，根據該實例，浸沒多對該等樣本，使得非AG主要表面背對背，如同藉由經定位以建立預定間隙(例如，由複數個間隔物22產生之預定間隙(d) 20，如第2A圖所示)之一組間隔物隔開。在此實例中，對多對樣本進行實驗，該等樣本定位成具有藉由複數個間隔物形成之預定間隙，該複數個間隔物具有0.4 mm、1 mm、1.4 mm及2 mm之一厚度(亦即，分隔基板的間隔物之長尺寸)。

此外，使具有基於四組間隔物大小之預定間隙(例如，預定間隙(d) 20)的四組樣本中之每一者經歷翹曲及壓縮應力區域特性化。特別地，在離子交換製程步驟完成之後，使用一表面應力計(FSM)對該等樣本之主要表面中之每一者進行CS及DOL量測。在經受離子交換製程步驟之前及之後，使用撓度計(ISRA Vision 650x1300 mm系統)對每一樣本之兩側進行翹曲量測。下面在表1中報告該等樣本之翹曲、CS及DOL量測結果(亦即，藉由間隔物大小 - 0.4 mm、1 mm、1.4 mm及2 mm-來識別)。此外，第8圖描繪隨間隙寬度/間隔物大小變化的翹曲演變。

如係表1及第8圖顯而易見，與對照樣本相比，最薄間隔物(0.4 mm)樣本將兩個主要表面上之CS差自約23 MPa有效地減小至小於5 MPa，同時維持相當的DOL位準。此外，根據第8圖的隨間隙寬度(亦即，間隔物厚度)變化之翹曲演變清楚地展示AG誘發之翹曲隨著間隔物之厚度增大，從而指示翹曲與間隙大小之間的強相關性。自具有0.4 mm之最小間隔物厚度之樣本獲得最小翹曲(> 40 μm)。此外，在根據不具間隔物之習知方法進行離子交換的對照樣本上觀測到的翹曲可稱為係碗形的(朝向AG側彎曲)或圓頂形的(朝向非AG側彎曲)。儘管如此，未在經歷根據本發明之原理的具有大小為0.4 mm的間隔物之離子交換條件的樣本組中之每一者中觀測到此等「碗」或「圓頂」形狀。 表1

實例 2

在此實例中，製備玻璃基板(Corning® Gorilla®玻璃3)樣本，且使該等樣本經歷根據本發明之原理及概念的製作強化製品之方法(例如，第3A圖及第3C圖中所描繪的製作強化製品之方法100b)。特別地，將該等基板分成具有尺寸75 mm x 150 mm x 0.8 mm之樣本，其中傾斜邊緣(垂直高度 = 0.400 mm, 水平距離 = 2.500 mm，及長度= 2.532 mm)在一個主要表面上，而非傾斜邊緣在對置的主要表面上。使此等樣本中之每一者經歷離子交換條件，其中將該等樣本浸沒在460℃下的51 mol% KNO₃ 之浴中14小時。在習知佈置(亦即，不控制基板之間的間隙)中之此等離子交換條件下，該等基板經歷明顯翹曲且朝向基板的具有傾斜邊緣(亦即，非對稱特徵)之主要表面彎曲(亦即，下面的表2中之「對照」樣本)。然而，根據該實例，浸沒多對該等樣本，使得非傾斜表面背對背，如同藉由經定位以建立預定間隙(例如，由複數個間隔物22或網狀物24產生之預定間隙20，如第3A圖及第3B圖所示)之一組間隔物隔開。在此實例中，對多對樣本進行實驗，該等樣本定位成具有藉由複數個間隔物形成之預定間隙，該複數個間隔物具有0.06 mm間隔物、0.24 mm間隔物及0.66 mm網篩之一厚度(亦即，分隔基板的間隔物之長尺寸)，如第9圖之照片所示。

亦作為此實例之部分，使具有基於三種間隔物/網眼大小之預定間隙的三組樣本中之每一者經歷翹曲及壓縮應力區域特性化。特別地，在離子交換製程步驟完成之後，使用一表面應力計(FSM)對該等樣本之主要表面中之每一者進行CS及DOL量測。在經受離子交換製程步驟之前及之後，使用一般熟習本發明領域之技術者所使用之習知撓度計對每一樣本之兩側進行翹曲量測。下面在表2中報告該等樣本之翹曲、CS及DOL量測結果(亦即，藉由間隔物/網眼大小 - 對照(無間隔物/網狀物)、0.06 mm、0.24 mm及0.66 mm-來識別)。

如自表2中之結果顯而易見，在對照樣本、0.66網篩樣本及0.24墊圈樣本中觀測到之翹曲在一個方向上(亦即，翹曲係非負的)，且更特別地，係圓柱形或圓頂形的。在用0.06 mm墊圈製造之其他樣本中觀測到之翹曲在另一方向上(亦即，翹曲係負的)，且更特別地，量值比在其他樣本中觀測到之翹曲小的碗形。此外，自資料先而言，與對照樣本相比，對於0.24 mm墊圈樣本，觀測到的翹曲程度減小。表2中之資料亦表明，對於0.06 mm墊圈樣本，翹曲之量值在方向上偏移；因此，咸信用於消除或最小化翹曲之量值之最佳條件涉及使用大小在0.24 mm與0.06 mm之間的墊圈。最後，表2中之壓縮應力區域資料表明對於經製造具有預定間隙之樣本及沒有受控間距之對照樣本，未觀測到CS及DOL的顯著差異。 表2

實例 3

在此實例中，製備玻璃基板(Corning® Gorilla®玻璃3)樣本，且使該等樣本經歷根據本發明之原理及概念的製作強化製品之方法(例如，第3A圖及第3C圖中所描繪的製作強化製品之方法100b)。特別地，將該等基板分成具有厚度0.8 mm之2.5D樣本幾何形狀，其中傾斜邊緣(垂直高度= 0.400 mm，水平距離= 2.500 mm，及長度= 2.532 mm)在一個主要表面上，而非傾斜邊緣在對置的主要表面上。使此等樣本中之每一者經歷離子交換條件，其中將該等樣本浸沒在460℃下的49% NaNO₃ 及51% KNO₃ 之浴中14小時。在習知佈置(亦即，不控制基板之間的間隙)中之此等離子交換條件下，該等基板經歷明顯翹曲且朝向基板的具有傾斜邊緣(亦即，非對稱特徵)之主要表面彎曲(亦即，下面的表3中之「對照」樣本)。然而，根據該實例，浸沒多對該等樣本，使得非傾斜表面背對背，如同藉由經定位以建立預定間隙(例如，由複數個間隔物22產生之預定間隙20，如第3A圖所示)之一組間隔物隔開。在此實例中，對多對樣本進行實驗，該等樣本定位成具有藉由複數個間隔物形成之預定間隙，該複數個間隔物具有0.05 mm間隔物、0.12 mm間隔物及0.21 mm間隔物之一厚度(亦即，分隔基板的間隔物之長尺寸)。

亦作為此實例之部分，使具有基於三種間隔物大小之預定間隙的三組樣本中之每一者經歷翹曲及壓縮應力區域特性化。特別地，在離子交換製程步驟完成之後，使用一表面應力計(FSM)對該等樣本之主要表面中之每一者進行CS及DOL量測。在經受離子交換製程步驟之前及之後，使用一般熟習本發明領域之技術者所使用之習知撓度計對每一樣本之兩側進行翹曲量測。下面在表3及第8A圖及第8B圖中報告該等樣本之翹曲、CS及DOL量測結果(亦即，藉由間隔物大小 - 對照物(無間隔物)、0.05 mm、0.12 mm及0.21 mm-來識別)。

如自表3中之結果及第10A圖及第10B圖顯而易見，在對照樣本之傾斜主要表面上觀測到之翹曲(翹曲為約137 μm)顯著高於針對經由各種大小(0.21 mm (翹曲為約123 μm)、0.12 mm (翹曲為約116 μm)及0.05 mm (翹曲為約67 μm))的間隔物而製造成具有預定間隙之樣本所觀測到之翹曲位準。類似趨勢在非傾斜側中亦顯而易見(參見第10B圖)。相應地，此實例表明逐漸變小的間隔物大小可導致在樣本中觀測到之較小翹曲。不受理論限制，亦咸信減小間隔物之大小可進一步改良觀測到的翹曲位準，限制條件為間距不會太小而變成由毛細管及/或表面能驅動之效應作為主導。由於表面能及毛細管效應開始作為主導，因為促進離子交換離子與基板中之離子可交換離子之交換的離子交換浴中之熔融鹽之移動減少。 表3

實例 4

在此實例中，製備Corning® Gorilla®玻璃3基板樣本且使該等樣本經歷根據本發明之原理及概念的製作強化製品之方法(例如，如第2A圖及第2C圖中所描繪的製作強化製品之方法100a)。特別地，將該等基板分成具有尺寸490 mm x 310 mm x 1.05 mm之樣本且經過處理而具有在基板之兩個主要表面中之一者上的一防光眩(anti-glare; AG)表面。根據適合於特定組合物之一蝕刻製程來執行AG表面處理。接下來，將全部樣本裝入至卡匣中，樣本對係根據各種預定間隙位準來佈置且經歷如下離子交換條件：將該等樣本浸沒在420℃下的100% KNO₃ 之浴中6小時。

如下文在表4中所詳述，第一群組之樣本充當對照物，其中基板對在無間隔物之情況下裝入至卡匣中，使得至少10 mm之預定間隙(d)存在於每一基板之間，且至少10 mm的間距(D)存在於每一基板對之間(表示為「對照物(無間隔物)」)。將第二群組之樣本裝入至卡匣中，使得多對基板經佈置具有藉由厚0.4 mm之不銹鋼間隔物判定的預定間隙(d)及至少10 mm的間距(D) (表示為「0.4 mm SS間隔物」)。將第三群組之樣本裝入至卡匣中，使得多對基板經佈置具有藉由厚0.3 mm之鉑間隔物判定的預定間隙(d)及至少10 mm的間距(D) (表示為「0.3 mm Pt間隔物」)。將第四群組之樣本裝入至卡匣中，使得多對基板經佈置具有藉由厚0.3 mm之鋁合金間隔物判定的預定間隙(d)及至少10 mm的間距(D) (表示為「0.3 mm Al間隔物」)。將第五群組之樣本裝入至卡匣中，使得多對基板經佈置具有藉由厚0.6 mm之鋁合金間隔物判定的預定間隙(d)及至少10 mm的間距(D) (表示為「0.6 mm Al間隔物」)。

亦作為此實例之部分，使具有基於五組間隔物大小之預定間隙的五組樣本中之每一者(亦即，包括不具有間隔物之群組)經受翹曲特性化。特別地，在經受離子交換製程步驟之前及之後，使用撓度計(ISRA Vision 650x1300 mm系統)對每一樣本之兩側進行翹曲量測。下面在表4中報告該等樣本之翹曲量測(亦即，藉由間隔物大小來識別，如上所述)。如自表4顯而易見，在習知佈置(亦即，不控制基板之間的間隙)中之此等離子交換條件下，該等基板經歷明顯翹曲且朝向基板的具有AG表面之主要表面彎曲(亦即，「對照物(無間隔物)」樣本)。顯著地，對照群組之AG表面展現約0.90 mm之翹曲增加(Δ翹曲)。相比之下，佈置在卡匣中的具有藉由厚度在0.3 mm至0.6 mm範圍內的間隔物設定之預定間隙的樣本群組之基板經歷明顯較小之翹曲變化(亦即，「0.4 mm SS間隔物」、「0.3 mm Pt間隔物」、「0.3 mm Al間隔物」及「0.6 mm Al間隔物」群組。特別地，佈置具有間隔物之群組之樣本展現在以下範圍內之翹曲增加(Δ翹曲)：0.12 mm (「0.4 mm SS間隔物」)；-0.03 mm及-0.09 mm (「0.3 mm Pt間隔物」)；0.09 mm及-0.08 mm (「0.3 mm Al間隔物」)；及0.13 mm及0.09 mm (「0.6 mm Al間隔物」)。 表4

現在參考第11圖及第12圖，分別提供在上面表4中列出之樣本的隨間隔物厚度變化的翹曲變化(Δ翹曲)及翹曲幅度(A)之曲線圖。如自此等圖清晰可見，與不具間隔物之對照樣本相比，具有在0.3 mm與0.6 mm之間的預定間隙(d)及至少10 mm的間距(D)之經歷此實例之離子交換條件的樣本展現明顯較低之翹曲幅度(A)及翹曲變化(Δ翹曲)，此係因為樣本具有預定間隙(d)及至少10 mm的間距(D)。

儘管已出於說明目的闡述了例示性實施例及實例，但先前描述不以任何方式意欲限制本發明及所附申請專利範圍之範疇。相應地，在不實質上背離本發明之精神及各種原理的情況下，可對上述實施例及實例作出改變及修改。所有此等修改及改變意欲在本文中包括於本發明之範疇內且受以下申請專利範圍保護。

根據本發明之第一態樣，提供一種製作強化製品之方法，該方法包括以下步驟：提供複數個製品，每一製品包含具有複數個離子可交換鹼金屬離子之玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷組合物、第一主要表面及第二主要表面；提供包含複數個離子交換鹼金屬離子之第一離子交換浴，每一離子交換鹼金屬離子具有大於該等離子可交換鹼金屬離子之大小的一大小；以及以第一離子交換溫度及持續時間將複數個製品淹沒在第一離子交換浴中以形成複數個強化製品。每一強化製品包含自第一及第二主要表面延伸至各別第一及第二選定深度之壓縮應力區域。此外，以下各者中之至少一者成立：(a)該等離子交換鹼金屬離子之交換速率在第一主要表面中比在第二主要表面中高，及(b)第二主要表面包含總表面積超過第一主要表面之任何非對稱特徵之總表面積的一或多個非對稱特徵。另外，進行該淹沒步驟，使得在該等製品中之每一者的第一主要表面之間維持一預定間隙。

根據本發明之第二態樣，提供第一態樣，其中間隙在約0.02 mm至約2.5 mm之範圍內，且此外其中間隙小於自該等製品中之每一者的第二主要表面至另一製品或保存該浴之器皿之壁的間距。

根據第三態樣，提供第一態樣或第二態樣，其中間隙係藉由複數個間隔物設定，每一間隔物接觸該等製品之第一主要表面。

根據第四態樣，提供第一態樣或第二態樣，其中間隙係藉由網狀片設定，每一網狀片接觸一對製品之第一主要表面。

根據第五態樣，提供第一態樣至第四態樣中之任一者，其中複數個強化製品中之每一者包含150微米或更小之翹曲(Δ翹曲)。

根據第六態樣，提供第一態樣至第四態樣中之任一者，其中複數個強化製品中之每一者包含50微米或更小之翹曲(Δ翹曲)。

根據第七態樣，提供第一態樣至第六態樣中之任一者，其中每一製品包含選自由以下各者組成之群組的玻璃組合物：鈉鈣矽酸鹽、鹼性鋁矽酸鹽、硼矽酸鹽及磷酸鹽玻璃。

根據第八態樣，提供第一態樣至第七態樣中之任一者的態樣，其中複數個強化製品中之每一者包含小於製品之最長尺寸之0.1%的最大翹曲。

根據第九態樣，提供一種製作強化製品之方法，該方法包括以下步驟：提供複數個製品，每一製品包含具有複數個離子可交換鹼金屬離子之玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷組合物、第一主要表面及第二主要表面；提供包含複數個離子交換鹼金屬離子之第一離子交換浴，每一離子交換鹼金屬離子具有大於該等離子可交換鹼金屬離子之大小的一大小；以及以第一離子交換溫度及持續時間將複數個製品淹沒在第一離子交換浴中以形成複數個強化製品。每一強化製品包含自第一及第二主要表面延伸至各別第一及第二選定深度之壓縮應力區域。此外，該等離子交換鹼金屬離子之交換速率在第一主要表面中比在第二主要表面中高。另外，進行該淹沒步驟，使得在該等製品中之每一者的第一主要表面之間維持一預定間隙。

根據第十態樣，提供第九態樣，其中複數個製品中之每一者的第二主要表面包含安置於第二主要表面上之防光眩層、防光眩表面及安置於第二主要表面上之抗反射層中的至少一者。

根據第十一態樣，提供第九態樣或第十態樣，其中間隙在約0.02 mm至約2.5 mm之範圍內，且此外其中間隙小於自該等製品中之每一者的第二主要表面至另一製品或保存該浴之器皿之壁的間距。

根據第十二態樣，提供第九態樣至第十一態樣中之任一者，其中間隙係藉由複數個間隔物設定，每一間隔物接觸該對製品之第一主要表面。

根據第十三態樣，提供第九態樣至第十一態樣中之任一者，其中間隙係藉由網狀片設定，每一網狀片接觸一對製品之第一主要表面。

根據第十四態樣，提供第九態樣至第十三態樣中之任一者，其中複數個強化製品中之每一者包含200微米或更小之翹曲(Δ翹曲)。

根據第十五態樣，提供第九態樣至第十三態樣中之任一者，其中複數個強化製品中之每一者包含50微米或更小之翹曲(Δ翹曲)。

根據第十六態樣，提供第九態樣至第十五態樣中之任一者，其中每一製品包含選自由以下各者組成之群組的玻璃組合物：鈉鈣矽酸鹽、鹼性鋁矽酸鹽、硼矽酸鹽及磷酸鹽玻璃。

根據第十七態樣，提供第九態樣至第十六態樣中之任一者之態樣，其中複數個強化製品中之每一者包含小於製品之最長尺寸之0.1%的最大翹曲。

根據第十八態樣，提供第九態樣或第十態樣，其中預定間隙(d)在約0.02 mm至約2.5 mm之範圍內，其中維持自該等製品中之每一者的第二主要表面至另一製品之另一第二主要表面或保存該浴之器皿之壁的間距(D)，且此外其中d/D ≤ 0.1。

根據第十九態樣，提供第九態樣或第十態樣，其中預定間隙(d)在約0.02 mm至約2.5 mm之範圍內，其中維持自該等製品中之每一者的第二主要表面至另一製品之另一第二主要表面或保存該浴之器皿之壁的間距(D)，且此外其中D ≥ 10 mm。

根據第二十態樣，提供一種製作強化製品之方法，該方法包括以下步驟：提供複數個製品，每一製品包含具有複數個離子可交換鹼金屬離子之玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷組合物、第一主要表面及第二主要表面；提供包含複數個離子交換鹼金屬離子之第一離子交換浴，每一離子交換鹼金屬離子具有大於該等離子可交換鹼金屬離子之大小的一大小；以及以第一離子交換溫度及持續時間將複數個製品淹沒在第一離子交換浴中以形成複數個強化製品。每一強化製品包含自第一及第二主要表面延伸至各別第一及第二選定深度之壓縮應力區域。此外，第二主要表面包含總表面積超過第一主要表面之任何非對稱特徵之總表面積的一或多個非對稱特徵。另外，進行該淹沒步驟，使得在該等製品中之每一者的第一主要表面之間維持一預定間隙。

根據第二十一態樣，提供第二十態樣，其中複數個製品中之每一者的第一及第二主要表面包含呈傾斜邊緣、倒角邊緣及圓形邊緣中之至少一者之形式的一或多個非對稱特徵。

根據第二十二態樣，提供第二十態樣或第二十一態樣，其中間隙在約0.02 mm至約2.5 mm之範圍內，且此外其中間隙小於自該等製品中之每一者的第二主要表面至另一製品或保存該浴之器皿之壁的間距。

根據第二十三態樣，提供第二十態樣至第二十二態樣中之任一者，其中間隙係藉由複數個間隔物設定，每一間隔物接觸該對製品之第一主要表面。

根據第二十四態樣，提供第二十態樣至第二十三態樣中之任一者，其中間隙係藉由網狀片設定，每一網狀片接觸一對製品之第一主要表面。

根據第二十五態樣，提供第二十態樣至第二十四態樣中之任一者，其中複數個強化製品中之每一者包含150微米或更小之翹曲(Δ翹曲)。

根據第二十六態樣，提供第二十態樣至第二十四態樣中之任一者，其中複數個強化製品中之每一者包含50微米或更小之翹曲(Δ翹曲)。

根據第二十七態樣，提供第二十態樣至第二十六態樣中之任一者，其中每一製品包含選自由以下各者組成之群組的玻璃組合物：鈉鈣矽酸鹽、鹼性鋁矽酸鹽、硼矽酸鹽及磷酸鹽玻璃。

根據第二十八態樣，提供第二十態樣至第二十七態樣中之任一者，其中複數個強化製品中之每一者包含小於製品之最長尺寸之0.1%的最大翹曲。

根據第二十九態樣，提供一種強化製品，該強化製品係根據態樣一至態樣二十八中之任一者的方法製作。

根據第三十態樣，提供一種玻璃製品，該玻璃製品包含：經化學強化之玻璃基板，該玻璃基板包含第一主要表面及第二主要表面以及自第一及第二主要表面延伸至各別第一及第二選定深度之壓縮應力區域，其中玻璃製品包含200微米或更小之翹曲(Δ翹曲)。

根據第三十一態樣，提供態樣三十之玻璃製品，其中玻璃製品包含50微米或更小之翹曲(Δ翹曲)。

根據第三十二態樣，提供態樣三十一之玻璃製品，其中玻璃基板包含選自由以下各者組成之群組的玻璃組合物：鈉鈣矽酸鹽、鹼性鋁矽酸鹽、硼矽酸鹽及磷酸鹽玻璃。

根據第三十三態樣，提供態樣三十至三十二中任一者之玻璃製品，其中玻璃製品包含小於製品之最長尺寸之0.1%的最大翹曲。

根據第三十四態樣，提供態樣三十至三十三中任一者之玻璃製品，其中自第一及第二主要表面延伸之壓縮應力區域係非對稱的。

根據第三十五態樣，提供態樣三十四之玻璃製品，其中自第一及第二主要表面延伸之壓縮應力區域包含來自玻璃基板之化學強化製程的不同量之離子交換離子。

根據第三十六態樣，提供第三十四態樣或第三十五態樣之玻璃製品，其中第二主要表面包含總表面積超過第一主要表面之任何非對稱特徵之總表面積的一或多個非對稱特徵。

根據第三十七態樣，提供第三十態樣至第三十六態樣中之任一者之玻璃製品，其中該等玻璃製品中之每一者的第二主要表面包含安置於第二主要表面上之防光眩層、防光眩表面及安置於第二主要表面上之抗反射膜中的至少一者。

根據第三十八態樣，提供第三十七態樣之玻璃製品，其中防光眩層、防光眩表面或抗反射膜係在化學強化之前形成於玻璃基板上。

根據第三十九態樣，提供第三十態樣至第三十八態樣中之任一者之玻璃製品，其中玻璃製品之第一及第二主要表面包含呈傾斜邊緣、倒角邊緣及圓形邊緣中之至少一者之形式的一或多個非對稱特徵。

10‧‧‧基板 10’‧‧‧強化製品 10a‧‧‧製品 10a’‧‧‧製品 10b‧‧‧製品/基板 10b’‧‧‧製品 12‧‧‧第一主要表面 14‧‧‧第二主要表面 20‧‧‧預定間隙(d) 22‧‧‧間隔物 24‧‧‧網狀物 30‧‧‧間距(D) 32‧‧‧夾子 32a‧‧‧長末端 32b‧‧‧短末端 50‧‧‧壓縮應力區域 52‧‧‧深度 54‧‧‧深度 70‧‧‧次要膜 82‧‧‧非對稱特徵 84‧‧‧非對稱特徵 100‧‧‧方法 100a‧‧‧方法 100b‧‧‧方法 132‧‧‧間隔物片 132a‧‧‧末端 132b‧‧‧夾子 200‧‧‧第一離子交換浴 202‧‧‧器皿 300a‧‧‧方法 300b‧‧‧方法 400a‧‧‧方法 400b‧‧‧方法

下面係對附圖中之圖式的描述。該等圖未必按比例，且為了清楚及簡潔起見，特定特徵及該等圖之特定視圖可以放大之比例或以示意圖展示。

在該等圖中：

第1圖係根據一實施例的一對包含複數個離子可交換鹼金屬離子之基板之橫截面示意圖，該等基板淹沒在包含複數個離子交換鹼金屬離子之浴中，使得預定間隙保持在該等基板之主要表面之間。

第1A圖係根據一實施例的第1圖之基板對及浴之橫截面示意圖，該等基板經配置以使得預定間隙係藉由複數個間隔物設定。

第1B圖係根據一實施例的第1圖之基板對及浴之橫截面示意圖，該等基板經配置以使得預定間隙係藉由一網狀片設定。

第1C圖係根據一實施例的根據在第1圖至第1B圖中描繪之配置及方法形成的複數個強化製品之橫截面示意圖。

第2圖係根據一實施例的一對包含複數個離子可交換鹼金屬離子及次要膜之基板之橫截面示意圖，該等基板淹沒在包含複數個離子交換鹼金屬離子之浴中，使得預定間隙保持在基板之主要表面之間。

第2A圖係根據一實施例的第2圖之基板對及浴之橫截面示意圖，該等基板經配置，使得預定間隙係藉由複數個間隔物設定。

第2B圖係根據一實施例的第2圖之基板對及浴之橫截面示意圖，該等基板經配置以使得預定間隙係藉由一網狀片設定。

第2C圖係根據一實施例的根據第2圖至第2B圖中所描繪的配置及方法形成之複數個強化製品之橫截面示意圖。

第3圖係根據一實施例的一對包含複數個離子可交換鹼金屬離子及複數個非對稱特徵之基板之橫截面示意圖，該等基板淹沒在包含複數個離子交換鹼金屬離子之浴中，使得預定間隙保持在該等基板之主要表面之間。

第3A圖係根據一實施例的第3圖之基板對及浴之橫截面示意圖，該等基板經配置以使得預定間隙係藉由複數個間隔物設定。

第3B圖係根據一實施例的第3圖之基板對及浴之橫截面示意圖，該等基板經配置以使得預定間隙係藉由一網狀片設定。

第3C圖係根據一實施例的根據在第3圖至第3B圖中描繪之配置及方法形成的複數個強化製品之橫截面示意圖。

第4A圖至第4D圖係根據一實施例的描繪複數個夾子之一系列橫截面示意圖，該複數個夾子用於根據製作強化製品之方法建立基板之間的預定間隙。

第5A圖至第5C圖係根據一實施例的描繪配置之一系列橫截面示意圖，該等配置用於根據製作強化製品之方法建立基板之間的預定間隙。

第6A圖至第6C圖係根據一實施例的描繪複數個間隔物片及夾子之一系列橫截面示意圖，該複數個間隔物片及夾子用於根據製作強化製品之方法建立基板之間的預定間隙。

第7圖係根據一實施例的描繪配置之橫截面示意圖，該配置用於根據製作強化製品之方法建立基板之間的預定間隙及基板對之間的間隙。

第8圖係根據一實施例的在經歷製作強化製品之方法之基板中觀測到的隨間隔物厚度變化之翹曲的曲線圖。

第9圖係根據一實施例的製作具有各種預定間隙之強化製品之方法中所使用的實驗設置之正視圖的照片。

第10A圖係根據一實施例的在經歷製作強化製品之方法時的在基板之具有非對稱傾斜特徵之傾斜側上觀測到的隨間隔物厚度變化之翹曲的曲線圖。

第10B圖係根據一實施例的在經歷製作強化製品之方法時的在基板之具有非對稱傾斜特徵之非傾斜側上觀測到的隨間隔物厚度變化之翹曲的曲線圖。

第11圖係根據一實施例的在經歷製作強化製品之方法時的在基板之防光眩側上觀測到的隨間隔物厚度變化之翹曲變化的曲線圖。

第12圖係根據一實施例的在經歷製作強化製品之方法時的在基板之防光眩側上觀測到的隨間隔物厚度變化之翹曲幅度的曲線圖。

特定發明技術之先前概述以及隨後詳細描述將在結合圖式閱讀時更好地理解。應理解，技術方案不限於圖式中所示之佈置及手段。此外，圖式中所示的外觀係可用於達成設備之說明功能之許多裝飾性外觀中的一者。

國內寄存資訊 (請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無

國外寄存資訊 (請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無

10‧‧‧基板

10b‧‧‧製品/基板

12‧‧‧第一主要表面

14‧‧‧第二主要表面

20‧‧‧預定間隙(d)

22‧‧‧間隔物

30‧‧‧間距(D)

82‧‧‧非對稱特徵

84‧‧‧非對稱特徵

100b‧‧‧方法

200‧‧‧第一離子交換浴

202‧‧‧器皿

Claims (30)

1. 一種製作強化製品之方法，該方法包含以下步驟： 提供複數個製品，每一製品包含具有複數個離子可交換鹼金屬離子之一玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷組合物、一第一主要表面及一第二主要表面；提供包含複數個離子交換鹼金屬離子之一第一離子交換浴，每一離子交換鹼金屬離子具有大於該等離子可交換鹼金屬離子之大小的一大小；以及以一第一離子交換溫度及持續時間將該複數個製品淹沒在該第一離子交換浴中以形成複數個強化製品，每一強化製品包含自該第一及該第二主要表面延伸至各別第一及第二選定深度之一壓縮應力區域，其中以下各者中之至少一者成立：(a)該等離子交換鹼金屬離子之一交換速率在該第一主要表面中比在該第二主要表面中高，及(b)該第二主要表面包含一總表面積超過該第一主要表面之任何非對稱特徵之一總表面積的一或多個非對稱特徵，且此外其中進行該淹沒步驟，使得在該等製品中之每一者的該第一主要表面之間維持一預定間隙。
2. 如請求項1所述之方法，其中該間隙在約0.02 mm至約2.5 mm之範圍內，且此外其中該間隙小於自該等製品中之每一者的該第二主要表面至另一製品或保存該浴之一器皿之一壁的一間距。
3. 如請求項1所述之方法，其中該間隙係藉由複數個間隔物設定，每一間隔物接觸一對該等製品之該第一主要表面。
4. 如請求項1所述之方法，其中該間隙係藉由一網狀片設定，每一網狀片接觸一對該等製品之該第一主要表面。
5. 如請求項1至4中任一項所述之方法，其中該複數個強化製品中之每一者包含150微米或更小之一翹曲(Δ翹曲)。
6. 如請求項1至4中任一項所述之方法，其中該複數個強化製品中之每一者包含50微米或更小之一翹曲(Δ翹曲)。
7. 如請求項1至4中任一項所述之方法，其中該複數個強化製品中之每一者包含小於該製品之最長尺寸之0.1%的一最大翹曲。
8. 一種製作強化製品之方法，該方法包含以下步驟： 提供複數個製品，每一製品包含具有複數個離子可交換鹼金屬離子之一玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷組合物、一第一主要表面及一第二主要表面；提供包含複數個離子交換鹼金屬離子之一第一離子交換浴，每一離子交換鹼金屬離子具有大於該等離子可交換鹼金屬離子之大小的一大小；以及以一第一離子交換溫度及持續時間將該複數個製品淹沒在該第一離子交換浴中以形成複數個強化製品，每一強化製品包含自該第一及該第二主要表面延伸至各別第一及第二選定深度之一壓縮應力區域，其中該等離子交換鹼金屬離子之一交換速率在該第一主要表面中比在該第二主要表面中高，且此外其中進行該淹沒步驟，使得在該等製品中之每一者的該第一主要表面之間維持一預定間隙。
9. 如請求項8所述之方法，其中該複數個製品中之每一者的該第二主要表面包含安置於該第二主要表面上之一防光眩層、一防光眩表面及安置於該第二主要表面上之一抗反射膜中的至少一者。
10. 如請求項8或9所述之方法，其中該間隙在約0.02 mm至約2.5 mm之範圍內，且此外其中該間隙小於自該等製品中之每一者的該第二主要表面至另一製品或保存該浴之一器皿之一壁的一間距。
11. 如請求項8或9所述之方法，其中該間隙係藉由以下各者中之一者設定： 複數個間隔物，每一間隔物接觸一對該等製品之該第一主要表面，以及一網狀片，每一網狀片接觸一對該等製品之該第一主要表面。
12. 如請求項8或9所述之方法，其中該複數個強化製品中之每一者包含200微米或更小之一翹曲(Δ翹曲)。
13. 如請求項8或9所述之方法，其中該複數個強化製品中之每一者包含小於該製品之最長尺寸之0.1%的一最大翹曲。
14. 如請求項8或9所述之方法，其中該預定間隙(d)在約0.02 mm至約2.5 mm之範圍內，其中維持自該等製品中之每一者的該第二主要表面至另一製品之另一第二主要表面或保存該浴之一器皿之一壁的一間距(D)，且此外其中d/D ≤ 0.1。
15. 如請求項8或9所述之方法，其中該預定間隙(d)在約0.02 mm至約2.5 mm之範圍內，其中維持自該等製品中之每一者的該第二主要表面至另一製品之另一第二主要表面或保存該浴之一器皿之一壁的一間距(D)，且此外其中D ≥ 10 mm。
16. 一種製作強化製品之方法，該方法包含以下步驟： 提供複數個製品，每一製品包含具有複數個離子可交換鹼金屬離子之一玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷組合物、一第一主要表面及一第二主要表面；提供包含複數個離子交換鹼金屬離子之一第一離子交換浴，每一離子交換鹼金屬離子具有大於該等離子可交換鹼金屬離子之大小的一大小；以及以一第一離子交換溫度及持續時間將該複數個製品淹沒在該第一離子交換浴中以形成複數個強化製品，每一強化製品包含自該第一及該第二主要表面延伸至各別第一及第二選定深度之一壓縮應力區域，其中該第二主要表面包含一總表面積超過該第一主要表面之任何非對稱特徵之一總表面積的一或多個非對稱特徵，且此外其中進行該淹沒步驟，使得在該等製品中之每一者的該第一主要表面之間維持一預定間隙。
17. 如請求項16所述之方法，其中該複數個製品中之每一者的該第一及該第二主要表面包含呈一傾斜邊緣、一倒角邊緣及一圓形邊緣中之至少一者之形式的一或多個非對稱特徵。
18. 如請求項16所述之方法，其中該間隙在約0.02 mm至約2.5 mm之範圍內，且此外其中該間隙小於自該等製品中之每一者的該第二主要表面至另一製品或保存該浴之一器皿之一壁的一間距。
19. 如請求項16至18中任一項所述之方法，其中該間隙係藉由以下各者中之一者設定： 複數個間隔物，每一間隔物接觸一對該等製品之該第一主要表面，以及一網狀片，每一網狀片接觸一對該等製品之該第一主要表面。
20. 如請求項16至18中任一項所述之方法，其中該複數個強化製品中之每一者包含150微米或更小之一翹曲(Δ翹曲)。
21. 如請求項16至18中任一項所述之方法，其中該複數個強化製品中之每一者包含小於該製品之最長尺寸之0.1%的一最大翹曲。
22. 一種根據請求項1至21中任一項所述之方法製作之強化製品。
23. 一種玻璃製品，該玻璃製品包含： 經化學強化之一玻璃基板，該玻璃基板包含一第一主要表面及一第二主要表面以及自該第一及該第二主要表面延伸至各別第一及第二選定深度之壓縮應力區域，其中該玻璃製品包含200微米或更小之一翹曲(Δ翹曲)。
24. 如請求項23所述之玻璃製品，其中該玻璃製品包含50微米或更小之一翹曲(Δ翹曲)。
25. 如請求項23或請求項24所述之玻璃製品，其中該玻璃基板包含選自由以下各者組成之群組的一玻璃組合物：鈉鈣矽酸鹽、鹼性鋁矽酸鹽、硼矽酸鹽及磷酸鹽玻璃。
26. 如請求項23至25中任一項所述之玻璃製品，其中該玻璃製品包含小於該製品之最長尺寸之0.1%的一最大翹曲。
27. 如請求項23至25中任一項所述之玻璃製品，其中自該第一及該第二主要表面延伸之該等壓縮應力區域係非對稱的。
28. 如請求項27所述之玻璃製品，其中該第二主要表面包含一總表面積超過該第一主要表面之任何非對稱特徵之一總表面積的一或多個非對稱特徵。
29. 如請求項23至25中任一項所述之玻璃製品，其中該等玻璃製品中之每一者的該第二主要表面包含安置於該第二主要表面上之一防光眩層、一防光眩表面及安置於該第二主要表面上之一抗反射膜中的至少一者。
30. 如請求項23至25中任一項所述之玻璃製品，其中該玻璃製品之該第一及該第二主要表面包含呈一傾斜邊緣、一倒角邊緣及一圓形邊緣中之至少一者之形式的一或多個非對稱特徵。

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